TWI412621B - 具有遮蔽板的陰影框 - Google Patents

Description

具有遮蔽板的陰影框

本發明之具體實施例大致上有關大面積基板用之陰影框組件。

因諸如電視及電腦螢幕之大面積、平板顯示器的需求正迅速地增加，處理大玻璃基板之能力已變得重要。大面積、平板顯示器一般包含於其上所形成之薄膜電晶體(Thin Film Transistors，下文簡稱TFTs)。

在大面積、平板顯示器或基板上形成TFTs，一般包含藉由電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)將一或多層薄膜沈積在該顯示器上。因為數個理由，橫越大基板沈積均勻之薄膜已經證實具挑戰性。譬如，難以均勻地加熱大面積基板。此外，電漿狀態通常橫越一大面積基板之表面時有所變化。由於橫越該基板之不均勻加熱，大面積基板亦易於變形，諸如扭曲及彎曲。

吾人已開發出各種陰影框，以於處理期間將大面積基板之邊緣下壓在一處理室中之基板支座上，俾能防止該等基板之變形。該等陰影框亦有助於防止材料在該基板之邊緣及背部上之不想要的沈積。然而，當甚至於使用陰影框時仍常常造成沈積均勻性之問題時，吾人需要改良之陰影框。譬如，該陰影框本身能藉著具有一不平坦之基板接觸表面，而橫越一基板造成不均勻之處理狀態，這將使製程氣體洩漏於該陰影框及該基板之間。對於大面積基板，均勻性問題是很重要的，因為在大面積基板中使該基板變成無用之一瑕疵，可能意指隨著一塊基板之損失造成數百萬個裝置、諸如TFTs之損失。

亦亟需將大面積基板分成多數零組件、諸如多數顯示器之方法。於一態樣中，分開大面積基板可用於由一基板提供多數顯示器。於另一態樣中，將大面積基板分成多數零組件可包含在一大面板上提供多數螢幕面積。

本發明大致上提供一種在基板處理期間遮蔽大面積基板、諸如大面板之各部份的方法及設備。於一具體實施例中，在處理期間遮蔽一大面積基板之各部份的設備包含一具有一或多塊遮蔽板之陰影框。

於另一具體實施例中，提供一鋁製陰影框，其具有一或多塊由陶瓷所製成之遮蔽板。該等遮蔽板設置在該陰影框的上表面所形成之一凹陷區域中，俾能夠與待處理之基板接觸，同時以該陰影框維持一平坦之上表面。於一態樣中，該陰影框組件在一大基板上產生多數處理區域。

為了能詳細了解本發明之上述特色的方式，已簡略地摘要上文，本發明之一更特定敘述可參考諸具體實施例，在所附圖面中說明一些該等具體實施例。然而，應注意的是所附圖面僅說明本發明之典型具體實施例，且因此不應視為其範圍之限制，因為本發明可允許其他同樣有效之具體實施例。

為了有助於了解，無論可能在何處，使用完全相同之參考數字指出該等圖示共用之完全相同的元件。吾人考慮的是可將一具體實施例之各元件有利地利用於其他具體實施例，而不需另外詳述。

本發明提供一在基板處理期間遮蔽大面積基板、諸如大玻璃及/或塑膠面板之各部份的方法及設備。提供一陰影框組件，其包含一具有一或多塊遮蔽板之陰影框。該陰影框可被設計或架構成適於承納一或多數遮蔽板。藉著遮蔽該陰影框組件下面的一大面積基板之各部份，可在該基板上形成多數隔離之處理區域，使得材料可專一性地沈積在該基板之預先界定區域(例如未遮蔽區域)上。

第1圖係陰影框組件10之一具體實施例的分解圖。該陰影框組件10包含一陰影框12及至少一遮蔽板。於第1圖所述具體實施例中，顯示遮蔽板16、18及20。一基板係承納在該陰影框12內及與在該陰影框下表面上之遮蔽板16、18及20接觸。

該陰影框12一般具有一大致上長方形之形狀及界定一中心孔口11。孔口11之尺寸係設計成可承納一經過該處之待處理基板。該陰影框可具有一孔口，其尺寸係設計成使得該陰影框可與大面積基板一起使用，諸如具有至少大約13,000平方公分或至少大約15,000平方公分表面積的基板。該陰影框可具有各種尺寸，使得其能用於處理具有大於一平方公尺表面積的基板。該陰影框12可由鋁、陶瓷或其他合適材料所製成。於一具體實施例中，該陰影框12係由鋁所製成。該陰影框12包含孔洞13、15，其位於圍繞該中心孔口11之陰影框12的內部凹陷區域14中。該等孔洞13、15被設計成適於承納緊固件28，該等緊固件將該等遮蔽板16、18及20鎖緊至該陰影框12。

該陰影框12之內部凹陷區域14係與該陰影框12之外部區域21成階梯狀，使得該內部區域14形成一容納該等遮蔽板16、18及20之支架，該等遮蔽板相對該陰影框之外部區域21的一上表面位於一大體上共面之方位中。該陰影框之內部區域14可包含沿著其一外側邊緣之階梯狀表面39，以沿著其一表面支撐一側面遮蔽板及該等橫放遮蔽板。該階梯狀表面使該側面遮蔽板於該凹陷區域中定位斜交成一微小角度，以確保一旦該陰影框組件定位在該基板上方時可與該基板密封接觸。

該等遮蔽板16、18及20可由一耐熱材料、諸如陶瓷或另一合適材料製成，其可承受例如大約攝氏450度之室處理溫度，而大體上不會彎曲或扭曲，同時具有一最小之厚度，諸如一吋之數百分之一或甚至數十萬分之一。該等遮蔽板之尺寸可設計成使得與設置在該室中之氣體分佈組件的干涉減至最小，同時維持該玻璃基板及該氣體分佈組件間之必要的間距。吾人意圖使該遮蔽板20可藉著一或更多緊固件28定位在單一側面上，致使該遮蔽板20以懸臂方式伸入藉由該陰影框12所界定之內部區域14。

於第1圖所示具體實施例中，該陰影框組件10包含平行於或大約平行於該陰影框12主軸之二側面遮蔽板16。該側面遮蔽板蓋住一基板之長邊。該等側面遮蔽板16具有形成穿過該遮蔽板之孔洞17，並能夠使緊固件28設置穿過該等孔洞，以將該等側面遮蔽板16鎖緊至該陰影框12中所形成之孔洞13。該等孔洞17可延長，以當該遮蔽板膨脹時允許該緊固件28與孔洞13一起移動。該等側面遮蔽板16可具有開槽區域24，其尺寸係設計成可與在橫放遮蔽板18之端部所界定的突出區域19咬合。該等側面遮蔽板16可具有開槽區域26，其尺寸係設計成可承納該橫放遮蔽板20之端部23。於一具體實施例中，孔洞17可安置鄰接該等開槽區域24及26。

於第1圖所述具體實施例中，提供二末端橫放遮蔽板18，用於鄰接該等側面遮蔽板16之二端部遮蔽一基板之各區域；及提供至少一中心橫放遮蔽板20，用於遮蔽該基板之一內側部份。該中心橫放遮蔽板20遮蔽該基板設置於該二末端橫放遮蔽板18間之一區域。吾人意圖使該等遮蔽板16、18、20可配置成蓋住該基板之其他部份。

於一具體實施例中，該等橫放遮蔽板18、20可大體上平行於該陰影框12之短軸。於一具體實施例中，橫放遮蔽板18、20可大體上與側面遮蔽板16共面，且大體上垂直於側面遮蔽板。可在該等橫放遮蔽板18、20中形成孔洞22。緊固件、諸如緊固件28能夠設置穿過該等孔洞22，以將該等橫放遮蔽板18、20鎖緊至該陰影框12中所形成之孔洞15。該等孔洞22可為修長形，以調節面板之膨脹。該等末端橫放遮蔽板18中之孔洞22可位於該等末端橫放遮蔽板18之端部的突出區域19中。該中心橫放遮蔽板20中之孔洞22可位於橫放遮蔽板20之端部23中。

如第1圖所示，該等末端橫放遮蔽板18之突出端部19裝入側面遮蔽板16之開槽區域24，且中心橫放遮蔽板20之端部23裝入側面遮蔽板16之開槽區域26。因該等遮蔽板16、18及20係彼此組合而非在彼此之頂部上鎖緊，藉由所有該等遮蔽板所提供之遮蔽總厚度大約係該等遮蔽板16、18及20之一的厚度。雖然所示緊固件28將遮蔽板16、18及20連接至該陰影框12，該等緊固件可交替地用於使該等遮蔽板16、18及20之一或多塊彼此連接。

第2A圖係該陰影框組件10之一區域的剖面視圖，在此區域中經由緊固件28連接該陰影框12及一側面遮蔽板16。於另一具體實施例中，該緊固件28可變形及/或延展。於一具體實施例中，該緊固件28可由一金屬、諸如鋁所製成，於第2A－B圖所述具體實施例中，該緊固件28包含一形成在該緊固件28的第一端部39中之盲孔36。該第一端部39具有一由該緊固件28之主體29延伸的圓柱體34。該圓柱體34具有比該主體29之直徑較小的直徑。一墊圈30、諸如一鋁製墊圈係設置在該圓柱體34上方及緊靠著該緊固件28之主體29。該圓柱體34及墊圈30係架構成可至少局部裝在該陰影框12底側所形成之一凹陷區域32內。該墊圈30具有一以某一角度偏離該緊固件28之內表面31，使得一空間界定於該緊固件28及該墊圈30的內表面31之間。

該緊固件28之第二端部202包含一由主體29朝外延伸之頭部204。該頭部係架構成可防止該緊固件28通過該側面遮蔽板16中所形成之孔洞17。於一具體實施例中，該頭部204係架構成可裝入該側面遮蔽板16的上表面207中所形成之凹陷區域205，使得該頭部204之已暴露表面211大體上係與該上表面207共面或凹陷在該上表面207下方。

該陰影框12及該側面遮蔽板16可藉著將一工具、例如一擴口工具(flaring tool)插入該盲孔36及該緊固件28，使得該工具將該圓柱體34之第一端部39向外張開，以緊靠著該墊圈30之內表面31而鎖在一起，如第2B圖中所示。該擴口工具可為任何用於使該緊固件28變形之合適裝置，如第2B圖中所述。當已變形時，該緊固件28係鎖緊至於該墊圈30，藉此使該遮蔽板16捉住該陰影框12。

吾人意圖使該墊圈30及緊固件28可藉著干涉、裝配、擴孔、壓凹接合、加熱(braising)、焊接、以鉚釘固定、楔緊(keying)或其他合適拴牢方法鎖緊。吾人亦意圖使該緊固件28可為一螺絲、螺栓、鉚釘或適合用於耦接該陰影框及面板之其他型式緊固件。譬如第7圖中所述，該緊固件28可包含彼此嚙合之一公螺紋構件700及一母螺紋構件702，以將該面板鎖緊至該陰影框。為減少該等構件700、702所需之高度，該等構件700、702之一或多個可包含一縮減輪廓之驅動器704，諸如板手用之孔洞。

該緊固件28之圓柱體34的擴口作用(flaring)可防止該緊固件向上位移通過該遮蔽板16之上表面。造成該緊固件28鎖緊該墊圈30之另一優點，係該緊固件28一般可比習知螺紋嚙合所需要者較短。一較短之緊固件可使該陰影框組件在基板處理期間於該基板及該室中的氣體分佈板之間所提供的分開距離減至最小。然而，替代地或組合地，該等遮蔽板16、18、20及該陰影框12可藉由替代之方法所鎖緊。吾人亦意圖使該陰影框12或遮蔽板16、18、20之至少一個可鬆弛地嚙合在該等緊固件28上，而未拴牢。

使用在此所述拴牢用之緊固件28的另一優點為，其能於該等遮蔽板及該陰影框之間允許有一適當之間隙、譬如一吋之數千分之一。於基板處理期間，在升高之溫度下，此一間隙允許由不同材料所製成的陰影框及遮蔽板、諸如一鋁製陰影框及陶瓷遮蔽板之間有熱膨脹差異。

第3圖係第1圖之陰影框組件10的一俯視平面圖，其呈已組裝之形式定位在一基板40上方，該基板設置在一基板支撐構件上。該基板40係定位在界定該內部區域14的陰影框12之一邊緣43內側。藉著末端橫放遮蔽板18蓋住該基板40之短側面邊緣41，且藉著側面遮蔽板16蓋住該基板40之一橫向側面邊緣42。如第3圖所示，遮蔽板16、18、20係安置於該遮蔽框12之凹陷內部區域14中。側面遮蔽板16及末端橫放遮蔽板18係安置在該凹陷內部區域14之一外側部份中，而中心遮蔽板20係安置於該凹陷內部區域14之內側部份中。在第3圖所示具體實施例中，該等側面遮蔽板16不會重疊及不會被末端橫放遮蔽板18或中心遮蔽板20所重疊，使得該側面遮蔽板16之任一部份不會擺放在該等遮蔽板18、20上，或支撐該等遮蔽板18、20之一部份。組合該等側面遮蔽板及該等橫放遮蔽板而不會重疊，因該側面遮蔽板16之開槽區域24(第1圖)的尺寸係設計成可承納橫放遮蔽板18之端部的突出區域19，且該側面遮蔽板16之開槽區域26的尺寸係設計成可承納橫放遮蔽板20之端部23(第1圖)。

第4圖係經過第3圖剖線4-4的一剖面視圖。為清楚故，第4圖係以中斷線71示出，及顯示該陰影框組件之細部。該陰影框12係支撐在基板支撐組件50上。該側面遮蔽板16及該末端橫放遮蔽板18藉著緊固件28鎖緊至陰影框12。基板40係藉著該基板支撐組件50之支撐區域56所支撐。

第4A圖係第4圖之一區域的放大圖。側面遮蔽板16及末端橫放遮蔽板18係支撐於該陰影框之凹陷內部區域14中。當所有該凹陷內部區域14係低於該陰影框之外部區域21時，該凹陷內部區域可形成某一角度或呈階梯狀，使得該凹陷內部區域14之一外側部份60係比該凹陷內部區域14之內側部份64稍微較高，例如高出一吋之數百分之一。吾人相信該外側部份60之較高的高度造成該等遮蔽板16、18之向內傾斜朝向該基板40之中心，且如此確保該等遮蔽板16、18之內部邊緣接觸該基板40，以有效地遮蔽該等遮蔽板16、18下面之基板的各部份免於沈積，

該等遮蔽板516、518、520係藉著緊固件28鎖緊至該陰影框512，如參考上面之遮蔽板16、18、20及陰影框12所述。回頭參考第1圖，該陰影框組件10係藉著穿過該等遮蔽板中之孔洞17、22，將緊固件28放入該陰影框12中之對應孔洞13、15所組裝。在所有該等緊固件28被放入該等孔洞之後，鎖緊該等栓銷，如上文關於第2B圖所述。遮蔽板16、18及20共同地形成一遮蔽，其界定具有一長方形之外周邊，並類似於該陰影框12之形狀，其中該遮蔽之外周邊係比該陰影框12之外周邊及待處理基板之周邊較小，以致遮蔽該基板之各邊緣。該遮蔽之外周邊係藉著側面遮蔽板16及末端橫放遮蔽板18所形成。該遮蔽係藉著中心橫放遮蔽板20一分為二，使得該遮蔽於該等側面遮蔽板16及該等末端橫放遮蔽板18之間界定二孔口。

於一具體實施例中，該陰影框12之外部區域21可包含一下表面402，該下表面延伸在該陰影框12之下表面400下方及圍繞著該下表面。一壁面406延伸於該外部區域21之下表面402及該陰影框12之內部區域的下表面400之間。該壁面406係架構成可圍繞及重疊該基板支撐組件50之壁面408，該陰影框12係設置在該基板支撐組件上。

該外部區域21包含一傾斜表面404，其耦接該外部區域21之下表面402及該陰影框12之一外側邊緣410。該傾斜表面404有利於將該陰影框12安置及支撐在該室內側，如第6圖下面所示。

第1圖之陰影框組件10係架構成可在一基板上形成二隔離之處理區域，該等處理區域界定一用於形成想要之顯示器的面積，其中該等處理區域之一的周邊係藉著側面遮蔽板16之內部邊緣、該中心橫放遮蔽板20之一邊緣、及該等末端橫放遮蔽板18之一的內部邊緣所界定。另一處理區域之周邊係藉著側面遮蔽板16之內部邊緣、該中心橫放遮蔽板20之相向邊緣、及另一末端橫放遮蔽板18之內部邊緣所界定。

第5圖係陰影框組件500之另一具體實施例的分解圖。來自第1圖之參考數字係用於顯示第5圖中之完全相同的零件。雖然第1圖中之陰影框組件10包含二末端橫放遮蔽板18及一中心橫放遮蔽板20，第5圖中之陰影框組件500包含一陰影框512、二末端橫放遮蔽板518、及二中心橫放遮蔽板520。陰影框組件500之每一側面遮蔽板516包含二開槽區域26，其尺寸被設計成可承納中心橫放遮蔽板520之端部23。

第5圖之陰影框組件500係架構成可在一基板上形成三個隔離之處理區域。一第一隔離處理區域之周邊係藉著側面遮蔽板516之內部邊緣、該等中心橫放遮蔽板520之一的一邊緣、及該等末端橫放遮蔽板518之一的內部邊緣所界定。一第二隔離處理區域之周邊係藉著側面遮蔽板516之內部邊緣及該二中心橫放遮蔽板520所界定。一第三隔離處理區域之周邊係藉著側面遮蔽板516之內部邊緣、另一中心橫放遮蔽板520之一邊緣、及另一末端橫放遮蔽板518之內部邊緣所界定。

如可在第1及5圖中看出者，該遮蔽板516、518及520能具有多種寬度。該遮蔽板518、520可具有大體上相同之寬度，類似於第1圖中所示者，或該等末端橫放遮蔽板518及該中心橫放遮蔽板520可具有不同之寬度，如第5圖所示。能選擇該等遮蔽板516、518及520之寬度，以在一基板上提供想要面積之處理區域。

雖然已在此顯示及敘述具有二側面遮蔽板、二末端橫放遮蔽板、及一或二中心橫放遮蔽板的陰影框組件之具體實施例，吾人意圖使該等陰影框組件可包含其他數目之遮蔽板，亦即二或多塊側面遮蔽板及一或多塊中心橫放遮蔽板。譬如，可藉著使用一陰影框組件在基板上提供四個處理區域，該陰影框組件包含三側面遮蔽板、一中心橫放遮蔽板、及二末端橫放遮蔽板。可配置該等遮蔽板，以遮蔽該基板之非多角狀形式的區域。一或多個該等遮蔽可包含一孔口530，如第5圖中之虛線所示。該孔口530允許在該基板上經過該孔口發生沈積。

於另一具體實施例中，多數處理區域可藉著使用一陰影框組件設在一基板上，該陰影框組件包含一單件式遮蔽而非一由多數遮蔽板所組成之遮蔽。譬如，可使用一具有藉著第1或5圖中遮蔽板16、18及20所形成之遮蔽形狀的單件式遮蔽。該單件式遮蔽可形成為單件或由多數元件結合在一起所形成。該單件式遮蔽可由陶瓷所製成。

將關於第6圖敘述一含有如在此所述陰影框組件的基板處理室之範例。第6圖係電漿輔助化學氣相沈積室(plasma enhanced chemical vapor deposition chamber)200之一具體實施例的概要剖面視圖，其可由加利福尼亞州聖塔克拉拉市之應用材料公司的AKT部門購得。該室200大致上包含一接合至氣體來源204之處理室本體202。該處理室本體202具有局部界定一處理容積212之壁面206及底部208。該處理容積212一般係穿過該等壁面206中之一通口(未示出)進出，並有利於一基板240之移入及移出該處理室本體202。該等壁面206及底部208一般係由整塊鋁或與處理相容之另一材料所製成。該等壁面206支撐一包含泵吸氣室214之蓋子組件210，該蓋子組件將該處理容積212耦接至一排氣通口(其包含各種未示出之泵吸零組件)。

一溫度控制式基板支撐組件238係中心地設置在該處理室本體202內。該支撐組件238於處理期間支撐一基板240。於一具體實施例中，該基板支撐組件238包含一封裝至少一嵌入式加熱器232之鋁製本體224。設置在該支撐組件238中之加熱器232、諸如一電阻元件係耦接至一電源274，並將該支撐組件238與定位在其上面之玻璃基板240可控制地加熱至一預定溫度。一般地，於一化學氣相沈積(CVD)製程中，視待沈積材料用之沈積處理參數而定，該加熱器232將該基板240維持在大約攝氏150度至最少大約攝氏460度間之一均勻的溫度。

大致上，該支撐組件238具有一下側面226及一上側面234。該上側面234支撐該基板240。該下側面226具有一耦接至其上之轉桿242。該轉桿242耦接該支撐組件238至一舉升系統(未示出)，該舉升系統於一升高處理位置(如所示)及一降低位置之間移動該支撐組件238，而在該降低位置時有利於將基板移至及送出該處理室。該轉桿242於該支撐組件238及該系統200的其他零組件之間附帶地提供一用於電及熱電偶引線之導管。

一蛇腹管(bellows)246係耦接於支撐組件238(或該轉桿242)及該處理室202的底部208之間。該蛇腹管246於該室容積212及該處理室外側大氣之間提供一真空密封，而有利於該支撐組件238之垂直移動。

該支撐組件238大致上係接地，使得藉著電源222供給至定位於該蓋子組件210及基板支撐組件238(或定位於該室之蓋子組件內或靠近該蓋子組件之另一電極)間之氣體分佈板組件(gas distribution plate)218的射頻(RF)功率，可激發在於該支撐組件238及該分佈板組件218間之處理容積212中的氣體。來自該電源222之射頻功率大致上係選擇成可與該基板之尺寸匹配，以驅動該化學氣相沈積製程。

該支撐組件238具有複數穿過該支撐組件之孔洞228，以承納複數舉升栓銷250。該等舉升栓銷250一般係由陶瓷或陽極電鍍鋁所組成。可相對該支撐組件238藉著一選擇性舉升板254致動該舉升栓銷250，以由該支撐表面230突出，藉此相對該支撐組件238以一隔開之關係放置該基板。

該支撐組件238附帶地支撐一陰影框組件270。該陰影框組件270包含一陰影框248及遮蔽板，包含遮蔽板253。該陰影框組件270於處理期間蓋住該基板240之一或更多部份，以致僅只暴露該基板之預先界定區域供在其上承接沈積材料。該陰影框組件270可如上面所述架構。當該基板240係在該支撐組件238上處於一降低、未處理位置時，該陰影框組件270係藉著該室本體202所支撐。當該玻璃基板240係舉起進入該處理位置時，該陰影框組件270係由該室本體舉起，使得該陰影框組件係藉著該支撐組件238所支撐及蓋住該基板240之各部份。

該蓋子組件210對該處理容積212提供一上邊界。該蓋子組件210一般可被移開或打開，以保養該處理室202。於一具體實施例中，該蓋子組件210係由鋁(Al)製成。該蓋子組件210包含一形成在其中之泵吸氣室214，其耦接至一外部泵吸系統(未示出)。該泵吸氣室214被利用於引導氣體，及均勻地處理來自該處理容積212之副產物與排出該處理室202。

該蓋子組件210一般包含一進入通口280，由該氣體來源204所提供之製程氣體經過該通口導入該處理室202。該進入通口280亦耦接至一清潔來源282。該清潔來源282一般提供一清潔劑、諾如游離氟，其被導入該處理室202，以由包含該氣體分佈板組件218之處理室硬體移除沈積副產物及薄膜。

該氣體分佈板組件218係耦接至該蓋子組件210之一內部側面220。該氣體分佈板組件218一般係架構成大體上順應該玻璃基板240之輪廓，譬如用於大面積平板式基板之長方形輪廓。該氣體分佈板組件218包含一有穿孔之區域216，製程氣體及由該氣體來源204所供給之其他氣體係經過該區域216傳送至該處理容積212。該氣體分佈板組件218之有穿孔區域216係架構成可提供氣體之均勻分佈，而該等氣體通過該氣體分佈板組件218進入該處理室202。

該氣體分佈板組件218一般包含一由吊架板(hanger plate)260懸掛下來之擴散器板(diffuser plate)258。該擴散器板258及吊架板260可替換地包含單一整體構件。複數氣體通道262係形成穿過該擴散器板258，以允許一預定之氣體分佈通過該氣體分佈板組件218及進入該處理容積212。該吊架板260將該擴散器板258及該蓋子組件210之內部表面220維持於一隔開關係中，如此在其間界定一氣室264。該氣室264允許氣體流經該蓋子組件210，以橫越該擴散器板258之寬度均勻地分佈，致使氣體係均勻地提供在該中心穿孔區域216上面及以一均勻之分佈流經該等氣體通道262。

吾人意圖使在此所述之陰影框組件可用於其他電漿輔助化學氣相沈積室或用於其他基板處理室，包含用於處理大玻璃平板式基板之其他室。

在此簡短敘述一陰影框組件與一基板於一處理室中之嚙合。一陰影框組件係藉著該基板支撐組件由其支座(如關於第6圖所述)舉起。一基板支撐組件之接觸栓銷52(第4A圖)係藉由陰影框12中之一凹陷區域54(第4A圖)所承納，以確保該陰影框與該基板支撐組件之對齊，且因此與在其上所支撐之一基板對齊。該基板具有一比該陰影框12之中心孔口11較小的周邊。如此，該基板係經過該陰影框12之孔口11舉高，且藉由該陰影框12所圍繞，如第3圖中所示。遮蔽板係配置成可蓋住該基板之預先界定區域，以防止該陰影框組件下邊所設置基板之各區域上的處理，諸如一薄膜之沈積。

雖然前文係針對本發明之各具體實施例，可設計本發明之其他及另外具體實施例，卻未由其基本範圍脫離，且其範圍係由隨後之申請專利範圍所決定。

10．．．陰影框組件

11．．．中心孔口

12．．．陰影框

13．．．孔洞

14．．．內部凹陷區域

15．．．孔洞

16．．．遮蔽板

17．．．孔洞

18．．．遮蔽板

19．．．突出區域

20．．．遮蔽板

21．．．外部區域

22．．．孔洞

23．．．端部

24．．．開槽區域

26．．．開槽區域

28．．．緊固件

29．．．主體

30．．．墊圈

31．．．內表面

32．．．凹陷區域

34．．．圓柱體

35．．．空間

36．．．盲孔

39．．．階梯狀表面

40．．．基板

41．．．側面邊緣

42．．．側面邊緣

43．．．邊緣

50．．．基板支撐組件

52．．．接觸栓銷

54．．．凹陷區域

56．．．支撐區域

60．．．外側部份

64‧‧‧內側部份

71‧‧‧中斷線

200‧‧‧電漿輔助化學氣相沈積室

202‧‧‧第二端部

204‧‧‧頭部

205‧‧‧凹陷區域

206‧‧‧壁面

207‧‧‧上表面

208‧‧‧底部

210‧‧‧蓋子組件

211‧‧‧已暴露表面

212‧‧‧處理容積

214‧‧‧泵吸氣室

222‧‧‧電源

224‧‧‧鋁製本體

226‧‧‧下側面

228‧‧‧孔洞

230‧‧‧支撐表面

232‧‧‧嵌入式加熱器

234‧‧‧上側面

238‧‧‧基板支撐組件

240‧‧‧基板

242‧‧‧轉桿

246‧‧‧蛇腹管

248‧‧‧陰影框

250‧‧‧舉升栓銷

253‧‧‧遮蔽板

254‧‧‧舉升板

258‧‧‧擴散器板

260‧‧‧吊架板

262‧‧‧氣體通道

264‧‧‧氣室

270‧‧‧陰影框組件

274‧‧‧電源

280‧‧‧進入通口

282‧‧‧清潔來源

400‧‧‧下表面

402‧‧‧下表面

404‧‧‧傾斜表面

406‧‧‧壁面

408‧‧‧壁面

410‧‧‧外側邊緣

500‧‧‧陰影框組件

512‧‧‧陰影框

516‧‧‧遮蔽板

518‧‧‧遮蔽板

520‧‧‧遮蔽板

530‧‧‧孔口

700．．．公螺紋構件

702．．．母螺紋構件

704．．．縮減輪廓之驅動器

第1圖係本發明之陰影框組件的一具體實施例之分解圖。

第2A圖係陰影框組件之一區域的剖面視圖，在此區域中連接該陰影框及一遮蔽板。

第2B圖係陰影框組件之一區域的剖面視圖，在此區域中將該陰影框及一遮蔽板連接及鎖在一起。

第3圖係定位在一基板支撐構件上之陰影框組件的一具體實施例之俯視平面圖。

第4圖係經過第3圖剖線4－4之一剖面視圖。

第4A圖係第4圖之一區域的放大圖，其顯示一定位在基板支撐構件上之陰影框組件的具體實施例。

第5圖係本發明之陰影框組件的另一具體實施例之分解圖。

第6圖係一示範處理室之概要剖面視圖，在該處理室中設置有本發明之陰影框組件的一具體實施例。

第7圖係一緊固件之另一具體實施例的剖視圖，該緊固件將一遮蔽板鎖緊至一陰影框。

10．．．陰影框組件

11．．．中心孔口

12．．．陰影框

13．．．孔洞

14．．．內部凹陷區域

15．．．孔洞

16．．．遮蔽板

17．．．孔洞

18．．．遮蔽板

19．．．突出區域

20．．．遮蔽板

21．．．外部區域

22．．．孔洞

23．．．端部

24．．．開槽區域

26．．．開槽區域

28．．．緊固件

39．．．階梯狀表面

Claims (16)

1. 一種陰影框組件，包含：一陰影框，具有一上表面，該上表面具有一第一凹陷區域及一第二凹陷區域形成於其上，及一階梯狀之下表面，其中該第一凹陷區域、該第二凹陷區域以及該階梯狀之下表面圍繞著穿過該陰影框而形成之一中心孔口；第一複數個遮蔽板，附接至該第一凹陷區域並覆蓋該孔口之至少一部份；以及第二複數個遮蔽板，附接至該第二凹陷區域，該第二複數個遮蔽板垂直該第一複數個遮蔽板，並覆蓋該孔口之至少一部份，其中該第一及第二複數個遮蔽板中的各個遮蔽板具有一或多個穿過遮蔽板而形成的延長的緊固件孔洞，且各個遮蔽板經由透過該等延長的緊固件孔洞安裝的複數個緊固件附接至該陰影框，致使各個該第一及第二複數個遮蔽板以允許在其間相對移動之方式鎖緊至該陰影框。
2. 如申請專利範圍第1項之陰影框組件，其中該第二複數個遮蔽板中的一個分開該孔口的兩個開放區域。
3. 如申請專利範圍第1項之陰影框組件，其中該第一及第二複數個遮蔽板將該孔口分割成至少三個開放區域。
4. 如申請專利範圍第1項之陰影框組件，其中該等遮蔽板 係陶瓷製，且該陰影框係鋁製。
5. 如申請專利範圍第2項之陰影框組件，其中該等開放區域之形狀係多角形。
6. 如申請專利範圍第1項之陰影框組件，其中藉由在該等緊固件之一頭部及一墊圈之間固定該陰影框及該等遮蔽板，使各個該第一及第二複數個遮蔽板固定至該陰影框，且其中該緊固件係藉著壓凹接合(staking)、擴孔展開(flaring)、鎚擊(peening)或干涉配合(interference fit)之至少一種鎖緊至該墊圈。
7. 一種陰影框組件，包含：一陰影框，具有一凹陷內部區域形成在一上表面並設置繞著穿過該陰影框而形成之一中心孔口；一或多個側面遮蔽板，附接至該陰影框之該凹陷內部區域；以及一或多個橫放遮蔽板，附接至該陰影框之該凹陷內部區域，該等側面及橫放遮蔽板延伸通過該陰影框，以至少局部覆蓋該中心孔口，其中該一或多個橫放遮蔽板的多個突出端部與該等側面遮蔽板之一側中形成之一開槽組合，其中各該等側面遮蔽板及該等橫放遮蔽板係以允許在其間相對移動之方式鎖緊至該陰影框。
8. 如申請專利範圍第7項之陰影框組件，其中該一或多個橫放遮蔽板係由一陶瓷材料所製成。
9. 如申請專利範圍第8項之陰影框組件，其中該陰影框係由鋁所製成。
10. 如申請專利範圍第7項之陰影框組件，其中該等側面遮蔽板之一或多個係藉著一可變形之緊固件附接至該陰影框。
11. 一種陰影框組件，包含：一陰影框，具有一上表面、一下表面及一外側邊緣，該陰影框界定一中心孔口，該陰影框具有由該下表面往上延伸至該陰影框之該外側邊緣之一傾斜表面，以及形成在鄰接並圍繞該中心孔口之該上表面中之一凹陷區域；以及至少一第一遮蔽板，藉由該陰影框支撐於該凹陷區域中，並覆蓋該孔口之至少一部份，其中該至少一第一遮蔽板具有一延長的孔洞接受一緊固件以允許在該至少一第一遮蔽板與該陰影框之間相對移動的方式，將該第一遮蔽板之一端部連接至該陰影框。
12. 如申請專利範圍第11項之陰影框組件，其中該陰影框及該等遮蔽板係由相同材料所製成。
13. 如申請專利範圍第11項之陰影框組件，其中該陰影框及該等遮蔽板係由不同材料所製成。
14. 如申請專利範圍第11項之陰影框組件，更包含：一第二遮蔽板，其具有正交於該第一遮蔽板之一方位。
15. 如申請專利範圍第11項之陰影框組件，其中該第一遮蔽板分開該孔口的兩個區域。
16. 如申請專利範圍第11項之陰影框組件，其中該第一遮蔽板係由一陶瓷材料所製成。