DE2361868A1 - Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen einkristalls aus einer kongruenten schmelze - Google Patents
Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen einkristalls aus einer kongruenten schmelzeInfo
- Publication number
- DE2361868A1 DE2361868A1 DE2361868A DE2361868A DE2361868A1 DE 2361868 A1 DE2361868 A1 DE 2361868A1 DE 2361868 A DE2361868 A DE 2361868A DE 2361868 A DE2361868 A DE 2361868A DE 2361868 A1 DE2361868 A1 DE 2361868A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- melt
- inert gas
- crystal
- component
- congruent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B27/00—Single-crystal growth under a protective fluid
- C30B27/02—Single-crystal growth under a protective fluid by pulling from a melt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT München, 12.12.1973 Berlin und München Wittelsbacherpl. 2
VPA 73/7199
Verfahren zur Herstellung eines mehrkomponentigen Einkristalls aus einer kongruenten Schmelze.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Züchtung eines mehrkomponentigen
Einkristalls aus einer Schmelze, wobei durch Verwendung eines offenen Tiegels mit einer die Schmelze umschließenden
Schutzschmelze und eines äußeren Inertgasdruckes, der etwas höher als der Dampfdruck der flüchtigen
Komponente der Schmelze am Schmelzpunkt ist, die Abdampfung
der flüchtigen Komponente vermieden wird.
Nach dem Stand der Technik ist es bekannt, einen mehrkomponentigen
Einkristall nach dem Bridgman-Verfahren aus einer Schmelze zu kristallisieren, wobei als Zuchtgefäß eine abgeschlossene
Quarzampulle verwendet wird. Verfahrensbedingt weisen die so erzeugten Kristalle viele Baufehler auf. Besonders nachteilig wirkt sich aus, daß die Kristallisation
in einem Tiegel erfolgt, da wegen der unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten
des Schmelzgutes und der in Frage kommenden Tiegelmaterialien Spannungen und auch Risse in den
Einkristallen nicht zu vermeiden sind (vergleiche J.M. Rolls, H.J. de.Bruin: »Journal Crystal Growth» 16 (1972), S.235 ff.).
Es ist nach E.P.A. Metz, R.C. Miller und J. Mazelsky: "Journal
Applied Physics" 33 (1962), S. 2016 ff. bekannt, einen mehrkomponentigen Einkristall zu ziehen, wobei das Schmelzgut
mit einer Schutzschmelise umgeben ist. Der Nachteil des letzteren Verfahrens besteht darin, daß bei Schmelzen mit leicht
flüchtigen Komponenten wie Schwefel oder Selen ein kristallografisch
einwandfreier Kristall schwer zu erhalten ist.
Eine Aufgabe des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es, mehr-VPA
9/710/4040
Rac/Bla 509 826/0801
-2-
komponentige Einkristalle mit flüchtigen Komponenten herzustellen,
ohne daß lokale Unterschiede in der Kristallzusammensetzung, wie Fremdphaseneinschlüsse, Poren und Risse und
andere Kristallbaufehler, vorhanden sind.
Diese Aufgabe wird so gelöst, wie es im kennzeichnenden Teil des Anspruches 1 dargelegt ist. Weitere Ausgestaltungen gehen
8US den. Kennzeichen der Unteransprüche hervor-.
Das Komponentengemisch, welches als flüchtige Komponente Schwefel oder Selen enthält, wird auf einen Zustand kongruenter
Schmelze eingestellt. Dieser Zustand wird während der Züchtung des Einkristalles beibehalten. Dabei wird die
Schmelze ύοώ. einer Schutzschmelze aus Boroxid (BpO^) umgeben.
Als äußeres Inertgas ist beispielsweise Argon vorgesehen. Der Druck des Inertgases wird dabei so eingestellt, daß er
etwas höher als der Dampfdruck der flüchtigen Komponente am Schmelzpunkt der Schmelze ist.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung besteht
die Schmelze aus Fe. AS mit 0=x=1; i,0=y=1,1, wobei für
l —jc χ y
A die Elemente Ti, V, Cr, Co oder Ki vorgesehen sind.
A die Elemente Ti, V, Cr, Co oder Ki vorgesehen sind.
Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung besteht darin, daß das Schmelzgut 8us B1Se mit 1,0=y=1,1 besteht, wobei für
B1 die Elemente Fe, Cr, Co oder Ni verwendet werden.
Die Erfindung nutzt die Erkenntnis, daß sich geschmolzenes Boroxid mit einem Schmelzpunkt von 44O0C gegenüber einer der
obengenannten Schmelzen, beispielsweise Eisensulfid-Schmelze, bei den für die Kristallzüchtung erförderlichen Temperaturen
inert verhält, d.h. die beiden Flüssigkeiten sind ineinander nicht löslich und reagieren nicht miteinander. Man kann
also eine derartige Schmelze, z.B. in einem Quarztiegel, mit geschmolzenem Boroxid bedecken und durch Anlegen eines äuße-
VPA 9/710/4040 -3-
509 826/0801
ren Inertgasdruckes, der etwas höher sein muß als der Schwefeldampfdruck
über der Schmelze, das Abdampfen von Schwefel und damit KonzentrationsTerschiebungen in der Schmelze Ter-,
meiden.
Weiterhin wird die Erkenntnis genutzt, daß bei Züchtung von Einkristallen aus der Schmelze nur dann im wesentlichen perfekte
Kristalle erzielt werden, wenn aus der kongruent schmelzenden
Zusammensetzung gezüchtet wird und diese während des Züchtungsvorganges aufrechterhalten bleibt. Yeränderungen
in der Zusammensetzung der Schmelze bewirken lokale Unterschiede in der Kristallzusammensetzung.
Als Beispiel wird das System Eisen-Schwefel betrachtet. Hierbei
schmilzt die Phase FeS nur dann kongruent, wenn y=191 ist.
Der Schmelzpunkt beträgt 11880C, der Schwefeldampfdruck über
der Schmelze ca. eine Atmosphäre. Man kann also eine FeS^ *-
Schmelze in ihrer Zusammensetzung aufrechterhalten, wenn ein äußerer Inertgasdruck von mehr als einer Atmosphäre angewandt
wird. Taucht man einen Kein durch die Boroxidschmelze hindurch in die FeS-1 ,,-Schmelze ein und entfernt langsam das
em Keim ankristallisierende Material von der Schmelzoberfläche,
so erhält man einen FeS.. ^-Einkristall von hoher Perfektion.
'
Ih cer Fjgprist eine Apparatur zur Herstellung eines Einkristalles
gemäß der Erfindung dargestellt. Die FeS1 ^-Schmelze 10
wird durch die Boroxid-Schutzschmelze 20 umschlossen. Die
Ziehgeschwindigkeit beträgt beispielsweise 10 mm pro Stunde bei 15 Umdrehungen pro Minute. Der Keim 11 mit dem bereits
entstandenen Einkristall 12 ist ebenfalls abgebildet. Die Schmelze 10 mit der Schutzschmelze 20 befindet sich im Quarztiegel
21, der seinerseits in dem Graphitsuszeptor 22 eingeschlossen ist. Die Temperatur wird mit dem Thermoelement 40
gemessen, welches sich in dem Thermoelement-Schutzrohr 41 be-
VPA 9/710/4040 -4-
B09826/0801
findet. Der Susζeptortrager 50 besteht aus Bornitrid. Im unteren
Teil ist das Thermoelement 41 in einem Edelstahlrohr 51 eingeschlossen. Die ganze Anordnung ist in einem Rotosilschutzrohr
30 untergebracht. Die Aufheizung erfolgt mittels der H.F.-Spule 31.
Bevorzugte Anwendungen eines solchen mehrkomponentigen Einkristalles
bestehen darin, daß pyroelektrische Detektoren daraus
hergestellt werden.
5 Patentansprüche
1 Figur
1 Figur
VPA 9/710/4040
509826/0801
Claims (1)
- Patentansprüche1. Verfahren zur Züchtung eines mehrkomponentigen Einkristal- . les aus einer Schmelze, wobei durch Verwendung eines offenen Tiegels mit einer die Schmelze umschließenden Schutzschmelze und eines äußeren Inertgasdruckes, der etwas höher als der Dampfdruck der flüchtigen Komponente der Schmelze am Schmelzpunkt ist, die Abdampfung der flüchtigen Komponente vermieden wird, dadurch gekennzeichnet , daß das Komponentengemisch mit den flüchtigen Komponenten Schwefel oder Selen auf einen Zustand im wesentlichen kongruenter Schmelze eingestellt und während der Züchtung beibehalten wird.2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Schutzschmelze B2O, vorgesehen ist.3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß als äußeres Inertgas Argon vorgesehen ist.4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet , daß der Einkristall aus Fei_x A x S mit 0=x=1; 1,0=y=1,1besteht, wobei für A die Elemente Ti, V, Cr, Co oder Ni vorgesehen sind.5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet , daß der Einkristall aus.. B1Se mit 1,0%=1,1 besteht, wobei für B1 die Elemente Fe, Cr, Co oder Ni vorgesehen sind. :VPA 9/710/404050 9.8 26/0801Le e rs e i t
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2361868A DE2361868A1 (de) | 1973-12-12 | 1973-12-12 | Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen einkristalls aus einer kongruenten schmelze |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2361868A DE2361868A1 (de) | 1973-12-12 | 1973-12-12 | Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen einkristalls aus einer kongruenten schmelze |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2361868A1 true DE2361868A1 (de) | 1975-06-26 |
Family
ID=5900570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2361868A Pending DE2361868A1 (de) | 1973-12-12 | 1973-12-12 | Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen einkristalls aus einer kongruenten schmelze |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2361868A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4264385A (en) * | 1974-10-16 | 1981-04-28 | Colin Fisher | Growing of crystals |
EP0104741A1 (de) * | 1982-08-23 | 1984-04-04 | Western Electric Company, Incorporated | Verfahren zum Wachsen von kristallinem Material |
US4539173A (en) * | 1983-03-17 | 1985-09-03 | Commissariat A L'energie Atomique | Process for preparing plates of a metallic or semimetallic material from a liquid mass |
-
1973
- 1973-12-12 DE DE2361868A patent/DE2361868A1/de active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4264385A (en) * | 1974-10-16 | 1981-04-28 | Colin Fisher | Growing of crystals |
EP0104741A1 (de) * | 1982-08-23 | 1984-04-04 | Western Electric Company, Incorporated | Verfahren zum Wachsen von kristallinem Material |
US4539173A (en) * | 1983-03-17 | 1985-09-03 | Commissariat A L'energie Atomique | Process for preparing plates of a metallic or semimetallic material from a liquid mass |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69509678T3 (de) | Epitaktische züchtung von siliciumcarbid und so hergestellte siliciumcarbidstrukturen | |
DE102017206741A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Galliumoxidkristalls | |
DE2039172C3 (de) | Vorrichtung zur Herstellung epitaktisch auf ein einkristallines Halbleitersubstrat aufgewachsener Schichten aus Halbleitermaterial | |
CH509824A (de) | Verfahren zum Herstellen eines aus mindestens zwei halbleitenden chemischen Elementen zusammengesetzten, mindestens teilweise legierten Halbleitermaterials | |
GB806923A (en) | Improvements in or relating to semi-conductor bodies | |
DE2942057C3 (de) | Verfahren zum Czochralski-Ziehen eines Silicium-Einkristallstabs | |
DE3781016T2 (de) | Verfahren zur zuechtung eines multikomponent-kristalls. | |
DE2643793A1 (de) | Verfahren zum zuechten monokristalliner epitaktischer schichten aus seltene erde eisen-granat-werkstoffen | |
DE1179184B (de) | Verfahren zum Herstellen von einkristallinen, insbesondere duennen halbleitenden Schichten | |
DE2624357A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum messen und regeln der erstarrung eines fluessig/ fest-zweiphasensystems | |
DE3872922T2 (de) | Verfahren zur herstellung von lanthankuprat-einkristall. | |
DE2361868A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen einkristalls aus einer kongruenten schmelze | |
DE69721580T2 (de) | Lanthan gallium silikatscheibe und deren herstellung | |
DE69125600T2 (de) | Dotierte kristalline zusammensetzungen und verfahren zu deren herstellung | |
DE69312582T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Metalloxid-Kristalls | |
DE2533352A1 (de) | Verfahren zur herstellung von ferroelektrischem kristallinen material | |
DE2040761A1 (de) | Infrarotempfindliches photoleitendes Halbleiterbauelement und Verfahren zum Herstellen dieses Halbleiterbauelementes | |
DE1936443A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung homogener und planparalleler epitaktischer Aufwachsschichten aus halbleitenden Verbindungen durch Schmelzepitaxie | |
DE2025376C3 (de) | Einkristall-Züchtungsverfahren für Bariumnatriumniobat und verwandte Verbindungen | |
Seeber et al. | Progress in single crystal growth of V3Si | |
DE2217301C3 (de) | Verfahren zum epitaktischen Aufwachsen kristallisierbaren Materials | |
DE69302809T2 (de) | Dotierte kristalline titanylarsenaten und ihre herstellung | |
JPS63195198A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜の製造方法 | |
Pamplin et al. | New phase in the Cd Ge As system | |
DE2221574A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls |