DE2110668A1

DE2110668A1 - Vorrichtung zum UEberziehen eines Substrats mit einer dicken und stark haftenden Schicht

Info

Publication number: DE2110668A1
Application number: DE19712110668
Authority: DE
Inventors: Jean-Jacques Bessot; Blan Louis Le
Original assignee: Alcatel CIT SA; Compagnie Industrielle de Telecommunication CIT Alcatel SA
Current assignee: Alcatel CIT SA
Priority date: 1970-03-06
Filing date: 1971-03-05
Publication date: 1971-09-23
Also published as: FR2082217A5; CH536882A

Description

Compagnie Industrielle des Telecommunications Cit-Alcatel,

Paris, Prankreich

Torrichtung zum Überziehen eines Substrats mit einer dicken

und stark haftenden Schicht

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum überziehen eines Substrats mit einer dicken und stark haftenden Schicht.

Bekanntlich erhält man Niederschläge unter Vakuum im wesentlichen nach zwei bekannten Verfahren, einerseits der Aufdampfung und andererseits der Abscheidung durch kathodische Zerstäubung.

Beim Verfahren unter Ausnutzung der Aufdampfung wird das zu verdampfende Material im allgemeinen in einen Tiegel gegeben und in einem unter Vakuum bzw. Unterdruck, im folgenden Unterdruck genannten, abgeschlossenen Raum erwärmt« Die Dämpfe schlagen sich auf dem vorher gereinigten und entzunderten bzw. gebeizten Substrat nieder*

Der wesentliche Vorteil dieses Verfahrens liegt in der Bil dungsgeschwindigkeit der Schicht, die leicht 20 bis 40 Mikron pro Stunde erreicht. Jedoch 1st der an das Substrat gelangende dampfförmige Strom einerseits von geringer kinetischer

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Energie in der Größenordnung von ein Zehntel Elektronen volt, und die nach dieser Technik erhaltene Verbindung zwischen den Atomen des Niederschlags und den Atomen der Oberflächenschicht des Substrats ist sehr variabel, je nach der in Betracht gezogenen liaterialpaarung. Hieraus folgt, daß das Haften der abgeschiedenen Schicht in sehr weiten Grenzen entsprechend der Art der liaterialpaarung variiert. Der Niederschlag durch Verdampfung mußte, nachdem zunächst Hoffnungen erweckt wurden, bei einer großen Anzahl industrieller Anwendungsfälle aufgegeben werden.

* Das Verfahren des Auftrags oder des Niederschiagens durch Kathodenzerstäubung kann erfindungsgemäß besonders vorteilhaft weitergebildet werden, wobei ein aus im wesentlichen neutralem Plasma bestehendes Bündel an der Oberfläche einer Prallplatte bzw. Auffangelektrode vorbeistreicht, die aus dem zu pulverisierenden Material gebildet und auf ein negatives Potential gebracht ist. Das an !lasse gelegte, zu überziehende Substrat wird in der Nähe der Auffangelektrode, beispielsweise etliche Zentimeter von dieser entfernt, angeordnet. Die am Substrat ankommenden Partikel sind mit einer erheblichen kinetischen Energie von 1 bis 10 eV im flittel versehen und liegen somit 10 bis 100 % höher als bei der Abscheidung durch Aufdampfung. Die erhaltenen Niederschläge haften sehr viel stärker. Za gibt allerdings auch einige Ausnahmen: Beispielsweise eine Abscheidung durch Kathodenzerstäubung von Molybdän auf Kupfer haftet ziemlich schlecht.

Untersuchungen haben nun gezeigt, daß ein Niederschlag auf einem Substrat, das aus einem . Keta.il Γ1 gebildet wurde, das vorher durch lonenerosion gereinigt war, und zwar mittels kathodischen Spritz ens des gleichen details II, in sämtlichen fällen zu einer vollkommenen Haftung führte. Auch konnte gezeigt werden, daß dann, wenn man ein anderes Metall fi'r- -■' .

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durch Kathodenzerstäubung auf diese aufgetragene Ileta 11 schicht £1 im gleichen Zeitraum aufbringt, während dessen man das Spritzen des Ketalle Il fortsetzt und progressiv das rietall M durch das Metall K' ersetzt, man vollkommen haftende Schichten aus Tietall ii^! erhalten kann.

Hieraus kann man schließen, daß erfahrungsgemäß die durch Kathodenzerstäubung abgeschiedene Schicht des rietalls M auf dem aus dem gleichen Metall M gebildeten Substrat sich wie eine Verankerungssehicht für das hetall Γί^Γ verhält.

Neuerliche Srfahrungsdaten haben die Feststellung ermöglicht, daß die pulverisierte Schicht des Ketalls K auf dem Substrat Ji' weiter die Rolle als VerankerungsBchicht selbst dann spielt, wenn das Hetall K ⁽ durch Kathodenzerstäubung aufgespritzt wurde, ohne daß wie vorher eine progressive Substitution des Ketails H durch das Ketall 1? erfolgte· Die erhaltene Abscheidung bleibt genauso haften wie im vorhergehenden Jail. Die gleiche Erfahrung konnte gemacht werden, als man die zerstäubte Schicht aus dem Hetall Ii^c durch eine Schicht verdampften Ketalls U¹ ersetzte« Der erhaltene Niederschlag hat sich als genauso haftend wie in den vorhergehenden fällen gezeigt. Diese Überlegungen haben erfindungsgemäß zu einer völlig neuen Maßnahme in der tiberzugstechnik geführt, durch die die Hafteigenschaften eines durch Zerstäubung erhaltenen Überzugs gleichzeitig mit der schnellen Bildungsgeschwindigkeit der bei Auf dämpfung hergestellten /Schichten auftraten.

So zeichnet sich die erfindungsgemäße Maßnahme der Unterdruckbeschichtung eines Substrats mittels einer dicken und haftenden Schicht aus einem bestimmten Material, wenn die Oberfläche dee Subβträte gereinigt und/oder vorher durch irgendein bekanntes Mittel entzundert oder gebeizt war, dadurch aus, daß diese Oberfläche eine !Folge «eitlich verketteter Verfahrens-

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schritte erleidet, die darin bestehen, daß man eine erste sehr dünne, durch Kathodenzerstäubung gebildete Verankerungsschicht abscheidet, dann durch Aufdampfung das gewünschte laterial auf diese Verankerungsachicht, bis man die gewünschte l>icke erhält, niederschlägt.

Vorstehend wurde die Art des die Verankerungsschicht bildenden liaterials nicht definiert, da festgestellt werden konnte, daß ei⁵/®?^ vorteilhaft ist, das iSubstratmaterial zu verwenden j in gewissen Fällen kann man aber auch das dann durch ü.ufdampfung abzuscheidende Material IV nehmen. In zahlreichen w fällen kann man sogar ein haterial II" finden, welches durch kathodisches (Spritzen auf das Substrat eine sehr stark haftende Verankerungsschicht bildet, auf der der Aufdampfungsniederschlag des Material Il in besonders zufriedenstellender weise haftet.

Auch wurde bei der erfindungsgemaßen Maßnahme nicht präzisiert, Ob die Kathodenzerstäubung völlig beendet sein muß, wenn man mit der Abscheidung durch Aufdampfen beginnt. j£s wurde nämlich festgestellt, daß in gewissen fällen es interessant sein kann, mit der Abscheidung durch Auf dampf ung erst nach dem Ende der Kathodenzerstäubung zu beginnen. .Dies ist , beispielsweise der Fall, wenn man eine klare Diskontinuität zwischen der Verankerungsschicht und dem Niederschlag durch Zerstäubung bei elektrischen oder elektronischen i»nwendungsfallen zu erzeugen wünscht«

Bei gewissenen anderen Anwendungen dagegen ist es wünschenswert, «jede Diskontinuität zu eliminieren. Im letztgenannten Fall hält man die Kathodenaei'stäubung während einer gewissen Zeit nach Beginn der Aufdampfung aufrecht.

Aus den vorstehenden Überlegungen ergibt sich, daß die ::<urch-

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führung der erf indumgsgemäßen Maßnahme zur konstruktion von Vorrichtungen, die untereinander gewisse Unterschiede je nachdem aufweisen, ob der Zeitraum des Niederschlags durch Kathodenzerstäubung und der Aufdampfungszeitdauer, ohne sich zu überlappen, aufeinanderfolgen oder ob sie zeitlich übereinandergreifen.

iiine Vorrichtung zur Herstellung einer dicken und am Substrat haftenden Schicht, die jedoch keine merkliche 1/bergangszone zwischen der dünnen Verankerungsschicht und der dicken schicht aufweist, besteht im wesentlichen aus einer Unterdruckkammer, die im unteren Teil mit einem durch bekannte Einrichtungen beheizten liegel versehen ist, und zeichnet sich dadurch aus, daß die Unterdruckkammer eine gewisse Anzahl von Auffangelektroden aus dem zu zerstäubenden Material enthält, die der Wirkung des durch die Generatoren bekannter Art erzeugten Plasmas ausgesetzt sind, wobei so viele Plasmageneratoren wie Auffangelektroden vorgesehen sind: und daß die Heizeinrichtung für den !Tiegel eine regelbare Schaltuhr aufweist, die es ermöglicht, sie zu einem geeigneten Augenblick nach Beginn der Zerstäubung in Betrieb zu setzen.

Bei der erfindungsgemäßen 'Vorrichtung fällt also die Diskontinuität zwischen der dünnen Verankerungsschicht und der dicken aufgedampften Schicht dadurch fort, daß man die Zerstäubungsatome gleichzeitig wie die Atome des verdampften Materials während wenigstens eines Teils der Verdampfungephase ankommen läßt·

Für den anderen Fall, wo man dagegen eine klare üiekontinuität schaffen will, ist es notwendig, um Jede gegenseitige Verunreinigung der Niederschläge zu vermeiden, eine trennwand in der Unterdruckkammer zwischen den beiden Säumen, wo die Niederacblagevorgäiige erfolgen, anzuordnen·

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So umfaßt eine Vorrichtung} mit der man eine dicke und am Substrat haftende Schicht, die gegenüber letzterem eine Zone plötzlichen Übergangs aufweist, erhalten will, eine Unterdruckkammer, die teilweise längs einer -trennwand in zwei, beide mit dem Pump sys tem verbundene Bäume unterteilt ist. Diese Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, daß man im ersten flaum durch irgendwelche bekannten Einrichtungen ein Plasma zwischen der aus dem zu zerstäubenden Material gebildeten Auffangelektrode und dem Substrat erzeugt \ und daß der zweite aaum einen durch beliebige bekannte Einrichtungen bebeizten tiegel, der das zu verdampfende Haterial enthält, aufweist; und daß das . Substrat mit einem Träger verbunden ist, welches es zunächst " gegenüber der Auffangelektrode im ersten Kaum unbeweglich hält und dann nach einer Überführung in den zweiten Baum es in unmittelbarer Nähe des Siegels fixiert.

Bei einer Torrichtung zur kontinuierlichen Behandlung ist es auch möglich, auf dem Substrat einen Verbundniederscblag vor» zusehen, der eine Diskontinuität zwischen der dünnen Verankerungsschicht und der dicken Verdampfungeschicht aufweist oder im Gegensatz hierzu einen Niederschlag ohne Diskontinuität trägt, je nachdem, ob man gegebenenfalls eine trennwand zwischen dem Volumen, in dem die Zerstäubung erfolgt, und dem, wo die Abscheidung durch Verdampfung erfolgt, anordnet.

Eine kontinuierlich fertigende Vorrichtung, mit der man eine dicke und an Substrat haftende Schicht erhalten will, die keine merkliche Übergangszone zwischen der dünnen Verankerungsschicht und der dicken Schicht aufweist, besteht aus einem zylindrischen länglichen, unter unterdruck gehaltenen Volumen, in dem man langsam bei regelbarer Geschwindigkeit parallel zur Achse des Zylinders zu überziehende oder zu beschichtende Werkstücke zirkulieren läßt, die an einem an einer diskontinuierlichen Schiene aufgehängten Wagen gelagert sind, wobei

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dieser an seinen Enden mit einer Doppelschleuse mit Vakuumpumpen versehene Zylinder die Zirkulation dieses an eine diskontinuierliche Schiene gehängten, Wagens ermöglicht. Jie Vorrichtung zeichnet sich hierbei dadurch aus, daß sie nacheinander längs der Bahn der au beschichtenden Iletallwerkstücke eine an sich bekannte, mit Ionenerosion arbeitende 3ntzunderungsvorrichtung, eine oder mehrere an sich bekannte KathodenzerstäubungsvorrichtimBi ein oder mehrere durch irgendein beliebiges Mittel beheizte Verdampfungstiegel und eine Regelvorrichtung aufweist, welche die Dicke der Schichten vor dem Austrag mißt.

Beispielsweise Ausführungsformen der Erfindung sollen nun anhand der beiliegenden Zeichnungen näher erläutert werden, in denen

3?ig. 1 eine Vorrichtung zur chargenweisen Herstellung von Schichten ohne Diskontinuitätszone, die mit zwei Kathodenzerstäubervorrichtungen versehen ist, zeigt\

£ig. 2 gibt die schematische Darstellung einer chargenweise produzierenden Vorrichtung von ßohichten mit einer üiskontinuitätszone» die mit einer einzigen Kathodenzerstäubervorrichtung versehen ist» wieder; und

Fig. J zeigt das Prinzipschema einer Vorrichtung, die für die Serienfertigung von Schichten ausgelegt ist, bei denen eine Diskontinuitätsstelle nicht existiert,

S¹Ig, 1 zeigt eine mit zwei einander gegenüberstehenden öffnungen 1 und 1¹ versehene UnteBdruckkammer, wobei die öffnungen

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für zwei für die Kathodenzerstäubung benützte Plasmageneratoren bestimmt sind. Diese Generatoren umfassen Heizdrähte 2 und 2', zylindrische Verbrauchselektroden 5 und y (electrodes de confinement) sowie Magnetspulen 4- und 4·· Parallel zur Achse dee Plasmagenerators sind zwei Auffangelektroden 7 und 7' (cibles) angeordnet, die auf sehr stark negativen Potentialen gehalten sind. Die zu überziehende, gegenüber den Auffangelektroden angeordnete Oberfläche 11 ist an einem träger 12 befestigt. Dieser wiederum ist mit einem Isolierarm 17 versehen, der für die mechanische Verbindung mit der äußeren Umgebung sorgt. Der für den elektrischen Son takt mit dem zu überziehenden oder beschichtenden Substrat sorgende l'eil des Trägers 12 kann auf KasBepotential oder auf irgendeinem anderen Potential aufgrund eines Hilfskontaktes 13 gehalten werden. In der Kitte der Unterdruckkammer ist ein tiegel 14 angeordnet, der durch eine Wicklung beheizt wird, der Ausgangsdrähte 15 ** in i'ig«. 1 sichtbar - au einem Relais 18 mit Schaltuhr mit regelbarer Auslegung führen.

Nach der erfindungsgemäßen Kaßnafame scheiden die beiden Zerstäubervorrichtungen auf dieses mit Überzug zu versehende Substrat von den Auffangelektroden stammende Atome ab. Die Bildungsdauer der Haftungsschicht ist umso kürzer, wenn man k zwei Zerstäubervorrichtungen anstelle einer einzigen verwendet. Die zur Bildung dieser Haftungsschicht notwendige Zeit wird durch das Schaltwerk der Verdampfereinrichtung geregelt. Auf diese Weise beginnt der Tiegel, wenn die Haftungsschicht gebildet ist, zu verdampfen, während die Zerstäubervorrichtungen ebenfalls weiterarbeiten. Man erhält so dicke Schichten ohne Diskontinuität. Ist es notwendig, den Vorgang der Bildung der Schicht zu beschleunigen, so erhält man ausgezeichnete Ergebnisse, wenn man gleichseitig vier Zerstäubervorrichtungen benutzt, die unter 90 Grad zueinander angeordnet sind. Will man eine Diskontinuitätszone schaffen, so verwendet man eine

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Vorrichtung, deren prinzipielles Schema in tfig. 2 dargestellt ist, wo die gleichen Elemente wie vorher mit gleichen Bezugszeichen behaftet wurden.

In 5¹Ig. 2 ist bei 1 der Ausgang des Plasmagenerators zu sehen, der in an sich bekannter Weise einen Heiadraht 2, Verbrauchselektroden 3» die Magnetspule 4 sowie eine Kühlvorrichtung 5 und ein Rohr 6 zum Einführen neutraler Itoleküle aufweist. Parallel zur Achse des Plasmagenerators ist eine Auffangelektrode 7 iB· einer aylindriechen Unterdruckkammer 8 angeordnet, die radial durch eine !Trennwand 9 unterteilt ist,

Pie Auffangelektrode 7 ist auf einem stark negativen Potential gehalten, während die zu beschichtende, auf einem iräger 12 angeordnete Oberfläche 11 auf dem hassepotential oder auf irgendeinem anderen Potential aufgrund eines Hilfekontaktes 13 gehalten werden kann. ·

jer träger 12 ist mit einem Gestänge 17 verbunden, welches es möglich macht, ihn oberhalb der Auffangelektrode 7 unbeweglich zu halten, genauso wie oberhalb des das zu verdampfende he tall 16 enthaltenden Riegels 14; das Retail wird hierbei aufgrund einer Wicklung 15 durch Joule-Effekt erwärmt.

Im allgemeinen besteht der Siegel 7 aus dem gleichen Iteterial H wie das zu überziehende Substrat 11, obwohl dies nicht absolut unerläßliche Voraussetzung ist.

Es kann, wie vorher ausgeführt, vorteilhaft sein, die Verankerungsschicht mit dem zu verdampfenden !Material IV als dicke Schicht auezuführen oder auch auf ein Material L" zurückzugreifen, wenn dieses es ermöglicht, eine am Substrat gut haftende Verankerungsschicht herzustellen, und wenn im übrigen die verdampfte Schicht stark an dieser Verankerungsschicht

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festhängt.

Die Dicke der durch Kathodenzerstäubung abgeschiedenen Schicht ist im allgemeinen sehr klein und kann weniger als ein Mkron betragen, derart» daß der Vorgang der Abscheidung genau weniger als 15 Minuten dauern kann und 30 Minuten nicht überschreiten muß.

Wenn die vorgesehen© Dicke erreicht ist, veranlaßt man eine Drehung des Gestänges, welches das behandelte Substrat oberhalb des Verdampfungstiegels festlegt, Die Abscheidung durch Aufdampfung erfolgt im allgemeinen sehr schnell, derart, daß die gesamte Zeitdauer zum Abscheiden einer Schicht von 20 Mkron zwischen 30 Minuten und 1 Stunde liegt.

Fig. 3 aeigt einen Teil der Vorrichtung, wie sie für die kontinuierliche Behandlung ausgebildet wird, ftan unterscheidet bei 21 einen der Plasmageneratoren, der gegenüber der Auffang~ elektrode 24 in den bei Unterdruck gehaltenen Zylinder 22 mündet, in dem ebenfalls der durch an sich bekannte ilinrichtungen beheizte Siegel 23 angeordnet ist. Schließlich schließt sich eine Vorrichtung zur Messung der Dicke der Schicht 25 an die Verdampfervorrichtungen an und ist gegen diese durch einen Schirm 26 geschützt.

Die Vorschubsbewegung der zu überziehenden Substrate 27, 28, welche durch Wagen, wie z. B. 29., auf der Schiene 30 getragen sind, ist relativ kurz.

So ruht eine Platte, z. B. 2?» in der Sinflußzone der kathodenzerstäubung der Plasmageneratoren etwa 15 rdnuten lang und beginnt sogar, die Abscheidung durch Verdampfung aus dem Tiegel 23 aufzunehmen, während sie fortgesetzt einen Seil der Kathodenzerstäubung aufnimmt und so Ausgangspunkt für eine Über-

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gangszone wird, die sich über eine Dicke größer als 1 Mkron erstreckt»

7or den Zerstaubereinrichtungen, wie z. B. dem Plasmagenerator 21 und der Auffangelektrode 24, ist eine Entzunderungevorrichtung des Substrats durch lonenerosion angeordnet. Dieser Vorgang erfolgt oft unter einem Vakuum unterschiedlich zu dem Vakuum, in dem die Kathodenzerstäubung vorgenommen wird, iüne trennwand oder eine Schleuse, die in Fig. 5 durch ihren Außenumfang 51 verkörpert ist, isoliert das Volumen, wo die Akscheidevorgänge erfolgen, vom Raum, wo die Sntzunderung des Substrata durch lonenerosion vor sich geht.

Die Erwärmung des Riegels 25 wird im allgemeinen durch Jaule-Effekt, Induktion oder Elektronenbeschuß sichergestellt.

In diesen beiden letzten Fällen kann man das Vorhandensein von Ionen im Dampf ausnutzen, der aus dem Tiegel austritt und momentan.das Substrat auf ein Potential, das negativ bezüglich des Tiegels ist, bringt_t um die positiven Ionen auf der zu überziehenden Schicht auszufällen und ihnen so ein, verbessertes Haftvermögen zu verleihen, welches in gewissem !Maße mit demjenigen vergleichbar ist, welches durch Kathodenzerstäubung erhalten.wird, hittels eines Gleitkontaktes analog dem Kontakt 15, welcher für den J?all der chargenweisen Herstellung benutzt wurde, kann an das Substrat ein Potential gelegt werden.

üie kontinuierliche Behandlungsvorrichtung zur industriellen Herstellung von Schichten mit einer merklichen Diskontinuität ist in iJeder Hinsicht konform mit der vorhergehenden Vorrichtung, umfaßt darüber hinaus aber noch einen Schirm, z. B. den Schirm 25 der S¹Ig„ 5, der zwischen das Volumen, in dem die Zerstäubung erfolgt, und dem Volumen, wo die Verdampfung erfolgt, zwischengeschaltet ist.

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Die beschriebenen Ausführungsformen erscheinen zur Zeit zwar als die vorteilhaftesten zur Durchführung der erfindungsgemäßen liaßnahme in einer besonderen technischen Situation j verschiedene Modifikationen können hieran aber im fiahmen der Erfindung vorgenommen werden; gewisse Elemente können durch andere, die in der Lage sind, die gleiche technische Punktion sicherzustellen, ersetzt werden; 00 kann insbesondere der Schirm, der den Raum, wo die Entzunderung; durch Xonenerosion erfolgt, von dem Volumen trennt, wo die Kathodenzerstäubung erfolgt, durch ein Schieberventil ersetzt werden.

1 a t en tansprüch e:

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Claims

Patentansprüche

V 1. / Vorrichtung zum überziehen eines Substrats unter Unterdruck mit einer dicken und an einem bestimmten Katerial atark haftenden Schicht, die auf die Oberfläche eines gereinigten und/oder durch ein bekanntes Hittel entzunderten Substrats aufgebracht wird, mit einer Einrichtung zum Abscheiden einer sehr dünnen Verankerungsschicht durch Kathodenzerstäubung sowie mit einer Einrichtung zur Abscheidung durch Aufdampfung des gewünschten Materials auf die Verankerungsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung aum Abscheiden der Verankerungßschicht wenigstens einen Plasmagenerator umfaßt, der im wesentlichen einerseits aus einer röhrenförmigen .Elektrode (3), deren Achse durch den KLektronenerzeugerdraht (2) verläuft und gegen den sie durch ein Diaphragma getrennt ist, und andererseits aus einer mit der röhrenförmigen Elektrode gleichachsig en Ilagnetspule (4) besteht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, in der man eine dicke und am Substrat haftende Schicht herstellt, die gegenüber letzterem eine plötzliche Übergangszone zwischen der dünnen Verankerungsschicht und der dicken Schicht aufweist; und mit einer partiell durch eine Trennwand in zwei Räume geteilten Unterdruckkammer, wobei die beiden Räume mit dem-Pumpsystern verbunden sind und der erste die ZerstäubereiJirichtung, der zweite die Verdampfereinrichtung enthält, dadurch gekennzeichnet,, daß das Substrat aus einer Zerstäuberstellung (11) in eine Verdampferstellung (11') durch Translation und Hotation bringbar ist, wobei der Zerstäubungsort im ersten Kaum derart vorgesehen ist, daß er sich, bezogen auf die Verlängerung der Achse der röhrenförmigen Elektrode (3), auf der anderen Seite wie die zu zerstäubende Auffangelektrode (7) befindet, und wobei der Verdampfungsort sich im zweiten Raum in unmittel-

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barer Nabe des Tiegels (14) befindet, der durch ein beliebiges bekanntes Kittel beheizt ist und das zu verdampfende Material (16) enthält,
3« Vorrichtung nach Anspruch 1, zur kontinuierlichen Herstellung einer Abscheidung in j?orm einer dicken und am Substrat haftenden Schicht, ohne merkliche Übergangβzone zwischen der dünnen Verankerungsschicht und der dicken Schicht, bestehend aus einem länglichen zylindrischen, unter Unterdruck gehaltenen Volumen, in welchem man langsam bei regelbarer Geschwindigkeit parallel zur Achse des Zylinders zu überziehende Werkstücke führt, die auf einem an eine diskontinuierliche Schiene gehängten Wagen gelagert sind, wobei dieser Zylinder an seinen Enden mit Doppelschleusen und Pumpeinheiten, die die Zirkulation des Wagens auf der diskontinuierlichen Schiene ermöglichen, versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß er hintereinander längs der Bahn der zu überziehenden Werkstücke (27; 28) eine an sich bekannte lonenerosionsvorrichtung, ein oder mehrere Zerstäubereinrichtungen mit Plasmagenerator (21) ein oder mehrere durch ein beliebiges bekanntes Kittel beheizte Verdampfungetiegel (23) und eine Segeleinrichtung (25), die die jicke der Schichten am Austritt mißt, aufweist.
4. Vorrichtung zur kontinuierlichen ?ertigung nach Anspruch 3, zur Herstellung einer haftenden Schickt mit einer Übergangszone zwischen der dünnen Verankerungaschicht und der dicken schicht, dadurch gekennzeichnet, daß das die Zerstäubereinrichtung (en) (24) enthaltende Volumen ^r'22) voil dem die Verdampfungstiegel (23) enthaltenden Volumen durch eine Trennwand (26) getrennt ist, die mit einer Öffnung für die Durchführung der die zu überziehenden Teils (27i 28) transportierenden Wagen versehen ist.
5. Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung nach Anspruch

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4-, dadurch gekennzeichnet, daß der erste /erdampfungstiegel durch Elektronenbeschuß "beheizbar ist, während das zu überziehende, in eine Lage dem Siegel gegenüber gelangende Werkstück auf einem bezüglich des Tiegels negativen Potential
durch einen Gleitkontakt gehalten ist.

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