DE2102592A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Erzeu gen von parallelen Mikroionenstrahlen - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Erzeu gen von parallelen Mikroionenstrahlen

Info

Publication number
DE2102592A1
DE2102592A1 DE19712102592 DE2102592A DE2102592A1 DE 2102592 A1 DE2102592 A1 DE 2102592A1 DE 19712102592 DE19712102592 DE 19712102592 DE 2102592 A DE2102592 A DE 2102592A DE 2102592 A1 DE2102592 A1 DE 2102592A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ions
ion
sample
ion beam
parallel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19712102592
Other languages
German (de)
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat a lEnergie Atomique CEA filed Critical Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Publication of DE2102592A1 publication Critical patent/DE2102592A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00—Ion beam tubes
    • H01J27/02—Ion sources; Ion guns
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
DE19712102592 1970-01-20 1971-01-20 Verfahren und Vorrichtung zum Erzeu gen von parallelen Mikroionenstrahlen Pending DE2102592A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7001863A FR2080511A1 (https=) 1970-01-20 1970-01-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2102592A1 true DE2102592A1 (de) 1971-07-29

Family

ID=9049291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19712102592 Pending DE2102592A1 (de) 1970-01-20 1971-01-20 Verfahren und Vorrichtung zum Erzeu gen von parallelen Mikroionenstrahlen

Country Status (4)

Country Link
DE (1) DE2102592A1 (https=)
FR (1) FR2080511A1 (https=)
GB (1) GB1321172A (https=)
NL (1) NL7100749A (https=)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3138744A1 (de) * 1981-09-29 1983-04-07 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von halbleitervorrichtungen

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3845312A (en) * 1972-07-13 1974-10-29 Texas Instruments Inc Particle accelerator producing a uniformly expanded particle beam of uniform cross-sectioned density
CA1100237A (en) * 1977-03-23 1981-04-28 Roger F.W. Pease Multiple electron beam exposure system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3138744A1 (de) * 1981-09-29 1983-04-07 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von halbleitervorrichtungen

Also Published As

Publication number Publication date
GB1321172A (en) 1973-06-20
FR2080511A1 (https=) 1971-11-19
NL7100749A (https=) 1971-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69110910T2 (de) Quelle für kohärente kurzwellenlängige Strahlung.
DE69401479T2 (de) Neutronenröhre mit magnetischem Elektroneneinschluss durch Dauermagneten und dessen Herstellungsverfahren
DE1948396A1 (de) Vorrichtung zur Beschleunigung und Ablenkung eines Ionenstrahles
DE2223270C3 (de) Infrarot-Bildaufnahmesystem mit pyroelektrischer Speicherelektrode
DE2262024A1 (de) Verfahren zur herstellung von halbleiterbauelementen bzw. halbleiterschaltungen
DE3842044A1 (de) Flugzeit(massen)spektrometer mit hoher aufloesung und transmission
DE2332118A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur minimisierung der querkomponenten der geschwindigkeit in einem elektronenstrahl
DE69204271T2 (de) Einrichtung zum Steuern der Form eines Strahles geladener Teilchen.
DE102021114934B4 (de) Verfahren zum analytischen Vermessen von Probenmaterial auf einem Probenträger
DE2146941A1 (de) Strahlenformungs- und Abbildungssystem
DE1186952B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Umwandeln von n- in p-leitendes Halbleitermaterial fuer Halbleiterbauelemente durch Beschuss mit einem Elektronenstrahl
DE2102592A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeu gen von parallelen Mikroionenstrahlen
DE1514255C3 (de) Röntgenbildverstärker
DE2835136A1 (de) Solarelement sowie verfahren und vorrichtung zur herstellung desselben mittels ionenimplantation
DE3136787A1 (de) "verfahren und vorrichtung zum verstaerkten neutralisieren eines positiv geladenen ionenstrahls"
DE2016038A1 (de) Ionenquelle
DE4102573C2 (https=)
DE69610823T2 (de) Generator für bandförmigen ionenstrahl
DE69810182T2 (de) Mehrelektroden-Partikeldetektor und Herstellungsverfahren desselben
DE2720514B2 (https=)
DE2621453A1 (de) Ionenquelle
DE2128255A1 (de) Elektronenstrahlgenerator
DE2645346A1 (de) Mehrere oeffnungen aufweisende, mehrstrahlige ionenquelle
DE1074631B (de) Kathodenstrahlrohre zur Darstellung von Farbbildern
DE3124987A1 (de) Oberflaechenbehandlungsverfahren und -vorrichtung