DE19822841B4 - Ozonisator und Verfahren zur Herstellung eines solchen - Google Patents

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Abstract

Ozonisator mit einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode, zwischen denen ein Entladungsspalt gebildet ist, wobei zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode ein Dielektrikum angeordnet ist und das Dielektrikum eine erste Schicht aus Glas oder Glaskeramik sowie eine zweite keramische Schicht aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht des Dielektrikums (16) als selbsttragender rohrförmiger Trägerkörper (18) mit einer Wandstärke von 1 bis 3 mm ausgebildet ist, auf dessen Innenseite die erste Elektrode (12) aufgebracht ist und auf dessen Außenseite die zweite keramische Schicht (20) mit einer Stärke von etwa 20 bis 70 Mikrometer durch thermisches Spritzen aufgetragen ist, wobei die zweite keramische Schicht zumindest Aluminiumoxid, Titanoxid oder Zirkoniumoxid enthält.

Description

  • Die Erfindung betrifft einen Ozonisator mit einer ersten Elektrode und mit einer zweiten Elektrode, zwischen denen ein Entladungsspalt gebildet ist, wobei zwischen der ersten und der zweiten Elektrode ein Dielektrikum angeordnet ist und das Dielektrikum eine erste Schicht aus Glas oder Glaskeramik sowie eine zweite keramische Schicht aufweist.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Ozonisators.
  • Ein derartiger Ozonisator ist aus der DE 38 30 106 A1 bekannt.
  • Der bekannte Ozonisator weist zwei mit Abstand zueinander unter Bildung eines Entladungsspaltes angeordnete plattenförmige, metallische Elektroden auf, zwischen denen ein Dielektrikum aus Keramik oder Glas vorgesehen ist. Das Dielektrikum kann hierbei als eine Glasplatte ausgebildet sein, auf deren dem Entladungsspalt abgewandter Seite eine Metallschicht zur Ausbildung einer der Elektroden aufgebracht ist und die auf der Seite des Entladungsspaltes mit einer dünnen Inhibitor-Schicht aus einem Mate- rial mit hohem Sekundäremissionskoeffizienten versehen ist. Diese Inhibitorschicht weist eine Schichtdicke zwischen etwa 0,1 μm und 10 μm, vorzugsweise von etwa 1 μm auf und kann etwa aus Magnesiumoxid, Yttriumoxid, Lantanoxid oder Ceroxid beste- hen. Auch die zweite metallische Elektrode auf der anderen Seite des Entladungsspaltes ist mit einer entsprechenden Inhibitor-Schicht versehen. Durch die Inhibitor-Schichten soll bei dem Ozonisator eine weitgehende Vermeidung von Zündverzügen und damit eine "pulsfreie" Entladung erreicht werden.
  • Die Aufbringung der Inhibitor-Schichten soll nach einem nicht näher definierten Verfahren erfolgen, das standardmäßig bei Plasmadisplayzellen verwendet werden soll, um die Zündspannung zu fixieren.
  • Der bekannte Ozonisator weist den Nachteil einer relativ komplizierten Herstellung auf und ermöglicht dennoch keine ausreichend hohe Ozonkonzentration, wie sie bei vielen Anwendungsfällen gefordert wird.
  • Aus der DE 86 30 134 U1 ist ein weiterer Plattenozonisator bekannt, bei dem wiederum zwei metallische plattenförmige Elektroden mit Abstand unter Bildung eines Entladungsspaltes voneinander angeordnet sind. Zumindest auf einer der metallischen Elektroden ist eine Dielektrikumschicht aus Emaille oder Glaskeramik aufgebracht, die zusätzlich noch mit einer Inhibitor-Schicht aus Metalloxiden, etwa Oxiden der Metalle Nickel, Cobalt, Titan oder Chrom besteht. Diese Inhibitor-Schicht weist eine sehr geringe Schichtdicke in der Größenordnung von einigen Angström bis zu einigen Mikrometer auf und wird vorzugsweise auf die Dielektrikumschicht aufgedampft.
  • Auch dieser Ozonisator ist mit den vorstehend bereits erwähnten Nachteilen behaftet. Er läßt sich nur auf relativ aufwendige Weise herstellen und erlaubt dennoch keine ausreichend hohe Ozonkonzentration.
  • Ein weiterer aus der DE 195 11 001 A1 bekannter Ozonisator besteht aus einem beispielsweise rohrförmigen Trägerkörper aus Glas, auf dessen Außenseite eine erste metallische Elektrode durch thermisches Spritzen aufgebracht ist. Auf diese metallische Elektrode ist eine Dielektrikumschicht, die beispielsweise aus Aluminiumoxid, aus Titanoxid oder Hafniumoxid bestehen kann, wiederum durch thermisches Spritzen aufgebracht. Zwischen der Dielektrikumschicht und einer konzentrisch angeordneten Außenelektrode ist ein Entladungsspalt zur Ozonerzeugung vorgesehen.
  • Als Dielektrikum wird bei dem vorbekannten Ozonisator nicht das Glasrohr verwendet, sondern lediglich die aufgespritzte keramische Schicht. Das Glasrohr dient somit nur als Trägerkörper.
  • Durch diese Anordnung wird eine relativ hohe Ozonausbeute erreicht, da das Dielektrikum nur als relativ dünne Schicht ausgebildet und die Ozonausbeute bekanntlich in erster Näherung proportional zur Dielektrizitätskonstante und umgekehrt proportional zur Dicke des Dielektrikums ist. Die Ozonausbeute wird gleichzeitig noch dadurch gesteigert, daß anstelle von Glas als Dielektrikum Aluminiumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid oder eine Mischung hiervon verwendet wird, was zu einer höheren Dielektrizitätskonstante führt.
  • Dennoch ist der vorbekannte Ozonisator mit einigen Nachteilen behaftet. So muß die thermisch gespritzte Dielektrizitätsschicht, um eine ausreichende Durchschlagsfestigkeit aufzuweisen, eine Schichtstärke in der Größenordnung von etwa 1 mm haben. Das Auftragen einer solchen Schicht durch thermisches Spritzen ist relativ aufwendig und teuer. Darüber hinaus werden neuere Ozonisatoren meist nicht mehr unter dem Gesichtspunkt einer möglichst hohen Ozonausbeute (d.h. Massenanteil von erzeugtem Ozon in Abhängigkeit von der eingesetzten elektrischen Energie) betrieben, sondern es wird versucht, eine möglichst hohe Ozonkonzentration in dem als Ausgangsbasis verwendeten Sauerstoff-Massenstrom zu erreichen. Es wird also versucht, bei ggf. höherem Einsatz von elektrischer Energie den Sauerstoffverbrauch bei der Erzeugung einer vorgegebenen Menge von Ozon möglichst niedrig zu halten. Eine hohe Sauerstoffkonzentration läßt sich allerdings nur mit höheren Betriebsspannungen erreichen. Bei dem aus der DE 195 11 001 A1 vorbekannten Ozonisator ist die Durchschlagsfestigkeit allerdings relativ begrenzt, da die thermisch gespritzte Dielektrikumschicht eine relativ hohe Porosität aufweist und natürlich aus Kostengründen und aus Gründen der verbesserten Ozonausbeute nur mit einer Schichtdikke in der Größenordnung von 1 mm aufgetragen wird.
  • Im Vergleich zu herkömmlichen Glasozonisatoren, bei denen das Glasrohr mit einer Innenelektrode versehen ist und das Glasrohr selbst als Dielektrikum dient, wird somit zwar gemäß der DE 195 11 001 A1 eine höhere Ozonausbeute, jedoch eine geringere Ozonkonzentration als mit herkömmlichen Glasozonisatoren erreicht.
  • Die Aufgabe der Erfindung besteht somit darin, einen verbesserten Ozonisator zu schaffen, der die Erreichung einer möglichst hohen Ozonkonzentration und gleichfalls eine relativ gute Ozonausbeute ermöglicht. Dabei soll ferner eine geeignetes Herstellverfahren zur Herstellung eines solchen Ozonisators angegeben werden, das eine möglichst einfache, gut reproduzierbare, kostengünstige Herstellung ermöglicht.
  • Hinsichtlich des Ozonisators wird diese Aufgabe erfindungsgemäß durch einen Ozonisator mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
  • Hinsichtlich des Herstellverfahrens wird diese Aufgabe durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 13 gelöst.
  • Die Aufgabe der Erfindung wird auf diese Weise vollkommen gelöst.
  • Es hat sich gezeigt, daß auf einen Trägerkörper aus Glas oder Glaskeramik mit einer Wandstärke von 1 bis 3 mm auf seiner Außenseite eine dünne keramische Schicht mit einer Schichtdicke von 20 bis 70 μm durch thermisches Spritzen aufgebracht werden muß, um eine verbesserte Ozonausbeute zu erreichen. Der erfindungsgemäße Ozonisator ermöglicht gleichzeitig eine höhere Ozonausbeute sowohl im Vergleich zu herkömmlichen Glasozonisatoren, bei denen das Glasrohr als Dielektrikum dient und die mit einer Innenelektrode versehen sind, als auch eine verbesserte Ozonkonzentration im Vergleich zu solchen Ozonisatoren, bei denen das Glasrohr lediglich als Trägerkörper dient, auf den zunächst die Elektrode und darauf eine Dielektrikumschicht aufgebracht ist.
  • Der erfindungsgemäße Ozonisator ermöglicht ein verbessertes Entladungsverhalten im Vergleich zu herkömmlichen Ozonisatoren. Dabei wird ein besonders homogenes Entladungsbild erreicht, was vorteilhaft ist zur Erreichung einer hohen Ozonkonzentration im Trägergas bei einer gleichzeitig hohen Ausbeute.
  • Gleichzeitig kann der Ozonisator mit höheren Spannungen betrieben werden, da die Durchschlagsfestigkeit durch den Trägerkörper aus Glas oder Glaskeramik gewährleistet ist. Mit dem erfindungsgemäßen Ozonisator lassen sich so deutlich erhöhte Ozonkonzentrationen im Trägergas erzielen.
  • Die erste Elektrode kann mit Hilfe einer seitlich abgewinkelten Lanzette durch thermisches Spritzen erzeugt werden, die in das Glasrohr axial hineingefahren wird. Die keramische Schicht kann wiederum vorzugsweise durch Plasmaspritzen anschließend auf der Außenseite des Trägerkörpers erzeugt werden.
  • Da die Durchschlagsfestigkeit des Ozonisators durch den von Natur aus gasdichten Trägerkörper aus Glas oder Glaskeramik vorgesehen ist, der mit einer hohen Präzision herstellbar ist, kann die als zusätzliche Dielektrikumschicht auf dem Trägerkörper aufgetragene keramische dielektrische Schicht mit einer relativ geringen Schichtdicke von 20 bis 70 μm, vorzugsweise von 30 bis 50 μm ausgebildet sein.
  • Eine derart dünne dielektrische Schicht läßt sich durch thermisches Spritzen verhältnismäßig kostengünstig erzeugen. Gleichzeitig wird überraschenderweise trotz einer derartig dünnen zusätzlichen Dielektrikumschicht eine im Vergleich zu herkömmlichen Ozonisatoren, bei denen lediglich ein Glasrohr als Dielektrikum verwendet wird, und die mit einer Innenelektrode versehen sind, verbesserte Ozonausbeute erreicht.
  • In zusätzlicher Weiterbildung der Erfindung enthält die keramische Schicht eine Mischung aus Titanoxid und Aluminiumoxid, die bis zu etwa 10 Gew.-% Titanoxid aufweist. Hierbei hat sich gezeigt, daß ein Gehalt von 5 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise in der Größenordnung von etwa 7 Gew.-% Titanoxid besonders vorteilhaft ist. Bei höheren Gehalten an Titanoxid ist ein großer Anteil des Titanoxids nicht mehr im Gitter des Aluminiumoxids gelöst, was dazu führt, daß die keramische Schicht leitfähig wird und somit nicht mehr die notwendige Durchschlagsfestigkeit erreicht werden kann.
  • Gemäß einer weiteren Ausführung der Erfindung enthält die keramische Schicht Zirkonoxid, das mit Yttriumoxid, Magnesiumoxid oder Calciumoxid stabilisiert ist.
  • Hierbei hat sich erwiesen, daß eine Stabilisierung besonders mit Magnesiumoxid (bis zu 28 Gew.-%) und/oder mit Calciumoxid (bis zu 40 Gew.-%) besonders vorteilhaft ist.
  • Gemäß einer weiter bevorzugten Ausführung der Erfindung besteht die erste und vorzugsweise auch die zweite Elektrode aus Aluminium, einer Aluminiumlegierung, aus Titan, einer Titanlegierung oder einer intermetallischen Verbindung von Aluminium und Nikkel.
  • Dabei kann auch eine Aluminiumlegierung verwendet werden, die bis zu etwa 30 Gew.-% Silizium enthält.
  • Durch die Verwendung von derartigen, an sich bekannten Materialien zur Erzeugung der ersten Elektrode und ggf. auch der zweiten Elektrode läßt sich eine gute Haftung der Elektrode an der Glasoberfläche beim Auftragen durch Plasmaspritzen erreichen, wobei gleichzeitig eine gute Leitfähigkeit und Beständigkeit im Langzeitbetrieb gewährleistet ist.
  • Der Trägerkörper besteht vorzugsweise aus Borosilikatglas oder aus einer Glaskeramik.
  • Beide Materialien lassen sich mit hoher Präzision insbesondere in Rohrform herstellen, wobei sowohl Glas als auch Glaskeramik einen höheren spezifischen Elastizitätsmodul aufweisen als bspw. Stahl. Dies führt dazu, daß die Rohre bei der üblichen horizontalen Anordnung nur wenig durchhängen und sich somit eine präzisere Einhaltung der Dimensionen des Entladungsspaltes gewährleisten läßt.
  • Der Trägerkörper aus Glas oder Glaskeramik weist vorzugsweise eine Wandstärke von 1,5 bis 2,1 mm, und besonders bevorzugt von 1,7 bis 1,9 mm auf.
  • Bei einer derartigen Wandstärke des Trägerkörpers läßt sich einerseits eine ausreichende mechanische und thermische Stabilität bei der Auftragung der metallischen Schicht zur Erzeugung der ersten Elektrode als auch bei der Auftragung der zusätzlichen Dielektrikumschicht durch thermisches Spritzen erreichen. Andererseits ergibt sich mit einer derartigen Dimensionierung eine gute Ausbeute und eine hohe Ozonkonzentration.
  • Wie zuvor bereits erwähnt, ist die keramische Schicht vorzugsweise als plasmagespritzte Schicht ausgebildet, die vorzugsweise eine Stärke von 30 bis 50 μm aufweist.
  • Eine derartige Schichtstärke führt zu einer deutlichen Verbesserung der Ozonausbeute bei gleichzeitig hoher Ozonkonzentration und dennoch relativ niedrigen Herstellungskosten.
  • Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird vorzugsweise die Beschichtung sowohl an der Innenseite des Trägerkörpers mit einer metallischen Schicht als auch an der Außenseite des Trägerkörpers mit einer keramischen Schicht durch Plasmaspritzen aufgetragen.
  • Auf diese Weise läßt sich insbesondere die keramische Schicht verhältnismäßig kostengünstig und mit ausreichender Qualität auf den Trägerkörper auftragen. Die metallische Schicht an der Innenseite könnte alternativ auch durch andere Verfahren, z.B. durch Galvanikverfahren erzeugt werden.
  • Wie gleichfalls bereits erwähnt, wird die keramische Schicht aus einem Keramikmaterial hergestellt, das zumindest Aluminiumoxid, Titanoxid oder Zirkonoxid enthält, wobei insbesondere eine Mischung aus Aluminiumoxid mit etwa 7 Gew.-% Titanoxid bevorzugt ist oder stabilisiertes Zirkonoxid verwendet wird, das vorzugsweise mit bis zu 28 Gew.-% Magnesiumoxid oder mit bis zu 40 Gew.-% Calciumoxid stabilisiert ist.
  • Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnung. Es zeigen:
  • 1 einen Querschnitt durch einen erfindungsgemäßen Ozonisator in schematischer Darstellung;
  • 2 eine graphische Darstellung der Ozonausbeute eines herkömmlichen Röhrenozonisators, bei dem ein Glasrohr aus Borosilikatglas, das von Schott unter dem Handelsnamen "Duran" vertrieben wird, als Dielektrikum verwendet wird, die über der elektrischen Leistung dargestellt ist;
  • 3 eine graphische Darstellung der Ozonausbeute über der Leistung bei einem erfindungsgemäßen Ozonisator mit einem rohrförmigen Trägerkörper aus Duran und mit einer keramischen dielektrischen Schicht aus mit Yttriumoxid stabilisiertem Zirkonoxid;
  • 4 eine graphische Darstellung der Ozonkonzentration über der elektrischen Leistung, die sich bei einem herkömmlichen Ozonisator gemäß 2 ergibt;
  • 5 eine graphische Darstellung der Ozonkonzentration in Abhängigkeit von der elektrischen Leistung, die sich bei einem erfindungsgemäßen Ozonisator mit einem Trägerkörper aus Duranglas und einer keramischen dielektrischen Schicht aus mit Yttriumoxid stabilisiertem Zirkonoxid ergibt;
  • 6 eine graphische Darstellung der Ozonausbeute in Abhängigkeit von der elektrischen Leistung, die sich bei einem herkömmlichen Röhrenozonisator mit einem Trägerkörper aus Duranglas ergibt, auf den eine Außenelektrode aufgebracht ist, auf die eine dielektrische Schicht aus Aluminiumoxid mit 6 Gew.-% Titanoxid aufgebracht ist, wobei das Glasrohr nicht als Dielektrikum verwendet wird; und
  • 7 eine graphische Darstellung der mit dem Ozonisator gemäß 6 erreichbaren Ozonkonzentration in Abhängigkeit von der elektrischen Leistung.
  • Ein erfindungsgemäßer Ozonisator ist in 1 dargestellt und insgesamt mit der Ziffer 10 bezeichnet.
  • Der Ozonisator weist zwei konzentrisch angeordnete Glasrohre, nämlich einen innen Trägerkörper 18 aus Duranglas und einen äußeren Trägerkörper 24 gleichfalls aus Duranglas auf.
  • Es versteht sich, daß die Darstellung nicht maßstabsgerecht ist. Die Trägerkörper sind in geeigneten Aufnahmen an den Enden gehalten (nicht dargestellt) und werden im Betrieb gekühlt.
  • Beide Trägerkörper 18, 24 weisen eine Wandstärke von etwa 1,8 mm auf. Der Trägerkörper 18 ist an seiner Innenseite mit einer ersten metallischen Elektrode 12 versehen, die bspw. aus einer Aluminium-Silizium-Legierung etwa eutektischer Zusammensetzung (ca. 11,7 Gew.-% Silizium) bestehen kann. Daneben können auch Aluminium-Titan-Legierungen, Aluminium-Nickel-Legierungen bzw. entsprechende intermetallische Verbindungen verwendet werden. Auch Mischlegierungen sind möglich. Die erste Elektrode 12 wurde durch Plasmaspritzen erzeugt, wozu eine abgewinkelte Gaslanzette axial in den Trägerkörper hineingefahren wurde.
  • Auf die Außenseite des Trägerkörpers 18 ist eine keramische dielektrische Schicht 20, die aus Aluminiumoxid, Titanoxid, Zirkonoxid oder Mischungen davon bestehen kann, gleichfalls durch Plasmaspritzen aufgetragen. Beispielsweise kann die keramische Schicht aus stabilisiertem Zirkonoxid bestehen, das mit etwa 10 Gew.-% Yttriumoxid stabilisiert ist. Obwohl mit Yttriumoxid stabilisiertes Zirkonoxid im Handel weit verbreitet ist, ist dieses Material relativ teuer. Es ist bevorzugt, stattdessen mit Calciumoxid oder mit Magnesiumoxid stabilisiertes Zirkonoxid zu verwenden.
  • Daneben sind auch Mischungen von Aluminiumoxid und Titanoxid bevorzugt, insbesondere solche, die bis zu 10 Gew.-% Titanoxid, vorzugsweise etwa 7 Gew.-% Titanoxid enthalten.
  • Die Schichtdicke der keramischen Schicht 20 beträgt vorzugsweise etwa 30 bis 50 μm, insbesondere etwa 40 μm.
  • Der äußere Trägerkörper 24, der gleichfalls aus Duranglas besteht, ist an seiner Innenfläche mit einer zweiten Elektrode 14 versehen, die bspw. aus Reinaluminium bestehen kann oder aber wiederum aus einer Aluminiumlegierung der zuvor erläuterten Art. Zwischen der keramischen Schicht 20 und der zweiten Elektrode 14 ist ein ringförmiger Entladungsspalt 22 gebildet.
  • Die erste Elektrode 12 und die zweite Elektrode 14 sind über Leitungen 28 mit einer Wechselspannungsquelle 26 von etwa 50 bis 60 Hz oder höherer Frequenz verbunden, sofern ein Frequenzumformer verwendet wird.
  • Durch die Außenbeschichtung des Trägerkörpers 18 mittels der keramischen Schicht 20 ist zwischen der inneren ersten Elektrode 12 und der äußeren zweiten Elektrode 14 ein insgesamt mit der Ziffer 16 bezeichnetes Dielektrikum angeordnet, das aus der Kombination des Trägerkörpers 18 und der keramischen Schicht 20 gebildet ist.
  • Mit einem derartigen erfindungsgemäßen Ozonisator läßt sich eine gegenüber herkömmlichen Röhrenozonisatoren aus Glas mit Innenelektrode und Glas als Dielektrikum verbesserte Ausbeute und gleichzeitig erhöhte Ozonkonzentration erreichen. Dabei ist die Ausbeute im Vergleich zu anders aufgebauten herkömmlichen Ozo nisatoren, bei denen das Glasrohr lediglich als Trägerkörper dient, auf den die erste Elektrode außen aufgebracht ist, worauf wiederum das Dielektrikum aufgebracht ist, zwar etwas geringer, jedoch ist die Ozonkonzentration bei dem erfindungsgemäßen Ozonisator deutlich höher, wie im folgenden anhand der 2 bis 7 erläutert wird.
  • In 3 ist die Ausbeute eines erfindungsgemäßen Ozonisators in Abhängigkeit von der zugeführten Leistung dargestellt. Ein Vergleich mit 2, die die Ausbeute eines herkömmlichen Ozonisators mit Innenelektrode und Duranrohr als Dielektrikum zeigt, ergibt, daß sich die Ozonausbeute um etwa 10 bis 15 % verbessert.
  • In 5 ist die Ozonkonzentration des erfindungsgemäßen Ozonisators gemäß 3, die sich in Abhängigkeit von der elektrischen Leistung bei Verwendung von reinem Sauerstoff als Trägergas erreichen läßt, dargestellt.
  • Ein Vergleich mit 4, die die entsprechende Ozonkonzentration in Abhängigkeit von der elektrischen Leistung des zuvor anhand von 2 erläuterten Ozonisators zeigt, ergibt, daß die Ozonkonzentration gegenüber dem herkömmlichen Ozonisator um ca. 10 % gesteigert werden kann.
  • Zum Vergleich sind die entsprechenden Kurven für die Ozonausbeute und die Ozonkonzentration in Abhängigkeit von der zugeführten elektrischen Leistung in 6 und 7 dargestellt, die sich bei einem anderen herkömmlichen Ozonisator ergeben, bei dem ein Glasrohr lediglich als Trägerkörper verwendet wird, auf dessen Außenseite eine erste Elektrode durch Plasmaspritzen aufgetragen ist, auf der eine Dielektrikumschicht mit einer Stärke von etwa 1 mm bestehend aus Aluminiumoxid und 6 Gew.-% Titanoxid durch Plasmaspritzen aufgetragen ist. Bei diesem Ozonisator dient das Glasrohr also lediglich als Trägerkörper, nicht jedoch als Dielektrikum.
  • Ein Vergleich des erfindungsgemäßen Ozonisators gemäß 3 mit 6 zeigt, daß der herkömmliche Ozonisator eine leicht verbesserte Ausbeute ermöglicht. Jedoch zeigt ein Vergleich der 5 und 7, daß sich mit dem erfindungsgemäßen Ozonisator eine deutlich verbesserte Ozonkonzentration im Vergleich zu dem herkömmlichen Ozonisator erreichen läßt.

Claims (17)

  1. Ozonisator mit einer ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode, zwischen denen ein Entladungsspalt gebildet ist, wobei zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode ein Dielektrikum angeordnet ist und das Dielektrikum eine erste Schicht aus Glas oder Glaskeramik sowie eine zweite keramische Schicht aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht des Dielektrikums (16) als selbsttragender rohrförmiger Trägerkörper (18) mit einer Wandstärke von 1 bis 3 mm ausgebildet ist, auf dessen Innenseite die erste Elektrode (12) aufgebracht ist und auf dessen Außenseite die zweite keramische Schicht (20) mit einer Stärke von etwa 20 bis 70 Mikrometer durch thermisches Spritzen aufgetragen ist, wobei die zweite keramische Schicht zumindest Aluminiumoxid, Titanoxid oder Zirkoniumoxid enthält.
  2. Ozonisator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stärke der zweiten keramischen Schicht (20) 30 bis 50 μm beträgt.
  3. Ozonisator nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die keramische Schicht (20) eine Mischung aus Titanoxid und Aluminiumoxid enthält, die bis zu etwa 10 Gew.-% Titanoxid aufweist.
  4. Ozonisator nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Mischung etwa 7 Gew.-% Titanoxid enthält.
  5. Ozonisator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die keramische Schicht (20) Zirkonoxid enthält, das mit Y2O3, mit MgO oder mit CaO stabilisiert ist.
  6. Ozonisator nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die keramische Schicht (20) Zirkonoxid enthält, das mit bis zu 28 Gew.-% MgO oder mit bis zu 40 Gew.-% CaO stabilisiert ist.
  7. Ozonisator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Elektrode (12) aus Aluminium, einer Aluminiumlegierung, aus Titan, einer Titanlegierung oder einer intermetallischen Verbindung von Aluminium mit Nickel oder Titan besteht.
  8. Ozonisator nach Anspruch 7, bei dem die erste Elektrode (12) aus einer Aluminiumlegierung besteht, die bis zu etwa 30 Gew.-% Silizium enthält.
  9. Ozonisator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerkörper (18) aus Borosilikatglas besteht.
  10. Ozonisator nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerkörper (18) aus Glaskeramik besteht.
  11. Ozonisator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerkörper (18) ein Glasrohr mit einer Wandstärke von 1,5 bis 2,1 mm ist.
  12. Ozonisator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägerkörper (18) ein Glasrohr mit einer Wandstärke von 1,7 bis 1,9 mm ist.
  13. Verfahren zur Herstellung eines Ozonisators (10) mit folgenden Schritten: – Beschichten der Innenseite eines rohrförmigen Trägerkörpers (18) aus Glas oder Glaskeramik, der eine Wandstärke von 1 bis 3 mm aufweist, mit einer metallischen Schicht, um eine erste Elektrode (12) zu erzeugen; – Beschichten der Außenseite des Trägerkörpers (18) durch thermisches Spritzen einer keramischen, dielektrischen Schicht (20) mit einer Schichtdicke von 20 bis 70 Mikrometer, wobei die Schicht (20) aus einem Keramikmaterial hergestellt wird, das zumindest Aluminiumoxid, Titanoxid oder Zirkoniumoxid enthält; – Anordnen des Trägerkörpers (18) und einer zweiten rohrförmigen Elektrode (14) mit Abstand voneinander derart, daß zwischen der keramischen Schicht (20) und der zweiten Elektrode (14) ein Entladungsspalt (22) gebildet wird.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Stärke der keramischen Schicht (20) 30 bis 50 μm beträgt.
  15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, bei dem die Beschichtung zumindest der Innenseite des Trägerkörpers (18) mit einer metallischen Schicht (12) oder der Außenseite des Trägerkörpers mit einer keramischen Schicht (20) durch Plasmaspritzen erfolgt.
  16. Verfahren nach Anspruch 13, 14 oder 15, bei dem die keramische Schicht (20) aus einem Keramikmaterial hergestellt wird, das eine Mischung aus Aluminiumoxid und bis zu etwa 10 Gew.-% Titanoxid, vorzugsweise etwa 7 Gew.-% Titanoxid enthält.
  17. Verfahren nach Anspruch 16, bei dem die keramische Schicht (20) aus einem Keramikmaterial mit stabilisiertem Zirkonoxid hergestellt wird, das mit bis zu 28 Gew.-% MgO oder mit bis zu 40 Gew.-% CaO stabilisiert ist.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100384241B1 (ko) * 2000-10-31 2003-05-16 (주) 기산테크 저활동성 플라즈마 이온 방전을 이용한 오존발생장치
DE10122718C2 (de) 2001-05-10 2003-04-17 Schott Glas Verfahren zur Erzeugung einer Streulichtschicht auf einer transparenten Kochplatte sowie dessen Verwendung
DE10254135B3 (de) * 2002-11-20 2004-06-09 Hans-Werner Dehne Verfahren zum Entkeimen von Gasen und zum Neutralisieren von Gerüchen, welches nach dem Prinzip der nichtthermischen, plasmachemischen Umsetzung arbeitet, wobei erfindungsgemäß der Elektronenfluss verbessert und die hochfrequente Wechselspannung verringert werden kann
JP4320637B2 (ja) * 2004-04-08 2009-08-26 三菱電機株式会社 オゾン発生装置およびオゾン発生方法
CN100377992C (zh) * 2005-09-06 2008-04-02 同方股份有限公司 组合板式高频大型臭氧发生器
DE102005056726B4 (de) * 2005-11-29 2011-09-15 Daniel Dehne Kondensatorenvorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Radikalen und Oxidantien
JP2010150098A (ja) * 2008-12-26 2010-07-08 Sumitomo Precision Prod Co Ltd オゾン発生装置
JP2015137215A (ja) * 2014-01-24 2015-07-30 日本碍子株式会社 オゾン発生器
JP6223841B2 (ja) 2014-01-24 2017-11-01 日本碍子株式会社 オゾン発生器
JP6259346B2 (ja) * 2014-03-31 2018-01-10 日本碍子株式会社 オゾン発生器
EP3120875B1 (de) * 2015-07-20 2017-07-12 Hilgenberg GmbH Ionisierungsvorrichtung
CN111908427A (zh) * 2020-07-12 2020-11-10 上海置中环保科技股份有限公司 一种石英毛细管低温等离子体臭氧发生器

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3424889A1 (de) * 1984-07-06 1986-02-06 Walther & Cie AG, 5000 Köln Elektrode fuer einen gasentladungsreaktor
DE8630134U1 (de) * 1986-11-11 1987-01-15 Etec Gesellschaft Fuer Energieoptimierung Mbh, 5200 Siegburg, De
DE3830106A1 (de) * 1987-10-23 1989-05-03 Bbc Brown Boveri & Cie Ozonerzeuger
DE19511001A1 (de) * 1995-03-25 1996-10-10 Euroflamm Gmbh Ozonisator und Verfahren zur Herstellung eines solchen

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4910637A (en) * 1978-10-23 1990-03-20 Rinoud Hanna Modifying the discharge breakdown
DE3521985A1 (de) * 1985-05-21 1986-11-27 BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau Ozonerzeuger
DE8630123U1 (de) * 1986-11-11 1987-01-15 Etec Gesellschaft Fuer Energieoptimierung Mbh, 5200 Siegburg, De
JPH01242403A (ja) 1988-03-23 1989-09-27 Hitachi Ltd オゾナイザ
CA2079538C (en) * 1991-10-14 2000-11-21 Toshiya Watanabe Method of manufacturing a corona discharge device
US5955038A (en) * 1995-03-25 1999-09-21 Euroflamm Gmbh Ozonizer and method of manufacturing it

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3424889A1 (de) * 1984-07-06 1986-02-06 Walther & Cie AG, 5000 Köln Elektrode fuer einen gasentladungsreaktor
DE8630134U1 (de) * 1986-11-11 1987-01-15 Etec Gesellschaft Fuer Energieoptimierung Mbh, 5200 Siegburg, De
DE3830106A1 (de) * 1987-10-23 1989-05-03 Bbc Brown Boveri & Cie Ozonerzeuger
DE19511001A1 (de) * 1995-03-25 1996-10-10 Euroflamm Gmbh Ozonisator und Verfahren zur Herstellung eines solchen

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, 4. Aufl., N.Y.: John Wiley & Sons, 1996, Bd. 17, S. 973-975. ISBN 0-471-52686-X *
Patents Abstracts of Japan, C-668, Dec. 20, 1989, Vol. 13/No. 579 betr. die JP 1- 2 42 403 A *

Also Published As

Publication number Publication date
DE19822841A1 (de) 1999-11-25
FR2778907A1 (fr) 1999-11-26
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US6322759B1 (en) 2001-11-27

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