DE19751534A1 - Optisches Dämpfungsglied und dessen Herstellung - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Dämpfungsglied (ein Lichtdämpfungsglied) und dessen Herstellung.

Im allgemeinen sollte, wenn ein optisches Kommunikationssignal oder Kommunikations-Lichtsignal eines optisches Übertragungsnetzwerkes verarbeitet wird, ein Lichtsignal mit einer Stärke empfangen werden, die innerhalb eines Lichtempfangsbereiches eines optisches Empfängermoduls liegt. Ist die Stärke des optisches Signals oder Lichtsignals größer als dieser Lichtempfangsbereich, tritt ein Fehler in dem optischen Empfängermodul auf, und dies kann zu ernsthaften Schwierigkeiten in Bezug auf die Betriebslebensdauer führen. Zur Überwindung dieser Schwierigkeit wurden optische Dämpfungsglieder eingesetzt. Optisches Dämpfungsglieder werden in Einsteckgeräte und dazwischen geschaltete Geräte unterteilt. Beide Arten schwächen das einfallende Licht eines Lichtleiters, der mit einem Ringbeschlag oder einer Muffe versehen ist, unter Verwendung eines Dünnfilmfilters ab.

Fig. 3 zeigt ein konventionelles optisches Dämpfungsglied 58 des Einstecktyps. Das optische Dämpfungsglied 58 weist einen Verbinder 58a auf, der an einen Lichtübertragungskasten des Lichtübertragungsnetzwerks angeschlossen ist, sowie einen Adapter 58b, der mit einem Lichtverteilerkasten verbunden ist.

Ein Ringbeschlag 50, an welchem ein Übertragungslichtleiter 52 befestigt ist, ist im Inneren des optischen Dämpfungsglieds 58 angebracht. Eine Muffe 56 zum Schutz des Lichtleiters 52 gegen Umgebungseinflüsse und zur Befestigung des Ringbeschlages 50 ist auf einer Seite des Ringbeschlages 50 angebracht und haltert den Lichtleiter 52. Ein Dünnfilmfilter 54 dämpft die Stärke des einfallenden Lichtes des Lichtleiters 52 und ist zwischen geschnittenen Oberflächen des Lichtleiters 52 angebracht, die an dem Ringbeschlag 50 in einem Winkel von 8 Grad befestigt sind.

Zum Abschwächen oder Dämpfen des Einfallslichtes durch Reflektieren oder Absorbieren des Lichtsignals ist das Dünnfilmfilter 54 beschichtet, so daß eine Mehrschichtanordnung ausgebildet wird, unter Verwendung verschiedener Metallelemente, und schließlich werden seine beiden Oberflächen mit einer reflexvermindernden Beschichtung beschichtet, um eine Reflexverminderung von 99,8% oder mehr aufrechtzuerhalten.

Da es jedoch bei dem konventionellen optischen Dämpfungsglied des Einstecktyps schwierig ist, das Dünnfilmfilter so zu bearbeiten, daß eine reflexvermindernde Beschichtung mit einer Reflexverminderung von 99,8% oder mehr vorhanden ist, tritt das Lichtsignal, welches in einem mit sehr hoher Geschwindigkeit arbeitenden Lichtübertragungsnetzwerk mit 2,5 Gbps oder mehr reflektiert wird, in entgegengesetzte Richtung in das Innere des Lichtleiters ein. Daher kann ein Fehler bei dem Lichtsignal auftreten. Darüber hinaus können sich die Eigenschaften des Lichtsignals in Abhängigkeit von der Wellenlänge ändern, da das Dünnfilmfilter mit der Dünnfilmbeschichtung und der reflexvermindernden Beschichtung einfach durch Temperatur- und Feuchtigkeitseinflüsse beeinträchtigt werden kann.

Da der Lichtleiter in einem Winkel von 8 Grad geschnitten ist, und das Dünnfilmfilter zwischen den Ringbeschlägen befestigt ist, so daß das Einfallslicht des Lichtleiters gedämpft wird, sollte infolge der Tatsache, daß beim Anschluß des optischen Verbinders kein Kontakt mit dem Dünnfilmfilter auftritt, ein optischer Adapter verwendet werden, der an den Lichtverteilerkasten angeschlossen ist, so daß daher zusätzliche optische Bauteile verwendet werden müssen. Dies führt zu einer Erhöhung der Kosten, und darüber hinaus ist es schwierig, den optischen Verbinder in dem Lichtverteilerkasten eng gepackt anzuordnen.

Fig. 2 zeigt ein weiteres konventionelles optisches Dämpfungsglied, diesesmal vom Zwischenschaltungstyp. Ein erster Verbinder 16, der an den Lichtübertragungskasten des Lichtübertragungsnetzwerkes angeschlossen ist, sowie ein zweiter Verbinder 18, der an den Lichtverteilerkasten angeschlossen ist, sind an entgegengesetzten Enden des optischen Dämpfungsgliedes angebracht. Der erste und zweite Verbinder 16 und 18 sind durch ein Lichtkabel 100 verbunden. Die äußerste Schicht des Lichtkabels 100 ist mit Rohren 34a und 34b abgedeckt, um Lichtleiter 30a und 30b gegenüber Änderungen der Umgebungseinflüsse zu schützen.

Der mittlere Abschnitt des Lichtkabels 100 ist durchgeschnitten, und ein Ringbeschlag 32a ist so angebracht, daß der Lichtleiter 30a gehaltert und befestigt wird, der freigelegt wird, wenn ein Teil des Lichtkabelrohrs 34a, welches an den ersten Verbinder 16 angeschlossen ist, freigelegt wird. Entsprechend ist ein Ringbeschlag 32b so angebracht, daß er den Lichtleiter 30b haltert und befestigt, der freigelegt wird, wenn ein Teil des Lichtkabelrohrs 34b freigelegt wird, welches an den zweiten Verbinder 18 angeschlossen ist. In diesem Falle werden die Lichtleiter 30a und 30b geschnitten. Ein Dünnfilmfilter 36 zur Abschwächung oder Dämpfung der Stärke des einfallenden Lichts des Lichtleiters 30a ist zwischen den Lichtleitern 30a und 30b in einem Winkel von 8 Grad angeordnet. Das Dünnfilmfilter 36 wird durch das voranstehend geschilderte Verfahren hergestellt. Ein Gehäuse 38 schützt das Dünnfilmfilter 36 und die Ringbeschläge 32a und 32b, an welchen die Lichtleiter 30a und 30b befestigt sind.

Da es jedoch bei dem konventionellen optischen Dämpfungsglied des Zwischenschalttyps schwierig ist, das Dünnfilmfilter so zu bearbeiten, daß eine reflexvermindernde Beschichtung mit einer Reflexverminderung von 99,8% oder mehr vorhanden ist, tritt das Lichtsignal, welches in einem mit sehr hoher Geschwindigkeit arbeitenden Lichtübertragungsnetzwerk von 2,5 Gbps oder mehr reflektiert wird, in entgegengesetzter Richtung ins Innere des Lichtleiters ein. Daher kann ein Fehler bei dem Lichtsignal auftreten. Da das Dünnfilmfilter mit der Dünnfilmbeschichtung und der reflexvermindernden Beschichtung einfach durch Temperatur- und Feuchtigkeitseinflüsse beeinträchtigt werden kann, können sich die Eigenschaften des Lichtsignals in Abhängigkeit von der Wellenlänge ändern. Da der mittlere Abschnitt des Lichtkabels geschnitten wird, und das Dünnfilmfilter zwischen den geschnittenen Oberflächen eingefügt wird, um das Einfallslicht des Lichtleiters abzuschwächen oder zu dämpfen, verschlechtern sich die Zugspannungseigenschaften des Lichtkabels, und ist es schwierig, ein zusätzliches Lichtkabel innerhalb des Lichtverteilerkastens anzubringen und dort handzuhaben.

Ein Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht in der Bereitstellung eines optischen Dämpfungsgliedes und eines Verfahrens zu dessen Herstellung, wobei das Dämpfungsglied so ausgebildet ist, daß es das Einfallslicht eines Lichtleiters ohne Verwendung eines zusätzlichen Dünnfilmfilters abschwächen oder dämpfen kann.

Gemäß einer Zielrichtung der vorliegenden Erfindung weist ein optisches Dämpfungsglied auf:

Einen Lichtleiter, dessen optische Eigenschaften zumindest ein Unstetigkeitsstelle aufweisen, welche die interenen Totalreflexionsbedingungen des Lichtleiters unterbricht, um so das durch den Lichtleiter übertragene Licht abzuschwächen oder zu dämpfen.

Die Unstetigkeitsstelle kann durch Änderungen der Brechungsindizes einer Kernschicht und einer Mantelschicht des Lichtleiters hervorgerufen werden.

Die Unstetigkeitsstelle kann mehrere Gitter umfassen, die in Intervallen von 500 nm bis 600 nm durch ein Phasenmaskierungsverfahren hergestellt werden. Die mehreren Gitter können über eine Entfernung von zwischen 1 und 10 cm vorgesehen sein.

Alternativ hierzu kann die Unstetigkeitsstelle mehrere Gitter aufweisen, die in Intervallen von 50 µm bis 60 µm durch ein Amplitudenmaskierungsverfahren ausgebildet werden. Die mehreren Gitter können über eine Entfernung von zwischen 1 und 5 cm vorgesehen sein.

Der Lichtleiter kann in einem Rohr angebracht sein, so daß er durch Änderungen der Umgebungsbedingungen im wesentlichen nicht beeinflußt wird.

Die vorliegende Erfindung stellt weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes zur Verfügung, welches folgende Schritte aufweist: Ausbildung zumindest einer Unstetigkeitsstelle bei den optischen Eigenschaften eines Lichtleiters, welche die internen Totalreflexionsbedingungen des Lichtleiters unterbricht, um so über den Lichtleiter übertragenes Licht abzuschwächen oder zu dämpfen.

Die Unstetigkeitsstelle wird dadurch ausgebildet, daß die Brechungsindizes einer Kernschicht und einer Mantelschicht des Lichtleiters geändert werden, wobei dies dadurch hervorgerufen wird, daß der Lichtleiter einen Excimer ausgesetzt wird.

Das Verfahren kann die Ausbildung mehrerer Gitter in Intervallen von 500 nm bis 600 nm unter Verwendung eines Phasenmaskierungsvorgangs umfassen. Der Excimerlaser kann Laserlicht mit einer Energie von 50 MW bis 400 MW aussenden, bei einer Spannung von 15 kV bis 19 kV, und einer Impulsfrequenz von 5 Hz bis 15 Hz. Die mehreren Gitter sind über eine Entfernung von zwischen 1 und 10 cm angeordnet.

Alternativ hierzu kann das Verfahren die Ausbildung mehrerer Gitter in Intervallen von 50 µm bis 60 µm unter Verwendung eines Amplitudenmaskierungsvorgangs umfassen. Der Excimerlaser kann Laserlicht bei einer Energie von 50 MW bis 400 MW, einer Spannung von 15 kV bis 19 kV und einer Impulsfrequenz von 5 Hz bis 15 Hz aussenden. Die mehreren Gitter können über eine Entfernung von zwischen 1 und 5 cm vorgesehen sein.

Die Erfindung wird nachstehend anhand zeichnerisch dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert, aus welchen weitere Vorteile und Merkmale hervorgehen. Es zeigt:

Fig. 3 ein konventionelles optisches Dämpfungsglied des Einstecktyps;

Fig. 2 ein konventionelles optisches Dämpfungsglied des dazwischengeschalteten Typs;

Fig. 1 ein optisches Dämpfungsglied, welches unter Verwendung eines Excimerlasers gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellt wird;

Fig. 4 ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes unter Verwendung eines Excimerlasers mit einem Phasenmaskierungsverfahren;

Fig. 5 ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes unter Verwendung eines Excimerlasers durch ein Amplitudenmaskierungsverfahren; und

Fig. 6 ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes unter Verwendung eines Excimerlasers durch ein Amplitudenmaskierungsverfahren.

Fig. 1 zeigt ein optisches Dämpfungsglied, welches unter Verwendung eines Excimerlasers hergestellt wird. In Fig. 1 weist ein Gitter 10 ein erstes Gitter 10a auf, welches in Fig. 4 gezeigt ist, ein in Fig. 5 dargestelltes zweites Gitter 10b, und ein in Fig. 6 gezeigtes drittes Gitter 10c. Ein erster Verbinder 16, der an einen Lichtübertragungskasten eines optischen Übertragungsnetzwerks angeschlossen ist, und ein zweiter Verbinder 18, der an einen Lichtverteilerkasten angeschlossen ist, sind an den beiden Enden des optischen Dämpfungsgliedes angebracht. Der erste und zweite Verbinder 16 und 18 sind über ein Lichtkabel 100 verbunden. Die äußerste Schicht des Lichtkabels 100 ist mit einem Rohr 14 abgedeckt, um den Lichtleiter 12 gegenüber Änderungen der Außenbedingungen zu schützen.

In dem Lichtleiter 12, der aus einer Kernschicht und einer Mantelschicht besteht, werden mehrere Gitter 10 durch die Lichtquelle des Excimerlasers in regelmäßigen Abständen ausgebildet, um Licht abzuschwächen oder zu dämpfen, welches über den Lichtleiter 12 übertragen wird, und zwar in einem gewünschten Ausmaß während der Lichtübertragung. Dies wird dadurch erzielt, daß die Brechungsindizes der Kernschicht und der Mantelschicht des Lichtleiters 12 variiert werden, und auf diese Weise die internen Totalreflexionsbedingungen unterbrochen werden. Wenn nämlich die Lichtquelle, also der starke Excimerlaser, auf den Lichtleiter 12 einwirkt, so werden Ionen, die sich in der Kernschicht des Lichtleiters 12 befinden, durch die Lichtenergie rekombiniert, so daß sich der Brechungsindex der Kernschicht des Lichtleiters 12 ändert. Dann sind die Bedingungen für interne Totalreflexion nicht erfüllt, infolge eines Unterschiedes bezüglich des Brechungsindex zwischen der Kernschicht und der Mantelschicht, und werden die Gitter 10 ausgebildet. Das Ausmaß der Lichtdämpfung kann dadurch eingestellt werden, daß die Zeit eingestellt wird, in welcher der Excimerlaser einwirkt, sowie die Fläche des Lichts, welches auf den Lichtleiter 12 einwirkt.

Verfahren zur Herstellung des optischen Dämpfungsgliedes von Fig. 1 werden nachstehend unter Bezugnahme auf die Fig. 4, 5 und 6 beschrieben. Fig. 4 zeigt ein Verfahren zur Herstellung des optischen Dämpfungsgliedes, bei welchem der Lichtleiter dem Licht des Excimerlasers in regelmäßigen Abständen mit einem Phasenmaskierungsverfahren ausgesetzt wird. Um die Bedingungen für interne Totalreflexion dadurch zu unterbrechen, daß die Brechungsindizes der Kernschicht und der Mantelschicht des Lichtleiters 12 geändert werden, wird das vom Excimerlaser ausgesandte Licht unter Verwendung eines Phasenmaskierungsvorgangs dem Lichtleiter 12 zugeführt.

Der Excimerlaser schickt sein Ausgangslicht an den Lichtleiter 12 mit einer Energie von 50 MW bis 400 MW, bei einer Spannung von 15 kV bis 19 kV, und einer Inpulsfrequenz pro Zeiteinheit von 5 Hz bis 15 Hz. Dann werden in regelmäßigen Intervallen a1, a2 und a3 mehrere erste Gitter 10a ausgebildet, welche die Funktion eines optischen Dämpfungsgliedes zur Abschwächung des Einfallslichtes des Lichtleiters 12 haben, um eine gewünschte Menge, während der Lichtübertragung, und welche die Funktion eines Lichtfilters zum Reflektieren oder Durchlassen des Lichts bei anderen Wellenlängen haben. Die Intervalle a1, a2 und a3 werden jeweils innerhalb des Bereiches von 500 nm bis 600 nm eingestellt. Ein Gitter oder zwei oder mehr Gitter können innerhalb einer Entfernung von 1 cm bis 10 cm ausgebildet werden, je nach gewünschter Lichtdämpfungsmenge. Das Dämpfungsglied, welches durch den voranstehend geschilderten Phasenmaskierungsvorgang hergestellt wird, kann bei Wellenlängen um 1550 nm herum verwendet werden.

Fig. 5 zeigt ein Verfahren zur Herstellung des optischen Dämpfungsgliedes, bei welchem der Lichtleiter dem Ausgangslicht des Excimerlasers in regelmäßigen Intervallen unter Verwendung eines Amplitudenmaskierungsvorgangs ausgesetzt wird. Um die Bedingungen für interne Totalreflexion dadurch zu unterbrechen, daß die Brechungsindizes der Kernschicht und der Mantelschicht des Lichtleiters 12 geändert werden, wird das Ausgangslicht des Excimerlasers dem Lichtleiter 12 unter Verwendung eines Amplitudenmaskierungsvorgangs zugeführt. Der Excimerlaser schickt sein Ausgangslicht an den Lichtleiter 12 bei einer Energie von 50 MW bis 400 MW, einer Spannung von 15 kV bis 19 kV, und einer Impulsfrequenz von 5 Hz bis 15 Hz.

Mehrere zweite Gitter 10b zur Dämpfung oder Abschwächung des Einfallslichts des Lichtleiters 12 in einem gewünschten Ausmaß während der Lichtübertragung werden in regelmäßigen Intervallen b1, b2 und b3 hergestellt. Die Intervalle b1, b2 und b3 werden jeweils innerhalb des Bereiches von 50 µm bis 60 µm eingestellt. Ein Gitter oder zwei oder mehrere Gitter können innerhalb einer Entfernung von 1 cm bis 5 cm je nach gewünschtem Ausmaß der Lichtdämpfung vorgesehen sein. Das Dämpfungsglied, welches durch den voranstehend geschilderten Amplitudenmaskierungsvorgang hergestellt wird, kann bei Wellenlängen um 1550 nm herum verwendet werden.

Fig. 6 zeigt ein Verfahren zur Herstellung des optischen Dämpfungsgliedes, bei welchem der Lichtleiter nacheinander mit dem Excimerlaser unter Verwendung eines Amplitudenmaskierungsvorgangs bestrahlt wird. Um die Totalreflexionsbedingungen durch Änderung der Brechungsindizes der Kernschicht und der Mantelschicht des Lichtleiters 12 zu unterbrechen, wird das Ausgangslicht des Excimerlasers dem Lichtleiter 12 unter Verwendung eines Amplitudenmaskierungsvorgangs zugeführt. Der Excimerlaser schickt das Ausgangslicht an den Lichtleiter 12 bei einer Energie von 50 MW bis 400 MW, einer Spannung von 15 kV bis 19 kV, und einer Impulsfrequenz von 5 Hz bis 15 Hz. Dann wird ein drittes Gitter 10c zum Dämpfen des Einfallslichtes des Lichtleiters 12 im gewünschten Ausmaß während der Lichtübertragung ohne irgendwelche Intervalle über eine Länge von 1 cm bis 5 cm ausgebildet. Das Dämpfungsglied, welches durch den voranstehend geschilderten Amplitudenmaskierungsvorgang hergestellt wird, kann bei Wellenlängen um 1550 nm herum verwendet werden.

Wie voranstehend geschildert wird die Funktion des optischen Dämpfungsgliedes direkt in dem Lichtleiter erzielt, der in dem Lichtkabel angebracht ist. Daher wird das optische Dämpfungsglied nicht durch Temperatur oder Feuchte beeinflußt. Da das optische Dämpfungsglied dadurch hergestellt wird, daß es mit dem Licht des Excimerlasers bestrahlt wird, kann es einfach hergestellt werden, und läßt sich ein zusätzliches Lichtkabel innerhalb des Lichtverteilerkastens einfach bearbeiten und handhaben. Es wird kein zusätzliches Dünnfilmfilter verwendet, und daher lassen sich die Kosten des Erzeugnisses verringern. Wenn das optische Dämpfungsglied in dem Lichtverteilerkasten angebracht wird, werden keine zusätzlichen optischen Bauteile verwendet, und daher kann die Anzahl an optischen Bauteilen verringert werden. Darüber hinaus läßt sich das Gewicht des Erzeugnisses minimieren.

Claims (19)

1. Optisches Dämpfungsglied, welches aufweist: einen Lichtleiter, dessen optische Eigenschaften zumindest eine Unstetigkeitsstelle aufweisen, welche die Bedingungen für interne Totalreflexion des Lichtleiters unterbricht, um so durch den Lichtleiter übertragenes Licht zu dämpfen.

2. Optisches Dämpfungsglied nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Unstetigkeitsstelle durch Änderungen der Brechungsindizes einer Kernschicht und einer Mantelschicht des Lichtleiters verursacht wird.

3. Optisches Dämpfungsglied nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Unstetigkeitsstelle mehrere Gitter aufweist, die in Intervallen von 500 nm bis 600 nm durch ein Phasenmaskierungsverfahren hergestellt werden.

4. Optisches Dämpfungsglied nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die mehreren Gitter über eine Entfernung von zwischen 1 und 10 cm vorhanden sind.

5. Optisches Dämpfungsglied nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Unstetigkeitsstelle mehrere Gitter aufweist, die in Intervallen von 50 µm bis 60 µm durch ein Amplitudenmaskierungsverfahren hergestellt werden.

6. Optisches Dämpfungsglied nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die mehreren Gitter über eine Entfernung von zwischen 1 und 5 cm vorhanden sind.

7. Optisches Dämpfungsglied nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es für den Einsatz bei Wellenlängen um 1550 nm herum ausgebildet ist.

8. Optisches Dämpfungsglied nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Lichtleiter in einem Rohr angebracht ist, so daß er durch Änderungen der Umgebungsbedingungen praktisch nicht beeinflußt wird.

9. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes mit folgenden Schritten: Ausbildung zumindest einer Unstetigkeitsstelle in den optischen Eigenschaften eines Lichtleiters, welche die Bedingungen für interne Totalreflexion des Lichtleiters unterbricht, so daß durch den Lichtleiter übertragenes Licht gedämpft wird.

10. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Unstetigkeitsstelle durch Änderung der Brechungsindizes einer Kernschicht und einer Mantelschicht des Lichtleiters ausgebildet wird.

11. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Änderungen dadurch erzeugt werden, daß der Lichtleiter mit einem Excimerlaser bestrahlt wird.

12. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß unter Verwendung eines Phasenmaskierungsverfahrens mehrere Gitter in Intervallen von 500 nm bis 600 nm ausgebildet werden.

13. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Excimerlaser Laserlicht bei einer Energie von 50 MW bis 400 MW, einer Spannung von 15 kV bis 19 kV und einer Impulsfrequenz von 5 Hz bis 15 Hz aussendet.

14. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die mehreren Gitter über eine Entfernung von zwischen 1 und 10 cm hergestellt werden.

15. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Gitter in Intervallen von 50 µm bis 60 µm unter Verwendung eines Amplitudenmaskierungsverfahrens hergestellt werden.

16. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Excimerlaser Laserlicht bei einer Energie von 50 MW bis 400 MW, einer Spannung von 5 kV bis 19 kV und einer Impulsfrequenz von 5 Hz bis 15 Hz aussendet.

17. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß die mehreren Gitter über eine Entfernung von zwischen 1 und 5 cm hergestellt werden.

18. Optisches Dämpfungsglied wie unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben und/oder in diesen gezeigt.

19. Verfahren zur Herstellung eines optischen Dämpfungsgliedes wie unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben und/oder in diesen dargestellt.