DE2025376B2 - Einkristall-zuechtungsverfahren fuer bariumnatriumniobat und verwandte verbindungen - Google Patents

Einkristall-zuechtungsverfahren fuer bariumnatriumniobat und verwandte verbindungen

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Description

30
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Ziehen eines Einkristallstabs aus Ba2NaNb5Oi5, mit 0 bis 10 Atom-% Strontium für Barium und einem bei y, Erhaltung des tetragonalen Wolframbronze-Gitters bis zu 20 Atom-% veränderlichen lonengehalt, aus der Schmelze.
In Applied Physics Letters, Ba;id 11, Nr. 9, S. 269 (1967) ist eine Klasse nichtlinearer optischer Materialien w beschrieben. Eines dieser Materialien ist die vorstehend erwähnte Nennzusammensetzung BajNaNbsOis, das von beachtlichem Interesse für die Frequenzumwandlung von kohärentem Licht ist Die Gütezahlen für die Erzeugung der zweiten Harmonischen oder für die « parametrische Umsetzung sind vergleichbar mit denen des bisher besten Materials LiNbCH oder sogar besser. Wähtend letzteres gegenüber Strahlungsschäden anfällig ist, die sich in der Entstehung örtlicher Inhomogenitäten äußern und das Material für den weiteren optischen Anwendungszweck unbrauchbar machen, unterliegt ersteres keiner solchen Verschlechterung.
Ba2NaNbsOi5-Proben zeigten einen solchen hohen optischen Perfektionsgrad, daß ihr Einsatz in einen Infrarot-Laser-Resonator zur Erzeugung von Harmoni- τ> sehen ohne feststellbare Einsatzdämpfung führte. Die gleiche Zusammensetzung führte zu einem erstmals berichteten, im Dauerstrichbetrieb arbeitenden parametrischen Oszillator.
Aufgrund des großen Interesses an diesem nichtlinea- t>o ren Material sind eine Reihe Hersteller zu dessen Produktion übergegangen. Kristalle dieses Materials sind nun aus verschiedenen Handelsquellen verfügbar.
Bei der bisherigen Züchtung des Materials hat man leider häufig Sprünge oder Risse im Kristall beobachtet. hc. So wird das Material allgemein aus der Schmelze bei Ziehgeschwindigkeiten in der Größenordnung von 1,25 cm pro Stunde oder darüber gezogen; und unter diesen Umständen zeigen die Kristalle nicht unbeträchtliche Rißbildung, so daß nur kleine ausgewählte, Stücke in optischen Vorrichtungen eingebaut werden können.
Die Rißbildung ist, obgleich sie beim Züchten von Ba2NaNbsOi5 besonders ausgeprägt ist, kein seltenes Problem. Sie tritt normalerweise infolge Dimensionsänderungen während des Abkühlens auf; und üblicherweise wird eine Rißbildung einfach durch langsames Abkühlen vermieden. Dieser Weg ist jedoch nur von begrenztem Wert. Denn relativ rißfreie Proben konnten bisher nur in massiven, widerstandsbeheizten Vorrichtungen bei sehr langsamer Abkühlung von der Kristallisationstemperatur von ober 1400°C auf Temperaturen nahe Raumtemperatur hergestellt werden; und dieses Abkühlprogramm bedingt eine sehr starke Beschränkung der Produktionsgeschwindigkeit. Die Verwendung solcher massiver öfen bedingt eine weitere Grenze für die Wachstumsgeschwindigkeit, und zwar wegen der damit untrennbar verbundenen niedrigen Temperaturgradienten.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, ein Einkristallzüchtungsverfahren für das in Rede stehende Material bereitzustellen, mit dem wesentlich kürzere Standzeiten ohne RiQbiidung erreichbar sind.
Der Erfindung zugrundeliegende Untersuchungen an Ba2NaNb5Oi5 und an gewissen verwandten Systemen hatten nun das überraschende und außergewöhnliche Ergebnis, d?ß die Temperaturabhängigkeit der Kristallabmessungen im Bereich von der Kristallisationstemperatur bis herab zu etwa 6000C minimal ist. Die Untersuchungen zeigen, daß eine solche Abhängigkeit nur im Bereich von etwa 6000C bis etwa 400°C von bedeutsamer Größe ist. Demgemäß kann der in optischer Reinheit gezüchtete Kristall der angegebenen Substanzklasse von der Kristallisationstemperatur auf etwa 6000C rasch abgekühlt werden. Solange dann eine kritische, niedrige Abkühlgeschwindigkeit während der sich anschließenden Abkühlung auf etwa 4000C eingehalten wird, können Kristalle von hoher optischer Güte mit nur minimaler oder überhaupt keiner Rißbildung erzeugt werden. Dieses wiederum beseitigt die Notwendigkeit einer Kristallzüchtungsanlage mit großen thermischen Massen. HF-Induktionsheizung oder eine Heizung mit Widerständen geringer Masse oder andere ähnliche Einrichtungen erlauben eine wirksame Wärmeableitung und deshalb eine höhere Züchtungsgeschwindigkeit.
Demgemäß ist in Nutzanwendung dieser Erkenntnis die Lösung der für das Verfahren der einleitend beschriebenen Art erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß der Stab in dem (ersten) Temperaturintervall von der Kristallisationstemperatur bis 6000C mit einer Mindestgeschwindigkeit von (200/R2) °C pro Stunde und in dem (zweiten) Temperaturintervall von 6000C bis 4000C mit einer Maximalgeschwindigkeit von (150//?2) °C pro Stunde, wobei R den Radius des wachsenden Stab, in Zentimetern bedeutet, abgekühlt wird.
Der Temperaturgang der zulässigen Abkühlgeschwindigkeit, die von der Größe des wachsenden Kristalls abhängt, ist also durch eine hohe nach oben nicht begrenzte Abkühlgeschwindigkeit bis herab auf etwa 600°C charakterisiert, gefolgt von einer niedrigen, in ihrem maximalen Wert begrenzten Abkühlgeschwindigkeit im sich anschließenden Temperaturintervall bis herab auf etwa 4000C. Danach ist die Abkühlgeschwindigkeit wiederum nicht kritisch, und der gezüchtete Kristall kann einfach aus dem Ofen entfernt werden und
ohne jede weitere Kontrolle der Abkühlung an Luft überlassen werden.
Bevorzugt wird bei der Durchführung des Verfahrens von dem Umstand Gebrauch gemacht, daß das Material in einem bestimmten schmalen Zusammensetzungsbe- j reich, der sich etwas von der oben angegebenen nominellen Formel unterscheidet, kongruent schmilzt. Kristalle dieses speziellen Zusammensetzungsbereichs zeigen nicht nur verbesserte Rißfreiheit, sondern darüber hinaus eine minimalisierte Streifenbildung, ι ο Solche Streuungen sind kleinen Zusammensetzungsänderungen zugeordnet, die von thermischen Fluktuationen an der Flüssig/Fest-Grenzfläche während des Wachstums herrühren und bei nicht kongruent schmelzenden Materialien, insbesondere bei höheren Züchtungsgeschwindigkeiten auftreten können.
Die Hauptänderung in den Kristallabmessungen im beschriebenen Temperaturintervall erfolgt längs der kristallgraphischen c-Achse. Demgemäß liegen die zugelassenen Kühlgeschwindigkeiten bei einem Maximum für ein Kristallwachstum in der c-Achse. Die zugelassenen Abkühlgeschwindigkeiten über dem gleichen Temperaturintervall liegen bei einem Minimum für ein Kristallwachstum in Richtung der a-Achse (oder b-Achse); und in erster Annäherung hängen die 2·> zulässigen Wachstumsgeschwindigkeiten für ein Kristallwachstum in hiervon abweichenden Eichtungen linear zum Winkel der Wachstumsrichtung in den Zwischenrichtungen ab.
Nachstehend ist die Erfindung anhand der Zeichnung erläutert; es zeig!
F i g. 1 die Abhängigkeit der Änderungen der Kristallabmessungen von der Temperatur für die drei Hauptachsrichtungen,
Fig. 2a eine Schnittansicht einer zur Durchführung 3j des Verfahrens geeigneten Kristallziehapparatur,
F i g. 2b ein typisches Temperaturprofil einer Apparatur nach Art der F i g. 2a.
Im Diagramm nach Fig. 1 sind die Ordinateneinheiten als das Tausendfache der relativen Längsänderung ausgedrückt. Die wiedergegebenen Daten sind für Bariumnatriumniobat-Zusammensetzungen der Formel Ba2NaNb5Oi5 und für verwandte Materialien typisch. Die Daten wurden mit einem automatisch aufzeichnenden Dilatometer gemessen. Die Aufheiz- und Abkühl- 4> kurven waren weitgehend identisch und wurden für jede der drei Achsrichtungen dieses orthorhombischen Kristalls gemessen. Die hervorstechendsten Merkmale sind die große Kontraktion der c-Achse, die bei etwa 600°C beginnt, und die Anisotropie der Längenänderungen längs dieser Achse. Die Kurven für die a- und b-Achse sind etwa isotrop und zeigen ein weitgehend übliches Expansionsverhalten.
Es war die Erfassung der in F i g. 1 dargestellten Daten, die zu dem erfindungsgemäßen Verfahren γ, führte; jedoch auch diese Daten stellen einen Idealfall dar. Temperaturgradienten innerhalb des Kristalls können während der Abkühlung zu großen Dehnungen in relativ kleinen Bereichen führen. Ebenso resultieren, während das bedeutsame Temperaturintervall weitge- w) hend unabhängig von Zusammensetzungsänderungen der betroffenen Materialien ist, kleine Zusammensetzungsänderungen innerhalb des Kristalls zu einer Verschiebung in der Kurve innerhalb des Intervalls und können deshalb eine unverhältnismäßige Erhöhung der iv> örtlichen Dehnung verursachen. Des weiteren können innere fehlorientierte Bereiche in den Kristallen infolge einer hohen Temperaturdeformation während des Wachstums vorhanden sein. Diese Bereiche verursachen Konzentrationsstellen für innere Spannungen wegen der Anisotropie der Transformationsdehnungen, was die Empfindlichkeit gegenüber Rißbildung verstärkt.
Eine Rißbildung wird im Falle eines Kristallwachstums in von der c-Achsrichtung abweichenden Richtungen weiter verstärkt, da die kritische Scherspannung hierdurch erhöht wird. Eine weitere Komplikation rührt von Oberflächenunvollkommenheiten wie Grübchen her, an denen sich die Spannungen konzentrieren und die als Rißbildungs-Entstehungszentren wirken können.
Die in Fig. 2a dargestellte Apparatur weist einen Platin-Tiegel 1 auf, der von einer Induktionsspule 2 umgeben ist. Die Speisespannungsquelle für die Spule 2 ist nicht dargestellt. Die Spule 2 ist in Isoliermaterialmasse 3 eingebettet, beispielsweise in körnigem Alundum. Wie dargestellt, wird ein wachsender Kristall 4 mit Hilfe eines Saphir-Stabes 5 aus der Schmelze 6 gezogen. Ein Abkühlofen 7, der eine Widerstandswicklung mit Anschlußleitungen 8 und 9 für eine nichtdargestellte Speisespannungsquelle aufweist, befindet sich oberhalb des Kristallzüchtungsbereichs. Die ganze Apparatur ist innerhalb eines Rohres 10 untergebracht, das aus Alundum bestehen kann.
Das Diagramm der F i g. 2b zeigt das Temperaturprofil für die Apparatur nach Fig.2a. Bei der Apparatur wurde die Schmelze, die eine Tiefe von etwa 2,5 cm hatte, dicht bei der Wachstumstemperatur etwas oberhalb 1400°C gehalten. Wegen der typischerweise niedrigen thermischen Masse der Hochfrequenzheizeinrichtung und der zugeordneten mechanischen Glieder, fällt die Temperatur innerhalb etwa 10 mm oberhalb der Grenzfläche um 4000C ab. Der Abkühlofen 7 wurde bei 600°C gehalten, so daß eine Abkühlung des gezüchteten Kristalls auf eine Temperatur unterhalb dieses Wertes nicht möglich war, bevor der Kristall in den Abkühlofen gelangte.
Handelt es sich im Einzelfall um relativ große Schmelzen und speziell um kongruent schmelzende Zusammensetzungen, dann kann die Anordnung nach Fig. 2a auch so betrieben werden, daß das kristallisierende Material den Abkühlofen kontinuierlich passiert. Die Ofenabmessungen und die Wachstumsgeschwindigkeiten sind dann so aufeinander abzustimmen, daß die Abkühlgeschwindigkeit durch das kritische Temperaturintervall hindurch bei oder unterhalb der angegebenen Maximalgeschwindigkeit gehalten wird.
Da die Bedeutung des vorliegenden Verfahrens großenteils in der Zulässigkeit einer großen Abkühlgeschwindigkeit in diesem ersten Intervall liegt, ist es notwendig, hierfür eine Mindestgrenze anzugeben. Diese Grenze liegt bei 200°C pro Stunde für einen
Kristallradius von 1 cm oder allgemein auf—^-^, wenn
R der Kristallradius in Zentimeter ist.
Die kritische Abkühlgeschwindigkeit im zweiten, von 6000C bis 400°C reichenden Temperaturintervall darf bei höchstens etwa 150° C pro Stunde liegen. Wie erwähnt, gilt der Wert für einen Kristall eines Radius von 1 cm und kann an andere Kristalldicken dadurch angepaßt werden, daß er durch das Quadrat des jewei'igen Kristallradius (in Zentimeter) geteilt wird. Demgemäß ist für einen Kristall mit z. B. einem nur halb so großen Radius die äquivalente Abkühlgeschwindigkeit 600°C pro Stunde. Die innerhalb des kritischen Intervalles maximal zugelassene Abkühlgeschwindigkeit gilt für ein Wachstum in Richtung der c-Achse. Ein
äquivalenter Wert für ein Wachstum in Richtung der a- oder 6-Achse beträgt, bei entsprechender Normierung, etwa 15°C pro Stunde, und Werte für Wachstumsgeschwindigkeiten in hiervon abweichenden Richtungen hängen annähernd linear von der Winkelabweichung r, der Wachstumsachse ab; das heißt die normierte Abkühlgeschwindigkeit für ein Wachstum unter 45° zur c-Achse beträgt etwa 85°C pro Stunde, für 22,5° zur c-Achse etwa 1150C pro Stunde und für 22,5° zur a-Achse etwa 50°C pro Stunde. ιu
Die oben angegebenen maximal zulässigen Abkühlgeschwindigkeiten können noch zu etwas Rißbildung führen, aber die rißfreien Kristallbereiche sind hinreichend groß, um hieraus brauchbare Baueinheiten herstellen zu können. Eine Rißbildung wird vollständig π vermieden, wenn mit einer normierten Abkühlgeschwindigkeit von 30°C pro Stunde für ein Wachstum in der c-Achse gearbeitet wird und mit einer Abkühlgeschwindigkeit von 5° C pro Stunde für ein Wachstum in Richtung der a- oder Z>-Achse. Die bevorzugten >o normierten Maximal-Abkühlungsgeschwindigkeiten für Kristallwachstum in Richtungen außerhalb dieser Achsrichtungen sind wiederum vom Richtungswinkel gegen diese Achsen linear abhängig.
Es ist bekannt, daß eine hohe optische Güte leichter r> mit einer Wachstumsrichtung erreichbar ist, die nicht mit einer der Hauptachsen zusammenfällt. Dieses beruht auf der Entstehung von Streifen infolge zusammensetzungsmäßiger Inhomogenitäten, die wahrscheinlich die Temperaturschwankungen an der Wachs- so tumsgrenzfläche begleiten. Glücklicherweise existiert kongruent schmelzendes Material eines bestimmten Zusammensetzungsbereiches im Bariumnatriumniobat-System. Das Züchten von Kristallen mit dieser Zusammensetzung reduziert die Streifigkeit auf ein sr> Minimum; deshalb wird diese Zusammensetzung für die vorliegenden Zwecke bevorzugt. Ihre Verwendung erlaubt ein Kristallwachstum längs der c-Achse bei minimaler Streifung, was aus Gründen einer größeren zulässigen maximalen Abkühlgeschwindigkeit (vergleiehe oben) wirtschaftlich von Vorteil ist. Die kongruent schmelzende Zusammensetzung wird zweckmäßig anhand der oxidischen Bestandteile
Nb2O5: Na2O : BaO, ^
definiert, die sich ungefähr wie 0,49:0, 0,08:43 verhalten. Dieses entspricht der ungefähren Formel
Während die vorstehende Zusammensetzung bei der Durchführung des Verfahrens die bevorzugte ist, können auch andere Zusammensetzungen, die sich der Nennzusammensetzung nähern, mit Vorteil unter Verwendung des angegebenen Abkühlprogramms gezüchtet werden. Der ungefähre Bereich betroffener Zusammensetzungen weicht von der Nennzusammensetzung um nicht mehr als ±20% für jeden ionischen Bestandteil ab. Es ist deshalb zweckmäßig, da betrachtete System als aus der Nennzusammensetzung Ba2NaNb5Oi5 und einer zugeordneten festen Lösung bestehend zu bezeichnen. Dieser Ausdruck bezeichnet den Teil des ternären Phasengleichgewichtsdiagrammes, in dem im wesentlichen tetragonale Wolframbronze-Struktur vorhanden ist. Eine Modifikation der betrachteten Nominalzusammensetzung, die von Interesse für bestimmte Anwendungsgebiete ist, enthält bis zu 10 Atomprozent Strontium als Substituent füi Barium. Diese substituierte Zusammensetzung zeig ähnliches thermisches Ausdehnungsverhalten und wire vorteilhaft in der gleichen Weise und innerhalb dei gleichen Parametergrenzen verarbeitet.
Die schließlichen Abkühlgeschwindigkeiten vor 400°C auf Raumtemperatur sind dann wieder nichi kritisch. In der Praxis wird man deshalb bequemerweise einfach den Ofen abschalten oder die Probe aus dem Ofen nehmen, wenn einmal die Temperatur von 400°C erreicht worden ist. Normierte Abkühlgeschwindigkeiten in der Größenordnung von 1000°C pro Stunde unc darüber sind zulässig. Höhere Abkühlgeschwindigkeiter wären nur mit bewußtem Abschrecken in Kühlflüssig keiten erreichbar.
Ein wesentlicher Gesichtspunkt des Verfahrens rühr auch von Apparaturentwurfserwägungen her. Da große thermische Massen nicht mehr erforderlich sind (so da[ Hochfrequenzbeheizung, Heizwiderstandselemente ge ringer thermischer Masse usw. verwendet werder können), werden höhere Wachstumsgeschwindigkeiter ermöglicht. Wird insbesondere mit kongruent schmel zenden Zusammensetzungen gearbeitet, so könnet Wachstumsgeschwindigkeiten, die deutlich oberhalb de derzeit benutzten Wachstumsgeschwindigkeiten vor etwa 3 mm pro Stunde liegen, benutzt werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Ziehen eines Einkristallstabs aus Ba2NaNb5OiS, mit 0 bis 10 Atom-% Strontium für r> Barium und einem bei Erhaltung des tetragonalen Wolframbronze-Gitters bis zu 20 Atom-% veränderlichen Ionengehalt, aus der Schmelze, dadurch gekennzeichnet, daß der Stab in dem (ersten) Teniperaturintervall von der Kristallisationstempe- in ratur bis 6000C mit einer Mindestgeschwindigkeit von (200//P) 0C pro Stunde und in dem (zweiten) Temperaturintervall von 6000C bis 4000C mit einer Maximalgeschwindigkeit von (150/Λ2) 0C pro Stunde, wobei Aden Radius des wachsenden Stabs η in Zentimetern bedeutet, abgekühlt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in dem zweiten Intervall mit einer Geschwindigkeit von (150//P) bis (5/W) °C pro Stunde abgekühlt wird. ?n
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß in dem zweiten Intervall mit einer maximalen Geschwindigkeit von (30/R2) 0C pro Stunde abgekühlt wird.
25
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