DE19900807B4 - Schaftlager - Google Patents

Schaftlager Download PDF

Info

Publication number
DE19900807B4
DE19900807B4 DE1999100807 DE19900807A DE19900807B4 DE 19900807 B4 DE19900807 B4 DE 19900807B4 DE 1999100807 DE1999100807 DE 1999100807 DE 19900807 A DE19900807 A DE 19900807A DE 19900807 B4 DE19900807 B4 DE 19900807B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
shaft
rotor
bellows
stator
bearing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE1999100807
Other languages
English (en)
Other versions
DE19900807A1 (de
Inventor
Stefan Ellinger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE1999100807 priority Critical patent/DE19900807B4/de
Priority to PCT/DE2000/000048 priority patent/WO2000042330A1/de
Publication of DE19900807A1 publication Critical patent/DE19900807A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19900807B4 publication Critical patent/DE19900807B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C31/00Bearings for parts which both rotate and move linearly
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C33/00Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
    • F16C33/72Sealings

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Sealing Of Bearings (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Sealing Using Fluids, Sealing Without Contact, And Removal Of Oil (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

Schaftlager mit einem Stator (17) und einem Rotor (20), wobei
– ein Schaft (10) transversal verschieblich und rotierbar durch den Rotor (20) durchgeführt ist und der Rotor (20) im Stator (17) gelagert ist,
– der Zwischenraum zwischen Rotor (20) und Stator (17) mit einer magnetisierbaren Emulsion abgedichtet ist,
– ein Faltenbalgen zumindest einen Teil des Schafts (10) umgibt,
– der Faltenbalgen an seinem einen Ende am Rotor (20) befestigt und an seinem dem Rotor (20) abgewandten Ende mit dem Schaft (10) abdichtend verbunden ist und
– die transversale Verschieblichkeit des Schaftes (10) durch eine Arretierung auf einen vorbestimmten Bereich begrenzt ist, dadurch gekennzeichnet, daß
– die Arretierung einen Vorsprung im Rotor (20) und eine Vertiefung im Schaft (10) aufweist, in die der Vorsprung eingreifen kann.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Schaftlager nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1. Ein solches Schaftlager, das insbesondere gasdicht ist und in dem ein Schaft sowohl rotierbar als auch transversal verschieblich ist, ist beispielsweise in DE 38 03 411 A1 beschrieben. Bei diesem Schaftlager mit einem Stator und einem Rotor ist ein Schaft transversal verschieblich und rotierbar durch den Rotor durchgeführt und der Rotor ist im Stator gelagert. Der Zwischenraum zwischen dem Rotor und dem Stator ist mit einer magnetisierbaren Emulsion abgedichtet, und ein Faltenbalgen umgibt einen Teil des Schafts. Der Faltenbalgen ist an seinem einen Ende am Rotor befestigt und an seinem dem Rotor abgewandten Ende mit dem Schaft abdichtend verbunden. Die transversale Verschieblichkeit des Schaftes ist durch eine Arretierung zwischen dem Schaft und dem Rotor auf einen vorbestimmten Bereich begrenzt.
  • Weiterhin ist aus DE-Z: antriebstechnik 35 (1996) Nr. 1, S. 47-49, ein Lager bekannt, das einen Stator und einen Rotor sowie einen Schaft aufweist, der transversal verschieblich und rotierbar durch den Rotor durchgeführt ist, wobei der Rotor im Stator gelagert ist. Der Zwischenraum zwischen dem Rotor und dem Stator ist mit einer ferromagnetischen Flüssigkeit abgedichtet. Weiterhin umgibt ein Faltenbalgen einen Teil des Schaftes, wobei der Balgen an seinem einen Ende am Rotor befestigt und an seinem anderen Ende mit dem Schaft abdichtend verbunden ist.
  • Schaftlager, welche der Rotation eines stabförmigen Schafts oder einer Spindel bei deren gleichzeitiger Halterung dienen, werden in vielen Gebieten der Technik eingesetzt. Falls ein solches Lager zugleich in einem Durchtrittsloch zwischen zwei Kompartimenten, in denen unterschiedliche Druckbedingungen herrschen, eingesetzt werden soll, muß dieses Lager zudem besondere Bedingungen bezüglich seiner Dichtigkeit erfüllen. Hierfür werden spezielle Maßnahmen ergriffen, welche einen Durchtritt von Gasen oder Flüssigkeiten durch das Lager hindurch oder durch den Zwischenraum zwischen Lager und Kompartimentabgrenzung hindurch verhindern sollen. Gerade bei Vakuumanlagen sind hierbei besonders hohe Anforderungen an den Grad der Dichtigkeit zu stellen.
  • Wenn darüber hinaus der Schaft im Lager nicht nur rotieren soll, sondern ebenfalls eine transversale Verschieblichkeit notwendig ist, sind weitere konstruktive Maßnahmen notwendig, um diese Dichtigkeit auch bei der Transversalverschiebung zu gewährleisten. So werden beispielsweise bei Plasmaabscheidungsprozessen Vakuumkammern verwendet, in denen ein Drehteller über einer Heizplatte angeordnet ist. Auf dem Drehteller sind die zu behandelnden Werkstücke angeordnet. Dieser Drehteller ist mit einer Spindel verbunden, welche aus dem evakuierten Bereich der Plasmaabscheidungsanlage herausgeführt wird und die mit einem außerhalb des Vakuumbereichs gelegenen Antrieb verbunden ist, der den Drehteller rotieren kann und ihn bedarfsweise hebt bzw. senkt, um ihn in Kontakt mit der Heizplatte zu bringen. Die Spindel ist dabei in einem Lager gelagert. Die Abdichtung dieses Lagers zum Vakuum der Vakuumkammer hin erfolgt hierbei mit einer T-Ringdichtung. Das Ma terial dieser Dichtung ermüdet jedoch auf Grund hoher Umgebungstemperaturen und Einflüssen durch die Prozeßgase schnell. Gerade nach Längeren Standzeiten kommt es daher oft zu Leckagen und/oder zu Stockungen in der Vertikal- wie auch der Rotationsbewegung der Spindel an der Dichtungsstelle. Ein Ersatz der T-Ringdichtung wäre daher wünschenswert.
  • Seit einiger Zeit sind sogenannte ferrofluide Dichtungen bekannt, bei denen eine Dichtung dadurch erzielt wird, daß sich zwischen einem rotierenden Element und einem feststehenden Element der Dichtung eine magnetisierbare (ferrofluide) Emulsion befindet. Diese wird durch ringförmig um das rotierbare Element angeordnete Magnete magnetisiert, was zu einer zuverlässigen Abdichtung des Zwischenraums zwischen rotierbarem Element und statischem Element führt. Auf Grund ihrer Anordnung könnte man die ringförmige magnetische Emulsion daher als flüssigen O-Ring bezeichnen. Ferrofluide Dichtungen haben jedoch den Nachteil, lediglich bei rotierenden Bewegungen eine Dichtigkeit zu erzielen.
  • Bei einer transversalen Verschiebung, beispielsweise eines Schafts in einem Lager, bricht hingegen die Dichtung zusammen und damit möglicherweise auch ein abzudichtendes Vakuum. Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Schaftlager bereitzustellen, dessen Dichtigkeit, beispielsweise gegenüber einem Vakuum, sowohl bei Rotationsbewegung als auch bei Transversalverschiebung eines zu lagernden Schafts gewährleistet bleibt. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch das Schaftlager gemäß dem unabhängigen Patentanspruch 1 sowie der Verwendung des erfindungsgemäßen Schaftlagers als Spindeldurchführung in einer Plasmaabscheidungsanlage gemäß dem unabhängigen Patentanspruch 9.
  • Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte ergeben sich aus den abhängigen Patentansprüchen, der Beschreibung und den beigefügten Zeichnungen.
  • Der Schaftlager stellt eine zuverlässige Abdichtung sowohl bei Rotationsbewegungen als auch bei transversalen Verschiebungen eines darin gelagerten Schafts sicher. Es macht das Prinzip der ferrofluiden Dichtung bei Schaftlagerungen anwendbar, bei denen der Schaft auch transversal verschieblich sein muß.
  • Der Schaft ist so durch das Lager hindurchgeführt, daß eine ferrofluide Abdichtung gegenüber einer vom Schaft mitgenommenen, lediglich rotierenden Hohlwelle möglich ist, während transversale Bewegungen des Schafts innerhalb der Hohlwelle erfolgen und mittels eines hermetisch an der Hohlwelle und am Schaft angeordneten Faltenbalgens abgedichtet werden.
  • Bei dem Schaftlager mit einem Stator und einem Rotor ist also ein Schaft transversal verschieblich und rotierbar durch den Rotor durchgeführt und der Rotor im Stator gelagert, wobei der Zwischenraum zwischen Rotor und Stator mit einer magnetisierbaren Emulsion abgedichtet ist und weiterhin ein Faltenbalgen zumindest einen Teil des Schafts umgibt und der Balgen an seinem einen Ende am Rotor befestigt ist und an seinem dem Rotor abgewandten Ende mit dem Schaft abdichtend verbunden ist.
  • Die transversale Verschieblichkeit des Schafts durch eine Arretierung zwischen Schaft und Rotor auf einen vorbestimmten Bereich begrenzt. Die Arretierung weist einen Vorsprung im Rotor und eine Vertiefung im Schacht auf, in die der Vorsprung eingreifen kann. Vorzugsweise ist dieser Vorsprung eine durch den Rotor hindurch reichende Schraube und die Vertiefung eine längliche Nut, deren Breite im wesentlichen der Schraubenbreite und deren Länge im wesentlichen dem Bereich der Verschieblichkeit entspricht. Der Faltenbalgen weist vorzugsweise einen am Rotor befestigten Balgenanschlußring, einen tubusförmigen dehn- und komprimierbaren Balgen und einen Balgenfrontring auf. Der dehn- und komprimierbare Balgen kann beispielsweise aus Edelstahl bestehen. Der Faltenbalgen ist vorzugsweise an seinem dem Rotor abgewandten Ende mittels eines Rückhalterings mit dem Schaft abdichtend verbunden. Alternativ kann der Faltenbalgen an seinem dem Rotor abgewandten Ende am Schaft abdichtend angeschweißt sein. Im Schaftlager kann weiterhin ein ringförmiger Magnet angeordnet sein, der die magnetisierbare Emulsion magnetisieren kann. Die Lagerung des Rotors im Stator erfolgt vorzugsweise mittels eines Kugellagers
  • Die vorliegende Erfindung umfaßt weiterhin die Verwendung des Schaftlagers als Spindeldurchführung in einer Plasmaabscheidungsanlage, die einen Drehhebeantrieb und eine Vakuumkammer aufweist. Das Lager ist dabei vorzugsweise so orientiert, daß der Faltenbalgen sich in der Vakuumkammer der Plasmaabscheidungsanlage befindet. Die Spindel ist im Schaftlager vorzugsweise durch den Dreh- und Hebemechanismus rotierbar und transversal verschieblich.
  • Im folgenden wird die Erfindung im einzelnen beschrieben, wobei auf die Figuren Bezug genommen wird, in denen folgendes dargestellt ist. Es zeigt:
  • 1 eine vorbekannte Plasmaabscheidungsanlage im Querschnitt; und
  • 2 das erfindungsgemäße Schaftlager.
  • Die in 1 gezeigte Plasmaabscheidungsanlage soll beispielhaft das Problem der Abdichtung von Schäften zeigen, welche durch eine Durchtrittsöffnung zwischen zwei Bereichen unterschiedlicher Gas-Drücke hindurchgeführt werden. Darge stellt ist eine Plasmaabscheidungsanlage mit einer Vakuumkammer 1 und einer darunter angeordneten Evakuierkammer 4. Die beiden Kammern stehen über einen Verbindungsstutzen 5 miteinander in Verbindung. Die Evakuierung der Kammern erfolgt über einen Pumpenanschluß 6. In der Vakuumkammer 1 ist ein rotierbarer Wafer-Drehteller 2 angeordnet, auf dem die zu bearbeitenden Werkstücke, beispielsweise Wafer, abgelegt werden. Unter dem Wafer-Drehteller 2 befindet sich eine Heizplatte 3. Diese dient dazu, den Werkstücken auf dem Wafer-Drehteller eine notwendige Prozeßtemperatur zu verleihen. Während eines Prozeßvorgangs ruht der Wafer-Drehteller unmittelbar auf der Heizplatte 3. Der Drehteller wird von einer Seite aus mit Werkstücken beschickt und danach jeweils um einen vorgegebenen Winkel weitergedreht, um Platz für die Bestückung mit dem nächsten Werkstück zu schaffen. Nach Abschluß der Bearbeitung hat jedes Werkstück praktisch einen Vollkreis zurückgelegt, bevor es aus der Vakuumkammer wieder entnommen wird. Um den Wafer-Drehteller 2 frei um den vorbestimmten Winkel drehen zu können, wird er mittels des Tellerschafts 10 zunächst angehoben, um dann um den vorbestimmten Winkel rotiert zu werden. Zu diesem Zwecke steht der Wafer-Drehteller 2 über den Tellerschaft 10 in Verbindung mit einer unter den Vakuumkammern angeordneten Drehhebeanordnung 9. Der Tellerschaft 10 ist durch ein in der Evakuierkammer 4 angeordnetes Schaftgehäuse 8 hindurchgeführt, welches auf der Durchtrittsseite des Tellerschafts durch die Evakuierkammer ein Schaftlager 7 aufweist und am Durchtritt von Schaftgehäuse 8 zur Evakuierkammer 4 ein zweites Schaftgehäuselager 11 aufweist. Die Abdichtung des nicht evakuierten Lagergehäuses 8 (Atmosphäre) gegenüber der Evakuierkammer 4 erfolgt mittels einer T-Ringdichtung 12, die unterhalb des Schaftgehäuselagers 11 im Schaftgehäuse angeordnet ist und den Tellerschaft 10 ringförmig umgibt. Diese T-Ringdichtung weist die im Stand der Technik bekannten Nachteile auf.
  • Das in 2 dargestellte erfindungsgemäße Schaftlager ersetzt das in 1 gezeigte Schaftgehäuse. Es kann somit mit der Außenwandung der Evakuierkammer 4 verbunden sein oder alternativ, sofern ein anderer Evakuiermechanismus zur Verfügung gestellt wird, an der Vakuumkammerwandung 1a der Vakuumkammer 1 selbst. In 2 wird die zweite Alternative dargestellt, bei der das erfindungsgemäße Schaftlager an der Vakuumkammerwandung 1a befestigt ist. Das Schaftlager besteht aus einem Stator, der auch als Lagergehäuse 17 bezeichnet wird und der fest mit der Vakuumkammerwandung 1a verbunden ist sowie aus einem Rotor 20, der auch als Hohlwelle bezeichnet werden kann. Der Schaft 10 ist durch diesen Rotor 20 transversal verschieblich hindurchgeführt. Bei Rotation des Schafts 10 dreht sich der Rotor 20 mit dem Schaft 10 mit. Das Lager weist eine zur Atmosphärenseite hinweisende Seite 18 und eine zur Vakuumkammer 1 hinweisende Vakuumseite 19 auf. Das Lager liegt mit der Vakuumseite 19 auf der Vakuumkammerwandung 1a auf und kann mit dieser z.B. verschraubt sein. Die Dichtigkeit zwischen Vakuumkammer und Umgebung wird mittels einer in die Vakuumseite 19 eingelassenen statischen O-Ring-Dichtung gewährleistet.
  • An dem erfindungsgemäßen Schaftlager sind gleichzeitig zwei Abdichtungsmechanismen vorgesehen, die einerseits eine Abdichtung bei Rotation des Schafts, andererseits eine Abdichtung bei dessen transversaler Verschiebung sicherstellen. Zum einen wird in den Zwischenraum zwischen Stator 17 und Rotor 20 eine magnetisierbare Emulsion eingebracht, die bei einer Rotationsbewegung des Rotors im Stator durch ihre Magnetisiertheit eine zuverlässige Abdichtung des Zwischenraums zwischen Rotor 20 und Stator 17 bewirkt. Da zwischen dem Rotor 20 und dem Stator 17 keine Transversalverschiebungen stattfinden, sondern ausschließlich Rotationsbewegungen, kann somit innerhalb des eigentlichen Schaftlagers eine zuverlässige Abdichtung des Vakuums erreicht werden.
  • Der zweite Abdichtmechanismus bewirkt eine zuverlässige Abdichtung zwischen dem Schaft 10 und dem Rotor 20. Er besteht aus einem Faltenbalgen, welcher fest mit dem Rotor einerseits und dem Schaft andererseits verbunden ist. Es handelt sich hierbei also um eine mechanisch wirkende Abdichtung des Zwischenraums zwischen Schaft 10 und Rotor 20.
  • Die verwendete magnetisierbare Emulsion soll gegen die mit ihr in Kontakt kommenden Substanzen widerstandsfähig sein. Dies betrifft insbesondere chemische Abscheidungsprozesse, bei denen agressive Substanzen in der Vakuumkammer enthalten sind. Dem Fachmann sind hierfür eine Reihe geeigneter, magnetisierbarer Substanzen bekannt, z.B. Fluorkohlenwasserstoffe oder Ester. Damit die zwischen Stator 17 und Rotor 20 befindliche ferrofluide Emulsion diesen Zwischenraum zuverlässig abzudichten vermag, muß sie magnetisiert sein. Dies wird durch Magnete reicht, die im Zwischenraum oder in unmittelbarer Nähe des Zwischenraums im wesentlichen kreisförmig um den Rotor herum angeordnet sind. In 2 ist ein ringförmiger Dauermagnet 26 mit insgesamt drei Ringwülsten gezeigt. Zwischen der Rotoraußenwand und diesen Ringwülsten verbleiben nur schmale Spalten mit einem besonders stark wirkenden Magnetfeld, die mit magnetisierbarer Emulsion gefüllt sind und die O-ringartige Abdichtung des Zwischenraums zwischen Stator 17 und Rotor 20 bewirken.
  • Es ist jedoch auch vorstellbar, lediglich eine Ringwulst zu verwenden oder den oder die Magnete in etwas größerem Abstand vom Rotor 20 zu beabstanden, sofern die magnetische Kraft noch hinreichend ist, die im Zwischenraum befindliche magnetisierbare Emulsion zu magnetisieren. Des weiteren können Elektromagnete an Stelle von Dauermagneten verwendet werden, um beispielsweise die Dichtleistung gezielt an das anliegende Vakuum anpassen zu können. Auch kann mehr als eine Anordnung von Magneten verwendet werden.
  • Der den Zwischenraum zwischen Schaft 10 und Rotor 20 abdichtende Faltenbalgen besteht in der vorliegenden Ausführungsform aus einem am Rotor 20 befestigten Balgenanschlußring 23, einem Balgen 25 und einem am Schaft anliegenden Balgenfron tring 24, der mit einem eng schließenden Rückhaltering 27 mit dem Schaft abdichtend verbunden ist. Da der gesamten Faltenbalgen mit dem Schaft 10 und dem Rotor 20 mitrotiert, kann der Rückhaltering 27 auf seine Abdichtungsfunktion hin optimiert werden, da keine Gleitung zwischen Schaft 10 und Rückhaltering 27 erfolgen wird. Der eigentliche Balgen 25 kann beispielsweise aus Edelstahl gefertigt sein, ist vorteilhafterweise tubusförmig und derart in Falten oder Rillen gepreßt oder sonstwie geformt worden, daß er sich bei transversalen Verschiebungen des Schafts dehnen oder zusammenziehen kann. Er gleicht damit in seiner Funktion aus dem fotografischen Bereich bekannten Balgen, wie beispielsweise Nahaufnahmebalgeneinrichtungen. Der Balgen kann neben einer zylinderförmigen Ausgestaltung auch andere Fromen haben, die geeignet sind, eine Kompression und Expansion mitzumachen, beispielsweise konusförmig.
  • Die Befestigung des Balgenanschlußrings 23 am Rotor 20 kann beispielsweise durch Verschweißen erfolgen. Wichtig ist, daß zwischen den Teilen Rotor 20, Balgenanschlußring 23, Balgen 25, Balgenfrontring 24 und Rückhaltering 27 ein gasdichter Verschluß hergestellt ist. Dies kann in dem Fachmann bekannter Weise durch Verschweißen, spezielles Verkleben, oder, wie im Falle von Rotor und Balgenanschlußring, durch einstöckiges Ausformen erfolgen.
  • Alternativ zur Verwendung eines Rückhalterings 27 kann der Balgenfrontring 24 beispielsweise auch am Schaft 10 verschweißt sein. Auch hier ist wieder maßgeblich, daß ein gasdichter Abschluß zwischen dem Balgenfrontring und dem Schaft zustande kommt.
  • Um ein Zerreißen oder andere Beschädigungen des Faltenbalgens zu vermeiden, sollte die transversale Verschieblichkeit des Schafts 10 begrenzt werden. Hierzu kann beispielsweise ein Vorsprung im Rotor vorgesehen sein, der in eine entsprechende Vertiefung im Schaft 10 eingreift, so daß der Schaft 10 in beide Richtungen nur bis zu dem Punkt verschoben werden kann, an dem der Vorsprung gegen die Endwände der Vertiefung stößt. In der in 2 gezeigten Ausführungsform wird als Vorsprung eine Mitnehmerschraube 22 verwendet, welche in den Rotor 20 eingeschraubt ist und in dem vom Rotor 20 gebildeten Hohlraum nach innen hineinragt. Die Vertiefung ist in dieser Ausführungsform eine Mitnehmernut 29 im Schaft 10, deren Länge dem gewünschten Verschieblichkeitsbereich entspricht und deren Breite im wesentlichen der Schraubenbreite entspricht. Auf diese Weise kann ein Spiel zwischen dem Schaft 10 und dem Rotor 20 minimiert werden, wenn beide gemeinsam rotieren.
  • Es ist jedoch auch möglich, den Vorsprung im Schaft 10 anzubringen und dann eine Vertiefung im Rotor 20 vorzusehen, in die dieser Vorsprung eingreifen kann. Maßgeblich für die Ausführung dieses Merkmals muß jedenfalls sein, daß Schaft und Rotor stets gemeinsam rotieren, jedoch lediglich der Schaft transversal verschiebbar ist, während der Rotor im wesentlichen keine transversalen Bewegungen machen darf. Um ein leichtgängiges Rotieren des Rotors 20 im Stator 17 zu ermöglichen, können entsprechende Lagerungen vorgenommen werden. Beispielsweise können Gleitlager vorgesehen sein oder, wie im in der 2 gezeigten Beispiel, ein Kugellager mit Kugeln 21. Auch ist es vorstellbar, daß mehrere Kugellager verwendet werden oder Kugel- und Gleitlager kombiniert werden können. Schließlich sollten Rotor und Stator so aufeinander abgestellt sein, daß aus den Abschlüssen keine magnetsierbare Emulsion austreten kann. Dies kann beispielsweise erreicht werden, indem Vorsprünge am Rotor und am Stator vorgesehen werden, die lediglich einen so kleinen Zwischenspalt zwischen Rotor und Stator im Bereich der Vorsprünge verbleiben lassen, daß ein Durchtritt von magnetisierbarer Emulsion nicht möglich ist. Die Lagerschalen eines verwendeten Kugellagers können entweder einstückig mit dem Rotor, beziehungsweise dem Stator ausgeführt sein, oder es kann zwischen Rotor und Stator ein vollständiges Kugellager inklusive der Lagerschalen eingesetzt werden. Letzeres hat den Vorteil, daß auf indu striell verfügbare Standardkugellager zurückgegriffen werden kann.
  • Zusammengefaßt kann gesagt werden, daß das erfindungsgemäße Schaftlager eine besondere vorteilhafte Abdichtung bei Rotations- und Transversalverschiebungen erzielt, indem die zwei Bewegungen unterschiedlichen Bereichen des Schaftlagers zugewiesen werden, und damit jeder der Bewegungen eine optimale Abdichtung durch spezielle Maßnahmen zugeordnet werden kann.
  • 1
    Vakuumkammer
    1a
    Vakuumkammerwandung
    2
    Waferdrehteller
    3
    Heizplatte
    4
    Evakuierkammer
    5
    Verbindungstutzen
    6
    Pumpenanschluß (für Vakuum)
    7
    Schaftlager
    8
    Schaftgehäuse
    9
    Dreh-/Anhebeanordnung
    10
    Tellerschaft
    11
    Schaftgehäuselager
    12
    T-Ring-Dichtung
    15
    Schaftnut zur Kopplung mit Dreh-/Anhebeanordnung
    16
    Schaftgewinde zur Kopplung mit Drehteller
    17
    Lagergehäuse/Stator
    18
    Atmosphärenseite des Lagergehäuses
    19
    Vakuumseite des Lagergehäuses
    20
    Lagerrotor (Hohlwelle)
    21
    Kugeln des Kugellagers
    22
    Mitnehmerschraube
    23
    Balgenanschlußring
    24
    Balgenfrontring
    25
    Balgen
    26
    Ferrofluid-Ringmagnet
    27
    Rückhaltering
    28
    Statischer O-Ring
    29
    Mitnehmernut

Claims (11)

  1. Schaftlager mit einem Stator (17) und einem Rotor (20), wobei – ein Schaft (10) transversal verschieblich und rotierbar durch den Rotor (20) durchgeführt ist und der Rotor (20) im Stator (17) gelagert ist, – der Zwischenraum zwischen Rotor (20) und Stator (17) mit einer magnetisierbaren Emulsion abgedichtet ist, – ein Faltenbalgen zumindest einen Teil des Schafts (10) umgibt, – der Faltenbalgen an seinem einen Ende am Rotor (20) befestigt und an seinem dem Rotor (20) abgewandten Ende mit dem Schaft (10) abdichtend verbunden ist und – die transversale Verschieblichkeit des Schaftes (10) durch eine Arretierung auf einen vorbestimmten Bereich begrenzt ist, dadurch gekennzeichnet, daß – die Arretierung einen Vorsprung im Rotor (20) und eine Vertiefung im Schaft (10) aufweist, in die der Vorsprung eingreifen kann.
  2. Schaftlager nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Vorsprung eine durch den Rotor (20) hindurchreichende Schraube (22) und die Vertiefung eine längliche Nut (29) ist, deren Breite im wesentlichen der Schraubenbreite entspricht und deren Länge im wesentlichen dem Bereich der Verschieblichkeit entspricht.
  3. Schaftlager nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Faltenbalgen einen am Rotor (20) befestigten Balgenanschlußring (23), einen tubusförmigen, dehn- und komprimierbaren Balgen (25) und einen Balgenfrontring (24) aufweist.
  4. Schaftlager nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der dehn- und komprimierbare Balgen (25) aus Edelstahl besteht.
  5. Schaftlager nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Faltenbalgen an seinem dem Rotor (20) abgewandten Ende mittels eines Rückhalterings (27) mit dem Schaft (10) abdichtend verbunden ist.
  6. Schaftlager nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Faltenbalgen an seinem dem Rotor (20) abgewandten Ende am Schaft (10) abdichtend angeschweißt ist.
  7. Schaftlager nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß darin weiterhin ein Magnet (26) angeordnet ist, der die magnetisierbare Emulsion magnetisieren kann.
  8. Schaftlager nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Lagerung des Rotors (20) im Stator (17) ein Kugellager aufweist.
  9. Verwendung des Lagers nach einem der Ansprüche 1 bis 8 als Spindeldurchführung in einer Plasmaabscheidungsanlage, die einen Dreh-/Hebeantrieb (9) und eine Vakuumkammer (1) aufweist.
  10. Verwendung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Lager so orientiert ist, daß der Faltenbalgen sich in der Vakuumkammer (1) der Plasmaabscheidungsanlage befindet.
  11. Verwendung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Spindel im Schaftlager durch den Dreh-/Hebemechanismus (9) rotierbar und transversal verschieblich ist.
DE1999100807 1999-01-12 1999-01-12 Schaftlager Expired - Fee Related DE19900807B4 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1999100807 DE19900807B4 (de) 1999-01-12 1999-01-12 Schaftlager
PCT/DE2000/000048 WO2000042330A1 (de) 1999-01-12 2000-01-05 Schaftlager

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1999100807 DE19900807B4 (de) 1999-01-12 1999-01-12 Schaftlager

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19900807A1 DE19900807A1 (de) 2000-07-27
DE19900807B4 true DE19900807B4 (de) 2004-03-04

Family

ID=7894003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1999100807 Expired - Fee Related DE19900807B4 (de) 1999-01-12 1999-01-12 Schaftlager

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE19900807B4 (de)
WO (1) WO2000042330A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10201956C1 (de) * 2002-01-19 2003-07-10 Ardenne Anlagentech Gmbh Schiebe-Dreh-Durchführung
DE102011113292A1 (de) * 2011-09-05 2013-03-07 Schmid Vacuum Technology Gmbh Vakuumdurchführung und Vakuumbeschichtungsvorrichtung mit Vakuumdurchführungen

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3803411A1 (de) * 1988-02-05 1989-08-17 Leybold Ag Vorrichtung zur halterung von werkstuecken

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61114456A (ja) * 1985-11-01 1986-06-02 Hitachi Ltd イオン打込装置
DE3702405A1 (de) * 1987-01-28 1988-08-11 Papst Motoren Gmbh & Co Kg Vorrichtung zum abdichten von rotierenden bauteilen
JPH01224572A (ja) * 1988-03-04 1989-09-07 Nec Yamaguchi Ltd 回転直線導入機
US5161902A (en) * 1988-09-29 1992-11-10 Nippon Seiko Kabushiki Kaisha Magnetic sealing device for use between first and second magnetic members which rotate relative to each other
US4952299A (en) * 1988-10-31 1990-08-28 Eaton Corporation Wafer handling apparatus
JPH0419081A (ja) * 1990-05-15 1992-01-23 Seiko Instr Inc 真空内搬送ロボット
JPH04173695A (ja) * 1990-11-02 1992-06-22 Hitachi Ltd 基板エレベータ装置
JPH08121609A (ja) * 1994-10-24 1996-05-17 Nok Corp 往復兼回転用磁性流体シ−ルユニット

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3803411A1 (de) * 1988-02-05 1989-08-17 Leybold Ag Vorrichtung zur halterung von werkstuecken

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DE-Z. "antriebstechnik" 35 (1996) Nr.1, S.47-49 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE19900807A1 (de) 2000-07-27
WO2000042330A1 (de) 2000-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3801998C1 (de)
DE19601541A1 (de) In einer Vakuumumgebung einsetzbares Vertikaltransfersystem sowie dazugehöriges Absperrventilsystem
DE2050598C3 (de) Vorrichtung zum Durchschleusen radioaktiv kontaminierter Flüssigkeiten und/oder Gase
EP1753990B1 (de) Schleusenvorrichtung
DE60004482T2 (de) Einspritzventil für gas
DE4408947C2 (de) Vakuumbehandlungsanlage
DE19600310A1 (de) Zylindervorrichtung
DE19900807B4 (de) Schaftlager
EP2287501A1 (de) Ventil zum im Wesentlichen gasdichten Unterbrechen eines Fliesswegs
DE19539262A1 (de) Kolbenstangenloser Zylinder
DE3504021A1 (de) Magnetisch gekoppeltes luftschienentransportsystem fuer eine wafer
DE3439081A1 (de) Ferrofluiddichtung
DE60318110T2 (de) Behälter zum transport bzw. zur lagerung radioaktiver stoffe
DE20209420U1 (de) Trennschieber
DE942532C (de) Absaugeverschluss zur Evakuierung von Hohlkoerpern
DE102022133028A1 (de) Transfermodul und Transferverfahren für ein Probenmaterial
DE29908563U1 (de) Linearwegschieber
DE19516980C1 (de) Ventil, insbesondere Kühlmittelventil für Werkzeugrevolver
DE69003985T2 (de) Pendel-Trägersystem zum schnellen Manipulieren eines Werkstückes in einem und aus einem bezüglich seiner Atmosphäre überwachten Raumes.
CH700247B1 (de) Vakuumventil mit Dichtungsträgereinsatz.
DE29818823U1 (de) Fluidischer Aktor
DE102019130157A1 (de) Vakuumventil
DE2558651C3 (de) Wellendichtung mit einem mit der Welle umlaufenden Dichtring
DE102009039621A1 (de) Teilchenstrahlbearbeitungsvorrichtung wie eine Elektronenstrahlbearbeitungsvorrichtung
AT1685U1 (de) Klemmlager für zumindest ein darin beweglich gehaltenes oder darin festgeklemmtes rohr

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: INFINEON TECHNOLOGIES AG, 81669 MUENCHEN, DE

8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee