DE19717235A1 - Wärmerohr und Verfahren zur Herstellung desselben - Google Patents

Wärmerohr und Verfahren zur Herstellung desselben

Info

Publication number
DE19717235A1
DE19717235A1 DE19717235A DE19717235A DE19717235A1 DE 19717235 A1 DE19717235 A1 DE 19717235A1 DE 19717235 A DE19717235 A DE 19717235A DE 19717235 A DE19717235 A DE 19717235A DE 19717235 A1 DE19717235 A1 DE 19717235A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
capillary
heat pipe
powder particles
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19717235A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19717235B4 (de
Inventor
Rudolf Dr Henne
Doerte Dipl Ing Laing
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Deutsches Zentrum fuer Luft und Raumfahrt eV
Original Assignee
Deutsches Zentrum fuer Luft und Raumfahrt eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Deutsches Zentrum fuer Luft und Raumfahrt eV filed Critical Deutsches Zentrum fuer Luft und Raumfahrt eV
Priority to DE19717235A priority Critical patent/DE19717235B4/de
Priority to PCT/EP1998/000308 priority patent/WO1998033031A1/de
Priority to CA002250415A priority patent/CA2250415C/en
Publication of DE19717235A1 publication Critical patent/DE19717235A1/de
Priority to US09/162,010 priority patent/US6303191B1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE19717235B4 publication Critical patent/DE19717235B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D15/00Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies
    • F28D15/02Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes
    • F28D15/04Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes with tubes having a capillary structure
    • F28D15/046Heat-exchange apparatus with the intermediate heat-transfer medium in closed tubes passing into or through the conduit walls ; Heat-exchange apparatus employing intermediate heat-transfer medium or bodies in which the medium condenses and evaporates, e.g. heat pipes with tubes having a capillary structure characterised by the material or the construction of the capillary structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Wärmerohr zum Transport von Wärme von einem Verdampfungsbereich zu einem Kondensationsbereich, umfassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Gehäuse angeordnete und im Verdampfungsbereich sowie im Konden­ sationsbereich jeweils mit der entsprechenden Gehäusewand thermisch gekoppelte Kapillarstruktur, einen in dem Gehäuse angeordneten und vom Verdampfungsbereich zum Kondensations­ bereich führenden Dampfkanal sowie einem Wärmetransport­ medium.
Derartige Wärmerohre sind aus dem Stand der Technik bekannt, bei diesen wird üblicherweise als Kapillarstruktur eine Struktur, hergestellt aus metallischen Netzen, Filzen oder Drahtgeweben, verwendet, wobei die Herstellung aufwendig und kostenintensiv ist da durch eine Vielzahl von manuell durch­ zuführenden Punktschweißungen ein fester und enger Kontakt zwischen der Kapillarstruktur und der Wärmerohrwandung ge­ geben sein muß.
Ferner besteht bei diesen Lösungen das Problem, daß beim Langzeiteinsatz innere Korrosion durch den nur schwer ver­ meidbaren Restsauerstoff oder durch Diffusionsvorgänge, vor­ wiegend im Bereich der durch das Punktschweißen in ihrem Ge­ füge veränderten Kontaktstellen, auftreten können.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Wärmerohr mit einer möglichst einfach herzustellenden und dauerhaft einsetzbaren Kapillarstruktur zu schaffen sowie ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Wärmerohrs zur Verfügung zu stellen.
Diese Aufgabe wird bei einem Wärmerohr der eingangs beschrie­ benen Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kapillar­ struktur eine durch thermisches Plasmaspritzen von Pulver­ partikeln hergestellte offenporige Kapillarschicht ist.
Der Vorteil der erfindungsgemäßen Lösung ist darin zu sehen, daß das thermische Plasmaspritzen eine einfache Möglichkeit darstellt, schnell und mit hoher Leistungen offenporige Kapillarschichten aus Pulverpartikeln herzustellen, wobei sich die Porosität der Kapillarschicht durch geeignete Betriebsparameter beim Plasmaspritzen definiert einstellen läßt.
Die Kapillarschicht kann dabei aus den unterschiedlichsten Materialien hergestellt werden. So sieht ein vorteilhaftes Ausführungsbeispiel vor, daß die Kapillarschicht aus Pulver­ partikeln aus metallischem Ausgangsmaterial hergestellt ist, wobei hier nicht nur reine Metalle, sondern jede Art von Legierungen eingesetzt werden kann. Beispielsweise können hierbei für Hochtemperaturanwendungen, vorzugsweise von über 1000° Celsius, refraktäre Metall oder Nickel oder Nickel­ basislegierungen eingesetzt werden, während beispielsweise im Raumtemperaturbereich Messing, Bronze oder Aluminium einge­ setzt werden können.
Alternativ dazu ist vorzugsweise vorgesehen, daß die Kapil­ larschicht aus Pulverpartikeln aus keramischem Ausgangs­ material hergestellt ist, wobei jede Art von keramischen Materialien verwendet werden kann.
Eine wichtige Randbedingung bei allen Materialien für die Herstellung der Kapillarschicht ist die, daß diese gegenüber dem jeweiligen Wärmeträgermedium inert sind.
Eine besonders vorteilhafte Struktur der Kapillarschicht liegt dann vor, wenn diese durch oberflächliches Anschmelzen und die dabei sich bildende und über benachbarte Pulverparti­ kel verlaufende Schmelzschicht miteinander verbundende Pulverpartikel aufweist. Das heißt, daß die Pulverpartikel lediglich dadurch miteinander zu einer festen Schicht ver­ bunden werden, daß sie oberflächlich angeschmolzen sind und eine sich zumindest über einen Teil ihrer Oberfläche er­ streckende Schmelzschicht tragen, die wiederum dafür sorgt, daß mit der Schmelzschicht von benachbarten Pulverpartikeln eine Art teilweiser "Überzug" für benachbarte Pulverpartikel entsteht und dieser "Überzug" die Pulverpartikel dann in der Kapillarschicht selbst zusammenhält.
Ein besonders günstiges Konzept sieht dabei vor, daß die Pulverpartikel in der Kapillarschicht jeweils unterhalb der Schmelzschicht eine gegenüber dem Zustand vor dem Plasma­ spritzen unveränderte Kristallstruktur aufweisen. Diese Lösung hat den großen Vorteil, daß die Kristallstruktur in den Pulverpartikeln mit Ausnahme der Schmelzschicht keinerlei Veränderung erfährt und somit auch die Bildung von uner­ wünschten Strukturen oder Verbindungen unterbleibt, so daß derartige Kapillarschichten eine hohe Lebensdauer bei gleich­ zeitig auch hoher mechanischer Stabilität aufweisen.
Ein derartiger Verbund aus oberflächlich angeschmolzenen Pulverpartikeln läßt sich mit homogen aufgebauten Pulver­ partikeln realisieren, wobei beim Plasmaspritzen ein Umfang oder Grad des Anschmelzens der Partikel durch Einstellung der Parameter definierbar ist.
Noch vorteilhafter ist es jedoch, wenn die Pulverpartikel als über einem Durchmesser von innen nach außen einen variieren­ den Schmelzpunkt aufweisende Partikel aufgebaut sind, wobei der Schmelzpunkt vorzugsweise von innen nach außen abnimmt. Im einfachsten Fall sind die Partikel hierbei aus einem Kern und einer Schale aufgebaut oder auch als mehrschalige Parti­ kel, beispielsweise mindestens zweischalige Partikel, ausge­ bildet, wobei Kern und Schale oder die mehreren Schalen aus Materialien mit unterschiedlichen Schmelzpunkten aufgebaut sind, vorzugsweise so, daß der Schmelzpunkt einer äußeren Schale niedriger liegt als der einer der inneren Schalen oder des Kerns, wobei vorzugsweise die Schmelzpunkte stufenweise von innen nach außen abnehmen.
Damit besteht die Möglichkeit beim Plasmaspritzen beispiels­ weise nur die äußerste Schale aufzuschmelzen, deren Material dann zur Verfügung steht, um einen stabilen Verbund zwischen den einzelnen Partikeln zu gewährleisten, während der Kern­ bereich unaufgeschmolzen bleibt und somit die Entstehung der porösen Schicht mit der gewünschten Porengröße gewährleistet.
Im Rahmen der bisher beschriebenen Ausführungsbeispiele wurde die Größe der Pulverpartikel nicht näher definiert. So sieht ein besonders vorteilhaftes Ausführungsbeispiel vor, daß die Pulverpartikel eine Partikelgröße von ungefähr 30 µm bis un­ gefähr 300 µm aufweisen. Noch vorteilhafter ist es, wenn die Pulverpartikel eine Partikelgröße von ungefähr 50 µm bis un­ gefähr 200 µm aufweisen.
Ferner wurden im Zusammenhang mit der bisherigen Erläuterung der einzelnen Ausführungsbeispiele auch nicht die Porengröße näher definiert. So sieht ein vorteilhaftes Ausführungsbei­ spiel vor, daß die Kapillarschicht Poren mit einer einge­ stellten mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 10 µm und ungefähr 1000 µm aufweist. Noch vorteilhafter ist eine Ausbildung einer Kapillarschicht, welche Poren mit einer mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 50 µm bis unge­ fähr 300 µm aufweist.
Die Porengröße könnte, wenn eine mittlere Porengröße einge­ halten wird, erheblichen Schwankungen nur diese mittlere Porengröße unterliegen.
Besonders vorteilhaft ist es jedoch, insbesondere um eine definierbare Wirkung der Kapillarschicht zu erhalten, wenn in einem Volumenbereich der kleinste Wert und der größte Wert der Porengröße sich maximal um einen Faktor von ungefähr zwei unterscheiden, das heißt z. B. der kleinste Wert maximal unge­ fähr die Hälfte des größten Wertes beträgt.
Rein prinzipiell wäre es denkbar, die Kapillarschicht un­ mittelbar auf einem für diese vorgesehenen Träger, beispiels­ weise einer Gehäusewand, aufzutragen. Aus Gründen der mecha­ nischen Stabilität und des guten Wärmekontakts sieht eine besonders zweckmäßige Lösung vor, daß zwischen der Kapillar­ schicht und einem Träger für diese eine Haftschicht mittels Plasmaspritzen aufgetragen wird.
Eine derartige Haftschicht bietet dann besonders große Vor­ teile, wenn diese aus demselben Pulvermaterial wie die Kapillarschicht hergestellt ist.
Die Haftschicht selbst braucht dabei nicht porös ausgebildet zu sein. Vorzugsweise ist die Haftschicht als durchgängige Schicht ausgebildet, welche insbesondere ein geringere Poro­ sität als die Kapillarschicht oder sogar gar keine Porosität mehr aufweist.
Eine vorteilhafte Lösung sieht dabei vor, daß die Haftschicht eine Dicke von mehr als ungefähr 10 µm aufweist.
Vorzugsweise werden zum Herstellen der Haftschicht mittels Plasmaspritzen Pulverpartikel mit einer mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 5 µm und ungefähr 50 µm eingesetzt.
Um die gewünschte Wirkung, insbesondere die Transportwirkung, der Kapillarschicht im Wärmerohr zu verbessern, ist vorteil­ hafterweise vorgesehen, daß die Kapillarschicht eine sich in einer vorgegebenen Richtung ändernde Porengröße aufweist, wobei sich die Porengröße entweder in Stufen ändern kann, oder noch besser eine kontinuierliche Änderung vorgesehen ist.
Eine Möglichkeit der Nutzung einer variierenden Porengröße sieht vor, daß die Porengröße im Kondensationsbereich größer ist als im Verdampfungsbereich und von dem Kondensations­ bereich zu dem Verdampfungsbereich hin kontinuierlich kleiner wird.
Eine weitere Möglichkeit der Nutzung einer variierenden Porengröße sieht vor, daß die Porengröße der Kapillarschicht von einer Gehäuseseite in Richtung einer Dampfkanalseite kleiner wird, um einerseits auf der Gehäuseseite geringe Strömungsverluste zu haben und auf der Dampfkanalseite der Kapillarschicht eine hohe Kapillarkraft zu erhalten.
Prinzipiell wäre es möglich, bei Einsatz einer Haftschicht auf diese unmittelbar die Kapillarschicht mit einer defi­ nierten mittleren Porengröße aufzutragen. Eine besonders günstige Lösung sieht jedoch vor, daß die Kapillarschicht von der Haftschicht ausgehend zunehmend kleiner werdende Poren aufweist. Das heißt, daß die Kapillarschicht hinsichtlich ihrer Porosität ausgehend von der Haftschicht einen Gradient zu immer kleineren Poren aufweist, so daß die größten Poren der Kapillarschicht nahe der Haftschicht liegen und die feinsten Poren in einem dem Dampfkanal zugewandten Bereich der Kapillarschicht.
Hinsichtlich des Aufbaus der erfindungsgemäßen Wärmerohre wurden im Zusammenhang mit den bislang beschriebenen An­ sprüchen keine näheren Angaben gemacht. So sieht ein vorteil­ haftes Ausführungsbeispiel vor, daß die Kapillarschicht Teil eines in das Gehäuse des Wärmerohrs eingesetzten Einsatzes ist.
Ein derartiger Einsatz läßt sich außerhalb des Gehäuses durch Plasmaspritzen herstellen und dann in vorteilhafterweise in das Gehäuse einsetzen und mit diesem in Verbindung bringen.
Eine alternative Lösung hierzu sieht vor, daß das die Kapillarstruktur umfassende Gehäuse aus mindestens zwei Teilen zusammengesetzt ist und daß mindestens eines der Teile auf einer Innenseite mit der Kapillarschicht versehen ist, wobei im einfachsten Fall dieses eine Teil oder beide Teile innenbeschichtet sind.
Ein derartiges Teil läßt sich in besonders einfacher Weise durch direktes Beschichten des Teils auf der Innenseite mit der Kapillarschicht herstellen.
Die Teile sind vorzugsweise durch Fügen, insbesondere Schweißen, miteinander verbunden.
Im Fall koaxialer Wärmerohre ist vorzugsweise vorgesehen, daß die jeweils einander zugewandten Kapillarschichten über soge­ nannte als Kapillarstruktur ausgebildete Arterien miteinander in kapillarem Kontakt stehen. Diese Arterien sind vorzugs­ weise an einer der Kapillarschichten gehalten. Im einfachsten Fall sind die Arterien aus herkömmlichen für Kapillarstruk­ turen geeigneten flexiblen netz- oder filzähnlichen Mate­ rialien hergestellt.
Eine besonders an die Herstellungstechnik der erfindungs­ gemäßen Lösung angepaßte Ausführungsform sieht ferner vor, daß die Arterien einstückig an eine der einander zugewandten Kapillarschichten angeformt sind und im zusammengebauten Zu­ stand des Wärmerohrs an der jeweils anderen Kapillarschicht mit Kapillarkontakt anliegen.
Die erfindungsgemäße Aufgabe wird ferner bei einem Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs zum Transport von Wärme von einem Verdampfungsbereich zu einem Kondensationsbereich, um­ fassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Gehäuse angeordnete und im Verdampfungsbereich sowie im Konden­ sationsbereich jeweils mit der entsprechenden Gehäusewand thermisch gekoppelte Kapillarstruktur, einen in dem Gehäuse angeordneten und vom Verdampfungsbereich zum Kondensations­ bereich führenden Dampfkanal sowie ein Wärmetransportmedium, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kapillarstruktur durch thermisches Plasmaspritzen von Pulverpartikeln als offenporige Kapillarschicht hergestellt wird.
Der Vorteil der Herstellung der Kapillarstruktur in Form einer offenporigen Kapillarschicht durch Plasmaspritzen wurde bereits im Zusammenhang mit dem erfindungsgemäßen Wärmerohr erläutert, so daß hierauf vollinhaltlich Bezug genommen werden kann.
Besonders zweckmäßig ist es hierbei, wenn das thermische Plasmaspritzen ein HF-Plasmaspritzen ist. Der Vorteil des HF-Plasmaspritzens ist insbesondere darin zu sehen, daß ein HF-Plasmabrenner elektrodenlos arbeitet, so daß keinerlei Ver­ unreinigungen durch Elektrodenabbrand auftreten können. Ferner bietet ein HF-Plasmabrenner den Vorteil, daß ein rela­ tiv voluminöses Plasma durch die Hochfrequenzeinkopplung er­ folgt und somit ein großer Aufschmelzbereich zur Verfügung steht, um insbesondere auch große Partikel anzuschmelzen, was bei der erfindungsgemäßen Lösung erforderlich ist, wenn eine offenporige Kapillarschicht hergestellt werden soll.
Ferner hat das HF-Plasmaspritzen den Vorteil, daß die Plasma­ strömungs- und auch die Pulverpartikelgeschwindigkeiten im Vergleich zum DC-Plasmaspritzen niedrig sind, so daß eine relativ lange Verweilzeit der Pulverpartikel im heißen Plasmabereich erreichbar ist, die sich ebenfalls beim An­ schmelzen großer Partikel vorteilhaft auswirkt.
Darüber hinaus hat das Plasmaspritzen neben der Effizienz und der Schnelligkeit den großen Vorteil, daß sich durch das Ein­ stellen der einzelnen Parameter des HF-Plasmabrenners eine definierte Porosität der Kapillarschicht, insbesondere eine definierte mittlere Porengröße einstellen läßt.
Eine besonders günstige Verfahrensführung sieht vor, daß das Plasmaspritzen so ausgeführt wird, daß die Pulverpartikel oberflächlich angeschmolzen werden, so daß sich in der Kapil­ larschicht eine sich über mehrere Pulverpartikel erstreckende Schmelzschicht ausbildet, welche im erstarrten Zustand die Pulverpartikel zusammenhält.
Besonders günstig ist es hierbei, wenn das Plasmaspritzen derart durchgeführt wird, daß die Pulverpartikel unterhalb der Schmelzschicht eine Kristallstruktur aufweisen, welche der der Pulverpartikel vor dem Plasmaspritzen entspricht.
Grundsätzlich eröffnet das HF-Plasmaspritzen die Möglichkeit Pulverpartikel mit über ihrem Querschnitt im wesentlichen homogener Materialzusammensetzung zu verwenden, da sich mit geeigneten Parametern der Umfang des oberflächlichen An­ schmelzens der Pulverpartikel einstellen läßt.
Noch vorteilhafter läßt sich jedoch das Anschmelzen der Pulverpartikel vorgeben, wenn diese aus Material mit einem über dem Durchmesser variierenden Schmelzpunkt aufgebaut sind, wobei der Schmelzpunkt vorzugsweise von innen nach außen abnimmt. Im einfachsten Fall läßt sich dies mit mehr­ schalig oder mehrschichtig aufgebauten Partikeln realisieren, wobei durch einen stufenförmigen Verlauf des Schmelzpunkts, vorzugsweise eine stufenförmige Abnahme des Schmelzpunkts von innen nach außen, das Volumen des aufzuschmelzenden Materials und das Volumen des unaufgeschmolzenen Kerns festlegbar ist, so daß auch damit die Porengröße festlegbar ist.
Hinsichtlich der Größe der Pulverpartikel für das Plasma­ spritzen wurden bislang keine näheren Angaben gemacht. So sieht eine vorteilhafte Lösung vor, daß als Pulverpartikel solche mit einer mittleren Partikelgröße zwischen ungefähr 3 µm und ungefähr 300 µm verwendet werden.
Vorzugsweise findet eine mittlere Partikelgröße zwischen ungefähr 50 µm und ungefähr 200 µm Verwendung.
Im Zusammenhang mit den bislang erläuterten Ausführungsbei­ spielen wurde lediglich davon gesprochen, eine Kapillar­ schicht als solche herzustellen.
Beispielsweise könnte eine derartige Kapillarschicht direkt auf dem Träger aufgetragen werden.
Das ohnehin für die Herstellung der Kapillarschicht ver­ wendete Plasmaspritzen macht es nun in besonders einfacher Art und Weise möglich, vor einem Auftragen der Kapillar­ schicht auf einem Träger für diese eine Haftschicht mittels Plasmaspritzen auf zutragen. Eine derartige Haftschicht hat den Vorteil, daß einerseits ein guter mechanischer Kontakt zwischen der Kapillarschicht und dem Träger entsteht und andererseits auch ein guter thermischer Kontakt, so daß eine hohe mechanische und dauerfeste Verbindung zwischen der Kapillarschicht und dem Träger erhältlich ist.
Die Haftschicht kann prinzipiell aus einem Material sein, das sich von dem Material der Kapillarschicht unterscheidet. Eine besonders günstige Lösung sieht jedoch vor, daß die Haft­ schicht aus demselben Pulvermaterial wie die Kapillarschicht hergestellt ist.
Auch hinsichtlich der Porosität sind an die Haftschicht andere Anforderungen zu stellen. Die Haftschicht kann als poröse Schicht ausgebildet sein, sie muß jedoch nicht not­ wendigerweise als poröse Schicht ausgebildet sein. So ist es besonders vorteilhaft, wenn die Haftschicht beispielsweise als durchgehende Schicht hergestellt wird und somit noch eine zusätzliche Schutzschicht zwischen dem Gehäuse und der Kapil­ larschicht bildet und somit auch noch das Material des Ge­ häuses gegen Reaktionen mit dem Wärmeträgermedium schützt, was insbesondere dann von Vorteil ist, wenn die Wärmerohre bei hohen Temperaturen eingesetzt werden und andererseits erlaubt, für das Gehäuse Materialien zu verwenden, die bei direktem Kontakt zwischen Gehäuse und Wärmeträgermedium, bei­ spielsweise aufgrund von Korrosionserscheinungen oder anderen chemischen Reaktionen, nicht verwendbar wären.
Vorzugsweise ist dabei vorgesehen, daß die Haftschicht mit einer Dicke von mehr als ungefähr 10 µm hergestellt wird.
Hinsichtlich der verwendeten Pulverpartikel für das Auf­ bringen der Haftschicht mittels Plasmaspritzen ist vorzugs­ weise vorgesehen, daß die Haftschicht aus Pulverpartikeln einer mittleren Größe zwischen ungefähr 5 µm und ungefähr 50 µm hergestellt wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich besonders dazu eine Kapillarschicht mit einer sich in einer vorgegebenen Richtung ändernden mittleren Porengröße herzustellen, um damit - wie bereits beschrieben - die Wirkung der Kapillar­ schicht im Wärmerohr zu verbessern.
Bei Verwendung einer Haftschicht hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn die Kapillarschicht von der Haftschicht aus­ gehend mit zunehmend kleiner werdender mittlerer Porengröße hergestellt wird und somit ein Gradient innerhalb der Kapillarschicht hergestellt wird, der mit keinem anderen Ver­ fahren einfacher und effizienter hergestellt werden kann als mit Plasmaspritzen, da - wie bereits ausgeführt - die Poren­ größe durch Variation der Betriebsparameter beim Plasma­ spritzen einstellbar ist.
Hinsichtlich der Herstellung des Wärmerohrs selbst wurden bislang keine näheren Angaben gemacht. So sieht eine vorteil­ hafte Lösung vor, daß die Kapillarschicht als Teil eines Ein­ satzes hergestellt und dann in das Gehäuse eingesetzt wird.
Eine derartige, Teil eines Einsatzes bildende Kapillarschicht läßt sich beispielsweise in einfacher Weise dadurch her­ stellen, daß die Kapillarschicht durch Plasmaspritzen auf einen mit Trennmittel versehenen Formkörper aufgetragen und nach Erstarren zum Einsetzen in das Gehäuse von diesem abge­ nommen wird. Damit ist in einfacher Weise durch das ther­ mische Plasmaspritzen eine einen Formkörper darstellende Kapillarschicht herstellbar.
Eine Alternative zu der vorstehend beschriebenen Variante zur Herstellung eines Wärmerohrs sieht vor, daß das die Kapillar­ struktur umfassende Gehäuse aus mindestens zwei Teilen zusammengesetzt wird, von denen mindestens eines auf seiner Innenseite mit der Kapillarschicht versehen, im einfachsten Fall innenbeschichtet, wird. Die zwei Teile des Gehäuses lassen sich dabei in einfacher Weise durch jede Art von Fügen, beispielsweise Schweißen miteinander zu einem ge­ schlossenen Gehäuse verbinden.
Im Zusammenhang mit den bislang beschrieben Verfahren zur Herstellung der Wärmerohre wurde nicht darauf eingegangen, wie die Dampfkanäle hergestellt werden. Beispielsweise ist es denkbar, die Kapillarschicht rohrförmig auszubilden, so daß sie automatisch einen im Innern des Rohrs liegenden Dampf­ kanal umschließt.
Bei komplexeren konstruktiven Lösungen, beispielsweise bei koaxialen Wärmerohren ist jedoch vorzugsweise die Kapillar­ schicht gesondert mit mindestens einem, vorzugsweise mehreren Dampfkanälen zu versehen.
So sieht ein vorteilhaftes Ausführungsbeispiel vor, daß die Kapillarschicht durch teilweises Abtragen derselben mit einem Dampfkanal versehen wird.
Alternativ dazu ist es aber auch denkbar, die Kapillarschicht durch Einsetzen einer Maske beim Plasmaspritzen mit einem Dampfkanal zu versehen.
Eine andere Möglichkeit sieht vor, daß die Kapillarschicht durch Umspritzen eines herauslösbaren Körpers mit einem Dampfkanal versehen wird.
Weitere Merkmale und Vorteile sind Gegenstand der nachfolgen­ den Beschreibung sowie der zeichnerischen Darstellung einiger Ausführungsbeispiele.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 den grundsätzlichen Aufbau eines in Längs­ richtung aufgebrochenen Wärmerohrs;
Fig. 2 einen Längsschnitt durch ein erstes Ausfüh­ rungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Wärme­ rohrs;
Fig. 3 einen Schnitt längs Linie 3-3 durch das Wärmerohr gemäß Fig. 2;
Fig. 4 eine schematische Darstellung der Herstellung einer erfindungsgemäßen Kapillarschicht mittels eines HF-Plasmabrenners;
Fig. 5 eine schematisch dargestellte mikroskopische Struktur im Querschnitt durch die erfindungs­ gemäß hergestellte Kapillarschicht;
Fig. 6 eine schematische Darstellung eines Pulver­ partikels aus unterschiedliche Schmelzpunkte aufweisendem Material;
Fig. 7 eine schematisch dargestellt mikroskopische Struktur ähnlich Fig. 5 bei Verwendung von Pulverpartikeln gemäß Fig. 6;
Fig. 8 eine schematische Darstellung der Herstellung eines Einsatzes umfassend eine erfindungs­ gemäße Kapillarschicht;
Fig. 9 einen Querschnitt durch ein zweites Aus­ führungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Wärmerohrs;
Fig. 10 eine Darstellung einer Variante des zweiten Ausführungsbeispiels;
Fig. 11 eine schematische Darstellung eines dritten Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen Wärmerohrs im Querschnitt;
Fig. 12 einen Schnitt längs Linie 12-12 in Fig. 11;
Fig. 13 einen halbseitigen Querschnitt durch ein viertes Ausführungsbeispiel eines erfindungs­ gemäßen Wärmerohrs;
Fig. 14 einen Schnitt längs Linie 14-14 in Fig. 13;
Fig. 15 eine schematische ausschnittsweise Dar­ stellung eines Verfahrens zur Herstellung der Kapillarschicht mit Arterien des vierten Aus­ führungsbeispiels;
Fig. 16 einen halbseitigen Querschnitt durch ein fünftes Ausführungsbeispiel eines erfindungs­ gemäßen Wärmerohrs und
Fig. 17 einen Schnitt längs Linie 17-17 in Fig. 16.
Ein in Fig. 1 als Ganzes mit 10 bezeichnetes Wärmerohr umfaßt ein Gehäuse 12, beispielsweise ausgebildet als langge­ streckter Zylinder, mit Zylinderwänden 14 und Abschlußwänden 16 und 18. In dem geschlossenen Gehäuse 12 ist eine als Ganzes mit 20 bezeichnete Kapillarstruktur vorgesehen, welche zumindest in einem Verdampfungsbereich 22 und in einem Kon­ densationsbereich 24 mit einem entsprechenden Gehäusebereich 26 bzw. 28 in gutem Wärmekontakt verbunden ist.
Die Zufuhr von Wärme zu dem den Verdampfungsbereich 22 um­ gebenden Gehäusebereich 26 führt zum Verdampfen eines von der Kapillarstruktur 20 im Verdampfungsbereich 22 durch Kapillar­ kräfte gehaltenen Wärmeträgermediums unter Ausbildung eines Dampfstroms 30, welcher in einem von der Kapillarstruktur 20 umschlossenen Dampfkanal 32 zum Kondensationsbereich 24 strömt und dort unter Abgabe von Wärme an den den Konden­ sationsbereich 24 umgebenden Gehäusebereich 28 wieder in der Kapillarstruktur 20 auskondensiert. Die Kapillarstruktur 20 ist nunmehr in der Lage, durch Kapillarkräfte das konden­ sierende Wärmeträgermedium zum Verdampfungsbereich 22 zu transportieren.
Bei einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Wärmerohrs, dargestellt in Fig. 2 und 3, ist die Kapillar­ struktur 20 durch einen Einsatz 40 gebildet, welcher in das Gehäuse 12 derart eingesetzt ist, daß eine Außenseite 42 des Einsatzes an einer Innenseite 44 der Zylinderwände 14 in Wärmekontakt anliegt.
Ferner sind die Abschlußwände 16 und 18 auf ihrer Innenseite ebenfalls mit einer Kapillarstruktur 46 bzw. 48 versehen, welche bei endseitig auf die Zylinderwände 14 aufgesetzten Abschlußwänden 16 und 18 in Kontakt mit der Kapillarstruktur 20 des Einsatzes 14 steht, so daß eine Kapillarwirkung auch über die Kapillarstrukturen 46 und 48 mit dem Einsatz 40 ge­ geben ist.
Sowohl die Kapillarstruktur des Einsatzes 40 als auch die Kapillarstrukturen 46 und 48 sind in Form einer Kapillar­ schicht 50 durch thermisches Hochfrequenzplasmaspritzen mittels eines Hochfrequenzplasmabrenners 60, dargestellt in Fig. 4 hergestellt.
Der Hochfrequenzplasmabrenner 60 umfaßt einen Gasverteiler­ kopf 62, welcher von einem Pulverzuführrohr 64 durchsetzt ist. Durch das Pulverzuführrohr wird ein Strom 66 aus Pulver­ partikeln und einem Trägergas zugeführt.
Das Pulverzuführrohr 64 ist umgeben von einem vom Gasver­ teilerkopf 62 umfaßten Zwischenrohr 68 durch welches ein Strom 70 von Zentralgas zur Bildung des Plasmas und zur Stabilisierung der Entladung zugeführt wird.
Ferner wird zwischen dem Zwischenrohr 68 und einem Außenrohr 72 ein Strom 74 von Schutzgas zugeführt, welcher eine Innen­ seite 76 des Außenrohrs 72 kühlt.
Das Außenrohr 72 ist ferner im Bereich einer Mündungsöffnung 78 des Pulverzufuhrrohrs von einer HF-Spule 80 umgeben, welche an einen HF-Generator angeschlossen ist. Durch diese HF-Spule 80 erfolgt eine Einkopplung von Hochfrequenz zur Erzeugung eines Plasmazylinders im Bereich der Mündungsöff­ nung 78 des Pulverzufuhrrohrs 64, wobei aufgrund des Skin­ effekts in dem Strom 70 des Zentralgases zur Bildung des Plasmas nur in einer äußeren Schicht desselben eine Energie­ einkopplung aufgrund von induzierten Wirbelströmen erfolgt. Die Frequenz, bei welcher die HF-Spule 80 gespeist wird liegt dabei im Bereich von ungefähr 100 kHz bis einige MHz, wobei bei üblicher Geometrie Plasmatemperaturen um 10 000 K er­ reicht werden.
Stromabwärts der HF-Spule 80 ist dann noch eine Ausgangsdüse 82 des HF-Plasmabrenners 60 vorgesehen, welche nur schema­ tisch angedeutet ist, und dazu dient, eine Druckeinstellung zwischen einem von der HF-Spule umgebenden Brennerinnenraum 84 und einem Freistrahlbereich 86 eines sich ausbildenden Plasmastrahls 88 vorzunehmen.
Mit einem derartigen HF-Plasmabrenner 60 lassen sich elek­ trodenlos, und somit unter Vermeidung von Verunreinigungen auch relativ große Partikel aufschmelzen, wobei das relativ voluminöse Plasma im Brennerinnenraum 84 und die relativ lange Partikelverweilzeit in dem heißen Plasmabereich die Aufschmelzung von Pulverpartikeln in einer Größe von mehreren 100 µm begünstigen.
Eine mit einem derartigen HF-Plasmabrenner 60 hergestellte Kapillarschicht 50 weist, wie in Fig. 5 dargestellt, eine Vielzahl von Pulverpartikeln 100 auf, welche mit einer Schmelzschicht 102 überzogen sind, wobei die Schmelzschicht 102 die jeweiligen Pulverpartikel 100 zumindest in Teilbe­ reichen ihrer Oberfläche umgibt und sich außerdem nicht über ein Pulverpartikel 100 sondern zumindest auch über ein weiteres benachbartes Pulverpartikel 100 erstreckt und somit einen zumindest teilweisen oberflächlichen Überzug über die Pulverpartikel 100 bildet, der diese zusammenhält, so daß sich zwischen den Pulverpartikeln 100, teilweise überzogen mit den Schmelzschichten 102, Poren 104 vorzugsweise um weniger als einen Faktor zwei variierender Größe bilden, und somit insgesamt die Kapillarschicht 50 entsteht, die eine offenporige Struktur aufweist und somit als Kapillarstruktur zu dienen in der Lage ist.
Mit dem erfindungsgemäßen thermischen HF-Plasmaspritzen ist es besonders vorteilhaft möglich, einerseits die Pulver­ partikel oberflächlich anzuschmelzen und damit aus demselben Material, aus welchem die Pulverpartikel 100 selbst aufgebaut sind, die äußere Schmelzschicht 102 zu schaffen, welche in der Lage ist, in der Kapillarschicht 50 die Pulverpartikel 100 miteinander zu verbinden. Andererseits bleiben die Pulverpartikel 100 selbst erhalten und weisen mit Ausnahme ihrer Schmelzschicht 102 eine gegenüber vor dem Plasma­ spritzen unveränderte Kristallstruktur auf.
Ferner ist der Vorteil beim thermischen HF-Plasmaspritzen darin zu sehen, daß die Schmelzschicht 102 nur im Millisekun­ denbereich im schmelzflüssigen Zustand ist und dann in der Kapillarschicht 50 selbst schnell aufgrund des Abkühlens in die Erstarrung übergeht, so daß keinerlei Gefahr einer Ver­ zunderung besteht. Ferner wird damit auch die Gefahr che­ mischer Reaktionen und Diffusionen und somit die Bildung nachteiliger Phasen und Grobstrukturen verhindert.
Schließlich läßt sich die Porosität über die Größe der Pulverpartikel und den Grad des oberflächlichen Anschmelzens derselben je nach Anwendungsfall einstellen.
Die Porosität und die Kapillarstruktur der Kapillarschicht läßt sich insbesondere über die Brennerbetriebsparameter, wie Menge des Zentralgases und Zusammensetzung desselben, einge­ koppelte HF-Leistung, Druck im Brennerinnenraum 84 des HF-Plasmabrenners 60, und im Freistrahlbereich 86 des Plasma­ strahls 88, dem Abstand zwischen aufzubauender Kapillar­ schicht 50 und der Austrittsdüse und die Größe der Pulver­ partikel, die mit dem Strom 66 zugeführt werden, einstellen.
Somit lassen sich großflächige Kapillarschichten mit defi­ niertem Aufbau und gleichmäßiger Qualität einerseits schnell und andererseits endkonturnah herstellen.
Noch vorteilhafter läßt sich eine erfindungsgemäße Kapillar­ schicht dann herstellen, wenn die Pulverpartikel 100' aus einem Kern 101a und einer Schale 101b aufgebaut sind (Fig. 6), wobei die Schale 101b aus einem Material ist, dessen Schmelzpunkt niedriger liegt als der des Kerns 101a, so daß die Parameter beim Plasmaspritzen so gewählt werden können, daß das Material der Schale 101b im wesentlichen aufschmilzt und die Schmelzschicht 102' bildet, das Material des Kerns 101a jedoch unaufgeschmolzen bleibt und somit über das Volumenverhältnis Schale 101b zu Kern 101a die Größe der Poren 104' der Kapillarstruktur definierbar ist (Fig. 7).
Beispielsweise erfolgt die Herstellung des Einsatzes 40, wie in Fig. 8 dargestellt, durch Aufspritzen der Kapillarschicht 50 auf einem Dorn 110 mit einer zylindrischen Außenfläche 112, auf welche ein Trennmittel 114 aufgetragen ist.
Die über den gesamten Umfang des Dorns 110 aufgetragene Kapillarschicht 50 mit ungefähr gleicher Dicke bildet somit ein zylindrisches Teil, welches aufgrund des Trennmittels 114 von dem Dorn 110 abziehbar und als Einsatz 40 in die Zylin­ derwände 14 einschiebbar ist. Hierzu wird die erforderliche Dimension der Außenseite 42 des Einsatzes 40 weitgehend durch die Dicke der aufgetragenen Kapillarschicht bestimmt und ge­ gebenenfalls noch durch mechanische Nachbearbeitung so ge­ formt, daß der Einsatz 40 mit gutem Wärmekontakt an der Innenseite 44 der Zylinderwände 14 anliegt.
Dies läßt sich besonders vorteilhaft dann erreichen, wenn die Außenseite 42 des Einsatzes 40 bezüglich einer Zylinderachse 114 des Dorns 110 konisch ausgebildet wird und andererseits im Gegenzug ebenfalls die Innenseite 44 der Zylinderwände 14, so daß beim Einschieben des Einsatzes 40 in Richtung der Zylinderachse 114, welche gleichzeitig die Symmetrieachse auch der Zylinderwände 14 darstellt, ein flächiges Anliegen der Außenseite 42 an der Innenseite 44 ergibt.
Alternativ zum Herstellen eines Einsatzes 40 und Einsetzen desselben in das Gehäuse 12 läßt sich ein in Fig. 1 darge­ stelltes Wärmerohr auch dadurch herstellen, daß, wie in Fig. 9 dargestellt, das Gehäuse 12 aus zwei Zylinderhälften 120 und 122 hergestellt ist, wobei diese Zylinderhälften 120 und 122 so zusammensetzbar sind, daß sich eine Fügeebene 124 bil­ det, welche durch die Längsachse 116 des Gehäuses hindurch­ verläuft.
Diese beiden Zylinderhälften 120 und 122 lassen sich vor ihrem Zusammensetzen unter Bildung der Fügeebene 124 auf ihren Innenseiten 126 und 128 mit der Kapillarschicht 50 durch thermisches HF-Plasmaspritzen in einfacher Weise ver­ sehen. Die Kapillarschicht 50 läßt sich dabei, wie in Fig. 7 dargestellt, unmittelbar auf die Innenseiten 126 und 128 der Zylinderhälften 120, 122 aufspritzen.
Eine vorteilhafte Variante des zweiten Ausführungsbeispiels sieht, wie in Fig. 10 dargestellt, vor, daß zunächst auf die jeweilige Innenseite, beispielsweise die Innenseite 128, eine Haftschicht 130 aufgetragen wird, auf welche dann die Kapil­ larschicht 50 folgt.
Vorzugsweise ist die Haftschicht 130 aus demselben Material wie die Kapillarschicht, jedoch aus Pulverpartikeln kleineren Durchmessers, wobei zum Aufbringen der Haftschicht 130 das thermische HF-Plasmaspritzen so geführt wird, daß die Haft­ schicht 130 eine geringere oder sogar gar keine Porosität aufweist, und die jeweilige Innenseite, beispielsweise die Innenseite 128 der Gehäusehälfte 122, durchgehend überdeckt. Auf diese Haftschicht läßt sich dann in einfacher Art und Weise durch Verwenden eines größeren Partikeldurchmessers und nur oberflächliches Aufschmelzen der Partikel die Kapillar­ schicht 50 auftragen, die auf der Haftschicht 130 besonders festen Halt findet, somit dient die Haftschicht 130 nicht nur zur Fixierung der Kapillarschicht 50 auf der jeweiligen Innenseite, beispielsweise der Innenseite 128, sondern außer­ dem auch dazu, eine gute Wärmeleitung zwischen der Kapillar­ schicht 50 und dem jeweiligen Gehäuse sicherzustellen.
Ein drittes Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig. 11 und 12 betrifft ein koaxiales Wärmerohr, bei welchem das Gehäuse 212 durch zwei koaxial zueinander verlaufende und ineinander­ gesteckte sowie endseitig verschlossene Zylinderwände 214 und 216 gebildet ist, wobei jede der Zylinderwände 214 und 216 auf ihrer dem Dampfkanal 32 zugewandten Innenseite 218 bzw. 220 mit einer Kapillarstruktur 222 bzw. 224 versehen ist, wo­ bei dann zwischen den Kapillarstrukturen der Dampfkanal 52 liegt.
Die Kapillarschichten 222 und 224 sind dann ihrerseits noch zusätzlich über radial zur Zylinderachse 116 verlaufende ringförmige verbindende Kapillarstrukturen 226 oder 228 ver­ bunden, wobei die Kapillarstruktur 226 durch eine Kapillar­ schicht gebildet ist, die auf einer endseitigen Abflußwand sitzt, während die Kapillarstruktur 228 ein zusätzlich einge­ setztes Element, beispielsweise aus einem bislang bekannten Netzmaterial darstellt, welches an den Kapillarschichten 222 sowie 224 jeweils anliegt und damit ebenfalls eine Verbindung zwischen diesen gewährleistet.
Vorzugsweise werden auch bei dem dritten Ausführungsbeispiel die Innenseiten 218 und 220 der Zylinderwände 214 bzw. 216 dadurch mit den Kapillarschichten 222 bzw. 224 versehen, daß jeweils Zylinderhalbschalen durch thermisches HF-Plasma­ spritzen mit der Kapillarschicht versehen werden, die in gleicher Weise ausgebildet wird wie im Detail im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel beschrieben.
Bei einem vierten Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig. 13 und 14 ist das Wärmerohr ebenfalls ein koaxiales Wärmerohr, wobei zwischen der Kapillarstruktur 224 und der Kapillar­ struktur 222 radial zur Zylinderachse 116 verlaufende und als Kapillarstruktur wirksame sogenannte Arterien 230 vorgesehen sind, welche über den gesamten Umfang verteilt jeweils die Kapillarschichten 222 und 224 miteinander verbinden.
Bei dem vierten Ausführungsbeispiel sind die Arterien 230 beispielsweise dadurch ausgebildet, daß sie einstückig an die Kapillarschicht 224 angeformt sind.
Derartige Arterien 230 lassen sich beispielsweise dadurch herstellen, daß zunächst eine Kapillarschicht 224 mit einer Dicke aufgetragen wird, welche die radiale Erstreckung der Arterien 230 mitumfaßt und dann Nuten 232 zwischen den Arterien durch lokales Abtragen der Kapillarschicht 224 her­ gestellt werden, so daß einerseits die die Innenseite 220 überdeckende Kapillarschicht 224 stehenbleibt und anderer­ seits die an diese einstückig angeformten Arterien 230, welche beim Zusammensetzen des Wärmerohrs dann eine derartige radiale Erstreckung aufweisen, daß sie an einer Innenseite 234 der Kapillarschicht 222 berührend anliegen und ein kapillarer Kontakt zwischen den Arterien 230 und der Kapillarschicht 222 besteht.
Alternativ dazu ist, wie in Fig. 15 dargestellt, bei einer Variante des vierten Ausführungsbeispiels vorgesehen, zu­ nächst die Kapillarschicht 224 aufzutragen und dann auf diese Maskenkörper 236 auf zulegen, zwischen welchen Zwischenräume verbleiben, in denen sich bei Fortsetzung des thermischen HF-Plasmaspritzens dann die Arterien 230 bilden. Die Masken­ körper 236 lassen sich dann nach Aufbau der Arterien 230 ent­ fernen.
Beispielsweise sind derartige Maskenkörper 236 aus Graphit ausgebildet, das sich nach Fertigstellung der Arterien durch thermisches HF-Plasmaspritzen thermisch entfernen läßt, ohne die Kapillarschicht und die Arterien 230 zu verändern.
Bei einem fünften Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig. 16 und 17 sind Arterien 240 aus mehreren Lagen von Netzmaterial, welches üblicherweise bei Wärmerohren als Kapillarstruktur Verwendung findet, gebildet, wobei dieses Netzmaterial je­ weils C-förmig geformt und beispielsweise mit einem Schenkel 242 mit beispielsweise der Kapillarschicht 224 verbunden wird. Die Verbindung mit der Kapillarschicht 224 erfolgt bei­ spielsweise durch Punktschweißen im Bereich des Schenkels 242 der entsprechenden Arterie 240. Es ist aber auch denkbar, den jeweiligen Schenkel 242 der jeweiligen Arterie 240 während des thermischen HF-Plasmaspritzens in die Kapillarschicht 224 miteinzubetten und damit bereits die jeweilige Arterie 240 in der durch thermisches HF-Plasmaspritzen hergestellten Kapil­ larschicht 224 zu verankern.
Der andere Schenkel 244 der jeweiligen Arterie liegt dann beim Zusammenbau des Wärmerohrs an der jeweiligen Innenseite 234 der Kapillarschicht 222 so an, daß ein Kapillarkontakt zwischen dem jeweiligen Schenkel 244 und der Kapillarschicht 222 besteht.
Im übrigen ist das fünfte Ausführungsbeispiel in gleicher Weise ausgebildet wie das dritte und vierte Ausführungs­ beispiel, so daß bezüglich der Beschreibung weiterer Teile auf die Ausführungen hierzu Bezug genommen wird.
Sowohl beim vierten als auch beim fünften Ausführungsbeispiel sind die Arterien, wie in den Fig. 14 und 16 dargestellt, je­ weils noch in azimuthaler Richtung mit Durchbrüchen 250 ver­ sehen, welche somit einen azimuthalen Dampfstrom und nicht nur einen Dampfstrom in radialer Richtung zur Zylinderachse 116 oder parallel zu dieser zulassen.

Claims (38)

1. Wärmerohr zum Transport von Wärme von einem Ver­ dampfungsbereich zu einem Kondensationsbereich, um­ fassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Ge­ häuse angeordnete und im Verdampfungsbereich sowie im Kondensationsbereich jeweils mit der entsprechenden Ge­ häusewand thermisch gekoppelte Kapillarstruktur, einen in dem Gehäuse angeordneten und vom Verdampfungsbereich zum Kondensationsbereich führenden Dampfkanal sowie einem Wärmetransportmedium, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarstruktur (20) eine durch thermisches Plasma­ spritzen von Pulverpartikeln (100) hergestellte offen­ porige Kapillarschicht (50, 222, 224) ist.
2. Wärmerohr nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50, 222, 224) aus Pulverpartikeln (100) aus metallischem Ausgangsmaterial hergestellt ist.
3. Wärmerohr nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50, 222, 224) aus Pulverpartikeln aus keramischem Ausgangsmaterial hergestellt ist.
4. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) durch oberflächliches Anschmelzen und die dabei sich bildende und zumindest teilweise über benachbarte Pulverpartikel (100) verlaufende Schmelzschicht (102) miteinander ver­ bundene Pulverpartikel (100) aufweist.
5. Wärmerohr nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikel (100) in der Kapillarschicht (50, 222, 224) jeweils unterhalb der Schmelzschicht (102) eine gegenüber dem Zustand vor dem Plasmaspritzen unver­ änderte Kristallstruktur aufweisen.
6. Wärmerohr nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeich­ net, daß die Schmelzschicht (102') aus einem Material gebildet ist, dessen Schmelzpunkt unterhalb dem eines Kerns (101a) des Pulverpartikels in der Kapillarschicht (50, 222, 224) liegt.
7. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikel (100) eine mittlere Partikelgröße im Bereich von ungefähr 30 µm bis ungefähr 300 µm aufweisen.
8. Wärmerohr nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikel eine mittlere Partikelgröße im Be­ reich von ungefähr 50 µm bis ungefähr 200 µm aufweisen.
9. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50, 222, 224) Poren (104) mit einer mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 10 µm und ungefähr 1000 µm aufweist.
10. Wärmerohr nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50, 222, 224) Poren (104) mit einer mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 50 µm bis einige Hundert µm aufweist.
11. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß zwischen der Kapillarschicht (50) und einem Träger (122) eine Haftschicht (130) mittels Plasmaspritzen aufgetragen ist.
12. Wärmerohr nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) aus demselben Pulvermaterial wie die Kapillarschicht (50) hergestellt ist.
13. Wärmerohr nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeich­ net, daß die Haftschicht (130) als durchgängige Schicht ausgebildet ist.
14. Wärmerohr nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) eine Dicke von mehr als ungefähr 10 µm aufweist.
15. Wärmerohr nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) Pulverpartikel mit einer mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 5 µm und ungefähr 50 µm aufweist.
16. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) eine sich in einer vorgegebenen Richtung ändernde Größe der Poren (104) aufweist.
17. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) Teil eines in das Gehäuse (12) einsetzbaren Einsatzes (40) ist.
18. Wärmerohr nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Gehäuse aus zwei Teilen (120, 122) zusammengesetzt ist, und das mindestens eines der Teile auf einer Innenseite mit der Kapillarschicht (50) ver­ sehen ist.
19. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da­ durch gekennzeichnet, daß bei zwei einander gegenüber­ liegenden Kapillarschichten (222, 224) eine (224) mit einem Arterienelement (230, 240) fest verbunden ist, während dieses an der anderen (222) mit Kapillarkontakt anliegt.
20. Wärmerohr nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß das Arterienelement (230) einstückig an die dieses tragende Kapillarschicht (224) angeformt ist.
21. Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs zum Transport von Wärme von einem Verdampfungsbereich zu einem Konden­ sationsbereich, umfassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Gehäuse angeordnete und im Verdampfungs­ bereich sowie im Kondensationsbereich jeweils mit der entsprechenden Gehäusewand thermisch gekoppelte Kapil­ larstruktur, einen in dem Gehäuse angeordneten und vom Verdampfungsbereich zum Kondensationsbereich führenden Dampfkanal und ein Wärmetransportmedium, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Kapillarstruktur (20) durch ther­ misches Plasmaspritzen von Pulverpartikeln (100) als offenporige Kapillarschicht (50, 222, 224) hergestellt wird.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmaspritzen ein HF-Plasmaspritzen ist.
23. Verfahren nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeich­ net, daß das Plasmaspritzen so ausgeführt wird, daß die Pulverpartikel (100) oberflächlich angeschmolzen werden, so daß sich in der Kapillarschicht (50, 222, 224) eine im erstarrten Zustand die Pulverpartikel (100) ver­ bindende Schmelzschicht (102) bildet.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmaspritzen derart durchge­ führt wird, daß die Pulverpartikel (100) unterhalb der Schmelzschicht (102) eine Kristallstruktur aufweisen, welche der der Pulverpartikel (100) vor dem Plasma­ spritzen entspricht.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmaspritzen mit Pulverpar­ tikeln (100') erfolgt, die einen sich von innen nach außen ändernden Schmelzpunkt aufweisen.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß als Pulverpartikel (100) solche mit einer mittleren Partikelgröße von ungefähr 30 µm bis ungefähr 300 µm verwendet werden.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß vor einem Auftragen der Kapillar­ schicht (50) auf einem Träger (122) für diese eine Haft­ schicht (130) mittels Plasmaspritzen aufgetragen wird.
28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) aus demselben Pulvermaterial wie die Kapillarschicht (50) hergestellt wird.
29. Verfahren nach Anspruch 27 oder 28, dadurch gekennzeich­ net, daß die Haftschicht (130) als durchgehende Schicht hergestellt wird.
30. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 29, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) mit einer Dicke von mehr als 10 µm hergestellt wird.
31. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 30, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) aus Pulver­ partikeln mit einer mittleren Größe zwischen ungefähr 5 µm und ungefähr 50 µm hergestellt wird.
32. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 31, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) mit einer sich in einer vorgegebenen Richtung ändernden mittleren Porengröße hergestellt wird.
33. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 31, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) als Teil eines Einsatzes (40) hergestellt und dann in das Gehäuse (12) eingesetzt wird.
34. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) auf einem mit Trennmittel ver­ sehenen Formkörper (110) aufgetragen und zum Einsetzen in das Gehäuse (12) von diesem abgenommen wird.
35. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 32, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (12) aus zwei Teilen (120, 122) zusammengesetzt wird, von denen mindestens eines vorher auf seiner Innenseite (126, 128) mit der Kapillarschicht (50) versehen wird.
36. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht durch mecha­ nisches Abtragen von Teilen derselben mit einem Dampf­ kanal versehen wird.
37. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht durch Verwenden einer Maske beim Plasmaspritzen mit einem Dampfkanal versehen wird.
38. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht durch Umspritzen eines herauslösbaren Körpers mit einem Dampfkanal ver­ sehen wird.
DE19717235A 1997-01-29 1997-04-24 Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs Expired - Fee Related DE19717235B4 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19717235A DE19717235B4 (de) 1997-01-29 1997-04-24 Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs
PCT/EP1998/000308 WO1998033031A1 (de) 1997-01-29 1998-01-21 Wärmerohr und verfahren zur herstellung desselben
CA002250415A CA2250415C (en) 1997-01-29 1998-01-21 Heat exchanger tube, and method for the production of same
US09/162,010 US6303191B1 (en) 1997-01-29 1998-09-28 Process for the production of a heat pipe

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19703110 1997-01-29
DE19703110.2 1997-01-29
DE19717235A DE19717235B4 (de) 1997-01-29 1997-04-24 Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19717235A1 true DE19717235A1 (de) 1998-07-30
DE19717235B4 DE19717235B4 (de) 2006-04-13

Family

ID=7818620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19717235A Expired - Fee Related DE19717235B4 (de) 1997-01-29 1997-04-24 Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19717235B4 (de)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1154031A2 (de) * 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur
EP1154033A2 (de) 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport
EP1154032A2 (de) * 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmschicht
EP1154217A2 (de) 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung
DE10022159A1 (de) * 2000-05-09 2001-11-29 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Substrathalterung für Beschichtungseinrichtungen
DE102004006857A1 (de) * 2004-02-12 2005-09-01 Daimlerchrysler Ag Gradientenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102004060538B3 (de) * 2004-12-16 2006-03-16 Daimlerchrysler Ag Verfahren zur Bildung von Hartmetallschichten und Zylinderkopf für Brennkraftmaschinen mit Ventilsitzringen aus Hartmetall
DE102005011405B3 (de) * 2005-03-03 2006-11-16 Siemens Ag Schaltgerät mit Wärmerohr
WO2009007905A2 (en) * 2007-07-11 2009-01-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Heat pipe
ITBG20090032A1 (it) * 2009-05-28 2010-11-29 Abb Spa Dispositivo di raffreddamento per un interruttore, ed interruttore comprendente tale dispositivo.

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007018262B4 (de) 2007-04-13 2010-04-08 Technische Universität Dresden Verfahren zum Verschließen von keramischen Kapillaren an Behältern mittels Laser
DE102012219347B4 (de) 2012-10-23 2017-06-14 Technische Universität Dresden VERFAHREN ZUM GASDICHTEN VERSCHLIEßEN VON BEHÄLTERN
DE102012219346A1 (de) 2012-10-23 2014-04-24 Technische Universität Dresden Verfahren und Vorrichtung zum gasdichten Verschließen von Behältern
DE102013216323B4 (de) 2013-08-16 2018-10-18 Technische Universität Dresden Verfahren zum gasdichten Verschließen von keramischen Wärmerohren

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA960413A (en) * 1971-01-08 1975-01-07 Robert F. Keller Method of making a heat pipe and wick therein
DE2515753A1 (de) * 1975-04-10 1976-10-14 Siemens Ag Waermerohr
IT1059933B (it) * 1976-04-27 1982-06-21 Fiat Spa Tubo di calore a struttura capillare sinterizzata
US4247830A (en) * 1978-11-08 1981-01-27 General Electric Company Plasma sprayed wicks for pulsed metal vapor lasers
US4177328A (en) * 1978-12-19 1979-12-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Wall wick for nickel-hydrogen cell
IT1206312B (it) * 1982-01-22 1989-04-14 Thermo Electron Corp Metodo per formare uno stoppino per un tubo di calore.
DE4021182A1 (de) * 1990-07-03 1992-01-16 Plasma Technik Ag Vorrichtung zur beschichtung der oberflaeche von gegenstaenden

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1154217A3 (de) * 2000-05-09 2005-10-12 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung
DE10022159A1 (de) * 2000-05-09 2001-11-29 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Substrathalterung für Beschichtungseinrichtungen
EP1154031A2 (de) * 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur
DE10022325B4 (de) * 2000-05-09 2009-11-26 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung
EP1154217A2 (de) 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung
EP1154032A3 (de) * 2000-05-09 2003-04-16 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmschicht
EP1154033A3 (de) * 2000-05-09 2003-04-23 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport
EP1154031A3 (de) * 2000-05-09 2003-05-02 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur
DE10122574B4 (de) * 2000-05-09 2004-04-08 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport
EP1154033A2 (de) 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport
EP1154032A2 (de) * 2000-05-09 2001-11-14 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmschicht
DE102004006857A1 (de) * 2004-02-12 2005-09-01 Daimlerchrysler Ag Gradientenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102004006857B4 (de) * 2004-02-12 2008-09-04 Daimler Ag Gradientenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102004060538B3 (de) * 2004-12-16 2006-03-16 Daimlerchrysler Ag Verfahren zur Bildung von Hartmetallschichten und Zylinderkopf für Brennkraftmaschinen mit Ventilsitzringen aus Hartmetall
DE102005011405B3 (de) * 2005-03-03 2006-11-16 Siemens Ag Schaltgerät mit Wärmerohr
WO2009007905A2 (en) * 2007-07-11 2009-01-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Heat pipe
WO2009007905A3 (en) * 2007-07-11 2009-03-26 Koninkl Philips Electronics Nv Heat pipe
ITBG20090032A1 (it) * 2009-05-28 2010-11-29 Abb Spa Dispositivo di raffreddamento per un interruttore, ed interruttore comprendente tale dispositivo.
EP2256772A1 (de) * 2009-05-28 2010-12-01 ABB S.p.A. Kühlungsvorrichtung für einen Leistungsschalter und Leistungsschlater mit einer solchen Kühlvorrichtung
CN101901705A (zh) * 2009-05-28 2010-12-01 Abb公司 用于断路器的冷却装置及包括该冷却装置的断路器
CN101901705B (zh) * 2009-05-28 2014-09-10 Abb公司 用于断路器的冷却装置及包括该冷却装置的断路器

Also Published As

Publication number Publication date
DE19717235B4 (de) 2006-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1998033031A1 (de) Wärmerohr und verfahren zur herstellung desselben
DE19717235A1 (de) Wärmerohr und Verfahren zur Herstellung desselben
DE69433629T2 (de) Verfahren zur Hestellung eines wärmeleitenden Gerätes und ein wärmeleitendes Gerätes
DE3542185C2 (de)
EP0460392B1 (de) Verfahren zur Herstellung aufschäumbarer Metallkörper
DE102013022096B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zum tiegelfreien Schmelzen eines Materials und zum Zerstäuben des geschmolzenen Materials zum Herstellen von Pulver
EP2061078B1 (de) Kühlkörper
DE19915082C1 (de) Verfahren zur Herstellung einer gekühlten Düse für ein Raketentriebwerk
DE102009005528A1 (de) Zweistoffdüse
DE1501590A1 (de) Waermetauscher und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2023146A1 (de) Leitung mit Mikro-Querschnitt fuer stroemende Medien und Verfahren zu deren Herstellung
DE1639148A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer thermoelektrisch heissen Verbindung
DE10036481A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Aluminiumkolben
DE2227747C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer porösen Metallauflageschicht auf Kupferrohren
DE10034508A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines endkonturnahen Formgebungswerkzeug und danach hergestelltes Formgebungswerkzeug
DE2253915C2 (de) Verfahren zur Herstellung vakuumdichter Verbindungen zwischen einem Keramikteil und einem Aluminiumteil und nach diesem Verfahren erhaltene Vakuumkolben
DE3436419C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Raketenbrennkammern
DE19612143B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Spiralkontaktstückes für eine Vakuumkammer und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE10022161C1 (de) Verfahren zum Bilden einer Oberflächenschicht und deren Verwendung
DE69113588T2 (de) Zylinder für Einzel- oder Doppelrollenstranggiessen.
EP1978302A2 (de) Verdampferbaugruppe, insbesondere für einen Verdampferbrenner eines Fahrzeugheizgerätes, und Verfahren zur Herstellung einer Verdampferbaugruppe
EP1857764A2 (de) Wärmeübertragungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Wärmeübertragungsvorrichtung
DE10122574B4 (de) Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport
DE19833456A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Preßwalzen oder Ringbandagen bzw. Ringsegmenten für Preßwalzen
DE10022325B4 (de) Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8181 Inventor (new situation)

Free format text: HENNE, RUDOLF, DR., 71034 BOEBLINGEN, DE LAING, DOERTE, DIPL.-ING., 70563 STUTTGART, DE THALER, HEIKO, 71566 ALTHUETTE, DE

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: DEUTSCHES ZENTRUM FUER LUFT-UND RAUMFAHRT E.V., 51

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: DEUTSCHES ZENTRUM FUER LUFT- UND RAUMFAHRT E.V.

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: DEUTSCHES ZENTRUM FUER LUFT- UND RAUMFAHRT E.V.

8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee