DE19826971A1 - Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden, insbesondere integrierter Schaltungen - Google Patents
Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden, insbesondere integrierter SchaltungenInfo
- Publication number
- DE19826971A1 DE19826971A1 DE19826971A DE19826971A DE19826971A1 DE 19826971 A1 DE19826971 A1 DE 19826971A1 DE 19826971 A DE19826971 A DE 19826971A DE 19826971 A DE19826971 A DE 19826971A DE 19826971 A1 DE19826971 A1 DE 19826971A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- components
- module
- electrically conductive
- conductive material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
- H10W70/093—Connecting or disconnecting other interconnections thereto or therefrom, e.g. connecting bond wires or bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
- H10W70/095—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers of vias therein
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/611—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers for connecting multiple chips together
- H10W70/614—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers for connecting multiple chips together the multiple chips being integrally enclosed
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/0198—Manufacture or treatment batch processes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
- H10W74/01—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
- H10W74/10—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
- H10W74/111—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition the semiconductor body being completely enclosed
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
- H10W74/40—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials
- H10W74/47—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials comprising organic materials, e.g. plastics or resins
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
- H10W70/08—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers by depositing layers on the chip or wafer, e.g. "chip-first" RDLs
- H10W70/09—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers by depositing layers on the chip or wafer, e.g. "chip-first" RDLs extending onto an encapsulation that laterally surrounds the chip or wafer, e.g. fan-out wafer level package [FOWLP] RDLs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/099—Connecting interconnections to insulating or insulated package substrates, interposers or redistribution layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/67—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their insulating layers or insulating parts
- H10W70/68—Shapes or dispositions thereof
- H10W70/682—Shapes or dispositions thereof comprising holes having chips therein
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/073—Connecting or disconnecting of die-attach connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/941—Dispositions of bond pads
- H10W72/9413—Dispositions of bond pads on encapsulations
Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden insbesondere integrierter Schaltungen (ICs) miteinander oder integrierter Schaltungen und aktiver, passiver elektronischer sowie mechanischer Einzelkomponenten zur Herstellung eines ein komplexes elektronisches, elektrooptisches, elektroakustisches oder elektromechanisches System enthaltenden Moduls durch schichtweise Verfestigung eines flüssigen, lichtaushärtbaren Kunststoffs, wobei während des schichtweisen Aufbaus des Moduls Ausnehmungen zur Aufnahme der Systembauteile sowie Verbindungskanäle zur Aufnahme der elektrisch leitenden Verbindungen zwischen den eingebetteten Systembauteilen generiert werden.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum mechani
schen und elektrischen Verbinden, insbesondere integrierter
Schaltungen (ICS) miteinander oder integrierter Schaltungen und
aktiver, passiver elektronischer sowie mechanischer Einzelkom
ponenten zur Herstellung eines ein komplexes elektronisches,
elektrooptisches, elektroakustisches oder elektromechanisches
System enthaltenden Moduls.
Derartige komplexe Systeme werden in der Regel durch Auflöten
entsprechender Bauelemente auf Platinen hergestellt, die dann
anschließend in ein separat hergestelltes Gehäuse eingebaut
werden.
Dadurch, daß zur Anordnung der Bauelemente auf der Platine le
diglich zwei Dimensionen zur Verfügung stehen, ist der Platzbe
darf derartiger Systeme groß, was darüber hinaus den Nachteil
aufweist, daß die elektrischen Verbindungen zwischen den Bau
elementen entsprechend lang sind.
Weiterhin sind die freiliegenden elektrischen Anschlüsse und
Leitungen bei mechanischer Beanspruchung störungs- und defek
tanfällig.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
der eingangs genannten Art so zu führen, daß die das System
bildenden Bauelemente neben- und übereinander sicher gegenüber
äußeren Einflüssen in einem beim Zusammenstellen entstehenden
Kunststoffgehäuse eingebettet werden.
Die Erfindung löst diese Aufgabe durch schichtweise Verfesti
gung eines flüssigen, lichtaushärtbaren Kunststoff, wobei wäh
rend des schichtweisen Aufbaus des Moduls Ausnehmungen zur Auf
nahme der Systembauteile sowie Verbindungskanäle zur Aufnahme
der elektrisch leitenden Verbindungen zwischen den eingebette
ten Systembauteilen generiert werden.
Derartige Schichtaufbauverfahren sind aus der Mikrotechnologie
bekannt. So beschreibt die DE-PS 44 20 996 ein Verfahren, bei
dem zwischen zwei einander parallelen Platten, von denen minde
stens eine für elektromagnetische Wellen durchlässig ist, eine
geringe Menge des flüssigen lichtaushärtenden Kunststoffs auf
grund der Oberflächenspannung gehalten ist. Die Oberfläche der
Kunststoffflüssigkeit unterhalb der für elektromagnetische Wel
len durchlässigen Platte wird beispielsweise mittels Laser
strahl durch die durchlässige Platte bestrahlt, wobei der La
serstrahl nach Maßgabe eines in einem angeschlossenen Rechner
gespeicherten 3-D-Schicht-Modells der zu generierenden Struktur
über die Oberfläche geführt wird. Schicht für Schicht härtet
das Laserlicht die Kunststoffflüssigkeit entsprechend dem 3-D-
Schicht-Modell, wobei der Abstand der Platten jeweils um eine
Schichtdicke vergrößert wird, so daß frisches Kunststoffmate
rial allein aufgrund seiner Oberflächenspannung in den entste
henden Zwischenraum zwischen der ausgehärteten Schicht und der
Platte nachfließen kann. Auf diese Weise können Strukturen im
Mikrometer-Bereich sehr exakt erzeugt werden.
Diese Technologie macht sich die Erfindung zunutze.
Eine bevorzugte Verfahrensführung ist durch den Anspruch 2 ge
geben.
Es wird zunächst durch schichtweises Verfestigen des flüssigen,
lichtaushärtbaren Kunststoffs ein Basismodul mit einer Ausneh
mung zur Aufnahme eines ICs erzeugt. Danach wird der IC in die
Ausnehmung eingelegt und durch weiteren schichtweisen Aufbau
des Basismoduls gemäß dem obengenannten Verfahren wird die Aus
nehmung verschlossen und der IC eingebettet. Dabei werden
gleichzeitig Kanäle von den Anschlußflächen (Bondflächen) des
IC zur Oberfläche des Basismoduls generiert. Diese Bondflächen
können beliebig auf dem Chip angeordnet sein und haben eine
Größe von etwa 20 µm × 20 µm. Bei den bisherigen Technologien
befinden sich die Bondflächen fast immer am Rand des Chips. Die
Größe dieser Bondflächen ist minimal 70 µm × 70 µm. Ersichtlich
führt die Verwendung kleinerer Bondflächen zu einer Reduktion
der gesamten Chipfläche. Außerdem läßt sich die Leiterbahnlänge
dadurch reduzieren, daß die Bondflächen in unmittelbarer Nähe
der ihnen zugeordneten Schaltungsteile angeordnet werden kön
nen. Dies führt zu reduzierter kapazitiver Belastung der Schal
tungen und zu verringertem Übersprechen.
In der weiteren Verfahrensführung wird nun die oberste Fläche
des bisher generierten Basismoduls mit einem elektrisch leiten
den Material beschichtet, beispielsweise gemäß Anspruch 4 durch
Aufdampfen, wobei ebenfalls die Wandungen der zu den Bondflä
chen führenden Kanäle beschichtet werden, so daß eine elek
trisch leitende Verbindung zu den Bondflächen hergestellt wird.
Auf der leitenden Schicht werden sodann von den Kanalmündungen
führende Leiterbahnmasken ebenfalls durch schichtweises Verfe
stigen des flüssigen, lichtaushärtbaren Kunststoffs erzeugt,
wonach durch Ätzen die Leiterbahnmasken vollständig und das sie
umgebende leitende Material zumindest teilweise entfernt wer
den. Das leitende Material in der Umgebung der Leiterbahnmasken
kann vollständig entfernt werden, es ist jedoch auch denkbar,
aus Gründen der Abschirmung einzelner Bauelemente Teilflächen
der leitenden Schicht stehen zu lassen. Die Entfernung der Lei
terbahnmasken und der leitenden Schicht geschieht vorteilhaf
terweise gemäß Anspruch 3 durch Plasmaätzen.
Im weiteren Verlauf des Verfahrens wird das bisher vorhandene
Basismodul weiter schichtweise aufgebaut, wobei wieder minde
stens eine Ausnehmung für die Aufnahme einer oder mehrerer Kom
ponenten geschaffen werden, und gleichzeitig die erforderlichen
Bondkanäle generiert werden.
Nach Einlegen der entsprechenden Komponenten in die Ausnehmung
bzw. Ausnehmungen wird das Modul weiter schichtweise aufgebaut,
wodurch die Ausnehmungen verschlossen und die Komponenten ein
gebettet werden. Hierbei werden wiederum entsprechende
Bondkanäle generiert, die entweder die Verbindung zu einer ex
ternen Stromversorgung bilden oder aber die Verbindung zu wei
teren Bauteilen beim weiteren schichtweisen Aufbau des Moduls.
Die einzelnen Verfahrensschritte können dabei gemäß Anspruch 6
so oft wiederholt werden, bis alle für das Modul notwendigen
Bauelemente und deren elektrische Verbindungen nebeneinander
sowie in mehreren Ebenen übereinander in der Kunststoffstruktur
eingebettet sind.
Auf diese Weise ist es möglich, auf geringstem Raum komplette
Systeme der eingangs genannten Art sicher zu verpacken, wobei
dem Modul eine äußere Form gegeben werden kann, die der jewei
ligen Anwendung angepaßt ist.
Beispielsweise kann mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ein im
Ohr zu tragendes Hörgerät hergestellt werden, dessen äußere
Form dem Gehörgang angepaßt ist.
Eine weitere Möglichkeit besteht in dem Aufbau kleinstbauender
Rechner.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist naturgemäß nicht auf die
beiden Anwendungsfälle beschränkt.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann als Bindeglied zwischen den
(Sub)µm-Strukturen in der IC-Technologie und den Strukturgrößen
der Metallisierung der Leiterplatten (einige 10 µm) angesehen
werden, wobei ganz auf Leiterplatten und übliche Gehäuse ver
zichtet werden kann.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von 10 Abbildungen, die
die einzelnen Verfahrensschritte darstellen, erläutert.
Abb. 1 zeigt ein Basismodul 1 mit einer darin generierten
Ausnehmung 2. In die Ausnehmung 2 wird - wie in Abb. 2
dargestellt - ein IC 3 eingelegt, der auf seiner Oberfläche
mehrere Anschlußflächen (Bondflächen) 4 aufweist.
Abb. 3 zeigt den Verfahrensstand, wenn durch weiteren
schichtweisen Aufbau des Basismoduls 1 die Ausnehmung 2 ver
schlossen ist und der IC 3 eingebettet wurde. Beim schichtwei
sen Aufbau des Basismoduls 1 werden von den Bondflächen 4 aus
gehend sogenannte Bondkanäle 5 erzeugt.
Abb. 4 zeigt den Verfahrensschritt, bei dem auf die ober
ste Fläche des Basismoduls 1 eine Aluminiumschicht 6 aufge
dampft worden ist.
Abb. 5 zeigt den Verfahrensstand, bei dem auf der leiten
den Schicht 6 durch weiteren schichtweisen Aufbau von den Mün
dungen der Bondkanäle 5 ausgehende Leiterbahnmasken 7 generiert
worden sind. Bei der Struktur gemäß Abb. 6 sind durch
Plasmaätzen sowohl die Leiterbahnmasken 7 als auch die sie um
gebende Aluminiumschicht 6 entfernt worden. Übrig bleiben die
Leiterbahnen 8.
Durch weiteren schichtweisen Aufbau entsteht die in Abb. 7
dargestellte Struktur, in der wiederum - wie in Abb. 1 -
Ausnehmungen 2 sowie von den Leiterbahnen 8 aufsteigende
Bondkanäle 5 erzeugt worden sind.
Nach Einlegen der entsprechenden Bauelemente 3 in die
Ausnehmungen 2 (Abb. 8) wird nun gemäß Abb. 9 das Ba
sismodul 1 weiter schichtweise aufgebaut, wobei ebenfalls wie
derum entsprechende Bondkanäle generiert werden.
Die so entstandene Oberfläche wird wiederum mit Aluminium be
dampft, wobei wie beim Verfahrensschritt gemäß Abb. 4 auch
die Wandungen der Bondkanäle mit der leitenden Schicht bedampft
werden, so daß sich die elektrischen Verbindungen zwischen den
Bauteilen ergeben.
Dann wird das erfindungsgemäße Verfahren analog den in den
Abb. 5 und 6 dargestellten Verfahrensschritten fortge
führt, und zwar so weit, bis das gewünschte Modul mit dem kom
plexen System vollendet ist.
Claims (6)
1. Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden,
insbesondere integrierter Schaltungen (ICs) miteinander
oder integrierter Schaltungen und aktiver, passiver elek
tronischer sowie mechanischer Einzelkomponenten zur Her
stellung eines ein komplexes elektronisches, elektroopti
sches, elektroakustisches oder elektromechanisches System
enthaltenden Moduls durch schichtweise Verfestigung eines
flüssigen, lichtaushärtbaren Kunststoffs, wobei während
des schichtweisen Aufbaus des Moduls Ausnehmungen (2) zur
Aufnahme der Systembauteile (3) sowie Verbindungskanäle
(5) zur Aufnahme der elektrisch leitenden Verbindungen
(5, 8) zwischen den eingebetteten Systembauteilen (3) gene
riert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
- 1. durch schichtweises Verfestigen eines flüssigen, lichtaushärtbaren Kunststoffs wird ein Basismodul (1) mit einer Ausnehmung (2) zur Aufnahme eines ICs (3) erzeugt,
- 2. der IC (3) wird in die Ausnehmung (2) eingelegt,
- 3. durch weiteren schichtweisen Aufbau des Basismoduls (1) analog Schritt 1) wird die Ausnehmung (2) ver schlossen und der IC (3) eingebettet,
- 4. hierbei werden Kanäle (5) von den Anschlußflächen (Bondflächen) (4) des ICs (3) zur Oberfläche des Ba sismoduls (1) generiert,
- 5. die Oberfläche des Basismoduls (1) wird mit einem elektrisch leitenden Material (6) beschichtet, wobei ebenfalls die Wandungen der zu den Bondflächen (4) führenden Kanäle (5) beschichtet werden, so daß eine elektrisch leitende Verbindung zu den Bondflächen (4) hergestellt wird,
- 6. auf der leitenden Schicht (6) werden von den Kanalmündungen führende Leiterbahnmasken (7) analog Schritt 1) generiert,
- 7. durch Ätzen werden die Leiterbahnmasken (7) vollstän dig und das sie umgebende leitende Material zumindest teilweise entfernt,
- 8. durch weiteren Aufbau des Basismoduls (1) analog Schritt 1) wird mindestens eine weitere Ausnehmung (2) für die Aufnahme einer oder mehrerer Komponenten (3) geschaffen, wobei gleichzeitig die erforderlichen Bondkanäle (5) generiert werden,
- 9. die Komponenten (3) werden in die Ausnehmungen (2) eingelegt,
- 10. durch weiteren schichtweisen Aufbau analog Schritt 1) werden die Ausnehmungen (2) verschlossen und die Komponenten (3) eingebettet, und es wird mit den Verfahrensschritten 4) bis 7) fortgefahren.
3. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Entfernung der Leiterbahnmasken (7) und des sie
umgebenden leitenden Materials (6) durch Plasmaätzen er
folgt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß das elektrisch leitende Material aufgedampft wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß zum Beschichten als elektrisch leitendes Material Alu
minium verwendet wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß Systemkomponenten (3) in mehr als zwei Ebenen überein
ander im Modul eingebettet und elektrisch miteinander ver
bunden werden.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19826971A DE19826971C2 (de) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden von Systembauteilen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19826971A DE19826971C2 (de) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden von Systembauteilen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19826971A1 true DE19826971A1 (de) | 2000-01-05 |
| DE19826971C2 DE19826971C2 (de) | 2002-03-14 |
Family
ID=7871150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19826971A Expired - Lifetime DE19826971C2 (de) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden von Systembauteilen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19826971C2 (de) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070835A1 (de) | 2003-01-17 | 2004-08-19 | Goetzen Reiner | Verfahren zur herstellung von mikrosystemen |
| EP2315324A1 (de) | 2009-10-22 | 2011-04-27 | Amphenol-Tuchel Electronics GmbH | Kontaktiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Kontaktiervorrichtung |
| CN105171985A (zh) * | 2008-01-22 | 2015-12-23 | 罗利诗公司 | 大面积纳米图案化方法和设备 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007053540A1 (de) | 2007-11-09 | 2009-06-10 | Siemens Medical Instruments Pte. Ltd. | In-dem-Ohr Hörgerätgehäuse und dessen Herstellung |
| EP3867945A2 (de) | 2018-10-18 | 2021-08-25 | Reiner Götzen | Verfahren zur herstellung von modulen für mikroelektronische bauelemente mittels eines fotopolymerisationsverfahrens |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4525921A (en) * | 1981-07-13 | 1985-07-02 | Irvine Sensors Corporation | High-density electronic processing package-structure and fabrication |
| JPH01251778A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Toshiba Corp | Icカード |
| DE9012638U1 (de) * | 1990-09-04 | 1990-11-08 | Siemens AG, 8000 München | Im Spritzgußverfahren hergestellte Leiterplatte |
| JPH07509188A (ja) * | 1992-04-15 | 1995-10-12 | ソーン テクノロジーズ,インコーポレイテッド | 高速プロトタイプ3次元立体リソグラフィー |
| DE4420996C2 (de) * | 1994-06-16 | 1998-04-09 | Reiner Dipl Ing Goetzen | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von mikromechanischen und mikrooptischen Bauelementen |
| DE19539039C2 (de) * | 1994-06-16 | 1999-11-11 | Reiner Goetzen | Vorrichtung zur Herstellung von mikromechanischen und mikrooptischen Bauelementen sowie komplexen Mikrosystemen |
| DE4444789C3 (de) * | 1994-12-15 | 2001-05-10 | Ods Landis & Gyr Gmbh & Co Kg | Verfahren zum Herstellen von Chipkarten, Chipkarte und Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens |
| KR100186331B1 (ko) * | 1996-06-17 | 1999-03-20 | 문정환 | 적층형 패키지 |
| DE19642488A1 (de) * | 1996-10-15 | 1998-04-16 | Bernd Klose | Verfahren zur Kontaktierung von Mikrochips und zur Herstellung von Mehrlagen-Dünnschichtleiterplatten, insbesondere für superflache Multichip-Modul- und Chipcard-Anwendungen |
| WO1999019900A2 (en) * | 1997-10-14 | 1999-04-22 | Patterning Technologies Limited | Method of forming an electronic device |
-
1998
- 1998-06-18 DE DE19826971A patent/DE19826971C2/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070835A1 (de) | 2003-01-17 | 2004-08-19 | Goetzen Reiner | Verfahren zur herstellung von mikrosystemen |
| AU2003214001B2 (en) * | 2003-01-17 | 2007-08-02 | Microtec Gesellschaft Fur Mikrotechnologie Mbh | Method for producing microsystems |
| CN100435331C (zh) * | 2003-01-17 | 2008-11-19 | 迈克罗泰克微技术有限公司 | 微系统的制造方法 |
| US8042267B2 (en) | 2003-01-17 | 2011-10-25 | microTec Gesellschaft für Mikrotechnologie mbH | Method for producing microsystems |
| CN105171985A (zh) * | 2008-01-22 | 2015-12-23 | 罗利诗公司 | 大面积纳米图案化方法和设备 |
| EP2315324A1 (de) | 2009-10-22 | 2011-04-27 | Amphenol-Tuchel Electronics GmbH | Kontaktiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Kontaktiervorrichtung |
| DE102009050325A1 (de) | 2009-10-22 | 2011-05-05 | Amphenol-Tuchel Electronics Gmbh | Kontaktiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Kontaktiervorrichtung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19826971C2 (de) | 2002-03-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE112004001727B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Moduls | |
| DE19734794B4 (de) | Leiterrahmen mit einer Vielzahl von Verdrahtungsteilen zur Verwendung bei einerHalbleitervorrichtung | |
| DE102006051762B4 (de) | Hochdichte Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| EP1230680A2 (de) | Verfahren zum integrieren eines chips innerhalb einer leiterplatte und integrierte schaltung | |
| DE19827237A1 (de) | Substrat für Halbleiterbauelementgehäuse und Halbleiterbauelementgehäuse unter Verwenden desselben, sowie Herstellungsverfahren für diese | |
| DE19650296A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements | |
| DE19962422C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Mehrlagenleiterplatte | |
| DE2539925A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer mehrschichtigen gedruckten schaltungsplatte | |
| DE3020196A1 (de) | Mehrebenen-leiterplatte und verfahren zu deren herstellung | |
| DE69723801T2 (de) | Herstellungsverfahren einer Kontaktgitter-Halbleiterpackung | |
| DE102013213073A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelementes | |
| DE102016212129A1 (de) | Hochfrequenz-Sende-/Empfangselement und Verfahren zur Herstellung eines Hochfrequenz-Sende-/Empfangselementes | |
| EP0219627B1 (de) | Mehrschichtige gedruckte Schaltungsplatte | |
| EP0549791A1 (de) | Mehrlagenleiterplatte und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE1615701B1 (de) | Elektrische Verbindungsschaltung | |
| CH667359A5 (de) | Verfahren zur herstellung einer starre und flexible partien aufweisenden leiterplatte fuer gedruckte elektrische schaltungen. | |
| DE3939647A1 (de) | Traegersubstrat und verfahren zur herstellung des traegersubstrates | |
| EP0600052B1 (de) | Verfahren zur herstellung von nachträglich konditionierbaren kontaktstellen an schaltungsträgern und schaltungsträger mit solchen kontaktstellen | |
| DE19642488A1 (de) | Verfahren zur Kontaktierung von Mikrochips und zur Herstellung von Mehrlagen-Dünnschichtleiterplatten, insbesondere für superflache Multichip-Modul- und Chipcard-Anwendungen | |
| DE19826971C2 (de) | Verfahren zum mechanischen und elektrischen Verbinden von Systembauteilen | |
| DE19539181C2 (de) | Chipkartenmodul sowie entsprechendes Herstellungsverfahren | |
| DE69033198T2 (de) | Mikrowellenschaltungselemente enthaltende integrierte Schaltungsanordnung | |
| DE3810486C2 (de) | ||
| DE1943933A1 (de) | Gedruckte Schaltung | |
| DE1930642A1 (de) | Leiterplatte zum Aufnehmen und Verbinden elektrischer Bauelemente |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01L 21/58 |
|
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01L 21/50 |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: HERBST, DIETER, DR.-ING., 59425 UNNA, DE Owner name: MICROTEC GESELLSCHAFT FUER MIKROTECHNOLOGIE MB, DE |
|
| 8381 | Inventor (new situation) |
Inventor name: HERBST, DIETER, DR.-ING., 47239 DUISBURG, DE Inventor name: GOETZEN, REINER, DIPL.-ING., 47239 DUISBURG, DE |
|
| 8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: ROETHER, PETER, DIPL.-PHYS., DE |
|
| R071 | Expiry of right |