DE2108933A1 - Verfahren zur Herstellung einer xerographischen Glasbindemittelschicht - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer xerographischen GlasbindemittelschichtInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft die Xerographie und insbesondere
ein neue3 photosensitives bsv/. lichtempfindliches
Teil, das eine Glasbindeaiittelsehicht verwendet sowie
ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Teiles.
Bei der Xerographie wird ein lichtempfindliches bzv,r„ photosensitives
Element oder eine derartige Platte, die eine photoleitende Isolierschicht enthält, verwendet, die zunächst
gleichförmig elektrostatisch aufgeladen wird, um die Oberfläche 2U csensibilisieren» Dann wird die Platte mit einer
aktivierenden elektromagnetischen Strahlung, wie Licht, iiütitgenotrahlen
oder dergl., belichtet, die selektiv nie ladung in
c
„?_
209821/0865
den belichteten Bereichen des photoleitenden Isolators abführt,
während ein latentes elektrostatisches Bild in den nieht-belichteten Bereichen verbleibt. Dieses latente elektrostatische
Bild kann dann entwickelt und sichtbar gemacht werden, indem man fein verteilte elektroskopiache narkierendo
Teilchen auf der Oberfläche der photoleitenden Schicht"abscheidet.
Dieses Konzept wurde ursprünglich in der US-Patentschrift Nr. 2 297 691 beschrieben und in vielen verwandten
Patentschriften weiter ausgebaut und beschrieben»
Die Entdeckung der photoleitenden Iscliereigenschaften von
hoch gereinigtem glasigen Selen führte dazu, daß dieses Material das Standardmaterial für die kommerzielle v/i ed er
verwendbare Xerographie, wurde. Die photographische Geschwindigkeit
dieses Materiales ist um ein vielfaches besser als
die vorbekannten photoleitenden Isoliermaterialien* Eins derartige
Platte ist dadurch ausgezeichnet, daß sie in der Lage ist, eine zufriedenstellende elektrostatische Ladung
aufzunehmen und selektiv eine derartige Ladung abzuführen, wenn sie mit einea Licht- and Eehattenmuster belichtet wird«
Jedoch weist glasiges Selen zwei ernste Nachteile auf:
(1) Die spektrale Empfindlichkeit ist sehr stark auf den
Bereich des blauen Lichtes oder des Lichtes des nahen Ultravioletts beschränkt und
(2) erfordert die Herstellung gleichförmiger Filme oder 3?olien aus glasigem Selen hoch komplizierte und kritische
Verfahren, insbesondere Verfahren, die die Herstellung extrem reiner Substrate und Vakuuinabscheidungsteclmiken
erfordern.
Aunserdem sind glasige Selenschichten lediglich meta-stabil,
BAD ORIGINAL
bo daß sie leicht in die nicht-verwendungsfähige kristalline
Form bei Temperaturen umkristallisiert werden, die lediglich geringfügig oberhalb der Temperaturen liegen, die in üblichen
xerographisehen Kopiervorrich.tu.ngen vorherrschen« Diese
Paktoren zusammen mit den hohen Kosten fur das Selen selbst führte aus wirtschaftlicher Notwendigkeit dazu,- daß
xcrοgraphische Gelenplatten lediglich in wiederholten Aufarb
ei tang szylil en verwendet wurden, d.h. die Selenplatte isuß
sehr oft in dein xerographischen Verfahren wiederverweedet
werden, so daß die Kopiekosten bei Verwendung einer derartigen
Platte vernünftig gering sind. Unter Bedingungen -einer ^
optimalen Verwendung kann eine glasige Selenplatte zur "
Herstellung von 100 000 oder mehr Kopien verwendet werden,
bevor sie sich so abgenützt hat, daß keine zufriedenstellenden Kopien mehr gebildet werden· können. Unter weiniger geeigneten
Bedingungen können weitaus weniger Kopien hergestellt werden. Aus diesen ökonomischen und wirtschaftlichen
Betrachtungen besteht ein anhaltendes Bedürfnis für
die Entwicklung anderer photoleitender Icoliermaterialien
als Selen, die in xerographisehen Verfahren verwendet werden
können.
Kürzlich wurde eine wiederverwendbare xerographicehe Platte
entwickelt, die ein anorganisches photo"! eitendes Pigment, |
das in einen Glasbindemittel dispergiert ist, umfaßt. Platten
dieser Art sind im Detail in der US-Patentschrift Nr,
3 151 9ü? borjohrieben. Grob gesprochen werden dabei fein
verteilte anorganische photclcitende Pigraentteilchen nit
Glantcilchen üblicherweise in einer flüssigen Aufßuhläaisrtrng
verwischt und die kweiphasenmifjchung oder Aufcchlii.-j-r.ung
wiirä auf f.-.lr. leitenden Substrat aufgebracht,. Dann v/ird eile
Platte erhit.vl, um äie Glasteilc.hen zu einer im wesentlichen
homogen cm Il i .rix zu \erBchmelr.<onr die ö:'.q photoleitenden
Teilch.or. ei·-« 'λχ,. Dic^G Glar.binäc^i ii. ^iwL-'.tti:) irönnon i,r:>
BAD ORIGINAL /0865
hergestellt werden, daß sie eine Gebrauchsdauer aufweiset,
die upj ein Vielfaches größer ist als die von Selen und die
Herstellung kann so reguliert werden, daß sich spektrale Empfindlichkeiten ergeben, die weitaus größer sir>d als die
von xerοgraphischen Platten aus glasigem Selen.
Aus der US-Patentschrift 3 151 982 geht hervor, daß die
Teilchengröße der Glasfritte nicht mehr als 4/u Durchmesser
Bein sollte und daß die Teilchengröße des Photoleiters
sich zwischen 1 bis 50 /u erstrecken kann. Eine Größe
von nicht mehr als etwa 1 /u ist für das Photohalbleiterinaterial
bevorzugt. In dieser Patentschrift wird jedoch, keine kritische Beziehung zwischen der Glasfritte und den
Photoleiterteilchen angegeben.
Die in der US-Patentschrift 3 151 982 beschriebenen Platten
besitzen im allgemeinen ausgezeichnete physikalische Eigenschaften
dadurch, daß sie besonders glatte zähe Oberflächen
haben, die leicht gereinigt werden können und die ungewöhnlich abriebfest sind. Um eine glatte Oberfläche herzustellen
ist es jedoch notwendig, den prozentualen Anteil dex· photoleitenden Teilchen, die in das Glasbindemittel
eingearbeitet sind, zu beschränken. Das Einarbeiten eines großen Anteils des photoleitenden Materials führt ^u
einer sehr rauhen Oberfläche, die für wiederverwendbare
xerographische Platten oder Trommeln nicht besonders geeignet ist. Hinzu kommt, daß es oft schwierig ist, eine
gleichförmige Dispersion der photoleitenden Teilchen in
dein Glasbindemittel zu erreichen, da die Platten normalerweise durch Vermischen der photoleitenden Teilchen mit den
Glasteilchen und einem anschließenden Brennen des Glases
hergestellt werden. Oft wird eine Zweiphasenschicht gebildet Mit Oberflächenbereichen oder Zonen, die sich in
ihren Phot ο cnipfiridlichlreits-Eigen t: cha ft er· untorscheiden,
insbesondere in der KntladungEgGi.-ch\;i::di;:;"i:eit ihrer clcktro-
,BAD ORIGINAL 7tl982 1/0865
statischen Oberflächenladung als Folge der auftreffenden
Strahlung. (Jev/isse Bereiche sind photoleitend miä verteilen
die Oberfläehenladung aufgrund der Photoleitfähigkeit als
Folge der auftreffenden Strahlung. Andere Bereiche oder
Zonen sind jedoch nicht photoleitend und, obwohl sie in der Lage sind, eine elektrostatische Ladung während einer genügenden
Zeit', die ausreicht, um xerographische Bilder zu schaffen, aufzunehmen und aufrechtzuerhalten, verteilen
eine derartige Oberflächenladung nicht durch die Photoleitfähigkeit sondern durch einen anderen bislang noch nicht
vollständig verstandenen Mechanismus. Diese Charakteristi- |
sehe ungleichförmige oder sich veränderte Entladungsgeschwindigkeit
über die Oberfläche der photoempfindlichen
Schicht fördert die Beibehaltung einer Rückstandscberflächenladung
in Bereichen, da die Oberflächenladimg vollständig
oder im wesentlichen vollständig entweder durch einen Photoleitungr/mechanismns oder anderenfalls an einem Nichtphotoleitungsmechanismus
verteilt werden sollte. Ein derartiger Zustand vermindert gleichzeitig das Auflösungsvermögen
der xerographischen Platte, während im wesentlichen die Untergnmddichte gesteigert wird. Diese Bereiche ergeben
sich aufgrund von Matrixteilchen mit einer Größe» die das
Auflösungsvermögen des Entwicklungssystems übersteigen.
Hinzu kommt, daß die \rerwendung von Matrixteilchen mit "
einer Größe ähnlich der des Photoleiters, d.h. mit einem Größenunterschiedsfaktor des mittleren Durchmessers von
weniger als 5 die gewünschte Geometrieregelung verhindert und beim Brennen zu einem Zusammenwachsen einer Anzahl dieser
kleinen Teilchen zu Bereichen führen kann, die größer sind als das Auflösungsvermögen des Entwicklungssystems.
Dieses Ergebnis ist analog zu der Verwendung von größeren Matrixteilchen.
In dem in der US-Patentschrift J5 151 982 beschriebenen Glasbitidcraittelijysteia
sollte die Dispersion dor photoleitcndsn
"6ADORiQiNAL
209821/0865
Teilchen Im Inneren der nicht-photoleit end en C-lasmatrix relativ
gleichförmig sein. Da die Glasiaatrix im wesentlichen
nicht photoleitend ist, erfolgt ein geringer oder kein Ladungstransport
innerhalb der Glasmatrix von lichtinduzierten Ladungsträgern, die durch die Photoleiterteilchen beim Belichten
mit einer aktivierenden Strahlung gebildet werden. Es wurde gefunden, daß in diesen Bind eraittelsyst einen die
Photoleiterteilchen durch die gesamte Dicke der Bindemittel—
schicht eich von Teilchen zu Teilchen berühren müssen, um die Ladungsabführung
sicherzustellen, die für einen schnellen zyklischen Betrieb erforderlich ist. Um einen Teilchen-Teilchen-Kontakt
sicherzustellen, ist jedoch eine relativ hohe Volumenkonzentration an Photoleiter erforderlich.
Diese Photoleiterkonzentration muß bis zn etwa 50 Vol.-?£
betragen, obwohl ein gewisser Teilcheü-Teilchen-Kontakt
bei etwa 30 YoI.-$ beobachtet wird. Ein Nachteil des hohen
Photoleitergehaltes ist jedoch der, daß die physikalische Kontinuität der Glasmatrix zerstört wird, wodurch die mechanischen
Eigenschaften der B Irr?. 3Ei ti; ?Q. schacht in bedeutsamer
V/eise beeinträchtigt v/erden.
Das optimale Volumenkonzentrationsverbältnis von Photoleiter
zu CJlasbindemittelmaterial in diesen Systemen iüt daher-
ein KoisproiniS zwischen der Li v-λ (,empfindlichkeit und der
Restspannung einerseits und den mechanischen Eigenschaften andererseits. Das aktuelle optimale Yoluaienverhältnia
für jedes besondere System hängt im allgemeinen von dor Teilchengröße und der Dichte dos Photoleiters und der Dichte
und den rheologischen Eigenschaften des Glasbindemittelraaterials
im Verhältnis zum Photoleiter ab.
Es wurde nun gefunden, daß die optimale Yoltsisenkonzentration
eines Photoleiters in den Glaßbindemittelcysteiften, wie don
oben beschriebenen, beträchtlich venninde25t werden k?.nr->:
ohne das Lichtempfindlichkeit verloren geht, venn die
Geometrie'der Masse so geregelt v/exsdcn kann, daß ein wen ent-
" '; 2 0 98 2 1/0865 BAD ORIGINAL
licher Teilchen-Teilchen-Kontakt der Photoleiterteilchen durch die Dicke der Glasbindemittelschient sichergestellt
ist« Eine derartige Verminderung der Photoleiterkonzentration
sollte zu verbesserten mechanischen Eigenschaften und Oberflächeneigenschaften als auch zu einer besseren Kontrolle
der elektrischen Eigenschaften der Gls.sbindemittelschich,t
führen. · .
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist C3 daher, ein neues
lichtempfindliches Element su schaffen, mit dem es gelingt, *
die oben genannten Nachteile zu übervinäen. V
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher auch, eine verbesserte xerοgraphische Platte zu schaffen.
Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine xero graph is ehe Glasbind emittelschiclit mit verbesserten
xerographischen Eigenschaften zu schaffen.
Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine xerographische Platte mit einem Glasbindemittel zu
schaffen, die ein verbessertes Auflösungsvermögen auf v/eist,
mit der man eine Kopie mit einer verminderten Untergrunddichte
erhalten kann. Jj
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher auch, ein Verfahren zur Herstellung einer verbesserten geographischen
Platte mit Glasbindemittel zu schaffen.
Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin,
ein Verfahren su schaffen, nach dem man eine xerogi'aphische
Platte axt Glasbindemittel mit gesteigertem Auflösungsvermögen unc« verminderter Untergrunddichte erhält.
Das frfir-i."::;-3.-joiiiä0e Verfahren r.ur hirütollirng einer >:orc-
7 0 9 8 7 1 / 0 8 6 5 BAD ORIGINAL
graphischen Bindemittelschicht ist dadurch gekennzeichnet,
daß man
(a) eine Teilchenmischung einer anorganischen Gl^cxritto
und einem Photoleiter bildet, wobei die Glasfrittenteilchen eine Größe aufweisen, die mindestens 5 bis
100 mal größer ist als die der pliatoleitenden Teilchen
-und wobei die Glasfritte in einer Menge von etwa 75 bis 99 Vol.-$ und die Photoleiterieilchen in einer
Menge von etwa 1 bis 25 Yol.-$ vorhanden sind, man
(b) .ein tragendes Substrat mit der Mischung überzieht,
so daß eich eine Bindemittelschicht bildet, in der im
wesentlichen die gesamten photoleitenden Teilchen in
geregelter V/eise in den Zwischenräumen der größeren
Glasfrittenteilchen dispergiert sin-.d und man
(c) die Schicht erhitzt, um die Glasfrittenteilchen zu
einer im wesentlichen homogenen Katrix zu schmelzen,
die die Biotoleiterteilchen in Form einer Vielzahl von
kontinuierlichen Wegen durch die Dicke der Glasbdndemittelschicht
enthält.
Gemäß der vorliegenden Erfindung erhält Ban somit ein verbessertes
Glasbindemittelphotoaufnahmeaaterial durch Verwendung
eines nicht-photoleitenden Glasbindemitteic oder
eines Matrixmaterials in Teilchenforiti mit besondere ausgewählteia
Größenbereich und indem aan die Glasteilchen lait
einem teilchenförmigen Photoleiterraaterial vermischt, das
ebenfalls eine gewisse kritische Größe aufweist. Das Glas™
matrixmaterial und die Photoleiterteilchen werden darm durch
Erhitzen zu einer permanenten Bindemittelschicht verformtr
indem die Glasteilchen zusammenschmelzen, so daß sich eine
Bindemittelschicht bildet, in der die Dispersion der Photoleiterteilchen durch kontinuierliche lisgi; oder Pfade von
sich berührenden Photoleiterteilchen, die in einer im wesentlichen
kontinuierlichen Glasbindemittel Matrix enthalten sind,
209871 /086S ■»«"■«■.
21Q8933
charakterisiert ist. Durch Regeln der Geometrie der Bindemittelschioht
können deutlich verbesserte elektrische Eigenschaften und mechanische Eigenschaften erzielt werden. Die
vorliegende Erfindung ermöglicht auch einen größeren Bereich für die Auswahl von sowohl dem Glasbindemittelmaterial
als auch dem Photoleiter. Gemäß der vorliegenden Erfindung wird auch die" Notwendigkeit vermieden, einen Kompromiß
zwischen den elektrischen Eigenschaften und den mechanischen Eigenschaften einer xerographischen Bindemittelschicht
einzugehen, indem diese im wesentlichen voneinander unabhängige steuerbare Parameter werden. j
Ein wesentlicher Schritt der vorliegenden Erfindv.ng beruht
auf der Photoleitergeometriekontrolle, die durch Vorwendung · , eines teilchenförmigen Glasbindemittels und Photoleitermaterials
mit einer kritischen Größenverteilung mit Hinsicht aufeinander erzielt wird. Dieses Konzept kann durch das
folgende Beispiel erläutert werden:
Eine photoleitende Bindemittelschicht wird hergestellt, indem man eine teilchenförmige 'Mischung aus photoleitenden
Teilchen mit einer Größenverteilung von etwa 0,001 bis 2,0/U mit einer anorganischen nicht-photoleitenden Glasfritte
mit einer Größenverteilung von etwa 0,1 bis 70 /u herstellt.
Der Photoleiter ist in einer Konzentration von (( etwa 1 bis 25 Vol.-$ vorhanden. Die Mischung v/ird dann
in einem geeigneten Pluidträger, wie Wasser, in dem weder
der Photoleiter noch die Glasfritte löslich ist, dispergiert. Die Dispersion oder die Aufschlämmung wird dann auf
ein Substrat aufgezogen und die Trägerflüssigkeit wird dann verdampft. Die getrocknete Schicht wird dann erhitzt, um
die Glasteilchen zu einer kontinuierlichen Glasmatrix zu schmelzen, die die Photoleiterteilchen in Porm von kontinuierlichen
Wegen in Teilchen-Ieilchen-Kontakt durch die Dicke der Glasbindemittelschicht enthält, Die Größe der
Glasteilohen sollte im allgemeinen mindestens etwa fünfmal
2 0 987 U0865 Bad ordinal
größer als die der Photoleiterteilchen sein. Dieses Größenverhältnis
ist notwendig, um die Ph.otoleiterteilch.en in die Zwischenräume der größeren Glasbindemitteleilchen zu zwingen·
Beim Brennen schmelzen die größeren Glasteilche:: und schmelzen zu einer kontinuierlichen Matrix mit einer Yiclsahl
von kontinuierlichen photoleitenden Wegen, die in der G-laslnatrix
enthalten sind, zusammen. Es versteht sich von selbst, daß, wenn die Teilchengröße des Photoleiters die der Glasfritte
erreicht, sich die gewünschte Geometrie der Photoleiterteilchen nicht aufrechterhalten läßt und die Photoleiterteilchen
werden vollständig von der Bindemittelraatrix
umgeben. In diesem Fall v/erden die wünschenswerten Ergebnisse der vorliegenden Erfindung wie später gezeigt werden
wird, nicht erreicht.
Bindemittelschichten der Art einer gesteuerten Dispersion wie oben beschrieben - zeigen eine Kombination von elektrischen
Eigenschaften und mechanischen Eigenschaften, die denjenigen der Glasbindemittelsystauο überlegen sind, die
in den Beispielen des oben erwähnten US-Patents 3 151 982 beschrieben sind.
Anhand der in der beigefügten Zeichnung dargestellten bevorzugten Ausführungsformen wird dia Erfindung im folgenden beispielsweise
näher erläutert.
Fig. 1 zeigt in graphischer Form die Beziehung zwischen dem Zwischenraumvolumen und den sich verändernden Glasmatrixt
e ilchengröß en.
Fig. 2k zeigt eine Ausführungsforin einer erfindungsgemäßen
photoleitenden Bindemittelstruktur.
Fig. 2B zeigt eine Ausführungsform einer Teilchendispftraion,
die zur Bildung der Struktur· der Fig. 2A geeignet ist.
«·«* BADORIQINAL
209821/0965
Gemäß der vorliegenden Erfindung wix^d eine lichtempfindliche
Glasbindeinittelsehieht mit einer kontrollierten Geometrie erhalten,
indem man eine Glasfritte in feilehenforiii mit Photoleiterteilchen
bedeutend geringerer Größe als die Glasteilchen verwendet, wodurch man den Photoleiter dazu zwingt,
den Zwischenraum der gepackten Glasteilchen zu besetzen.* Beim Brennen schmelzen die größeren Glasteilchen unter Bildung
einer kontinuierlichen Glasina tr ix zusammen, die ein Netzwerk von photoleitendem Material in Porra einer Vielzahl
von miteinander verbundenen piiotoleitenden Wegen oder Pfa- ^
den durch die Glasmatrix enthält. Dieses Konzept kann' wie
folgt Yioitor erläutert werden:
Man kann sich einen Überzug, der aus einer Dispersion von sphärischen Matrixteilchen gegossen wurde, als ein System
von dicht gepackten Kugeln vorstellen. Das Zwischenraumvolumen
einer derartigen Schicht hängt daher von der Größenverteilung der !Teilchen und der Art der Packung ab. Eine hexagonal
dichteste Kugelpackung /würde daher zu einem Zwischenraumvolumen von 47 $ des Gesamtvolumens führen. Monokugein
eines Photoleitermaterials können verwendet werden, um diesen 47 i>
Porenraum zu füllen, ohne daß das Gesamtvolumen beeinträchtigt wird, wenn der Durchmesser der Photo- A
leiterteilchen genügend gering ist im Vergleich zum Durchmesser
der Harzteilchen. Wenn die Packung dieser Photoleiterteilchen in den Matrixporen ebenfalls eine hexagonal
dichteste Kugelpackung ist, beträgt das Zwischenraumvolumen des Photoleiters seinerseits 47 i° dea Zwischenrauravoluraens
der Gesantmatrix. Da in diesem Beispiel etwa 50 #
des Schichtvolumens Glasmatrixteilchen enthalten und
50 cJo des verbleibenden Volumens mit Photoleiter gefüllt
sind, ergibt sich eine Photoleitervolxrcaen-Konzentration
von etwa 25 CJ> des anfänglichen Schichtvolumens. Nach
dem Verdampfen der Trägerflüssigkeit xniä dem Zusammenschmelzen
öor Li'ndemittelteilchen, z.B, durch Erhitzen,
209871/0865 «^ ORIG.NAL
beträgt die Volumenkonzentration der Plio toi ext er teilchen in
der Schicht 33 #. Was wichtiger ist, ist, daß in diesem Pail
alle Photoleiterteilchen von der Oberfläche der Schicht bis
zum Substrat in gleicher Weise ein elektrischer Kontakt sind, wie man es mit 50 VoI·-% Beschickung im Fall der gleichförmigen
Dispersion erzielt. Dies führt zu einer Verminderung der erforderlichen Photoleitervolumenkonzentration von
33 1o.
Die Konzentration an Photoleiter, die notwendig ist, um kontinuierliche
elektronische Wege zu bilden, hängt daher -von den
Zwischenraumvolumen der Matrix ab, das seinerseits kritischerweise von der Uäufj^teit der Matrixteilchen verschiedener
Größe und der Größe der Größenverteilung als auch von der Teilchenform abhängt. Pig. 1 erläutert den ersteren Effekt
wobei das Porenvolumen auf etv.^ 17, 5 und 3 ί° verhindert
werden kann durch die Verwendung von Glasmatrixteilchen mit stark unterschiedlicher Größe mit 4, 3 bzw. 2 Komponenten.
In diesen Fällen wären nur 8,5, 2,5 bzw. 1,5 Vol.--$ Photo-.
leiter notwendig, um die gewünschten kontinuierlichen elektronischen Wege bzw. Pfade zu bilden. Die Pig. 4 erläutert
ferner, daß ein geringes Swischenraunvolumen ebenfalls
erzielt werden kann durch Erhöhen der Anzahl von Teilchen verschiedener Größen in der Verteilung. Es wäre daher möglich,
im Idealfall ein Matrixsystem mit einem Zwischenrau:nvolumen
von 3 i° (4 Komponenten) zu schaffen, das lediglieh
1,5 Vol.-°ß> Photoleiter erfordern würde, um die maximale Anzahl
von kontinuierlichen Wegen oder Bahnen zu erreichen.
Reale Teilchenpackungssysteme sind natürlich viel komplexer,
da die einzelnen Teilchen selten sphärisch und daher von konstanter Porm sind und die Größenhäufigkeit und der Bereich
der Groß envoi· te ilung ist normal er v/ei se das natürliche
Ergebnis des Pier Stellungsverfahrens, d.h. des Eildungsverfahren.«
oder det llahlver fahr ens. Es ist auch offensichtlich,
209821/0865 BAD ORIGINAL
daß, wenn man die geometrische Anordnung dieser Terilchenmatrix
bei der Herstellung von photοempfindlichen Einrichtungen
verwendet, die obere Grenze der Teilchengröße der Matrix nicht das Auflösungsvermögen des zu verwendenden xerographisehen
Entwicklungssystems übersteigen sollte und daß'
die Größe des Photoleiters genügend kleiner sein sollte , als das kleinste Matrixteilchen, so daß es den Zwischenraum
beim Packen dieser kleinsten Größe besetzen kann.
Die optimale Volumenkonzentration an Photoleiter, die bei
der Herstellung eines photoempfindlichen Teiles verwendet
wird, hängt daher von der Teilchengröße der Teilchongrößenverteilung
und der Art der Größenverteilung der Teilclienforra von sowohl dem Photoleiter und der Matrix, der Größendifferens
zwischen diesen beiden und von dem Auflösungsvermögen des xerographischen Entwicklungssystems ab.
In der Praxis wurde bei der Herstellung des praktischen xerοgraphischen Photoaufnahmegerätes gefunden, daß eine
bevorzugte maximale Größe für' Glasmatrixteilchen etwa 10/U
beträgt. Teilchen, mit einer Größe oberhalb etwa 10/U
führen in gewisser Weise zu Bilduntergrund, obwohl ein Material mit einer sehr weiten Größenverteilung durch
einen geringen Prozentsatz einer Anzahl von Teilchen mit einer Größe bis zu 70/U nicht schädlich beeinflußt wird.
Die Grenze der unteren Größe der Matrix hängt wiederum von der Größe des zu verwendenden Photoleiters ab, liegt jedoch
in einem praktischen System im Bereich von etwa 0,1/U, Der
Bereich der Photoleiterteilchengröße würde sich daher von etwa 0,001 bis 2/u in Abhängigkeit von dem Ausmaß und der
Form der Größenverteilung erstrecken. Die minimale Photoleitei—
konzentration, die daher verwendet werden könnte, würde etwa 1 Vol.-$ und die maximale etwa 25 $ betragen, wobei die
meisten realen Materialien ein Optimum der mechanischen und
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-U-
elektrischen Eigenschaften im Bereich von etwa 3 bis 15
-$ zeigen.
Ein besonders bevorzugter Größenbereich, der ein Optimum sowohl der- elektrischen Charakteristika als auch der
physikalischen Eigenschaften sichert, besteht aus einer ,
Glasfrittenteilchengröße von etwa 1 bis 10/u in Verbindung
mit einer Photoleiterteilchsngröße von etwa 0,001 bis 1/U, während man die mittlere oder durchschnittliche
Teilchengröße der G-lasfritte mindest ons fünfmal großer
hält als die mittlere oder durchschnittliche Teilchengröße der Photoleitorteilchen.
Die Matrixteilchen bestimmen die Anzahl und die räumliche
Anordnung der Ketten- oder V,reg- bzw. Bahn-Enden pro Einheitsfläche
des LichtabsorpitonKtereiches der Photoleitcroberflache.
V/ie bereits angegeben, sollte die obere Grenae
der Matrixteilchengröße nicht das Auflösungsvermögen des xerographischen Entwicklungssystems, das in Verbindung
mit den erfindungsgeraäöen Plätten verwendet wirdf übersteigen.
Weiterhin muß die Photolexterteilehen/rrö-Hc genügend
kleiner als die kleinsten Hatrixteilchen nein, so
daß das Photoleiterteilchon den Zwischenraum bei einer
Packung dieser kleinsten Größe ^ : setzen kann. Dae Verhältnis
der Größe der Glasraatri::teilchen zu den Photoleitsrteilchen
sollte daher mindestens etwa 5ϊ1 und vorsuessweise
etwa 100:1 oder größer, wie sich aus Pig· 1 ergibt, betragen.
V/ie oben angegeben, hängt die maximale Große der Glasfrittenteilchen,
die erfindungsgemäß verwendet werden können, von dem Auflösungsvermögen des damit verbundenen xcxographi-Dchen
Entwicklungssystems ab. Zum Beispiel kann die Kaskadenentwicklung, wie sie z.B. in den US-Patentschriften
2 618 551, 2 618 552 und 2 630 416 beschrieben Mirae,
BAD ORIGINAL
209821/0866
5 -
leicht ein Auflösungsvermögen von etwa 15 Linienpaaren pro
Millimeter erreichen, was einem Punkt mit einem Durchmesser von etwa 33/u entspricht« Daher sollte die maximale Größe
der Bintlemittelieilclien, die bei der Bildung der Matrix
verwendet werden können, geringer als etwa 33/u im Falle
der Kaskadenentwicklung sein. Die folgende Tabelle faßt fünf repräsentative Entwicklungssysteme mit dem damit
normaleeveise erzielten Auflösungsvermögen in Linienpaaren
pro Millimeter und Mikron zusammen. Es versteht sich, daß
ähnliche; Bestimmungen für andere xer ο graphische Entwicklungssysteme
durchgeführt werden können.
IABEILE I
Entwicklungssystem
Kaskad enentwicklung Magnetbürstenentwicklung
Flüssigkeitsgravurentwicklung
wäßrig e Entv/i cklung Pud erwolken entwicklung
normalerweise
erzielte Auflösung
(Linienpaare
pro Millimeter)
(Linienpaare
pro Millimeter)
15
20
6-7
6-10
6-7
6-10
60
normalerweise erzielte Auflösung in /U
33 25 70 50 8
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Die Pig. 2k illuGtricrt eine Ausführungsforn einer er-fiiulungs·
gemäßen xerographischen Binderoittelplatte 10, die eine Binderaittelschicht
11, getragen von einem Substrat 12, umfaßt. Die Bindemittelschicht 11 umfaßt photoleitende Teilchen 13
dispergiert in einer nicht gleichförmigen oder kontrollierten
V/eise unter Bildung kontinuierlicher Wege durch, die Bindemittelschiehtdicko,
die in einer Glasmatrix 14 enthalten sind. Die Volumenkonzentration bei dieser Zeichnung beträgt
etwa 10 c/ö» Die Struktur wird aus einer anfänglichen Dispersion
von photoleitenden Teilchen mit einer mittleren Größe von 0,5/u mit einer Verteilung von 0,01 bis 0,8 ,u in
einem teilchenförmigen Binderaittelmaterial injt einer mittleren
Teilchengröße von 5/U mit einer Verteilung von etwa 1 bis 12/U gebildet. Diese Dispersion, die auf ein tragendes
Substrat aufgesogen wird, stellt die kontinuierlicherphotoleitenden
Wege sicher, die sieh durch die Dicke der Bindcinittelschicht bilden. Die Fig. 2B illustriert die
teilchenförmige Photoleiterbindemittel-Dispersion vor dcos
Bilden der Struktur der Fig. 2A. In der i'ig. 2B sind die
Glasbindcmittelteilchen 14 beträchtlich größer als die Photoleiterteilchen 15 und beide Teilchenarten sind in
einem flüssigen Träger, der nicht gezeigt ist, disporgiert.
Das tragende Substrat 12 wird dann mit der Dispersion Überzügen und der flüssige Träger v/ird verdampft. Die
trockene Schacht, die in Pig. 2B geneigt ist, führt zw
einer Reihe von größeren Glasbindnaitteltoilchon, deren
Zvischenräume mit relativ kleineren Fhotolcitcrteile'i.'r.n 15
gefüllt sind. Aus Pig. 2B kann ersehen worden, was für dio vorliegende1 Erfindung repräsentativ j nt, daß die VoIumenbcsetsung
dor Photoleiterteilchen au" die Zwischenräume
der größeren Jlatrixbindemittelteilch^n bcschrrinkt ist.
Die crfindungßgomäßen Bindemittelschichton können jedes
geeignete anorganische photoleitende Matci-jal ur.d I-Ii
davon verwendon. Dies schließt viele iyioi.r.ncite anorg
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Materialien ein, die besonders als Pigmente, Photoleiter oder Phosphore erhältlich sind.
Typische anorganische Photoleiter, die erfindungsgemäß als geeignet zu verwenden sind, schließen ein: Cadmiumsulfid,
Cadmiumsulfoselenid, Cadiriiumselenid, Zinksulfid, Zinkselenid,
Arr.ensu'ific., Bleioxyd, Zinkoxyd, Antimontrisulfid
und Mischungen davon. In der US-Patentschrift 3 151 9&2
ist eine vollständige Liste von anorganischen PhotοIniterη
angegeben, die erfindungogemäß verwendet werden können»
Zusätzlich können verschiedene Additive, Aktivatoren, üotierungsmittel und/oder Sensibilisatoren verwendet
werden, um die Photoleitfähigkeit der genannten Photoleitermaterialien
zu steigern* Zinko:xyd zeigt eine verbesserte
spektrale Empfindlichkeit, wenn es mJt einem geeigneten
Farbstoff ccnsibilisiert wird. Es ist ebenfalls
gut bekannt; dai3 eine gesteigerte Lichtempfindlichkeit erzielt wird, wenn .l'hotoleiter, wie Cadmiumsulfid mit einer
sehr geringen Menge eines Aktivierungsmafcerials, wie
Kupfer, umgesetzt wird.
Die Photoleiterkonaenbrabionen können sich von etwa ^
1 Vol.-^v bis etwa 25 Vol.-$ der Binderaittelschicht or·- ™
strecken. Eine Photoleiterkonzentration von ebv/a 5 bis 15 Vol.-$ ist jedoch bevorzugt, da im allgemoinon
die optimale !Combination von elektrischen Charakteristika
und xorographischon Eigenschaften sichergestellt ist.
Das (rlasbindemit bei kann grob als hochisolierondef; go«
schmolzeues anorganischer, nicht-photoleibendes Crlaii beschrieben
worden und v/ird aus verschiedenen Korabitiatioren
Cmc drei Arten von Grundoxyden, die zur Herstellung von
BAD ORIGINAL 209821/0865
Fritten verwendet werden, hergestellt: sauren, basirehen
und neutralen oder ainphoteren Oxyden. Diese Gläser sind
ebenfalls in der genannten US-Patentschrift ρ 151 932 beschrieben
und v/erden aus Zusammensetzungen hergeotelll,
die im allgemeinen aus denen in der folgenden Tabelle II angegebenen Boreichen ausgewählt werden.
B2O,, 0-50
TiO2 0-10
SiO2 .7 ... 0-50
CaO ZnO CdO PbO
Na2O
As0O
1 20-75
1 10-75
0-20
0-iu
0-5
0-10
0-3
kombinierb
BAD ORIGINAL
209821/0865
Es verstellt «ich, daß diese Zusaraniensetzuncaboreiche abgeändert
und modifiziert werden können.
Zwei besondere Glas ziisamraensetzun gen, die als Beispiele für
die erfindunfn^cEiäii verwendeten stehen, sind in der folgenden
'Jiabeülo III angegeben. Diese Zusammensetzungen öind in
G ev/, -'/S aiißefuhrt.
G ev/, -'/S aiißefuhrt.
BAD OFUGtNAL
Glasbindemittel-Zusammensetzungen
Pr et ε
CaO SiO2 Na2O B3O5 PbO CdO F2 Li3O TiO2
BaO AIpO-, K2O
Handelsübliche Fritte
(Pemco H3172)
Handelsübliche Fritte (Kar3haw N862)
2,5
14 7 15 4,0 3,4 2,4 " 6,0
18,5 0,05 8,4 65 7,9
0,07 0,02 0,01
0,5 0,2
GO CjJ
r- 21 -
Ml {n,aabindemitte.lsphieht kann von jjeder geeigneten,
triachen Grunde oder Rttckplatte getragen yer-de
Materialien schließen eint Alu^intuffl* jessing*
Stahl, |Cuj!ferf ifiqkel| gi?lk oder leitend Überzogenes
Dig folgenden Beispiele sollen die vorliegende, E?find.u'.n.g;'
weiter erläutern, olme sie jedpclj ?vi
Mi^phiing von Glaabindefflittelteilelien de?
von i^Qbe 1 der Tabelle ΪΪΙ wird zu einer
g Von ö,1 bis 45/u unter Yerwcmdung
einer Maäao-lluid-Energyr-iiUhle vermählen. Die
wird in zwei Iraktianen aufgetrennt. Eine Praktio.n wird
als Beispiel IV bezeichnet und die verbleibende Fraktion
Viifd in vier ünterfraktionen aufgeteiltt unter Yerwendung
einer £ufttrenneinrichtung, Die§e ^nterfraktionen sind
als. Beispiele I, JI1 III und V b.ege.ichnet;
I, 1-10/U (mittlere Grqße mf das Gewicht bezogen
II, Q, 1-10/U (mittlere Größe auf das Gewicht bezogen.
III, 0»1-r-1/y (mittlere Ö?0i3e §uf d,as gewicht
Ο,Ιτ-45/U (mittlere qröße a_uf da.p Gewicht
1CM-5./U
BAD ORIGINAL
jeder Fraktion oder Ilnterfraktion. gibt man etwa 10 YoI,-Gadmiumsulfoselenid
Mit einer wit ti er en Teil·
ohengraße van Q, 5/U und einer Größenverteilung von. 0|
bis 0,8/Xi. Jede Dispersion wird auf eine saubeye
§joh.e frossim.el aus rostfreiein Stahl aufgetragen, s.o.
eine Enddicke von etwa 50/U ergibt und dann läßt ffian d.iepe
Dispersion trocknen, Bevor sich jedoch, Risse bild.en* wird
die Platte bei einer 3?ewperatur von etwa 65Q0C (12QO0P)
während 3 Hinuten während einer Zeitdauer gebrannt» die
ausreicht ι um die Glasbindemittelteilehen au qehsqelsen
und dann wird die überzogene fronpel langsam auf Raina^-
temperatur abgekühlt.
Die Tronuneln werden in einer Bürokopiervorrichtung (Xerox
813 Office Qopier) eingeführt, die ein Kaskadenentvficklungssystem
verwendet. Jede Trommel wird im Dunkeln gleicliförmig
elektrostatisch aufgeladen und dann mit einem Licht- und Sehattenmuster belichtet, wodurch sieh ein latentes
elektrostatisches Bild auf der lichtempfindlichen Oberfläche (photoreceptor) bildet. Dann werden xerographische
Drucke für jedes dieser Beispiele unter Verwendung der Kaskadenentwicklung hergestellt. Ein Vergleich
der Drucke zeigt anf daß die geringste Untergrunddichte
nach Beispiel I erzielt wird und daß die Untere grunddichte mit ansteigender BeispielmuBEier ansteigt.
Das heißt» Drucke, die nach Beispiel III erhalten wurden, geigen eine höhere Untergrunddichte als die Drucke, die
na,eh. den Beispielen I und II erhalten wurden jedoch eine
geringere Untergrunddichte als die Drucke, die gemäß den Beispielen IV und V etc, erhalten wurden,
BAD ORIGINAL
Beispiele 6 bis 10
Die Beispiele 1 bis 5 wurden wiederholt unter Verwendung der
GIa s zu cannon sietzung von Probe 2 in Tabelle III und unter Verwendung
der gleichen Teilchengrößenverteilimg, mit der Ausnahme,
daß diese Überzüge während 3 Hinuten bei 5930C
(11OG0P) gebrannt wurden. Die Ergebnisse der Beispiele
1 bis 5 wurden dabei bestätigt.
Beispiele 11 bis 14 |
Unter Verwendimg einer Alpine-Sortiereinrichtung und der
GIaszusaaunenaetsung der Probe 1 in Tabelle 111 wurden die
folgenden vier Fraktionen von. Glasbindemittelteilchen erhalten:
XI. 3-8/U (mittlere Größe auf das Gewicht bezogen
ι 6,u)
XII. 0,1-8/U (mittlere Größe auf das Gewicht bezogen
/ 4/tO
XIII. 0,1-3/U (mittlere Größe auf das Gewicht bezogen
' 1.0/u)
XIV. 8-45/U (mittlere Größe auf das Gewicht bezogen
* 27/u)
Unter Verwendung von Alkohol als Dispergiernediura wird eine
Aufschlämmung hergestellt, die etwa 10 Vol.-$ photoleitendes
CadiniuK)suji"oselenid mit einer wittier en Teilchengröße
von 0,5/U uiicl einer GröKenvertei] wwc, von etv.-a 0,01 bis 0,8/
aufweist, hergestellt. Xerograp1.j rohe Platten und Drucke
werden daraus "wie in den Beispielen 1 bis 5 beschrieben,
hergestellt, π it der Ausnahme, dai3 die Dispersion auf eine
209821/0865 BAD ORIGINAL
flache Platte aus rostfreiem Stahl anstelle einer zylindrischen Trommel aufgetragen wird. Ein Vergleich der Drucke
zeigt, daß die geringste Untergrunddichte gemäß Beispiel
erzielt wurde und daß die Untergrunddichte mit steigender Beispielnummer ansteigt.
Beispiel 15
Eine Überzugsaufschlämmung wurde hergestellt, indem man
zunächst 90 Vol.-Teile der Glaszusammensetzung von Probe 2
der Tabelle III, mit einer mittleren Größe von 6/u und
einer Größenverteilung von etwa 3 bis 8/u mit 10 Vol«-Teilen
photoleitendem Oadmiumsulfoselenid mit einer mittleren
Teilchengröße von 0,5/U und einer Größenverteilung von 0,01 bis 0,8 /u vermischte. Dann wurde unter Verwendung
von Alkohol als Dispergiermedium eine Überzugsaufschlämmung
aus den Glas- und Photoleiterteilchen hergestellt. Die Aufschlämmung wurde dann durch Aufgießen auf eine Hülse
aus rostfreiem Stahl mit einer Dicke von 0,020 cm (0,008 inch) aufgetragen, wobei die Hülse einen Durchmesser
von 10,16 cm (4 inches) und eine Länge von 22,86 cm (9 inches) aufwies, so daß man nach dem Brennen einen
trockenen Überzug von etwa 35/u erhielt. Der Überzug wurde
bei Raumtemperatur während 5 Minuten getrocknet und während 2 Ninuten bei 6770C gebrannt.
Die Hülse, die die lichtempfindliche Glasbindemittelschicht
aufweist, v/ird dann über eine Aluminiumtrominel mit einem
Durchmesser von 10,16 cm (4 inches) und einer Länge von 22,86 cm (9 inches) gezogen, so daß sich eine lichtempfindliche
Glasbindemitteltrommel ergibt. Die Trommel v/ird dann in eine Kopiervorrichtung (Xerox 813 Office Copier) eingebracht
und im Zyklus verwendet unter Bildung eines Bildes
BAD ORIGINAL 209821/0865
durch die Grundschritte des Aufladens5der Belichtung mit
bildbildend ein Licht unter Bildung eines latenten elektrostatischen
Bildes.der Entwicklung des Bildes mit Tonerteilchen, der Übertragung des Bildes auf ein Papierblatt
und Fixierung des Bilden unter Bildung einer permanenten Kopie. "· '
Die Platte wird dann 60 000 mal unter verschiedenen Feuchtigkeit
sbed ingungen von 20, 40, 60 und 85 $ relativer Feuchtigkeit im Zyklus betrieben. Während des Testens
blieb die Auflösung, die gut war, bis etwa 60 000 Kopien konstant. Die Bilddichte blieb während der Untersuchung
hoch. Zusätzlich zeigte die Trommel einen guten Widerstand gegenüber der Kaschinenabnützung im Vergleich zu
glasigem Selen, das unter derartigen Betriebsbedingungen
weniger stabil ist.
Zusammenfassend kann gesagt werden, daß erfindungsgemäße Platten und Trommeln hoher Geschwindigkeit gute Auflösung
und geringen Untergrund unter Zyklusbedingungen aufwiesen und eine deutliche Verbesserung gegenüber ähnlichen
Glasbindemittelphotoreceptoren aufwiesen, die nicht die
erfindungsgemäße kontrollierte Geometrie aufwiesen.
209821/0865
Claims (11)
- PATENTANSPRÜCHE :r\J Verfahren zur Herstellung einer xer ο graphischen Eindemittelschicht, dadurch gekennzeichnet, daß man(a) eine Teilchenmischung aus anorganischer Glasfritte und einem Photoleiter bildet, so daß die Glasfrittenteilchen eine mittlere Teilchengröße aufweisen, die mindestens 5 bis 100 mal größer ist als die Größe der photoleitenden Teilchen, wobei die Glasfritte in einer Menge von etwa 75 bis 99 Vol.-# und die Photoieiterteilchen in einer Menge von etwa 1 bis 25 Vo 1.-5$ vorhanden sind, man(b) ein tragendes Substrat mit der Mischung überzieht, unter Bildung einer Bindemittelschicht, in der im wesentlichen alle Photoieiterteilchen in geregelter Weise in den Zwischenräumen der größeren Glasfrittenteilehen dispergiert sind, und man(c) die Schicht erhitzt, so daß die Glasfrittenteilchen zu einer im wesentlichen homogenen Matrix zusammenschmelzen, die die Photoieiterteilchen in Form einer Vielzahl von kontinuierlichen Pfaden und Wegen durch, die Dicke der Glasbindemittelschicht enthält,
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch, gekennzeichnet, daß die Glasfrittenteilchen in der Teilchenmischung in einer Größenverteilung von etwa 0,1 bis 70 /u vorhanden sind und die Photoieiterteilchen einer Größenverteilung von etwa 0,001 bis 2,0/u aufweisen.209821/0865
- 3. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasfrittenteilchen in der Mischung eine Größenverteilung von etwa 1 bis 10/u und die Photoleiterteilchen eine Größenverteilung von etwa 0,001 bis 1 /n aufweisen.
- 4·.. ' Verfahren gemäß Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß die mittlere oder durchschnittliche Teilchengröße der Glasfritte mindestens das fünffache der der Photoleiterteilchen beträgt.
- 5. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Photoleiterteilchen in der Teilchenmischung in einer Menge von 3 bis 15 Vol.-# und die Glasfrittenbindemittelteilchen in einer Menge'von etwa 85 bis 97 V0I.-5S vorhanden sind.
- 6. Verfahren gemäß Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchenmischung aus Glasfritte und Photoleiterteilchen als Aufschlämmung mit einer Trägerflüusigkeit gebildet wird, in der keines der Materialien löslich ist und die unter Bildung einer getrockneten Bindemittelschicht vor dem Schmelzen der Glasteilchen verdampft wird.
- 7. Glasbindemittelschicht hergestellt gemäß Anspruch 1.
- 8. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Glasbindemittelschicht, dadurch gekennzeichnet, daß man(a) eine Teilehenmischung aus einer anorganischen Glasfritte und einem Photoleitermaterial bildet, so daß die Größen-209821/0865 BAD o«lS!NALVerteilung der Glasfritte genügend größer als die Grössenverteilung des Photoleitermaterials ist, so daß im wesentlichen das gesamte Photoleitermaterial in den Zwischenräumen der größeren Bindemittelteilchen begrenzt wird, man(b) ein tragendes Substrat mit der Mischung überzieht, »so daß sich eine Glasbindemittelschicht bildet, in der im wesentlichen die gesamten Photoleiterteilchen in kontrollierter Weise in den Zwischenräumen der Glasfrittenteilchen d'ispergiert sind und man(c) die Bind emit telschicht erhitzt, um die Glasfrittenteilchen zu einer im wesentlichen homogenen Glasmatrix zu schmelzen, die die Photoleiterteilchen in Form einer Vielzahl von kontinuierlichen Pfaden und Wegen durch die Dicke der Glasbindemittelschicht enthält.
- 9. Verfahren gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasfrittenteilchen eine Größenverteilung von etwa 0,1 bis 70/U und die Photoleiterteilchen eine Größenverteilung von etwa 0,001 bis 2,0/U aufweisen.
- 10. Verfahren gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasfritte etwa 75 bis 99 Vol.-# der Endbindemittelschicht umfaßt, wogegen das Photoleitermaterial etwa 1 bis 25 Vol.-$ dieser Schicht ausmacht.
- 11. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasfrittenteilchen in der Mischung eine Grössenverteilung von etwa 1 bis 10/u und die Photoleiterteilchen eine Größenverteilung von etwa 0,001 bis 1/u aufweisen.BAD ORIGINAL 209821/0865-'■ 12· Verfahren gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Mischung der Glasfritte und der Photoleiter-1 teilchen als Aufschlämmung mit einer Trägerfltissigkeit gebildet wird, die vor dem Erhitzen und dem Schmelzen der Glasteilchen verdampft wird.13» ' Glasbindemittelschicht hergestellt gemäß dem Verfahren von Anspruch 8.209821/0865
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