DE19913542A1 - Verfahren zur Entwicklung einer Lithografiedruckplatte - Google Patents
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Abstract
Offenbart wird ein Verfahren zur Entwicklung eines Lithografiedruckmaterials mit physikalischen Entwicklungskernen zwischen einem Aluminiumträger und einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht, die 95 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, bezogen auf die Gesamtmenge des Silberhalogenids, DOLLAR A wobei die abgereicherte Aluminiumoxidmenge im Aluminiumträger 0,8 g oder mehr je 1 m·2· Träger beträgt, wenn die Entwicklung des Lithografiedruckmaterials unter Verwendung einer Entwicklerlösung mit einem pH von 13,0 bei einer Entwicklungstemperatur von 25 DEG C und einer Entwicklungszeit von 40 Sekunden durchgeführt wird, DOLLAR A wobei das Verfahren zur Entwicklung einer Lithografiedruckplatte die Entwicklung umfaßt, um die abgereicherte Aluminiumoxidmenge auf 0,6 g oder weniger je 1 m·2· zu regulieren, indem wenigstens ein Parameter aus pH der Entwicklerlösung, Entwicklungstemperatur und Entwicklungszeit eingestellt wird.
Description
Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung
einer Lithografiedruckplatte unter Verwendung einer
Aluminiumplatte als Träger und unter Verwendung eines
Silberkomplexsalz-Diffusionstransferverfahrens.
Einige Beispiele für eine Lithografiedruckplatte, die das
Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren (DTR-Verfahren)
verwenden, sind auf den Seiten 101 bis 130 von André Rott
und Edith Weyde, "Photographic Silver Halide Diffusion
Processes", Focal Press, London und New York (1972),
beschrieben.
Wie dort beschrieben, sind zwei Arten von
Lithografiedruckplatten bekannt, die das DTR-Verfahren
verwenden, nämlich ein Zweiblatt-Typ, in dem ein
Transfermaterial und ein bildaufnehmendes Material
getrennt sind, und ein Einzelblatt-Typ, in dem diese
Materialien auf einem Träger bereitgestellt sind. Die
Lithografiedruckplatte vom Zweiblatt-Typ ist detailliert
in der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr.
158844/1982 beschrieben. Diejenige vom Einzelblatt-Typ ist
detailliert beschrieben in US-A-3 728 114, den japanischen
Patentveröffentlichungen Nrn. 30562/1973 und 15765/1976
und den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen
Nrn. 111103/1976 und 150105/1977.
Die Lithografiedruckplatte vom Einzelblatt-Typ, die vom
Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren unter Verwendung
einer Aluminiumplatte als Träger (im folgenden als
"Aluminium-Lithografiedruckplatte" bezeichnet) Gebrauch
macht, ist detailliert beschrieben in den japanischen
vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn. 118244/1982,
158844/1982, 260491/1988, 116151/1991 und 282295/1992 und
den US-PSen 4 567 131 und 5 427 889.
In der oben genannten Aluminium-Lithografiedruckplatte
befinden sich physikalische Entwicklungskerne auf einem
aufgerauhten und eloxierten Aluminiumträger, und eine
Silberhalogenid-Emulsionsschicht, die im wesentlichen
nicht ausgehärtet ist, ist zusätzlich darauf
bereitgestellt. Ein allgemeines Verfahren zur Herstellung
dieser Lithografiedruckplatte umfasst die Schritte aus
Belichtung, DTR-Entwicklungsbehandlung, Auswaschbehandlung
mit Wasser (Abwaschen: Entfernung der Silberhalogenid-Emul
sionsschicht mit Waschlösung, nachfolgend einfach als
"Auswaschbehandlung" bezeichnet) und Endbehandlung.
Im einzelnen wird ein Bildanteil aus metallischem Silber
auf den physikalischen Entwicklungskernen durch die
Entwicklungsbehandlung gebildet, und die Silberhalo
genid-Emulsionsschicht wird durch die anschliessende
Auswaschbehandlung entfernt, wodurch der Bildanteil aus
metallischem Silber (im folgenden als "Silberbildanteil"
bezeichnet) freigelegt wird. Gleichzeitig wird die
eloxierte Aluminiumoberfläche selbst als Nicht-Bildanteil
freigelegt.
Nach der Auswaschbehandlung wird eine Abschlusslösung, die
ein Schutzkolloid enthält, wie Gummi arabicum, Dextrin,
Carboxymethylcellulose, Polystyrolsulfonsäure etc., auf
den freigelegten Silberbildanteil und den Nicht-Bildanteil
zum Schutz derselben aufgetragen. Die Plattenoberfläche
wird durch die sogenannte Gummibeschichtung behandelt. Die
Abschlusslösung wird ebenfalls Fixierlösung genannt und
enthält im allgemeinen eine Verbindung, die den
Silberbildanteil oleophil macht, wie eine
stickstoffhaltige heterocyclische Verbindung mit einer
Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe (nachfolgend als
"oleophiles Mittel" bezeichnet).
Bei der Aluminium-Lithografiedruckplatte, wie z. B. in den
japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn.
260491/1988, 116151/1991 etc. beschrieben, besteht ein
Problem darin, dass eine elektromotorische Kraft zwischen
der Aluminiumplatte und der Silberhalogenidemulsion
besteht und Korrosion im Silberbildbereich verursacht,
indem sie durch eine Entwicklerlösung mit einem pH von
etwa 13 entwickelt wird, wodurch nadelartige Flecken
erzeugt werden, die Ätzgrübchen ("etch pits") genannt
werden. Es ist bekannt, dass Ätzgrübchen leicht
hervorgerufen werden, wenn eine Silberhalogenidemulsion
mit einem hohen Silberchloridgehalt verwendet wird. Im
Vergleich zu einer Silberhalogenidemulsion mit einem hohen
Silberbromidgehalt weist die Silberhalogenidemulsion mit
einem hohen Silberchloridgehalt einen Vorteil darin auf,
dass sie eine hohe DTR-Entwicklungsgeschwindigkeit
besitzt. Es ist erwünscht, eine Aluminium-Litho
grafiedruckplatte ohne Ätzgrübchen zu entwickeln,
während der obige Vorteil beibehalten wird.
Andererseits wird eine Plattenherstellungsbehandlung durch
eine Behandlungsvorrichtung (einen automatischen
Entwickler) durchgeführt. In der Behandlungsvorrichtung
sind ein Entwicklungsschritt, ein Auswaschschritt, ein
Endschritt und ein Trocknungsschritt vorgesehen, und ein
Heizgerät zur Regulierung der Temperatur wird im
allgemeinen im Entwicklungsschritt bereitgestellt.
Bezüglich der Temperatur der Entwicklerlösung ist es
allgemein vorteilhaft, die Temperatur relativ hoch
einzustellen, da die Regulierung der Temperatur unter
Berücksichtigung der hohen Temperaturen im Sommer z. B. bei
25°C durchgeführt wird, wie beschrieben im Beispiel der
japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr.
161151/1991. Falls jedoch die Temperatur zu hoch
eingestellt wird, besteht ein Problem darin, dass die
Druckdauerleistung deutlich absinkt. Ebenfalls wird die
Zahl der verursachten Ätzgrübchen grösser. Es ist
entsprechend erwünscht, ein Behandlungsverfahren zu
entwickeln, das stabile Druckeigenschaften innerhalb des
Temperaturbereichs von 20 bis 30°C liefern kann.
Bezüglich der Entwicklungszeit (die Zeit vom Eintauchen
der Lithografiedruckplatte in die Entwicklerlösung in
einem Entwicklungsbehälter bis zum Zeitpunkt der
Entfernung der Silberhalogenid-Emulsionsschicht im
nächsten Auswaschschritt) wird z. B. ebenfalls in den
japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn.
116151/1991, 220763/1996 etc., offenbart, dass die
Entwicklung für insgesamt 40 Sekunden durchgeführt wird,
einschliesslich 8 bis 10 Sekunden Eintauchentwicklung in
einer Entwicklerlösung und danach 30 Sekunden
Diffusionstransferentwicklung in einem von der
Entwicklerlösung verschiedenen System. Wenn die
Entwicklungszeit einen gewissen Zeitraum überschreitet,
besteht jedoch im allgemeinen ein Problem darin, dass die
Druckdauerleistung verringert ist.
In US-A-5 427 889 wird eine DTR-Lithografiedruckplatte
offenbart, die einen Aluminiumträger mit 500 oder mehr
Grübchen mit einem Durchmesser von 0,03 bis 0,30 µm je
100 µm2 und einem mittleren Durchmesser der Grübchen von
0,05 bis 0,20 µm verwendet. Ferner wird in US-A-5 405 730
eine DTR-Lithografiedruckplatte offenbart, die einen
Aluminiumträger verwendet, worin die Gesamtoberfläche der
vertieften Fläche 50% oder mehr beträgt, bezogen auf die
Gesamtoberfläche, und worin die vertiefte Fläche eine
kontinuierliche Tiefe von wenigstens 0,5 µm aufweist.
Selbst wenn diese Aluminiumträger verwendet werden, können
jedoch ihre Vorzüge nicht ausreichend genutzt werden, und
die oben genannten Probleme bleiben bestehen.
In der DTR-Entwicklung der Lithografiedruckplatte, auf die
die vorliegende Erfindung abzielt, wird ebenfalls im
allgemeinen ein Thiosulfat als Lösungsmittel für das
Silberhalogenid verwendet. Das Thiosulfat beinhaltet
jedoch das Problem geringer Stabilität in alkalischer
Lösung, wodurch eine Abnahme der Druckdauerleistung
aufgrund der Durchlaufverarbeitung etc. verursacht wird.
Ebenfalls ist die Abfalllösung (die Silberthiosulfat
enthält) nach Verwendung der Entwicklerlösung, die das
Thiosulfat enthält, ein Stoff, der gesetzlichen Regelungen
unterliegt, so dass ein Problem hinsichtlich der
Abfallkontrolle besteht.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein
Verfahren zur Entwicklung einer Aluminium-Litho
grafiedruckplatte mit stabiler, hoher
Druckdauerleistung bei einer Entwicklungstemperatur von 20
bis 30°C für eine relativ kurze Entwicklungszeit
bereit zustellen, wobei die Erzeugung von Ätzgrübchen
unterdrückt und die Druckdauerleistung nicht durch die
Durchlaufverarbeitung der Entwicklerlösung verringert
wird. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist
es, ein Verfahren zur Entwicklung einer Aluminium-Litho
grafiedruckplatte bereit zustellen, welches kein
Thiosulfat verwendet und kein Umweltproblem mit sich
bringt.
Die oben genannten Aufgaben der vorliegenden Erfindung
können erreicht werden in einem Verfahren zur Entwicklung
eines Lithografiedruckmaterials mit physikalischen
Entwicklungskernen zwischen einem Aluminiumträger und
einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht, die 95 mol-% oder
mehr Silberchlorid enthält, bezogen auf die Gesamtmenge
des Silberhalogenids
wobei die abgereicherte Aluminiumoxidmenge im
Aluminiumträger 0,8 g oder mehr je 1 m2 Träger
beträgt, wenn die Entwicklung des
Lithografiedruckmaterials durchgeführt wird unter
Verwendung einer Entwicklerlösung mit einem PH von
13,0 bei einer Entwicklungstemperatur von 25°C und
einer Entwicklungszeit von 40 Sekunden,
wobei die Verbesserung des Verfahrens zur Entwicklung einer Lithografiedruckplatte die Entwicklung in der Weise umfasst, dass die abgereicherte Menge des Aluminiumoxids auf 0,6 g oder weniger je 1 m2 reguliert wird, indem wenigstens ein Parameter aus PH der Entwicklerlösung, Entwicklungstemperatur und Entwicklungszeit eingestellt wird.
wobei die Verbesserung des Verfahrens zur Entwicklung einer Lithografiedruckplatte die Entwicklung in der Weise umfasst, dass die abgereicherte Menge des Aluminiumoxids auf 0,6 g oder weniger je 1 m2 reguliert wird, indem wenigstens ein Parameter aus PH der Entwicklerlösung, Entwicklungstemperatur und Entwicklungszeit eingestellt wird.
Gemäss den bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden
Erfindung wird ein Lithografiedruckmaterial mit
physikalischen Entwicklungskernen zwischen einem
Aluminiumträger und einer Silberhalogenid-Emul
sionsschicht, die 95 mol-% oder mehr Silberchlorid
enthält, bezogen auf die Gesamtmenge des Silberhalogenids,
worin die abgereicherte Aluminiumoxidmenge im
Aluminiumträger 0,8 g oder mehr je 1 m2 beträgt, wenn die
Entwicklung durchgeführt wird durch eine Entwicklerlösung
mit einem pH von 13,0 bei einer Entwicklungstemperatur von
25°C und einer Entwicklungszeit von 40 Sekunden, einer
Entwicklungsbehandlung unterzogen, welche die Entwicklung
des Lithografiedruckmaterials in der Weise umfasst, dass
die abgereicherte Menge des Aluminiumoxids im
Aluminiumträger 0,1 bis 0,6 g je 1 m2 beträgt, indem
gegebenenfalls die Entwicklungsbedingungen innerhalb des
Bereichs des pH der Entwicklerlösung von 12,8 oder
niedriger, der Entwicklungstemperatur von 20 bis 30°C und
der Entwicklungszeit von 30 Sekunden oder kürzer
kombiniert werden.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung im Detail
erläutert. Das in der erfindungsgemässen Silberhalogenid-Emul
sionsschicht zu verwendende Silberhalogenid enthält
95 mol-% oder mehr Silberchlorid, bevorzugt 98 mol-% oder
mehr. Der Silberiodidgehalt beträgt bevorzugt 0 bis
2 mol-%, besonders bevorzugt 0,1 bis 1,0 mol-%. Wenn
Silberiodid enthalten sein soll, ist es besonders
bevorzugt, dass nach Beendigung der Bildung der
Silberchloridteilchen ein wasserlösliches Iodid
hinzugegeben wird, um die Oberfläche der
Silberchloridteilchen mit Silberiodid zu bedecken. Die
mittlere Teilchengrösse der Silberhalogenidteilchen
beträgt bevorzugt 0,1 bis 0,6 µm. Die
Silberhalogenidemulsion kann durch auf diesem Gebiet
bekannte Verfahren hergestellt werden, und ein Metallsalz,
wie ein Rhodiumsalz oder ein Iridiumsalz, kann verwendet
werden. Die Silberhalogenidemulsion ist bevorzugt vom
Negativtyp, die nicht verschleiert ist. Diese
Silberhalogenidemulsionen können der chemischen
Sensibilisierung oder Spektralsensibilisierung, je nach
Notwendigkeit, unterworfen werden. Es ist besonders
bevorzugt, einen Sensibilisierungsfarbstoff mit einer
spektralen Absorption bei 600 bis 700 nm zur Belichtung
vom Rastertyp (Helium-Neon-Laser, rote LED etc.) mit einer
roten Lichtquelle zu verwenden.
Als hydrophiles Kolloid der Silberhalogenid-Emul
sionsschicht wird bevorzugt Gelatine zur Herstellung
der Silberhalogenidteilchen verwendet. Als Gelatine können
verschiedene Gelatinetypen verwendet werden, wie
säurebehandelte Gelatine und alkalibehandelte Gelatine.
Ebenfalls können modifizierte Gelatinetypen davon (z. B.
phthalierte Gelatine und amidierte Gelatine) verwendet
werden. Ferner kann eine hydrophile Verbindung mit hohem
Molekulargewicht enthalten sein, wie Polyvinylpyrrolidon,
verschiedene Stärketypen, Albumin, Polyvinylalkohol, Gummi
arabicum und Hydroxyethylcellulose. Als zu verwendendes
hydrophiles Kolloid wird bevorzugt ein hydrophiles Kolloid
verwendet, das im wesentlichen keinen Härter enthält, um
das Abziehen der Silberhalogenid-Emulsionsschicht nach der
Entwicklung zu erleichtern.
Als in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
physikalische Entwicklungskerne in der physikalischen
Entwicklungskernschicht können im Silberkomplex-Diffu
sionstransferverfahren verwendete, bekannte
physikalische Entwicklungskerne verwendet werden. Als ein
Beispiel dafür kann ein Kolloid aus Gold, Silber oder
dergleichen, ein durch Vermischen eines wasserlöslichen
Salzes von Palladium, Zink und dergleichen mit einem
Sulfid erhaltenes Metallsulfid usw. verwendet werden. Als
Schutzkolloid können verschiedene hydrophile Kolloide
verwendet werden. Bezüglich der Einzelheiten der
physikalischen Entwicklungskerne und deren
Herstellungsverfahren kann z. B. auf André Rott und Edith
Weyde, "Photographic Silver Halide Diffusion Processes",
Focal Press, London und New York (1972), verwiesen werden.
In der vorliegenden Erfindung kann zwischen der
physikalischen Entwicklungskernschicht und der
Silberhalogenid-Emulsionsschicht eine wasserquellbare
Zwischenschicht, wie in der japanischen vorläufigen
Patentveröffentlichung Nr. 116151/1991 beschrieben, oder
eine Zwischenschicht, die hydrophobe Polymerperlen
enthält, wie in der japanischen vorläufigen
Patentveröffentlichung Nr. 282295/1992 beschrieben,
bereitgestellt werden.
Im erfindungsgemässen Verfahren zur Entwicklung der
Lithografieplatte werden die Entwicklungsbedingungen so
eingestellt, dass die abgereicherte Aluminiumoxidmenge im
Aluminiumträger durch Auflösung im Entwicklungsverfahren
reguliert wird (während des Zeitraums vom Eintauchen der
Lithografiedruckplatte in die Entwicklerlösung im
Entwicklungsbehälter bis zum Zeitpunkt der Entfernung der
Silberhalogenid-Emulsionsschicht im nächsten
Auswaschschritt). In der japanischen vorläufigen
Patentveröffentlichung Nr. 260491/1988 wird offenbart,
dass im Träger für eine Aluminium-Lithografiedruckplatte,
die das DTR-Verfahren verwendet, das Verhältnis der
Aluminiumoxidmenge zur Oberflächenrauhigkeit (Ra)
bevorzugt grösser gemacht wird, um das Auftreten von
Ätzgrübchen zu verhindern. Wenn jedoch die
Aluminiumoxidmenge je Flächeneinheit durch die
Eloxierungsbehandlung grösser gemacht wird, werden die
oben genannten verschiedenen Probleme des Standes der
Technik nicht gelöst.
In der vorliegenden Erfindung ist es wichtig, die
abgereicherte Aluminiumoxidmenge durch Auflösung mit den
Entwicklungsbedingungen zu beschränken oder zu regulieren,
unabhängig von der im Aluminiumträger enthaltenen
Aluminiumoxidmenge. Als in der vorliegenden Erfindung zu
verwendender Aluminiumträger der Aluminium-Litho
grafiedruckplatte werden bevorzugt diejenigen
verwendet, die 1,5 g oder mehr poröses Aluminiumoxid je m2
enthalten, bevorzugt 1,8 bis 5 g je 1 m2.
In der vorliegenden Erfindung ist es besonders bevorzugt,
einen Aluminiumträger mit 500 oder mehr (bevorzugt 1000
oder mehr) Grübchen mit einem Durchmesser von 0,03 bis
0,30 µm je 100 µm2 und mit einem mittleren Durchmesser
dieser Grübchen von 0,05 bis 0,20 µm (bevorzugt 0,05 bis
0,15 µm), wie in US-A-5 427 889 beschrieben, oder einen
Aluminiumträger zu verwenden, worin die Gesamtoberfläche
der vertieften Fläche 50% oder mehr beträgt, bezogen auf
die Gesamtoberfläche, und worin die vertiefte Fläche eine
kontinuierliche Tiefe von wenigstens 0,5 µm aufweist, wie
beschrieben in US-A-5 405 730.
Eine Vorbehandlung wird in der vorliegenden Erfindung für
den Fall angewendet, dass die verringerte
Aluminiumoxidmenge im Aluminiumträger 0,8 g oder mehr je
1 m2 beträgt, wenn die Entwicklung unter Verwendung einer
Entwicklerlösung mit einem PH von 13,0 bei einer
Entwicklungstemperatur von 25°C und einer Entwicklungszeit
von 40 Sekunden durchgeführt wird. Unter solchen
Entwicklungsbehandlungsbedingungen beträgt die
abgereicherte Aluminiumoxidmenge in vielen Fällen ca. 1 g
je 1 m2.
Wenn die Entwicklungsbehandlung durchgeführt wird, sollen
in der vorliegenden Erfindung die Bedingungen so
ausgewählt werden, dass die durch Auflösung während der
Entwicklung abgereicherte Aluminiumoxidmenge 0,6 g oder
weniger, bevorzugt 0,5 g oder weniger, besonders bevorzugt
0,3 bis 0,1 g je 1 m2 wird.
Als Mittel zur Beschränkung der Auflösung von
Aluminiumoxid in der vorliegenden Erfindung wird
wenigstens ein Parameter aus pH der Entwicklerlösung,
Entwicklungszeit und Entwicklungstemperatur ausgewählt.
Der pH der Entwicklerlösung ist bevorzugt niedrig, die
Entwicklungszeit ist bevorzugt kurz, und die
Entwicklungstemperatur ist bevorzugt niedrig. Wenn jedoch
alle drei Parameter mit den am meisten bevorzugten
Bedingungen kombiniert werden, wird die DTR-Entwicklung
selbst unzureichend. Daher werden die Bedingungen
bestimmt, indem jede der bevorzugten Bedingungen
hinsichtlich der DTR-Entwicklungseigenschaften unter
diesen Bedingungen kombiniert wird. Ein besonders
wichtiger Parameter ist der PH der Entwicklerlösung.
Speziell ist der pH der Entwicklerlösung bevorzugt 12,8
oder weniger, besonders bevorzugt im Bereich von 12,7 bis
11,5, und die Entwicklungszeit beträgt bevorzugt 30
Sekunden oder weniger, besonders 10 bis 25 Sekunden. Die
Temperatur der Entwicklerlösung beträgt bevorzugt 15 bis
35°C, besonders bevorzugt im Bereich von 20 bis 30°C.
Die Messung des Gesamtaluminiumgehalts kann durchgeführt
werden gemäss JIS-H-8680-7 "Filmgewichtsmethode", worin
die Aluminiumoxidmenge durch Auflösung mit einer wässrigen
Chromsäurelösung gemessen wird. In der vorliegenden
Erfindung wird die Messung der abgereicherten
Aluminiumoxidmenge durchgeführt durch Entfernung der
lichtempfindlichen Schichten des Aluminium-Litho
grafiedruckmaterials mit warmem Wasser usw., um einen
Aluminiumträger herzustellen, und Abschaben von
Aluminiumoxid auf der rückseitigen Oberfläche des Trägers
und Wiegen des Gesamtgewichts (a) des Trägers. Dann wird
der Träger der Entwicklung und
Plattenherstellungsbehandlung unterzogen und getrocknet,
und das Gesamtgewicht (b) des Trägers wird gewogen. Die
Differenz (a-b) ist die durch die Entwicklungsbehandlung
aufgelöste Aluminiumoxidmenge.
In der vorliegenden Erfindung ist die Entwicklungszeit
definiert als die Zeit vom In-Kontakt-Bringen der
lichtempfindlichen Oberfläche mit einer Entwicklerlösung
bis zum Zeitpunkt, wenn die lichtempfindliche Oberfläche
durch eine Auswaschlösung entfernt wird. Zwischen der
Entwicklungsbehandlung und der Auswaschbehandlung können
Neutralisierungs- und Stabilisierungsbehandlungen
durchgeführt werden. Der Endpunkt der Entwicklungszeit in
diesem Fall ist der Zeitpunkt, an dem die
lichtempfindliche Oberfläche mit der
Neutralisierungslösung in Kontakt tritt.
Die Entwicklungsbehandlung wird im allgemeinen
durchgeführt, indem das Verfahren verwendet wird, worin
die Druckplatte in eine in einen Entwicklungsbehälter
gefüllte Entwicklerlösung getaucht wird, aber sie kann
auch durchgeführt werden durch Aufsprühen oder Auftragen
einer Entwicklerlösung auf die Druckplatte.
Die in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
Entwicklerlösung kann Zusatzstoffe enthalten, die ein
Entwicklungsmittel einschliessen, wie ein
Polyhydroxybenzol oder ein 3-Pyrazolidinon, eine
alkalische Substanz, wie Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid,
Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat oder eine
Aminverbindung; ein Konservierungsmittel, wie
Natriumsulfit; einen Viskositätsmodifizierer, wie
Carboxymethylcellulose; ein Antischleiermittel, wie
Kaliumbromid; einen Entwicklungsmodifizierer, wie eine
Polyoxyalkylenverbindung; ein Silberhalogenid-Lösungs
mittel, wie eine nachfolgend genannte Verbindung.
Um die Behandlungen zu stabilisieren und das Problem der
Regulierung der Abfalllösung zu lösen, ist es in der
vorliegenden Erfindung bevorzugt, kein Thiosulfat als
Silberhalogenid-Lösungsmittel zu verwenden. Entsprechend
kann das in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
Silberhalogenid-Lösungsmittel z. B. ein Sulfit
einschliessen, wie Natriumsulfit und Kaliumhydrogensulfit;
ein Iodid, wie Kaliumiodid und Natriumiodid;
2-Mercaptobenzoesäure und Derivate davon; ein cyclisches
Imid, wie Uracil; ein Alkanolamin; ein Diamin; eine
mesoionische Verbindung, und einen Thioether, wie
beschrieben in US-A-5 200 294 etc. Unter diesen
Silberhalogenid-Lösungsmitteln sind ein Alkanolamin, eine
mesoionische Verbindung und eine Thioetherverbindung
besonders bevorzugt. Als Alkanolamin können z. B. genannt
werden: 2-(2-Aminoethylamino)ethanolamin, Diethanolamin,
N-Methylethanolamin, Triethanolamin, N-Ethyldiethanolamin,
Diisopropanolamin, Ethanolamin, 4-Aminobutanol,
N,N-Dimethylethanolamin, 3-Aminopropanol, N,N-Ethyl-2,2'-imino
diethanol, 2-Methylaminoethanol, 2-Amino-2-methyl-1-pro
panol und dergleichen. Die hinzuzugebende
Alkanolaminmenge beträgt bevorzugt 1 bis 100 g, besonders
bevorzugt 5 bis 50 g je Liter der Entwicklerlösung.
Die in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
mesoionische Verbindung ist eine durch die folgende Formel
(I) dargestellte Verbindung:
worin M eine heterocyclische Verbindung darstellt, die
Atome enthält, die ausgewählt sind aus einem
Kohlenstoffatom, einem Stickstoffatom, einem
Sauerstoffatom, einem Schwefelatom und einem Selenatom,
und die wenigstens einen 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen
Ring in der Struktur enthält; und A⁻ -O⁻, -S⁻ oder -N⁻-R
darstellt, worin R eine Alkylgruppe mit bevorzugt 6 oder
weniger Kohlenstoffatomen darstellt, eine Cycloalkylgruppe
mit bevorzugt 3 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine
Alkenylgruppe mit bevorzugt 2 bis 6 Kohlenstoffatomen,
eine Alkinylgruppe mit bevorzugt 2 bis 6
Kohlenstoffatomen, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe mit
bevorzugt 6 bis 12 Kohlenstoffatomen oder eine
heterocyclische Ringgruppe mit bevorzugt 6 oder weniger
Kohlenstoffatomen.
Beispiele für den durch M dargestellten heterocyclischen
Ring können einschliessen: einen Imidazoliumring, einen
Pyrazoliumring, einen Oxazoliumring, einen
Isoxazoliumring, einen Thiazoliumring, einen
Isothiazoliumring, einen 1,3-Dithiolring, einen 1,3,4-Oxa
diazoliumring, einen 1,2,3-Oxadiazoliumring, einen
1,3,2-Oxadiazoliumring, einen 1,2,3-Triazoliumring, einen
1,3,4-Triazoliumring, einen 1,3,4-Thiadiazoliumring, einen
1,2,3-Thiadiazoliumring, einen 1,2,4-Thiadiazoliumring,
einen 1,2,3,4-Oxatriazoliumring, einen 1,2,3,4-Te
trazoliumring, einen 1,2,3,4-Thiatriazoliumring und
dergleichen.
In den in der vorliegenden Erfindung zu verwendenden
mesoionischen Verbindungen sind die durch die Formel (II)
und die Formel (III) dargestellten Verbindungen bevorzugt.
worin R1 und R3 gleich oder verschieden sein können und
jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine
Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe,
eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Ringgruppe
darstellen; und R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe,
eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine
Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe oder
eine heterocyclische Ringgruppe darstellt; oder R1 und R2
oder R2 und R3 zur Bildung eines Ringes verbunden sein
können.
worin X S oder O darstellt; R4 und R5 gleich oder
verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe, eine
Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe,
eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe, eine heterocyclische
Ringgruppe oder eine Dialkylaminogruppe darstellen.
Spezielle Beispiele für die durch die Formel (II)
dargestellte, in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
Verbindung können diejenigen einschliessen, die in der
japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr.
324448/1992 beschrieben sind, und sie können durch die
folgenden Formeln (II-1) bis (II-11) dargestellt werden,
aber die vorliegende Erfindung ist tatsächlich nicht auf
diese beschränkt.
Spezielle Beispiele für die durch die Formel (III)
dargestellte, in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
Verbindung können diejenigen einschliessen, die in der
japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr.
328559/1992 beschrieben sind, und sie können durch die
folgenden Formeln (III-1) bis (III-14) dargestellt werden,
aber die vorliegende Erfindung ist tatsächlich nicht auf
diese beschränkt.
Die Menge der in der vorliegenden Erfindung zu
verwendenden, durch die Formel (II) oder (III)
dargestellten Verbindung kann in Abhängigkeit von den
verschiedenen Bedingungen variieren, aber sie beträgt im
allgemeinen 0,1 bis 10 g, besonders bevorzugt 0,1 bis 5 g
je Liter Entwicklerlösung.
Der in der vorliegenden Erfindung zu verwendende Thioether
wird durch die folgende Formel (IV) dargestellt:
R6-(S-R8)m-S-R7 (IV)
worin R6 und R7 gleich oder verschieden sein können und
jeweils eine Alkylgruppe mit bevorzugt 1 bis 5
Kohlenstoffatomen darstellen oder R6 und R7 zur Bildung
eines Rings verbunden sein können, und diese Alkylgruppen
substituiert sein können mit einer Aminogruppe, einer
Amidgruppe, einer Ammoniumgruppe, einer Hydroxylgruppe,
einer Sulfogruppe, einer Carboxylgruppe, einer
Aminocarbonylgruppe oder einer Aminosulfonylgruppe; und R8
eine Alkylengruppe darstellt, worin andere zweiwertige
Gruppen zwischen Alkylengruppen eingefügt sein können; m 0
oder eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist und, wenn m 2 oder
mehr ist, jedes R8 gleich oder verschieden voneinander
sein kann.
Spezielle Beispiele für die in der vorliegenden Erfindung
zu verwendende Thioetherverbindung sind nachfolgend
gezeigt:
HO(CH2)2S(CH2)2OH (IV-1)
HO(CH2)2S(CH2)2N(CH3)2 (IV-3)
CH3S(CH2)2CH(NH2)COOH (IV-4)
HO(CH2)2SCH2S(CH2)2OH (IV-5)
HO(CH2)2S(CH2)2S(CH2)2OH (V-6)
HO(CH2)2S(CH2)3S(CH2)2OH (IV-7)
C2H5S(CH2)2SCH2CHOHCH2OH (VI-8)
HOOCCH2SCH2SCH2COOH (IV-9)
HO(CH2)3S(CH2)2S(CH2)3OH (IV-11)
HOOCCH2S(CH2)2SCH2COOH (IV-12)
HO(CH2)2S(CH2)4S(CH2)2OH (IV-13)
HOOCCH2S(CH2)3SCH2COOH (IV-14)
HOOC(CH2)2SCH2S(CH2)2COOH (IV-15)
[HO(CH2)2S(CH2)2]2O (IV-16)
H2NCO(CH2)2S(CH2)2S(CH2)2CONH2 (IV-17)
HOOC(CH2)2S(CH2)2S(CH2)2COOH (IV-18)
(HOCH2CHOHCH2SCH2)2 (IV-19)
HOOC(CH2)2S(CH2)3S(CH2)2COOH (IV-20)
C2H5S(CH2)2S(CH2)2NHCO(CH2)2COOH (IV-21)
HO(CH2)3S(CH2)2O(CH2)3O(CH2)2S(CH2)2OH (IV-22)
HO(CH2)6S(CH2)5S(CH2)6OH (IV-23).
Die Menge der oben genannten Thioetherverbindung beträgt
im allgemeinen 0,01 bis 20 g und bevorzugt 0,1 bis 10 g je
Liter Entwicklerlösung.
Die oben genannten Silberhalogenid-Lösungsmittel können in
Kombination aus zwei oder mehr verwendet werden.
Es ist bevorzugt, dass ferner eine Verbindung (ein
oleophiles Mittel) in der Entwicklerlösung der
vorliegenden Erfindung enthalten ist, um den
Silberbildanteil oleophil zu machen. Als in der Erfindung
zu verwendendes oleophiles Mittel kann eine Verbindung
genannt werden, die auf den Seiten 105 bis 106 von André
Rott und Edith Weyde, "Photographic Silver Halide
Diffusion Processes", Focal Press, London und New York
(1972), beschrieben ist. Zum Beispiel kann eine Verbindung
mit einer Mercaptogruppe oder eine Thiongruppe, eine
quaternäre Ammoniumverbindung und dergleichen genannt
werden, und in der vorliegenden Erfindung wird eine
Verbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe
besonders bevorzugt verwendet. Besonders bevorzugt ist
eine stickstoffhaltige heterocyclische Verbindung mit
einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe, und diese
sind z. B. beschrieben in der japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 29273/1973 und der japanischen
vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 127928/1983. Im
folgenden werden spezielle Beispiele dafür aufgezählt,
aber die vorliegende Erfindung ist nicht durch diese
beschränkte.
Spezielle Beispiele für eine solche Verbindung können
einschliessen: 2-Mercapto-1-phenylimidazol, 2-Mercapto-1-ben
zylimidazol, 2-Mercapto-benzimidazol, 1-Ethyl-2-mer
capto-benzimidazol, 2-Mercapto-1-butyl-benzimidazol,
1,3-Diethyl-benzimidazolin-2-thion, 1,3-Dibenzyl-imi
dazolidin-2-thion, 2,2'-Dimercapto-1,1'-decamethylen
diimidazolin, 2-Mercapto-4-phenylthiazol, 2-Mercapto-ben
zothiazol, 2-Mercapto-naphthothiazol, 3-Ethyl-ben
zothiazolin-2-thion, 3-Dodecyl-benzothiazolin-2-thion,
2-Mercapto-4,5-diphenyloxazol, 2-Mercaptobenzoxazol,
3-Pentyl-benzoxazolin-2-thion, 1-Phenyl-3-methylpyrazo
lin-5-thion, 3-Mercapto-4-allyl-5-pentadecyl-1,2,4-triazol,
3-Mercapto-5-nonyl-1,2,4-triazol, 3-Mercapto-4-acetami
do-5-heptyl-1,2,4-triazol, 3-Mercapto-4-amino-5-heptade
cyl-1,2,4-triazol, 2-Mercapto-5-phenyl-1,3,4-thiadiazol,
2-Mercapto-5-n-heptyl-oxathiazol, 2-Mercapto-5-n-heptyl
oxadiazol, 2-Mercapto-5-phenyl-1,3,4-oxadiazol,
2-Heptadecyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazol, 5-Mercapto-1-phe
nyl-tetrazol, 2-Mercapto-5-nitropyridin, 1-Methyl
chinolin-2(1H)-thion, 3-Mercapto-4-methyl-6-phenyl
pyridazin, 2-Mercapto-5,6-diphenyl-pyrazin, 2-Mercap
to-4,6-diphenyl-1,3,5-triazin, 2-Amino-4-mercapto-6-ben
zyl-1,3,5-triazin, 1,5-Dimercapto-3,7-diphenyl-S-tri
azolino[1,2-a]-S-triazolin etc.
Die Menge des oben genannten, zur Entwicklerlösung
hinzuzugebenden oleophilen Mittels beträgt bevorzugt 0,01
bis 10 g/l.
In der vorliegenden Erfindung wird im Anschluss an die
Entwicklungsbehandlung eine Auswaschbehandlung angewendet.
Die Auswaschlösung kann einen Puffer zum Puffern der
Lösung auf einen pH von 4 bis 8 enthalten, bevorzugt im
Bereich von 4,5 bis 7, wie einen Phosphatpuffer, einen
Citratpuffer oder eine Mischung daraus. Ebenfalls kann die
Auswaschlösung ein Konservierungsmittel enthalten. Zur
Auswaschlösung kann ferner eine Proteinase oder das oben
genannte oleophile Mittel hinzugegeben werden. Als
Proteinase können z. B. Pepsin, Rennin, Trypsin,
Chymotrypsin, Cathepsin, Papain, Ficin, Thrombin, Renin,
Kollagenase, Bromelain und Bakterioproteinase genannt
werden. Die zur Behandlungslösung hinzuzugebende
Enzymmenge beträgt bevorzugt ca. 0,5 bis 50 g/l.
Zwischen der Entwicklungsbehandlung und der
Auswaschbehandlung kann eine Neutralisierungs-Stabi
lisierungsbehandlung durchgeführt werden, um das
Fortschreiten der Entwicklung anzuhalten. In der
Neutralisierungslösung kann das oben genannte oleophile
Mittel enthalten sein.
Die obige Auswaschlösung wird verwendet, um die
Silberhalogenid-Emulsionsschicht(en) vollständig aus dem
Aluminiumträger auszuwaschen. Im allgemeinen wird ein
Verfahren zum Aufsprühen der Auswaschlösung bei 25 bis
35°C mit einem Düsensystem oder ein Verfahren zum Abziehen
der Emulsionsschicht(en) durch eine Scheuerwalze, während
die Auswaschlösung aufgesprüht wird, durchgeführt.
In der Aluminium-Lithografiedruckplatte ist die Entfernung
der Silberhalogenid-Emulsionsschicht(en) durch Auswaschen
ein äusserst wichtiger Schritt zur vollständigen
Freilegung des Silberbildanteils und des aus der
Aluminiumoberfläche selbst bestehenden Nicht-Bildanteils.
Insbesondere muss der Silberbildanteil, der Tinte annimmt,
stark oleophil sein, und alle Substanzen, die die
oleophile Eigenschaft auf dessen Oberfläche verhindern,
wie Gelatine, sollen vollständig entfernt werden.
Der durch die Auswaschbehandlung freigelegte
Silberbildanteil und der Nicht-Bildanteil werden einer
Behandlung mit der Abschlusslösung zum Zweck der Erhöhung
der Oleophilie und Hydrophilie der jeweiligen Anteile und
zum Schutz der Plattenoberfläche unterzogen. In der
vorliegenden Erfindung enthält die Abschlusslösung
bevorzugt ein Schutzkolloid, wie Gummi arabicum, Dextrin,
Natriumalginat, Alginsäurepropylenglykolester,
Hydroxyethylstärke, Carboxymethylcellulose,
Hydroxyethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon,
Polystyrolsulfonsäure, Polyvinylalkohol etc., um die
Hydrophilie der eloxierten Schicht im Nicht-Bildanteil zu
schützen und zu verbessern. Um die Oleophilie des
Bildanteils weiter zu verbessern, ist ebenfalls bevorzugt
das oben genannte oleophile Mittel enthalten. Ferner kann
die oben genannte Proteinase zusätzlich enthalten sein.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung unter
Bezugnahme auf Beispiele erläutert, durch die die
vorliegende Erfindung nicht beschränkt wird.
Gemäss dem in US-A-5 427 889 (das hier als Referenz
eingegliedert wird) offenbarten Verfahren wurden eine
elektrolytische Aufrauhungsbehandlung und Eloxierung einer
Aluminiumplatte durchgeführt, um einen Aluminiumträger mit
einer Dicke von 0,30 mm zu erhalten, auf dem Grübchen mit
einem Durchmesser von 0,03 bis 0,30 µm in einer Anzahl von
ca. 5600 je 100 µm2 auf einem Plateau mit einem mittleren
Durchmesser von ca. 5 µm gebildet worden waren, wobei die
Grübchen einen mittleren Durchmesser von 0,08 µm hatten.
Dieser Aluminiumträger wurde nach der
Oberflächenaufrauhungsbehandlung eloxiert und wies eine
Aluminiumoxidmenge von 2,5 g/m2 und eine mittlere
Rauhigkeit (Ra) von 0,5 bis 0,6 µm auf, gemessen nach
JIS B 0601 (1994).
Auf den Aluminiumträger wurde eine physikalische
Entwicklungskernlösung, umfassend eine Sol-Lösung aus
Palladiumsulfid, die eine kleine Menge Bindemittel
enthielt, aufgetragen und dann getrocknet. Die in der
physikalischen Entwicklungskernschicht enthaltene
Palladiumsulfidmenge betrug 3 mg/m2.
Als Schutzkolloid wurde alkalibehandelte Gelatine
verwendet. Als Silberhalogenidemulsion wurde ein
Silberchlorbromid mit einer mittleren Teilchengrösse von
0,2 µm, das mit 0,006 mmol Kaliumhexachloroiridat(IV) pro
Mol Silber dotiert war, nach dem Kontroll-Doppel
strahlverfahren ("Control double jet method")
hergestellt. Danach wurde zur Konvertierung eine wässrige
Kaliumiodidlösung zum Silberchlorbromid hinzugegeben,
wodurch eine Silberchloriodbromidemulsion (AgCl:
79,6 mol-%, AgBr: 20 mol-% und Konvertierung AgI:
0,4 mol-%) hergestellt wurde. Zusätzlich wurde die
Emulsion einer Schwefel-Gold-Sensibilisierung unterworfen
und dann unter Verwendung von 3 mg eines durch die
folgende Formel (A) dargestellten
Sensibilisierungsfarbstoffs je 1 g Silber spektral
sensibilisiert.
In der gleichen Weise wie für die oben genannte Emulsion
A, ausser dass Silberiodid (AgCl: 99,5 mol-%,
Konvertierung AgI: 0,5 mol-%) als Silberhalogenid
verwendet wurde, wurde die Silberhalogenidemulsion B
hergestellt.
Ein Tensid wurde zur so hergestellten
Silberhalogenidemulsion A oder B hinzugegeben, und die
Mischung wurde auf den Aluminiumträger aufgetragen, auf
den die oben genannten physikalischen Entwicklungskerne
aufgetragen worden waren, so dass die Silbermenge 2,5 g/m2
betrug (eine Gelatinemenge von 3 g/m2), gefolgt von
Trocknung, um ein Lithografiedruckmaterial A (worin die
Silberhalogenidemulsion A verwendet wurde) und ein
Lithografiedruckmaterial B (worin die
Silberhalogenidemulsion B verwendet wurde) zu erhalten.
Auf die so hergestellten Lithografiedruckmaterialien wurde
ein Bild durch eine Ausgabevorrichtung mit einem roten
LD-Laser mit 633 nm als Lichtquelle aufgebracht. Dann wurden
die Lithografiedruckmaterialien mit einer
Behandlungsvorrichtung zur Plattenherstellung verarbeitet,
um Lithografiedruckplatten zu erhalten. Die
Behandlungsvorrichtung zur Plattenherstellung besteht aus
einem Schritt der Entwicklungsbehandlung, einem Schritt
der Auswaschbearbeitung (Abziehen der Emulsionsschicht mit
einer Scheuerwalze, während eine Auswaschlösung
aufgesprüht und aufgestrahlt wird), einem Schritt der
Endbehandlung und einem Trocknungsschritt. Die in der
Behandlung verwendete Entwicklerlösung, Auswaschlösung und
Abschlusslösung sind nachfolgend gezeigt.
| Natriumhydroxid | 20 g |
| Hydrochinon | 20 g |
| 1-Phenyl-3-pyrazolidinon | 2 g |
| wasserfreies Natriumsulfit | 100 g |
| Natriumthiosulfat(pentahydrat) | 8 g |
| 2-Mercapto-5-n-heptyl-oxadiazol | 0,5 g |
| Ethylendiamintetraacetat-Natriumsalz | 5 g |
| Polyethylenglykol | 10 g |
| (mittleres Molekulargewicht: 400) |
Auffüllen mit Wasser auf 1000 ml. Der pH wurde auf 13,0
eingestellt
| 2-Mercapto-5-n-heptyl-oxadiazol | 0,5 g |
| Triethanolamin | 13 g |
| Natriumbisulfit | 10 g |
| primäres Kaliumphosphat | 40 g |
Auffüllen mit Wasser auf 1000 ml. Der pH wurde auf 6,0
eingestellt.
| Gummi arabicum | 10 g |
| Trypsin | 2 g |
| primäres Kaliumphosphat | 10 g |
Auffüllen mit Wasser auf 1000 ml. Der pH wurde auf 6,0
eingestellt.
Unter Verwendung der Entwicklerlösung A wurden die
Lithografiedruckmaterialien A und B der
Entwicklungsbehandlung bei einer Temperatur der
Entwicklerlösung von 25°C und einer Entwicklungszeit von
40 Sekunden unterworfen, um Platten herzustellen, wodurch
die Druckplatte A-1 bzw. die Druckplatte B-1 hergestellt
wurde. Die Druckplatte A-1 und die Druckplatte B-1 waren
beide hinsichtlich der Aluminiumoxidmenge durch die
Entwicklungsbehandlung auf jeweils 1,3 g/m2 abgereichert.
Bezüglich dieser Druckplatten wurde das Drucken unter
Verwendung eines Druckers Heidelberg TOK
(Handelsbezeichnung, eine Offset-Druckpresse, hergestellt
von Heidelberg Co.), einer Tinte (New Champion Black H,
Handelsbezeichnung, hergestellt von Dainippon Ink Co.,
Japan) und handelsüblichem Dämpfungswasser für eine
PS-Platte durchgeführt, und die Druckdauerleistung wurde
ausgewertet. Die Druckdauerleistung wurde ausgewertet
durch die Anzahl der gedruckten Blätter, bis 5% des
Punktbildes verschwanden oder ein gedrucktes Material mit
guter Qualität nicht mehr erhalten werden konnte, während
das Drucken unter den oben genannten Bedingungen
fortgesetzt wurde. Ebenfalls wurden die in der Druckplatte
nach der Plattenherstellung erzeugten Ätzgrübchen
festgestellt.
Die Druckdauerleistung der Druckplatte A-1 oder der
Druckplatte B-1 betrug jeweils 10.000 Blätter oder
weniger. Ebenfalls wurden in beiden Druckplatten
signifikante Ätzgrübchen erzeugt.
Als nächstes wurde eine Druckplatte A-2 oder eine
Druckplatte B-2 in der gleichen Weise wie oben genannt
hergestellt, ausser dass die Entwicklungsbehandlung bei
einer Temperatur der Entwicklerlösung von 28°C und einer
Entwicklungszeit von 20 Sekunden unter Verwendung der
Entwicklerlösung A durchgeführt wurde. Die Druckplatte A-2
und die Druckplatte B-2 wiesen jeweils eine abgereicherte
Aluminiumoxidmenge durch die Entwicklungsbehandlung von
0,9 g/m2 auf. Bezüglich dieser Druckplatten wurde das
Drucken in der gleichen Weise wie oben genannt
durchgeführt, und die Druckdauerleistung wurde
ausgewertet. Als Ergebnis betrug die Druckdauerleistung
der Druckplatte A-2 oder der Druckplatte B-2 jeweils
10.000 Blätter oder weniger. Ebenfalls-wurden in beiden
Druckplatten Ätzgrübchen erzeugt.
Als nächstes wurde der pH der Entwicklerlösung A mit
Phosphorsäure auf 12,3 eingestellt, um eine
Entwicklerlösung B herzustellen. Unter Verwendung der
Entwicklerlösung B wurden die Lithografiedruckmaterialien
A und B der Entwicklungsbehandlung bei einer Temperatur
der Entwicklerlösung von 25°C und einer Entwicklungszeit
von 40 Sekunden unterworfen, gefolgt vom gleichen
Verfahren wie oben erwähnt, um eine Druckplatte A-3 bzw.
eine Druckplatte B-3 (welche eine Probe der vorliegenden
Erfindung ist) herzustellen. Die Druckplatte A-3 und die
Druckplatte B-3 wiesen jeweils eine verringerte
Aluminiumoxidmenge durch die Entwicklungsbehandlung mit
einer Menge von jeweils 0,5 g/m2 auf. Bezüglich dieser
Druckplatten wurde das Drucken in der gleichen Weise wie
oben genannt durchgeführt, und die Drucklebensdauer wurde
ausgewertet. Als Ergebnis betrug die Druckdauerleistung
der Druckplatte A-3 30.000 Blätter oder weniger, aber
diejenige der Druckplatte B-3 betrug 100.000 Blätter oder
mehr. Ebenfalls wurden in der Druckplatte B-3 im
wesentlichen keine Ätzgrübchen erzeugt.
Unter Verwendung der in Beispiel 1 hergestellten
Entwicklerlösung B wurden die Lithografiedruckmaterialien
A und B der Entwicklungsbehandlung bei einer Temperatur
der Entwicklerlösung von 28°C und einer Entwicklungszeit
von 30 Sekunden unterzogen, gefolgt vom gleichen Verfahren
wie in Beispiel 1 erwähnt, um eine Druckplatte A-4 bzw.
eine Druckplatte B-4 (die eine Probe der vorliegenden
Erfindung ist) herzustellen. Die Druckplatte A-4 und die
Druckplatte B-4 wiesen beide eine verringerte
Aluminiumoxidmenge durch die Entwicklungsbehandlung mit
einer Menge von jeweils 0,4 g/m2 auf. Bezüglich dieser
Druckplatten wurde das Drucken in der gleichen Weise wie
oben erwähnt durchgeführt, und die Druckdauerleistung
wurde ausgewertet. Als Ergebnis betrug die
Druckdauerleistung der Druckplatte A-4 30.000 Blätter oder
weniger, aber diejenige der Druckplatte B-4 betrug 100.000
Blätter oder mehr. Ebenfalls wurden in der Druckplatte B-4
im wesentlichen keine Ätzgrübchen erzeugt.
Der pH der Entwicklerlösung A wurde mit Phosphorsäure auf
12,7 eingestellt, um eine Entwicklerlösung C herzustellen.
Unter Verwendung der so hergestellten Entwicklerlösung C
wurden die Lithografiedruckmaterialien A und B der
Entwicklungsbehandlung bei einer Temperatur der
Entwicklerlösung von 22°C und einer Entwicklungszeit von
15 Sekunden unterworfen, gefolgt vom gleichen Verfahren
wie in Beispiel 1 erwähnt, um eine Druckplatte A-5 bzw.
eine Druckplatte B-5 (die eine Probe der vorliegenden
Erfindung ist) herzustellen. Die Druckplatte A-5 und die
Druckplatte B-5 wiesen beide eine verringerte
Aluminiumoxidmenge durch die Entwicklungsbehandlung mit
einer Menge von jeweils 0,5 g/m2 auf. Bezüglich dieser
Druckplatten wurde das Drucken in der gleichen Weise wie
oben erwähnt durchgeführt, und die Druckdauerleistung
wurde ausgewertet. Als Ergebnis betrug die
Druckdauerleistung der Druckplatte A-5 50.000 Blätter oder
weniger, aber diejenige der Druckplatte B-5 betrug 100.000
Blätter oder mehr. Ebenfalls wurden in der Druckplatte B-5
im wesentlichen keine Ätzgrübchen erzeugt.
Der pH der Entwicklerlösung A wurde mit Phosphorsäure auf
11,9 eingestellt, um eine Entwicklerlösung D herzustellen.
Unter Verwendung der so hergestellten Entwicklerlösung D
wurden die Lithografiedruckmaterialien A und B der
Entwicklungsbehandlung bei einer Temperatur der
Entwicklerlösung von 25°C und einer Entwicklungszeit von
20 Sekunden unterworfen, gefolgt vom gleichen Verfahren
wie in Beispiel 1 erwähnt, um eine Druckplatte A-6 bzw.
eine Druckplatte B-6 (die eine Probe der vorliegenden
Erfindung ist) herzustellen. Die Druckplatte A-6 und die
Druckplatte B-6 wiesen beide eine verringerte
Aluminiumoxidmenge durch die Entwicklungsbehandlung mit
einer Menge von jeweils 0,3 g/m2 auf. Bezüglich dieser
Druckplatten wurde das Drucken in der gleichen Weise wie
oben erwähnt durchgeführt, und die Druckdauerleistung
wurde ausgewertet. Als Ergebnis betrug die
Druckdauerleistung der Druckplatte A-6 20.000 Blätter oder
weniger, aber diejenige der Druckplatte B-6 betrug 100.000
Blätter oder mehr. Ebenfalls wurden in der Druckplatte B-6
im wesentlichen keine Ätzgrübchen erzeugt.
Unter Verwendung von 30 g N-Methylethanolamin anstelle von
Natriumthiosulfat, das in der in Beispiel 1 hergestellten
Entwicklerlösung A verwendet wurde, wurde eine
Entwicklerlösung E hergestellt, deren pH auf 12,3
eingestellt wurde. Unter Verwendung der so hergestellten
Entwicklerlösung E wurden die Lithografiedruckmaterialien
A und B der Entwicklungsbehandlung bei einer Temperatur
der Entwicklerlösung von 28°C und einer Entwicklungszeit
von 20 Sekunden unterworfen, gefolgt vom gleichen
Verfahren wie in Beispiel 1 erwähnt, um eine Druckplatte
A-7 bzw. eine Druckplatte B-7 (die eine Probe der
vorliegenden Erfindung ist) herzustellen. Die Druckplatte
A-7 und die Druckplatte B-7 wiesen beide eine verringerte
Aluminiumoxidmenge durch die Entwicklungsbehandlung mit
einer Menge von jeweils 0,4 g/m2 auf. Bezüglich dieser
Druckplatten wurde das Drucken in der gleichen Weise wie
oben erwähnt durchgeführt, und die Druckdauerleistung
wurde ausgewertet. Als Ergebnis betrug die
Druckdauerleistung der Druckplatte A-7 20.000 Blätter oder
weniger, aber diejenige der Druckplatte B-7 betrug 100.000
Blätter oder mehr. Ebenfalls wurden in der Druckplatte B-7
im wesentlichen keine Ätzgrübchen erzeugt.
Als nächstes wurde in Beispiel 2 und Beispiel 5 das
Lithografiedruckmaterial B der Durchlaufverarbeitung
(10 m2 wurden mit 1 l Entwicklerlösung behandelt)
unterworfen, um eine Druckplatte B-8 (nach der
Durchlaufverarbeitung des Beispiels 2, das eine Probe der
vorliegenden Erfindung ist) bzw. eine Druckplatte B-9
(nach der Durchlaufverarbeitung des Beispiels 5, das eine
Probe der vorliegenden Erfindung ist) zu erhalten. Die
Druckdauerleistung der Druckplatte B-8 war auf 80.000
Blätter erniedrigt, aber diejenige der Druckplatte B-9
betrug 100.000 oder mehr und war somit die gleiche wie vor
der Durchlaufverarbeitung.
Das gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 wurde wiederholt,
ausser dass als Aluminiumträger ein Träger mit einer
Aluminiumoxidmenge von 3,2 g/m2 verwendet wurde. Die
verringerte Aluminiumoxidmenge und die Druckergebnisse
waren die gleichen wie diejenigen des Beispiels 1.
Das gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 wurde wiederholt,
ausser dass als Aluminiumträger eine in der gleichen Weise
wie in Beispiel 1 aus US-A-5 405 730 behandelte
Aluminiumplatte verwendet wurde. Die verringerte
Aluminiumoxidmenge und die Druckergebnisse waren die
gleichen wie diejenigen des Beispiels 1.
Erfindungsgemäss kann ein Entwicklungsbehandlungsverfahren
bereitgestellt werden, das bei einer
Entwicklungstemperatur von 20 bis 30°C innerhalb einer
relativ kurzen Entwicklungszeit durchgeführt werden kann
und eine Aluminium-Lithografiedruckplatte mit stabiler und
hoher Druckdauerleistung ergibt, wobei die Erzeugung von
Ätzgrübchen verhindert und deren Druckdauerleistung selbst
nach der Durchlaufverarbeitung der Entwicklerlösung nicht
verringert ist. Ebenfalls ist es nicht erforderlich, ein
Thiosulfat zu verwenden, das allgemein als
Silberhalogenid-Lösungsmittel in der Entwicklerlösung
verwendet wurde, wodurch eine Stabilisierung der
Durchlaufverarbeitung erreicht und Probleme bei der
Kontrolle der Abfalllösung gelöst werden können.
Claims (12)
1. Verfahren zur Entwicklung eines
Lithografiedruckmaterials mit physikalischen
Entwicklungskernen zwischen einem Aluminiumträger und
einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht, die 95 mol-%
oder mehr Silberchlorid enthält, bezogen auf die
Gesamtmenge des Silberhalogenids,
wobei die abgereicherte Aluminiumoxidmenge im Aluminiumträger 0,8 g oder mehr je 1 m2 des Trägers beträgt, wenn die Entwicklung des Lithografiedruckmaterials durchgeführt wird unter Verwendung einer Entwicklerlösung mit einem pH von 13,0 bei einer Entwicklungstemperatur von 25°C und einer Entwicklungszeit von 40 Sekunden,
dadurch gekennzeichnet, dass im Verfahren zur Entwicklung einer Lithografiedruckplatte die abgereicherte Menge des Aluminiumoxids auf 0,6 g oder weniger je 1 m2 reguliert wird, indem wenigstens ein Parameter aus pH der Entwicklerlösung, Entwicklungstemperatur und Entwicklungszeit eingestellt wird.
wobei die abgereicherte Aluminiumoxidmenge im Aluminiumträger 0,8 g oder mehr je 1 m2 des Trägers beträgt, wenn die Entwicklung des Lithografiedruckmaterials durchgeführt wird unter Verwendung einer Entwicklerlösung mit einem pH von 13,0 bei einer Entwicklungstemperatur von 25°C und einer Entwicklungszeit von 40 Sekunden,
dadurch gekennzeichnet, dass im Verfahren zur Entwicklung einer Lithografiedruckplatte die abgereicherte Menge des Aluminiumoxids auf 0,6 g oder weniger je 1 m2 reguliert wird, indem wenigstens ein Parameter aus pH der Entwicklerlösung, Entwicklungstemperatur und Entwicklungszeit eingestellt wird.
2. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin die abgereicherte
Aluminiumoxidmenge des Aluminiumträgers auf 0,6 g
oder weniger je 1 m2 eingestellt wird, indem die
Entwicklungsbedingungen des pH der Entwicklerlösung
von 12,8 oder weniger, der Temperatur der
Entwicklerlösung von 15 bis 35°C und der
Entwicklungszeit von 30 Sekunden oder kürzer
kombiniert werden.
3. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin die abgereicherte
Aluminiumoxidmenge des Aluminiumträgers auf 0,6 g
oder weniger je 1 m2 eingestellt wird, indem die
Entwicklungsbedingungen des pH der Entwicklerlösung
von 12,7 bis 11,5, der Temperatur der
Entwicklerlösung von 20 bis 30°C und der
Entwicklungszeit von 10 bis 25 Sekunden kombiniert
werden.
4. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin die
Lithografiedruckplatte einen Aluminiumträger mit 500
oder mehr Grübchen mit einem Durchmesser von 0,03 bis
0,30 µm je 100 µm2 und mit einem mittleren
Durchmesser der Grübchen von 0,05 bis 0,20 µm
aufweist.
5. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin die
Lithografiedruckplatte einen Aluminiumträger mit 1000
oder mehr Grübchen mit einem Durchmesser von 0,03 bis
0,30 µm je 100 µm2 und mit einem mittleren
Durchmesser der Grübchen von 0,05 bis 0,15 µm
aufweist.
6. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin die
Lithografiedruckplatte einen Aluminiumträger
aufweist, worin die Gesamtoberfläche der vertieften
Fläche 50% oder mehr beträgt, bezogen auf die
Gesamtoberfläche, und worin die vertiefte Fläche eine
kontinuierliche Tiefe von wenigstens 0,5 µm aufweist.
7. Verfahren gemäss Anspruch 1, worin die
Entwicklerlösung ein Silberhalogenid- Lösungsmittel
enthält.
8. Verfahren gemäss Anspruch 7, worin das
Silberhalogenid-Lösungsmittel kein Thiosulfat
enthält.
9. Verfahren gemäss Anspruch 8, worin das
Silberhalogenid-Lösungsmittel wenigstens eines ist,
ausgewählt aus einem Sulfit, einem Iodid,
2-Mercaptobenzoesäure oder einem Derivat davon, einem
cyclischen Imid, einem Alkanolamin, einem Diamin,
einer mesoionischen Verbindung und einem Thioether.
10. Verfahren gemäss Anspruch 9, worin die mesoionische
Verbindung eine durch die Formel (I) dargestellte
Verbindung ist:
worin M eine heterocyclische Verbindung darstellt, die Atome enthält, ausgewählt aus einem Kohlenstoffatom, einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Schwefelatom und einem Selenatom besteht, und die wenigstens einen 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen Ring in der Struktur enthält; und A⁻ -O⁻, -S⁻ oder -N⁻-R darstellt, worin R eine Alkylgruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylgruppe mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylgruppe mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Alkinylgruppe mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen oder eine heterocyclische Ringgruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellt.
worin M eine heterocyclische Verbindung darstellt, die Atome enthält, ausgewählt aus einem Kohlenstoffatom, einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Schwefelatom und einem Selenatom besteht, und die wenigstens einen 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen Ring in der Struktur enthält; und A⁻ -O⁻, -S⁻ oder -N⁻-R darstellt, worin R eine Alkylgruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Cycloalkylgruppe mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylgruppe mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Alkinylgruppe mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen oder eine heterocyclische Ringgruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellt.
11. Verfahren gemäss Anspruch 10, worin die mesoionische
Verbindung eine durch die Formel (II) oder (III)
dargestellte Verbindung ist:
worin R1 und R3 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Ringgruppe darstellen; und R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Ringgruppe darstellt; oder R1 und R2 oder R2 und R3 zur Bildung eines Ringes verbunden sein können,
worin X S oder O darstellt; R4 und R5 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe, eine heterocyclische Ringgruppe oder eine Dialkylaminogruppe darstellen.
worin R1 und R3 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Ringgruppe darstellen; und R2 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Ringgruppe darstellt; oder R1 und R2 oder R2 und R3 zur Bildung eines Ringes verbunden sein können,
worin X S oder O darstellt; R4 und R5 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Arylgruppe, eine heterocyclische Ringgruppe oder eine Dialkylaminogruppe darstellen.
12. Verfahren gemäss Anspruch 9, worin der Thioether eine
durch die folgende Formel (IV) dargestellte
Verbindung ist:
R6-(S-R8)m-S-R7 (IV)
worin R6 und R7 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellen oder R6 und R7 zur Bildung eines Ringes verbunden sein können, und worin diese Alkylgruppen mit einer Aminogruppe, einer Amidgruppe, einer Ammoniumgruppe, einer Hydroxylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Carboxylgruppe, einer Aminocarbonylgruppe oder einer Aminosulfonylgruppe substituiert sein können; und R8 eine Alkylengruppe darstellt, worin andere zweiwertige Gruppen zwischen den Alkylengruppen eingefügt sein können; m 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist und, wenn m 2 oder mehr ist, jedes R8 gleich oder verschieden voneinander sein kann.
R6-(S-R8)m-S-R7 (IV)
worin R6 und R7 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellen oder R6 und R7 zur Bildung eines Ringes verbunden sein können, und worin diese Alkylgruppen mit einer Aminogruppe, einer Amidgruppe, einer Ammoniumgruppe, einer Hydroxylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Carboxylgruppe, einer Aminocarbonylgruppe oder einer Aminosulfonylgruppe substituiert sein können; und R8 eine Alkylengruppe darstellt, worin andere zweiwertige Gruppen zwischen den Alkylengruppen eingefügt sein können; m 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist und, wenn m 2 oder mehr ist, jedes R8 gleich oder verschieden voneinander sein kann.
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