DE19717235A1 - Wärmerohr und Verfahren zur Herstellung desselben - Google Patents
Wärmerohr und Verfahren zur Herstellung desselbenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Wärmerohr zum Transport von Wärme
von einem Verdampfungsbereich zu einem Kondensationsbereich,
umfassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Gehäuse
angeordnete und im Verdampfungsbereich sowie im Konden
sationsbereich jeweils mit der entsprechenden Gehäusewand
thermisch gekoppelte Kapillarstruktur, einen in dem Gehäuse
angeordneten und vom Verdampfungsbereich zum Kondensations
bereich führenden Dampfkanal sowie einem Wärmetransport
medium.
Derartige Wärmerohre sind aus dem Stand der Technik bekannt,
bei diesen wird üblicherweise als Kapillarstruktur eine
Struktur, hergestellt aus metallischen Netzen, Filzen oder
Drahtgeweben, verwendet, wobei die Herstellung aufwendig und
kostenintensiv ist da durch eine Vielzahl von manuell durch
zuführenden Punktschweißungen ein fester und enger Kontakt
zwischen der Kapillarstruktur und der Wärmerohrwandung ge
geben sein muß.
Ferner besteht bei diesen Lösungen das Problem, daß beim
Langzeiteinsatz innere Korrosion durch den nur schwer ver
meidbaren Restsauerstoff oder durch Diffusionsvorgänge, vor
wiegend im Bereich der durch das Punktschweißen in ihrem Ge
füge veränderten Kontaktstellen, auftreten können.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Wärmerohr
mit einer möglichst einfach herzustellenden und dauerhaft
einsetzbaren Kapillarstruktur zu schaffen sowie ein Verfahren
zur Herstellung eines derartigen Wärmerohrs zur Verfügung zu
stellen.
Diese Aufgabe wird bei einem Wärmerohr der eingangs beschrie
benen Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kapillar
struktur eine durch thermisches Plasmaspritzen von Pulver
partikeln hergestellte offenporige Kapillarschicht ist.
Der Vorteil der erfindungsgemäßen Lösung ist darin zu sehen,
daß das thermische Plasmaspritzen eine einfache Möglichkeit
darstellt, schnell und mit hoher Leistungen offenporige
Kapillarschichten aus Pulverpartikeln herzustellen, wobei
sich die Porosität der Kapillarschicht durch geeignete
Betriebsparameter beim Plasmaspritzen definiert einstellen
läßt.
Die Kapillarschicht kann dabei aus den unterschiedlichsten
Materialien hergestellt werden. So sieht ein vorteilhaftes
Ausführungsbeispiel vor, daß die Kapillarschicht aus Pulver
partikeln aus metallischem Ausgangsmaterial hergestellt ist,
wobei hier nicht nur reine Metalle, sondern jede Art von
Legierungen eingesetzt werden kann. Beispielsweise können
hierbei für Hochtemperaturanwendungen, vorzugsweise von über
1000° Celsius, refraktäre Metall oder Nickel oder Nickel
basislegierungen eingesetzt werden, während beispielsweise im
Raumtemperaturbereich Messing, Bronze oder Aluminium einge
setzt werden können.
Alternativ dazu ist vorzugsweise vorgesehen, daß die Kapil
larschicht aus Pulverpartikeln aus keramischem Ausgangs
material hergestellt ist, wobei jede Art von keramischen
Materialien verwendet werden kann.
Eine wichtige Randbedingung bei allen Materialien für die
Herstellung der Kapillarschicht ist die, daß diese gegenüber
dem jeweiligen Wärmeträgermedium inert sind.
Eine besonders vorteilhafte Struktur der Kapillarschicht
liegt dann vor, wenn diese durch oberflächliches Anschmelzen
und die dabei sich bildende und über benachbarte Pulverparti
kel verlaufende Schmelzschicht miteinander verbundende
Pulverpartikel aufweist. Das heißt, daß die Pulverpartikel
lediglich dadurch miteinander zu einer festen Schicht ver
bunden werden, daß sie oberflächlich angeschmolzen sind und
eine sich zumindest über einen Teil ihrer Oberfläche er
streckende Schmelzschicht tragen, die wiederum dafür sorgt,
daß mit der Schmelzschicht von benachbarten Pulverpartikeln
eine Art teilweiser "Überzug" für benachbarte Pulverpartikel
entsteht und dieser "Überzug" die Pulverpartikel dann in der
Kapillarschicht selbst zusammenhält.
Ein besonders günstiges Konzept sieht dabei vor, daß die
Pulverpartikel in der Kapillarschicht jeweils unterhalb der
Schmelzschicht eine gegenüber dem Zustand vor dem Plasma
spritzen unveränderte Kristallstruktur aufweisen. Diese
Lösung hat den großen Vorteil, daß die Kristallstruktur in
den Pulverpartikeln mit Ausnahme der Schmelzschicht keinerlei
Veränderung erfährt und somit auch die Bildung von uner
wünschten Strukturen oder Verbindungen unterbleibt, so daß
derartige Kapillarschichten eine hohe Lebensdauer bei gleich
zeitig auch hoher mechanischer Stabilität aufweisen.
Ein derartiger Verbund aus oberflächlich angeschmolzenen
Pulverpartikeln läßt sich mit homogen aufgebauten Pulver
partikeln realisieren, wobei beim Plasmaspritzen ein Umfang
oder Grad des Anschmelzens der Partikel durch Einstellung der
Parameter definierbar ist.
Noch vorteilhafter ist es jedoch, wenn die Pulverpartikel als
über einem Durchmesser von innen nach außen einen variieren
den Schmelzpunkt aufweisende Partikel aufgebaut sind, wobei
der Schmelzpunkt vorzugsweise von innen nach außen abnimmt.
Im einfachsten Fall sind die Partikel hierbei aus einem Kern
und einer Schale aufgebaut oder auch als mehrschalige Parti
kel, beispielsweise mindestens zweischalige Partikel, ausge
bildet, wobei Kern und Schale oder die mehreren Schalen aus
Materialien mit unterschiedlichen Schmelzpunkten aufgebaut
sind, vorzugsweise so, daß der Schmelzpunkt einer äußeren
Schale niedriger liegt als der einer der inneren Schalen oder
des Kerns, wobei vorzugsweise die Schmelzpunkte stufenweise
von innen nach außen abnehmen.
Damit besteht die Möglichkeit beim Plasmaspritzen beispiels
weise nur die äußerste Schale aufzuschmelzen, deren Material
dann zur Verfügung steht, um einen stabilen Verbund zwischen
den einzelnen Partikeln zu gewährleisten, während der Kern
bereich unaufgeschmolzen bleibt und somit die Entstehung der
porösen Schicht mit der gewünschten Porengröße gewährleistet.
Im Rahmen der bisher beschriebenen Ausführungsbeispiele wurde
die Größe der Pulverpartikel nicht näher definiert. So sieht
ein besonders vorteilhaftes Ausführungsbeispiel vor, daß die
Pulverpartikel eine Partikelgröße von ungefähr 30 µm bis un
gefähr 300 µm aufweisen. Noch vorteilhafter ist es, wenn die
Pulverpartikel eine Partikelgröße von ungefähr 50 µm bis un
gefähr 200 µm aufweisen.
Ferner wurden im Zusammenhang mit der bisherigen Erläuterung
der einzelnen Ausführungsbeispiele auch nicht die Porengröße
näher definiert. So sieht ein vorteilhaftes Ausführungsbei
spiel vor, daß die Kapillarschicht Poren mit einer einge
stellten mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 10 µm
und ungefähr 1000 µm aufweist. Noch vorteilhafter ist eine
Ausbildung einer Kapillarschicht, welche Poren mit einer
mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 50 µm bis unge
fähr 300 µm aufweist.
Die Porengröße könnte, wenn eine mittlere Porengröße einge
halten wird, erheblichen Schwankungen nur diese mittlere
Porengröße unterliegen.
Besonders vorteilhaft ist es jedoch, insbesondere um eine
definierbare Wirkung der Kapillarschicht zu erhalten, wenn in
einem Volumenbereich der kleinste Wert und der größte Wert
der Porengröße sich maximal um einen Faktor von ungefähr zwei
unterscheiden, das heißt z. B. der kleinste Wert maximal unge
fähr die Hälfte des größten Wertes beträgt.
Rein prinzipiell wäre es denkbar, die Kapillarschicht un
mittelbar auf einem für diese vorgesehenen Träger, beispiels
weise einer Gehäusewand, aufzutragen. Aus Gründen der mecha
nischen Stabilität und des guten Wärmekontakts sieht eine
besonders zweckmäßige Lösung vor, daß zwischen der Kapillar
schicht und einem Träger für diese eine Haftschicht mittels
Plasmaspritzen aufgetragen wird.
Eine derartige Haftschicht bietet dann besonders große Vor
teile, wenn diese aus demselben Pulvermaterial wie die
Kapillarschicht hergestellt ist.
Die Haftschicht selbst braucht dabei nicht porös ausgebildet
zu sein. Vorzugsweise ist die Haftschicht als durchgängige
Schicht ausgebildet, welche insbesondere ein geringere Poro
sität als die Kapillarschicht oder sogar gar keine Porosität
mehr aufweist.
Eine vorteilhafte Lösung sieht dabei vor, daß die Haftschicht
eine Dicke von mehr als ungefähr 10 µm aufweist.
Vorzugsweise werden zum Herstellen der Haftschicht mittels
Plasmaspritzen Pulverpartikel mit einer mittleren Größe im
Bereich zwischen ungefähr 5 µm und ungefähr 50 µm eingesetzt.
Um die gewünschte Wirkung, insbesondere die Transportwirkung,
der Kapillarschicht im Wärmerohr zu verbessern, ist vorteil
hafterweise vorgesehen, daß die Kapillarschicht eine sich in
einer vorgegebenen Richtung ändernde Porengröße aufweist,
wobei sich die Porengröße entweder in Stufen ändern kann,
oder noch besser eine kontinuierliche Änderung vorgesehen
ist.
Eine Möglichkeit der Nutzung einer variierenden Porengröße
sieht vor, daß die Porengröße im Kondensationsbereich größer
ist als im Verdampfungsbereich und von dem Kondensations
bereich zu dem Verdampfungsbereich hin kontinuierlich kleiner
wird.
Eine weitere Möglichkeit der Nutzung einer variierenden
Porengröße sieht vor, daß die Porengröße der Kapillarschicht
von einer Gehäuseseite in Richtung einer Dampfkanalseite
kleiner wird, um einerseits auf der Gehäuseseite geringe
Strömungsverluste zu haben und auf der Dampfkanalseite der
Kapillarschicht eine hohe Kapillarkraft zu erhalten.
Prinzipiell wäre es möglich, bei Einsatz einer Haftschicht
auf diese unmittelbar die Kapillarschicht mit einer defi
nierten mittleren Porengröße aufzutragen. Eine besonders
günstige Lösung sieht jedoch vor, daß die Kapillarschicht von
der Haftschicht ausgehend zunehmend kleiner werdende Poren
aufweist. Das heißt, daß die Kapillarschicht hinsichtlich
ihrer Porosität ausgehend von der Haftschicht einen Gradient
zu immer kleineren Poren aufweist, so daß die größten Poren
der Kapillarschicht nahe der Haftschicht liegen und die
feinsten Poren in einem dem Dampfkanal zugewandten Bereich
der Kapillarschicht.
Hinsichtlich des Aufbaus der erfindungsgemäßen Wärmerohre
wurden im Zusammenhang mit den bislang beschriebenen An
sprüchen keine näheren Angaben gemacht. So sieht ein vorteil
haftes Ausführungsbeispiel vor, daß die Kapillarschicht Teil
eines in das Gehäuse des Wärmerohrs eingesetzten Einsatzes
ist.
Ein derartiger Einsatz läßt sich außerhalb des Gehäuses durch
Plasmaspritzen herstellen und dann in vorteilhafterweise in
das Gehäuse einsetzen und mit diesem in Verbindung bringen.
Eine alternative Lösung hierzu sieht vor, daß das die
Kapillarstruktur umfassende Gehäuse aus mindestens zwei
Teilen zusammengesetzt ist und daß mindestens eines der Teile
auf einer Innenseite mit der Kapillarschicht versehen ist,
wobei im einfachsten Fall dieses eine Teil oder beide Teile
innenbeschichtet sind.
Ein derartiges Teil läßt sich in besonders einfacher Weise
durch direktes Beschichten des Teils auf der Innenseite mit
der Kapillarschicht herstellen.
Die Teile sind vorzugsweise durch Fügen, insbesondere
Schweißen, miteinander verbunden.
Im Fall koaxialer Wärmerohre ist vorzugsweise vorgesehen, daß
die jeweils einander zugewandten Kapillarschichten über soge
nannte als Kapillarstruktur ausgebildete Arterien miteinander
in kapillarem Kontakt stehen. Diese Arterien sind vorzugs
weise an einer der Kapillarschichten gehalten. Im einfachsten
Fall sind die Arterien aus herkömmlichen für Kapillarstruk
turen geeigneten flexiblen netz- oder filzähnlichen Mate
rialien hergestellt.
Eine besonders an die Herstellungstechnik der erfindungs
gemäßen Lösung angepaßte Ausführungsform sieht ferner vor,
daß die Arterien einstückig an eine der einander zugewandten
Kapillarschichten angeformt sind und im zusammengebauten Zu
stand des Wärmerohrs an der jeweils anderen Kapillarschicht
mit Kapillarkontakt anliegen.
Die erfindungsgemäße Aufgabe wird ferner bei einem Verfahren
zur Herstellung eines Wärmerohrs zum Transport von Wärme von
einem Verdampfungsbereich zu einem Kondensationsbereich, um
fassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Gehäuse
angeordnete und im Verdampfungsbereich sowie im Konden
sationsbereich jeweils mit der entsprechenden Gehäusewand
thermisch gekoppelte Kapillarstruktur, einen in dem Gehäuse
angeordneten und vom Verdampfungsbereich zum Kondensations
bereich führenden Dampfkanal sowie ein Wärmetransportmedium,
erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kapillarstruktur
durch thermisches Plasmaspritzen von Pulverpartikeln als
offenporige Kapillarschicht hergestellt wird.
Der Vorteil der Herstellung der Kapillarstruktur in Form
einer offenporigen Kapillarschicht durch Plasmaspritzen wurde
bereits im Zusammenhang mit dem erfindungsgemäßen Wärmerohr
erläutert, so daß hierauf vollinhaltlich Bezug genommen
werden kann.
Besonders zweckmäßig ist es hierbei, wenn das thermische
Plasmaspritzen ein HF-Plasmaspritzen ist. Der Vorteil des
HF-Plasmaspritzens ist insbesondere darin zu sehen, daß ein
HF-Plasmabrenner elektrodenlos arbeitet, so daß keinerlei Ver
unreinigungen durch Elektrodenabbrand auftreten können.
Ferner bietet ein HF-Plasmabrenner den Vorteil, daß ein rela
tiv voluminöses Plasma durch die Hochfrequenzeinkopplung er
folgt und somit ein großer Aufschmelzbereich zur Verfügung
steht, um insbesondere auch große Partikel anzuschmelzen, was
bei der erfindungsgemäßen Lösung erforderlich ist, wenn eine
offenporige Kapillarschicht hergestellt werden soll.
Ferner hat das HF-Plasmaspritzen den Vorteil, daß die Plasma
strömungs- und auch die Pulverpartikelgeschwindigkeiten im
Vergleich zum DC-Plasmaspritzen niedrig sind, so daß eine
relativ lange Verweilzeit der Pulverpartikel im heißen
Plasmabereich erreichbar ist, die sich ebenfalls beim An
schmelzen großer Partikel vorteilhaft auswirkt.
Darüber hinaus hat das Plasmaspritzen neben der Effizienz und
der Schnelligkeit den großen Vorteil, daß sich durch das Ein
stellen der einzelnen Parameter des HF-Plasmabrenners eine
definierte Porosität der Kapillarschicht, insbesondere eine
definierte mittlere Porengröße einstellen läßt.
Eine besonders günstige Verfahrensführung sieht vor, daß das
Plasmaspritzen so ausgeführt wird, daß die Pulverpartikel
oberflächlich angeschmolzen werden, so daß sich in der Kapil
larschicht eine sich über mehrere Pulverpartikel erstreckende
Schmelzschicht ausbildet, welche im erstarrten Zustand die
Pulverpartikel zusammenhält.
Besonders günstig ist es hierbei, wenn das Plasmaspritzen
derart durchgeführt wird, daß die Pulverpartikel unterhalb
der Schmelzschicht eine Kristallstruktur aufweisen, welche
der der Pulverpartikel vor dem Plasmaspritzen entspricht.
Grundsätzlich eröffnet das HF-Plasmaspritzen die Möglichkeit
Pulverpartikel mit über ihrem Querschnitt im wesentlichen
homogener Materialzusammensetzung zu verwenden, da sich mit
geeigneten Parametern der Umfang des oberflächlichen An
schmelzens der Pulverpartikel einstellen läßt.
Noch vorteilhafter läßt sich jedoch das Anschmelzen der
Pulverpartikel vorgeben, wenn diese aus Material mit einem
über dem Durchmesser variierenden Schmelzpunkt aufgebaut
sind, wobei der Schmelzpunkt vorzugsweise von innen nach
außen abnimmt. Im einfachsten Fall läßt sich dies mit mehr
schalig oder mehrschichtig aufgebauten Partikeln realisieren,
wobei durch einen stufenförmigen Verlauf des Schmelzpunkts,
vorzugsweise eine stufenförmige Abnahme des Schmelzpunkts von
innen nach außen, das Volumen des aufzuschmelzenden Materials
und das Volumen des unaufgeschmolzenen Kerns festlegbar ist,
so daß auch damit die Porengröße festlegbar ist.
Hinsichtlich der Größe der Pulverpartikel für das Plasma
spritzen wurden bislang keine näheren Angaben gemacht. So
sieht eine vorteilhafte Lösung vor, daß als Pulverpartikel
solche mit einer mittleren Partikelgröße zwischen ungefähr
3 µm und ungefähr 300 µm verwendet werden.
Vorzugsweise findet eine mittlere Partikelgröße zwischen
ungefähr 50 µm und ungefähr 200 µm Verwendung.
Im Zusammenhang mit den bislang erläuterten Ausführungsbei
spielen wurde lediglich davon gesprochen, eine Kapillar
schicht als solche herzustellen.
Beispielsweise könnte eine derartige Kapillarschicht direkt
auf dem Träger aufgetragen werden.
Das ohnehin für die Herstellung der Kapillarschicht ver
wendete Plasmaspritzen macht es nun in besonders einfacher
Art und Weise möglich, vor einem Auftragen der Kapillar
schicht auf einem Träger für diese eine Haftschicht mittels
Plasmaspritzen auf zutragen. Eine derartige Haftschicht hat
den Vorteil, daß einerseits ein guter mechanischer Kontakt
zwischen der Kapillarschicht und dem Träger entsteht und
andererseits auch ein guter thermischer Kontakt, so daß eine
hohe mechanische und dauerfeste Verbindung zwischen der
Kapillarschicht und dem Träger erhältlich ist.
Die Haftschicht kann prinzipiell aus einem Material sein, das
sich von dem Material der Kapillarschicht unterscheidet. Eine
besonders günstige Lösung sieht jedoch vor, daß die Haft
schicht aus demselben Pulvermaterial wie die Kapillarschicht
hergestellt ist.
Auch hinsichtlich der Porosität sind an die Haftschicht
andere Anforderungen zu stellen. Die Haftschicht kann als
poröse Schicht ausgebildet sein, sie muß jedoch nicht not
wendigerweise als poröse Schicht ausgebildet sein. So ist es
besonders vorteilhaft, wenn die Haftschicht beispielsweise
als durchgehende Schicht hergestellt wird und somit noch eine
zusätzliche Schutzschicht zwischen dem Gehäuse und der Kapil
larschicht bildet und somit auch noch das Material des Ge
häuses gegen Reaktionen mit dem Wärmeträgermedium schützt,
was insbesondere dann von Vorteil ist, wenn die Wärmerohre
bei hohen Temperaturen eingesetzt werden und andererseits
erlaubt, für das Gehäuse Materialien zu verwenden, die bei
direktem Kontakt zwischen Gehäuse und Wärmeträgermedium, bei
spielsweise aufgrund von Korrosionserscheinungen oder anderen
chemischen Reaktionen, nicht verwendbar wären.
Vorzugsweise ist dabei vorgesehen, daß die Haftschicht mit
einer Dicke von mehr als ungefähr 10 µm hergestellt wird.
Hinsichtlich der verwendeten Pulverpartikel für das Auf
bringen der Haftschicht mittels Plasmaspritzen ist vorzugs
weise vorgesehen, daß die Haftschicht aus Pulverpartikeln
einer mittleren Größe zwischen ungefähr 5 µm und ungefähr
50 µm hergestellt wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich besonders dazu
eine Kapillarschicht mit einer sich in einer vorgegebenen
Richtung ändernden mittleren Porengröße herzustellen, um
damit - wie bereits beschrieben - die Wirkung der Kapillar
schicht im Wärmerohr zu verbessern.
Bei Verwendung einer Haftschicht hat es sich als vorteilhaft
erwiesen, wenn die Kapillarschicht von der Haftschicht aus
gehend mit zunehmend kleiner werdender mittlerer Porengröße
hergestellt wird und somit ein Gradient innerhalb der
Kapillarschicht hergestellt wird, der mit keinem anderen Ver
fahren einfacher und effizienter hergestellt werden kann als
mit Plasmaspritzen, da - wie bereits ausgeführt - die Poren
größe durch Variation der Betriebsparameter beim Plasma
spritzen einstellbar ist.
Hinsichtlich der Herstellung des Wärmerohrs selbst wurden
bislang keine näheren Angaben gemacht. So sieht eine vorteil
hafte Lösung vor, daß die Kapillarschicht als Teil eines Ein
satzes hergestellt und dann in das Gehäuse eingesetzt wird.
Eine derartige, Teil eines Einsatzes bildende Kapillarschicht
läßt sich beispielsweise in einfacher Weise dadurch her
stellen, daß die Kapillarschicht durch Plasmaspritzen auf
einen mit Trennmittel versehenen Formkörper aufgetragen und
nach Erstarren zum Einsetzen in das Gehäuse von diesem abge
nommen wird. Damit ist in einfacher Weise durch das ther
mische Plasmaspritzen eine einen Formkörper darstellende
Kapillarschicht herstellbar.
Eine Alternative zu der vorstehend beschriebenen Variante zur
Herstellung eines Wärmerohrs sieht vor, daß das die Kapillar
struktur umfassende Gehäuse aus mindestens zwei Teilen
zusammengesetzt wird, von denen mindestens eines auf seiner
Innenseite mit der Kapillarschicht versehen, im einfachsten
Fall innenbeschichtet, wird. Die zwei Teile des Gehäuses
lassen sich dabei in einfacher Weise durch jede Art von
Fügen, beispielsweise Schweißen miteinander zu einem ge
schlossenen Gehäuse verbinden.
Im Zusammenhang mit den bislang beschrieben Verfahren zur
Herstellung der Wärmerohre wurde nicht darauf eingegangen,
wie die Dampfkanäle hergestellt werden. Beispielsweise ist es
denkbar, die Kapillarschicht rohrförmig auszubilden, so daß
sie automatisch einen im Innern des Rohrs liegenden Dampf
kanal umschließt.
Bei komplexeren konstruktiven Lösungen, beispielsweise bei
koaxialen Wärmerohren ist jedoch vorzugsweise die Kapillar
schicht gesondert mit mindestens einem, vorzugsweise mehreren
Dampfkanälen zu versehen.
So sieht ein vorteilhaftes Ausführungsbeispiel vor, daß die
Kapillarschicht durch teilweises Abtragen derselben mit einem
Dampfkanal versehen wird.
Alternativ dazu ist es aber auch denkbar, die Kapillarschicht
durch Einsetzen einer Maske beim Plasmaspritzen mit einem
Dampfkanal zu versehen.
Eine andere Möglichkeit sieht vor, daß die Kapillarschicht
durch Umspritzen eines herauslösbaren Körpers mit einem
Dampfkanal versehen wird.
Weitere Merkmale und Vorteile sind Gegenstand der nachfolgen
den Beschreibung sowie der zeichnerischen Darstellung einiger
Ausführungsbeispiele.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 den grundsätzlichen Aufbau eines in Längs
richtung aufgebrochenen Wärmerohrs;
Fig. 2 einen Längsschnitt durch ein erstes Ausfüh
rungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Wärme
rohrs;
Fig. 3 einen Schnitt längs Linie 3-3 durch das
Wärmerohr gemäß Fig. 2;
Fig. 4 eine schematische Darstellung der Herstellung
einer erfindungsgemäßen Kapillarschicht
mittels eines HF-Plasmabrenners;
Fig. 5 eine schematisch dargestellte mikroskopische
Struktur im Querschnitt durch die erfindungs
gemäß hergestellte Kapillarschicht;
Fig. 6 eine schematische Darstellung eines Pulver
partikels aus unterschiedliche Schmelzpunkte
aufweisendem Material;
Fig. 7 eine schematisch dargestellt mikroskopische
Struktur ähnlich Fig. 5 bei Verwendung von
Pulverpartikeln gemäß Fig. 6;
Fig. 8 eine schematische Darstellung der Herstellung
eines Einsatzes umfassend eine erfindungs
gemäße Kapillarschicht;
Fig. 9 einen Querschnitt durch ein zweites Aus
führungsbeispiel eines erfindungsgemäßen
Wärmerohrs;
Fig. 10 eine Darstellung einer Variante des zweiten
Ausführungsbeispiels;
Fig. 11 eine schematische Darstellung eines dritten
Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen
Wärmerohrs im Querschnitt;
Fig. 12 einen Schnitt längs Linie 12-12 in Fig. 11;
Fig. 13 einen halbseitigen Querschnitt durch ein
viertes Ausführungsbeispiel eines erfindungs
gemäßen Wärmerohrs;
Fig. 14 einen Schnitt längs Linie 14-14 in Fig. 13;
Fig. 15 eine schematische ausschnittsweise Dar
stellung eines Verfahrens zur Herstellung der
Kapillarschicht mit Arterien des vierten Aus
führungsbeispiels;
Fig. 16 einen halbseitigen Querschnitt durch ein
fünftes Ausführungsbeispiel eines erfindungs
gemäßen Wärmerohrs und
Fig. 17 einen Schnitt längs Linie 17-17 in Fig. 16.
Ein in Fig. 1 als Ganzes mit 10 bezeichnetes Wärmerohr umfaßt
ein Gehäuse 12, beispielsweise ausgebildet als langge
streckter Zylinder, mit Zylinderwänden 14 und Abschlußwänden
16 und 18. In dem geschlossenen Gehäuse 12 ist eine als
Ganzes mit 20 bezeichnete Kapillarstruktur vorgesehen, welche
zumindest in einem Verdampfungsbereich 22 und in einem Kon
densationsbereich 24 mit einem entsprechenden Gehäusebereich
26 bzw. 28 in gutem Wärmekontakt verbunden ist.
Die Zufuhr von Wärme zu dem den Verdampfungsbereich 22 um
gebenden Gehäusebereich 26 führt zum Verdampfen eines von der
Kapillarstruktur 20 im Verdampfungsbereich 22 durch Kapillar
kräfte gehaltenen Wärmeträgermediums unter Ausbildung eines
Dampfstroms 30, welcher in einem von der Kapillarstruktur 20
umschlossenen Dampfkanal 32 zum Kondensationsbereich 24
strömt und dort unter Abgabe von Wärme an den den Konden
sationsbereich 24 umgebenden Gehäusebereich 28 wieder in der
Kapillarstruktur 20 auskondensiert. Die Kapillarstruktur 20
ist nunmehr in der Lage, durch Kapillarkräfte das konden
sierende Wärmeträgermedium zum Verdampfungsbereich 22 zu
transportieren.
Bei einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen
Wärmerohrs, dargestellt in Fig. 2 und 3, ist die Kapillar
struktur 20 durch einen Einsatz 40 gebildet, welcher in das
Gehäuse 12 derart eingesetzt ist, daß eine Außenseite 42 des
Einsatzes an einer Innenseite 44 der Zylinderwände 14 in
Wärmekontakt anliegt.
Ferner sind die Abschlußwände 16 und 18 auf ihrer Innenseite
ebenfalls mit einer Kapillarstruktur 46 bzw. 48 versehen,
welche bei endseitig auf die Zylinderwände 14 aufgesetzten
Abschlußwänden 16 und 18 in Kontakt mit der Kapillarstruktur
20 des Einsatzes 14 steht, so daß eine Kapillarwirkung auch
über die Kapillarstrukturen 46 und 48 mit dem Einsatz 40 ge
geben ist.
Sowohl die Kapillarstruktur des Einsatzes 40 als auch die
Kapillarstrukturen 46 und 48 sind in Form einer Kapillar
schicht 50 durch thermisches Hochfrequenzplasmaspritzen
mittels eines Hochfrequenzplasmabrenners 60, dargestellt in
Fig. 4 hergestellt.
Der Hochfrequenzplasmabrenner 60 umfaßt einen Gasverteiler
kopf 62, welcher von einem Pulverzuführrohr 64 durchsetzt
ist. Durch das Pulverzuführrohr wird ein Strom 66 aus Pulver
partikeln und einem Trägergas zugeführt.
Das Pulverzuführrohr 64 ist umgeben von einem vom Gasver
teilerkopf 62 umfaßten Zwischenrohr 68 durch welches ein
Strom 70 von Zentralgas zur Bildung des Plasmas und zur
Stabilisierung der Entladung zugeführt wird.
Ferner wird zwischen dem Zwischenrohr 68 und einem Außenrohr
72 ein Strom 74 von Schutzgas zugeführt, welcher eine Innen
seite 76 des Außenrohrs 72 kühlt.
Das Außenrohr 72 ist ferner im Bereich einer Mündungsöffnung
78 des Pulverzufuhrrohrs von einer HF-Spule 80 umgeben,
welche an einen HF-Generator angeschlossen ist. Durch diese
HF-Spule 80 erfolgt eine Einkopplung von Hochfrequenz zur
Erzeugung eines Plasmazylinders im Bereich der Mündungsöff
nung 78 des Pulverzufuhrrohrs 64, wobei aufgrund des Skin
effekts in dem Strom 70 des Zentralgases zur Bildung des
Plasmas nur in einer äußeren Schicht desselben eine Energie
einkopplung aufgrund von induzierten Wirbelströmen erfolgt.
Die Frequenz, bei welcher die HF-Spule 80 gespeist wird liegt
dabei im Bereich von ungefähr 100 kHz bis einige MHz, wobei
bei üblicher Geometrie Plasmatemperaturen um 10 000 K er
reicht werden.
Stromabwärts der HF-Spule 80 ist dann noch eine Ausgangsdüse
82 des HF-Plasmabrenners 60 vorgesehen, welche nur schema
tisch angedeutet ist, und dazu dient, eine Druckeinstellung
zwischen einem von der HF-Spule umgebenden Brennerinnenraum
84 und einem Freistrahlbereich 86 eines sich ausbildenden
Plasmastrahls 88 vorzunehmen.
Mit einem derartigen HF-Plasmabrenner 60 lassen sich elek
trodenlos, und somit unter Vermeidung von Verunreinigungen
auch relativ große Partikel aufschmelzen, wobei das relativ
voluminöse Plasma im Brennerinnenraum 84 und die relativ
lange Partikelverweilzeit in dem heißen Plasmabereich die
Aufschmelzung von Pulverpartikeln in einer Größe von mehreren
100 µm begünstigen.
Eine mit einem derartigen HF-Plasmabrenner 60 hergestellte
Kapillarschicht 50 weist, wie in Fig. 5 dargestellt, eine
Vielzahl von Pulverpartikeln 100 auf, welche mit einer
Schmelzschicht 102 überzogen sind, wobei die Schmelzschicht
102 die jeweiligen Pulverpartikel 100 zumindest in Teilbe
reichen ihrer Oberfläche umgibt und sich außerdem nicht über
ein Pulverpartikel 100 sondern zumindest auch über ein
weiteres benachbartes Pulverpartikel 100 erstreckt und somit
einen zumindest teilweisen oberflächlichen Überzug über die
Pulverpartikel 100 bildet, der diese zusammenhält, so daß
sich zwischen den Pulverpartikeln 100, teilweise überzogen
mit den Schmelzschichten 102, Poren 104 vorzugsweise um
weniger als einen Faktor zwei variierender Größe bilden, und
somit insgesamt die Kapillarschicht 50 entsteht, die eine
offenporige Struktur aufweist und somit als Kapillarstruktur
zu dienen in der Lage ist.
Mit dem erfindungsgemäßen thermischen HF-Plasmaspritzen ist
es besonders vorteilhaft möglich, einerseits die Pulver
partikel oberflächlich anzuschmelzen und damit aus demselben
Material, aus welchem die Pulverpartikel 100 selbst aufgebaut
sind, die äußere Schmelzschicht 102 zu schaffen, welche in
der Lage ist, in der Kapillarschicht 50 die Pulverpartikel
100 miteinander zu verbinden. Andererseits bleiben die
Pulverpartikel 100 selbst erhalten und weisen mit Ausnahme
ihrer Schmelzschicht 102 eine gegenüber vor dem Plasma
spritzen unveränderte Kristallstruktur auf.
Ferner ist der Vorteil beim thermischen HF-Plasmaspritzen
darin zu sehen, daß die Schmelzschicht 102 nur im Millisekun
denbereich im schmelzflüssigen Zustand ist und dann in der
Kapillarschicht 50 selbst schnell aufgrund des Abkühlens in
die Erstarrung übergeht, so daß keinerlei Gefahr einer Ver
zunderung besteht. Ferner wird damit auch die Gefahr che
mischer Reaktionen und Diffusionen und somit die Bildung
nachteiliger Phasen und Grobstrukturen verhindert.
Schließlich läßt sich die Porosität über die Größe der
Pulverpartikel und den Grad des oberflächlichen Anschmelzens
derselben je nach Anwendungsfall einstellen.
Die Porosität und die Kapillarstruktur der Kapillarschicht
läßt sich insbesondere über die Brennerbetriebsparameter, wie
Menge des Zentralgases und Zusammensetzung desselben, einge
koppelte HF-Leistung, Druck im Brennerinnenraum 84 des
HF-Plasmabrenners 60, und im Freistrahlbereich 86 des Plasma
strahls 88, dem Abstand zwischen aufzubauender Kapillar
schicht 50 und der Austrittsdüse und die Größe der Pulver
partikel, die mit dem Strom 66 zugeführt werden, einstellen.
Somit lassen sich großflächige Kapillarschichten mit defi
niertem Aufbau und gleichmäßiger Qualität einerseits schnell
und andererseits endkonturnah herstellen.
Noch vorteilhafter läßt sich eine erfindungsgemäße Kapillar
schicht dann herstellen, wenn die Pulverpartikel 100' aus
einem Kern 101a und einer Schale 101b aufgebaut sind (Fig.
6), wobei die Schale 101b aus einem Material ist, dessen
Schmelzpunkt niedriger liegt als der des Kerns 101a, so daß
die Parameter beim Plasmaspritzen so gewählt werden können,
daß das Material der Schale 101b im wesentlichen aufschmilzt
und die Schmelzschicht 102' bildet, das Material des Kerns
101a jedoch unaufgeschmolzen bleibt und somit über das
Volumenverhältnis Schale 101b zu Kern 101a die Größe der
Poren 104' der Kapillarstruktur definierbar ist (Fig. 7).
Beispielsweise erfolgt die Herstellung des Einsatzes 40, wie
in Fig. 8 dargestellt, durch Aufspritzen der Kapillarschicht
50 auf einem Dorn 110 mit einer zylindrischen Außenfläche
112, auf welche ein Trennmittel 114 aufgetragen ist.
Die über den gesamten Umfang des Dorns 110 aufgetragene
Kapillarschicht 50 mit ungefähr gleicher Dicke bildet somit
ein zylindrisches Teil, welches aufgrund des Trennmittels 114
von dem Dorn 110 abziehbar und als Einsatz 40 in die Zylin
derwände 14 einschiebbar ist. Hierzu wird die erforderliche
Dimension der Außenseite 42 des Einsatzes 40 weitgehend durch
die Dicke der aufgetragenen Kapillarschicht bestimmt und ge
gebenenfalls noch durch mechanische Nachbearbeitung so ge
formt, daß der Einsatz 40 mit gutem Wärmekontakt an der
Innenseite 44 der Zylinderwände 14 anliegt.
Dies läßt sich besonders vorteilhaft dann erreichen, wenn die
Außenseite 42 des Einsatzes 40 bezüglich einer Zylinderachse
114 des Dorns 110 konisch ausgebildet wird und andererseits
im Gegenzug ebenfalls die Innenseite 44 der Zylinderwände 14,
so daß beim Einschieben des Einsatzes 40 in Richtung der
Zylinderachse 114, welche gleichzeitig die Symmetrieachse
auch der Zylinderwände 14 darstellt, ein flächiges Anliegen
der Außenseite 42 an der Innenseite 44 ergibt.
Alternativ zum Herstellen eines Einsatzes 40 und Einsetzen
desselben in das Gehäuse 12 läßt sich ein in Fig. 1 darge
stelltes Wärmerohr auch dadurch herstellen, daß, wie in Fig.
9 dargestellt, das Gehäuse 12 aus zwei Zylinderhälften 120
und 122 hergestellt ist, wobei diese Zylinderhälften 120 und
122 so zusammensetzbar sind, daß sich eine Fügeebene 124 bil
det, welche durch die Längsachse 116 des Gehäuses hindurch
verläuft.
Diese beiden Zylinderhälften 120 und 122 lassen sich vor
ihrem Zusammensetzen unter Bildung der Fügeebene 124 auf
ihren Innenseiten 126 und 128 mit der Kapillarschicht 50
durch thermisches HF-Plasmaspritzen in einfacher Weise ver
sehen. Die Kapillarschicht 50 läßt sich dabei, wie in Fig. 7
dargestellt, unmittelbar auf die Innenseiten 126 und 128 der
Zylinderhälften 120, 122 aufspritzen.
Eine vorteilhafte Variante des zweiten Ausführungsbeispiels
sieht, wie in Fig. 10 dargestellt, vor, daß zunächst auf die
jeweilige Innenseite, beispielsweise die Innenseite 128, eine
Haftschicht 130 aufgetragen wird, auf welche dann die Kapil
larschicht 50 folgt.
Vorzugsweise ist die Haftschicht 130 aus demselben Material
wie die Kapillarschicht, jedoch aus Pulverpartikeln kleineren
Durchmessers, wobei zum Aufbringen der Haftschicht 130 das
thermische HF-Plasmaspritzen so geführt wird, daß die Haft
schicht 130 eine geringere oder sogar gar keine Porosität
aufweist, und die jeweilige Innenseite, beispielsweise die
Innenseite 128 der Gehäusehälfte 122, durchgehend überdeckt.
Auf diese Haftschicht läßt sich dann in einfacher Art und
Weise durch Verwenden eines größeren Partikeldurchmessers und
nur oberflächliches Aufschmelzen der Partikel die Kapillar
schicht 50 auftragen, die auf der Haftschicht 130 besonders
festen Halt findet, somit dient die Haftschicht 130 nicht nur
zur Fixierung der Kapillarschicht 50 auf der jeweiligen
Innenseite, beispielsweise der Innenseite 128, sondern außer
dem auch dazu, eine gute Wärmeleitung zwischen der Kapillar
schicht 50 und dem jeweiligen Gehäuse sicherzustellen.
Ein drittes Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig. 11 und
12 betrifft ein koaxiales Wärmerohr, bei welchem das Gehäuse
212 durch zwei koaxial zueinander verlaufende und ineinander
gesteckte sowie endseitig verschlossene Zylinderwände 214 und
216 gebildet ist, wobei jede der Zylinderwände 214 und 216
auf ihrer dem Dampfkanal 32 zugewandten Innenseite 218 bzw.
220 mit einer Kapillarstruktur 222 bzw. 224 versehen ist, wo
bei dann zwischen den Kapillarstrukturen der Dampfkanal 52
liegt.
Die Kapillarschichten 222 und 224 sind dann ihrerseits noch
zusätzlich über radial zur Zylinderachse 116 verlaufende
ringförmige verbindende Kapillarstrukturen 226 oder 228 ver
bunden, wobei die Kapillarstruktur 226 durch eine Kapillar
schicht gebildet ist, die auf einer endseitigen Abflußwand
sitzt, während die Kapillarstruktur 228 ein zusätzlich einge
setztes Element, beispielsweise aus einem bislang bekannten
Netzmaterial darstellt, welches an den Kapillarschichten 222
sowie 224 jeweils anliegt und damit ebenfalls eine Verbindung
zwischen diesen gewährleistet.
Vorzugsweise werden auch bei dem dritten Ausführungsbeispiel
die Innenseiten 218 und 220 der Zylinderwände 214 bzw. 216
dadurch mit den Kapillarschichten 222 bzw. 224 versehen, daß
jeweils Zylinderhalbschalen durch thermisches HF-Plasma
spritzen mit der Kapillarschicht versehen werden, die in
gleicher Weise ausgebildet wird wie im Detail im Zusammenhang
mit dem ersten Ausführungsbeispiel beschrieben.
Bei einem vierten Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig. 13
und 14 ist das Wärmerohr ebenfalls ein koaxiales Wärmerohr,
wobei zwischen der Kapillarstruktur 224 und der Kapillar
struktur 222 radial zur Zylinderachse 116 verlaufende und als
Kapillarstruktur wirksame sogenannte Arterien 230 vorgesehen
sind, welche über den gesamten Umfang verteilt jeweils die
Kapillarschichten 222 und 224 miteinander verbinden.
Bei dem vierten Ausführungsbeispiel sind die Arterien 230
beispielsweise dadurch ausgebildet, daß sie einstückig an die
Kapillarschicht 224 angeformt sind.
Derartige Arterien 230 lassen sich beispielsweise dadurch
herstellen, daß zunächst eine Kapillarschicht 224 mit einer
Dicke aufgetragen wird, welche die radiale Erstreckung der
Arterien 230 mitumfaßt und dann Nuten 232 zwischen den
Arterien durch lokales Abtragen der Kapillarschicht 224 her
gestellt werden, so daß einerseits die die Innenseite 220
überdeckende Kapillarschicht 224 stehenbleibt und anderer
seits die an diese einstückig angeformten Arterien 230,
welche beim Zusammensetzen des Wärmerohrs dann eine derartige
radiale Erstreckung aufweisen, daß sie an einer Innenseite
234 der Kapillarschicht 222 berührend anliegen und ein
kapillarer Kontakt zwischen den Arterien 230 und der
Kapillarschicht 222 besteht.
Alternativ dazu ist, wie in Fig. 15 dargestellt, bei einer
Variante des vierten Ausführungsbeispiels vorgesehen, zu
nächst die Kapillarschicht 224 aufzutragen und dann auf diese
Maskenkörper 236 auf zulegen, zwischen welchen Zwischenräume
verbleiben, in denen sich bei Fortsetzung des thermischen
HF-Plasmaspritzens dann die Arterien 230 bilden. Die Masken
körper 236 lassen sich dann nach Aufbau der Arterien 230 ent
fernen.
Beispielsweise sind derartige Maskenkörper 236 aus Graphit
ausgebildet, das sich nach Fertigstellung der Arterien durch
thermisches HF-Plasmaspritzen thermisch entfernen läßt, ohne
die Kapillarschicht und die Arterien 230 zu verändern.
Bei einem fünften Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig. 16
und 17 sind Arterien 240 aus mehreren Lagen von Netzmaterial,
welches üblicherweise bei Wärmerohren als Kapillarstruktur
Verwendung findet, gebildet, wobei dieses Netzmaterial je
weils C-förmig geformt und beispielsweise mit einem Schenkel
242 mit beispielsweise der Kapillarschicht 224 verbunden
wird. Die Verbindung mit der Kapillarschicht 224 erfolgt bei
spielsweise durch Punktschweißen im Bereich des Schenkels 242
der entsprechenden Arterie 240. Es ist aber auch denkbar, den
jeweiligen Schenkel 242 der jeweiligen Arterie 240 während
des thermischen HF-Plasmaspritzens in die Kapillarschicht 224
miteinzubetten und damit bereits die jeweilige Arterie 240 in
der durch thermisches HF-Plasmaspritzen hergestellten Kapil
larschicht 224 zu verankern.
Der andere Schenkel 244 der jeweiligen Arterie liegt dann
beim Zusammenbau des Wärmerohrs an der jeweiligen Innenseite
234 der Kapillarschicht 222 so an, daß ein Kapillarkontakt
zwischen dem jeweiligen Schenkel 244 und der Kapillarschicht
222 besteht.
Im übrigen ist das fünfte Ausführungsbeispiel in gleicher
Weise ausgebildet wie das dritte und vierte Ausführungs
beispiel, so daß bezüglich der Beschreibung weiterer Teile
auf die Ausführungen hierzu Bezug genommen wird.
Sowohl beim vierten als auch beim fünften Ausführungsbeispiel
sind die Arterien, wie in den Fig. 14 und 16 dargestellt, je
weils noch in azimuthaler Richtung mit Durchbrüchen 250 ver
sehen, welche somit einen azimuthalen Dampfstrom und nicht
nur einen Dampfstrom in radialer Richtung zur Zylinderachse
116 oder parallel zu dieser zulassen.
Claims (38)
1. Wärmerohr zum Transport von Wärme von einem Ver
dampfungsbereich zu einem Kondensationsbereich, um
fassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden, eine in dem Ge
häuse angeordnete und im Verdampfungsbereich sowie im
Kondensationsbereich jeweils mit der entsprechenden Ge
häusewand thermisch gekoppelte Kapillarstruktur, einen
in dem Gehäuse angeordneten und vom Verdampfungsbereich
zum Kondensationsbereich führenden Dampfkanal sowie
einem Wärmetransportmedium,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Kapillarstruktur (20) eine durch thermisches Plasma
spritzen von Pulverpartikeln (100) hergestellte offen
porige Kapillarschicht (50, 222, 224) ist.
2. Wärmerohr nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillarschicht (50, 222, 224) aus Pulverpartikeln
(100) aus metallischem Ausgangsmaterial hergestellt ist.
3. Wärmerohr nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillarschicht (50, 222, 224) aus Pulverpartikeln
aus keramischem Ausgangsmaterial hergestellt ist.
4. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) durch
oberflächliches Anschmelzen und die dabei sich bildende
und zumindest teilweise über benachbarte Pulverpartikel
(100) verlaufende Schmelzschicht (102) miteinander ver
bundene Pulverpartikel (100) aufweist.
5. Wärmerohr nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die Pulverpartikel (100) in der Kapillarschicht (50,
222, 224) jeweils unterhalb der Schmelzschicht (102)
eine gegenüber dem Zustand vor dem Plasmaspritzen unver
änderte Kristallstruktur aufweisen.
6. Wärmerohr nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeich
net, daß die Schmelzschicht (102') aus einem Material
gebildet ist, dessen Schmelzpunkt unterhalb dem eines
Kerns (101a) des Pulverpartikels in der Kapillarschicht
(50, 222, 224) liegt.
7. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß die Pulverpartikel (100) eine
mittlere Partikelgröße im Bereich von ungefähr 30 µm bis
ungefähr 300 µm aufweisen.
8. Wärmerohr nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
die Pulverpartikel eine mittlere Partikelgröße im Be
reich von ungefähr 50 µm bis ungefähr 200 µm aufweisen.
9. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50, 222,
224) Poren (104) mit einer mittleren Größe im Bereich
zwischen ungefähr 10 µm und ungefähr 1000 µm aufweist.
10. Wärmerohr nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillarschicht (50, 222, 224) Poren (104) mit einer
mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr 50 µm bis
einige Hundert µm aufweist.
11. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß zwischen der Kapillarschicht
(50) und einem Träger (122) eine Haftschicht (130)
mittels Plasmaspritzen aufgetragen ist.
12. Wärmerohr nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Haftschicht (130) aus demselben Pulvermaterial wie
die Kapillarschicht (50) hergestellt ist.
13. Wärmerohr nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeich
net, daß die Haftschicht (130) als durchgängige Schicht
ausgebildet ist.
14. Wärmerohr nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) eine Dicke von
mehr als ungefähr 10 µm aufweist.
15. Wärmerohr nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) Pulverpartikel
mit einer mittleren Größe im Bereich zwischen ungefähr
5 µm und ungefähr 50 µm aufweist.
16. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) eine
sich in einer vorgegebenen Richtung ändernde Größe der
Poren (104) aufweist.
17. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) Teil
eines in das Gehäuse (12) einsetzbaren Einsatzes (40)
ist.
18. Wärmerohr nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Gehäuse aus zwei Teilen (120, 122)
zusammengesetzt ist, und das mindestens eines der Teile
auf einer Innenseite mit der Kapillarschicht (50) ver
sehen ist.
19. Wärmerohr nach einem der voranstehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß bei zwei einander gegenüber
liegenden Kapillarschichten (222, 224) eine (224) mit
einem Arterienelement (230, 240) fest verbunden ist,
während dieses an der anderen (222) mit Kapillarkontakt
anliegt.
20. Wärmerohr nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß
das Arterienelement (230) einstückig an die dieses
tragende Kapillarschicht (224) angeformt ist.
21. Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs zum Transport
von Wärme von einem Verdampfungsbereich zu einem Konden
sationsbereich, umfassend ein Gehäuse mit Gehäusewänden,
eine in dem Gehäuse angeordnete und im Verdampfungs
bereich sowie im Kondensationsbereich jeweils mit der
entsprechenden Gehäusewand thermisch gekoppelte Kapil
larstruktur, einen in dem Gehäuse angeordneten und vom
Verdampfungsbereich zum Kondensationsbereich führenden
Dampfkanal und ein Wärmetransportmedium, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Kapillarstruktur (20) durch ther
misches Plasmaspritzen von Pulverpartikeln (100) als
offenporige Kapillarschicht (50, 222, 224) hergestellt
wird.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß
das Plasmaspritzen ein HF-Plasmaspritzen ist.
23. Verfahren nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeich
net, daß das Plasmaspritzen so ausgeführt wird, daß die
Pulverpartikel (100) oberflächlich angeschmolzen werden,
so daß sich in der Kapillarschicht (50, 222, 224) eine
im erstarrten Zustand die Pulverpartikel (100) ver
bindende Schmelzschicht (102) bildet.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch
gekennzeichnet, daß das Plasmaspritzen derart durchge
führt wird, daß die Pulverpartikel (100) unterhalb der
Schmelzschicht (102) eine Kristallstruktur aufweisen,
welche der der Pulverpartikel (100) vor dem Plasma
spritzen entspricht.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 24, dadurch
gekennzeichnet, daß das Plasmaspritzen mit Pulverpar
tikeln (100') erfolgt, die einen sich von innen nach
außen ändernden Schmelzpunkt aufweisen.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 25, dadurch
gekennzeichnet, daß als Pulverpartikel (100) solche mit
einer mittleren Partikelgröße von ungefähr 30 µm bis
ungefähr 300 µm verwendet werden.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 26, dadurch
gekennzeichnet, daß vor einem Auftragen der Kapillar
schicht (50) auf einem Träger (122) für diese eine Haft
schicht (130) mittels Plasmaspritzen aufgetragen wird.
28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß
die Haftschicht (130) aus demselben Pulvermaterial wie
die Kapillarschicht (50) hergestellt wird.
29. Verfahren nach Anspruch 27 oder 28, dadurch gekennzeich
net, daß die Haftschicht (130) als durchgehende Schicht
hergestellt wird.
30. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 29, dadurch
gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) mit einer
Dicke von mehr als 10 µm hergestellt wird.
31. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 30, dadurch
gekennzeichnet, daß die Haftschicht (130) aus Pulver
partikeln mit einer mittleren Größe zwischen ungefähr
5 µm und ungefähr 50 µm hergestellt wird.
32. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 31, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) mit einer
sich in einer vorgegebenen Richtung ändernden mittleren
Porengröße hergestellt wird.
33. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 31, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht (50) als Teil
eines Einsatzes (40) hergestellt und dann in das Gehäuse
(12) eingesetzt wird.
34. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillarschicht (50) auf einem mit Trennmittel ver
sehenen Formkörper (110) aufgetragen und zum Einsetzen
in das Gehäuse (12) von diesem abgenommen wird.
35. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 32, dadurch
gekennzeichnet, daß das Gehäuse (12) aus zwei Teilen
(120, 122) zusammengesetzt wird, von denen mindestens
eines vorher auf seiner Innenseite (126, 128) mit der
Kapillarschicht (50) versehen wird.
36. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht durch mecha
nisches Abtragen von Teilen derselben mit einem Dampf
kanal versehen wird.
37. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht durch Verwenden
einer Maske beim Plasmaspritzen mit einem Dampfkanal
versehen wird.
38. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 35, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kapillarschicht durch Umspritzen
eines herauslösbaren Körpers mit einem Dampfkanal ver
sehen wird.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19717235A DE19717235B4 (de) | 1997-01-29 | 1997-04-24 | Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs |
PCT/EP1998/000308 WO1998033031A1 (de) | 1997-01-29 | 1998-01-21 | Wärmerohr und verfahren zur herstellung desselben |
CA002250415A CA2250415C (en) | 1997-01-29 | 1998-01-21 | Heat exchanger tube, and method for the production of same |
US09/162,010 US6303191B1 (en) | 1997-01-29 | 1998-09-28 | Process for the production of a heat pipe |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19703110 | 1997-01-29 | ||
DE19703110.2 | 1997-01-29 | ||
DE19717235A DE19717235B4 (de) | 1997-01-29 | 1997-04-24 | Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19717235A1 true DE19717235A1 (de) | 1998-07-30 |
DE19717235B4 DE19717235B4 (de) | 2006-04-13 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19717235A Expired - Fee Related DE19717235B4 (de) | 1997-01-29 | 1997-04-24 | Verfahren zur Herstellung eines Wärmerohrs |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19717235B4 (de) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1154031A2 (de) * | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur |
EP1154033A2 (de) | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport |
EP1154032A2 (de) * | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmschicht |
EP1154217A2 (de) | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung |
DE10022159A1 (de) * | 2000-05-09 | 2001-11-29 | Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt | Substrathalterung für Beschichtungseinrichtungen |
DE102004006857A1 (de) * | 2004-02-12 | 2005-09-01 | Daimlerchrysler Ag | Gradientenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE102004060538B3 (de) * | 2004-12-16 | 2006-03-16 | Daimlerchrysler Ag | Verfahren zur Bildung von Hartmetallschichten und Zylinderkopf für Brennkraftmaschinen mit Ventilsitzringen aus Hartmetall |
DE102005011405B3 (de) * | 2005-03-03 | 2006-11-16 | Siemens Ag | Schaltgerät mit Wärmerohr |
WO2009007905A2 (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Heat pipe |
ITBG20090032A1 (it) * | 2009-05-28 | 2010-11-29 | Abb Spa | Dispositivo di raffreddamento per un interruttore, ed interruttore comprendente tale dispositivo. |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007018262B4 (de) | 2007-04-13 | 2010-04-08 | Technische Universität Dresden | Verfahren zum Verschließen von keramischen Kapillaren an Behältern mittels Laser |
DE102012219347B4 (de) | 2012-10-23 | 2017-06-14 | Technische Universität Dresden | VERFAHREN ZUM GASDICHTEN VERSCHLIEßEN VON BEHÄLTERN |
DE102012219346A1 (de) | 2012-10-23 | 2014-04-24 | Technische Universität Dresden | Verfahren und Vorrichtung zum gasdichten Verschließen von Behältern |
DE102013216323B4 (de) | 2013-08-16 | 2018-10-18 | Technische Universität Dresden | Verfahren zum gasdichten Verschließen von keramischen Wärmerohren |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA960413A (en) * | 1971-01-08 | 1975-01-07 | Robert F. Keller | Method of making a heat pipe and wick therein |
DE2515753A1 (de) * | 1975-04-10 | 1976-10-14 | Siemens Ag | Waermerohr |
IT1059933B (it) * | 1976-04-27 | 1982-06-21 | Fiat Spa | Tubo di calore a struttura capillare sinterizzata |
US4247830A (en) * | 1978-11-08 | 1981-01-27 | General Electric Company | Plasma sprayed wicks for pulsed metal vapor lasers |
US4177328A (en) * | 1978-12-19 | 1979-12-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Wall wick for nickel-hydrogen cell |
IT1206312B (it) * | 1982-01-22 | 1989-04-14 | Thermo Electron Corp | Metodo per formare uno stoppino per un tubo di calore. |
DE4021182A1 (de) * | 1990-07-03 | 1992-01-16 | Plasma Technik Ag | Vorrichtung zur beschichtung der oberflaeche von gegenstaenden |
-
1997
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Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1154217A3 (de) * | 2000-05-09 | 2005-10-12 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung |
DE10022159A1 (de) * | 2000-05-09 | 2001-11-29 | Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt | Substrathalterung für Beschichtungseinrichtungen |
EP1154031A2 (de) * | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur |
DE10022325B4 (de) * | 2000-05-09 | 2009-11-26 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung |
EP1154217A2 (de) | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Anordnung zum Transport von Flüssigkeiten unter Ausnutzung von Kapillarkräften und Verfahren zur Herstellung einer Kapillarstrukturschicht für eine solche Anordnung |
EP1154032A3 (de) * | 2000-05-09 | 2003-04-16 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmschicht |
EP1154033A3 (de) * | 2000-05-09 | 2003-04-23 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport |
EP1154031A3 (de) * | 2000-05-09 | 2003-05-02 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur |
DE10122574B4 (de) * | 2000-05-09 | 2004-04-08 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport |
EP1154033A2 (de) | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Bauteil zum Stoff- und Wärmetransport sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils zum Stoff- und Wärmetransport |
EP1154032A2 (de) * | 2000-05-09 | 2001-11-14 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmschicht |
DE102004006857A1 (de) * | 2004-02-12 | 2005-09-01 | Daimlerchrysler Ag | Gradientenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE102004006857B4 (de) * | 2004-02-12 | 2008-09-04 | Daimler Ag | Gradientenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE102004060538B3 (de) * | 2004-12-16 | 2006-03-16 | Daimlerchrysler Ag | Verfahren zur Bildung von Hartmetallschichten und Zylinderkopf für Brennkraftmaschinen mit Ventilsitzringen aus Hartmetall |
DE102005011405B3 (de) * | 2005-03-03 | 2006-11-16 | Siemens Ag | Schaltgerät mit Wärmerohr |
WO2009007905A2 (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Heat pipe |
WO2009007905A3 (en) * | 2007-07-11 | 2009-03-26 | Koninkl Philips Electronics Nv | Heat pipe |
ITBG20090032A1 (it) * | 2009-05-28 | 2010-11-29 | Abb Spa | Dispositivo di raffreddamento per un interruttore, ed interruttore comprendente tale dispositivo. |
EP2256772A1 (de) * | 2009-05-28 | 2010-12-01 | ABB S.p.A. | Kühlungsvorrichtung für einen Leistungsschalter und Leistungsschlater mit einer solchen Kühlvorrichtung |
CN101901705A (zh) * | 2009-05-28 | 2010-12-01 | Abb公司 | 用于断路器的冷却装置及包括该冷却装置的断路器 |
CN101901705B (zh) * | 2009-05-28 | 2014-09-10 | Abb公司 | 用于断路器的冷却装置及包括该冷却装置的断路器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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