DE19703601A1 - Abtastvorrichtung - Google Patents
AbtastvorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Abtastvorrichtung, die z. B. in
einem Laserstrahldrucker zum Erzeugen einer Abtastbewegung
eines Lichtstrahls verwendet wird.
Eine bekannte Abtastvorrichtung enthält eine Strahlungsquel
le, wie z. B. einen Halbleiter-Laser, einen Polygonspiegel zum
Ablenken eines von der Strahlungsquelle abgestrahlten Laser
strahls, sowie ein fθ-Objektiv, das den Laserstrahl auf einer
Abbildungsfläche bündelt, wie z. B. auf einer fotoleitenden
Trommel, um einen Strahlpunkt zu erzeugen, der eine Abtastbe
wegung ausführt. Im optischen Weg zwischen der Strahlungs
quelle und dem Polygonspiegel ist weiterhin ein Zylinderob
jektiv angeordnet, um eine lineare Abbildung in der Umgebung
der Spiegelflächen des Polygonspiegels zu erzeugen.
Bisher wird das Zylinderobjektiv zum Kompensieren von Form
fehlern des Strahlpunktes aufgrund einer Fehlausrichtung ei
ner Linse im optischen System verwendet. Demgemäß ist das
Zylinderobjektiv in der bekannten Abtastvorrichtung, z. B. in
einer Nebenabtastrichtung verstellbar und kann auch um die
optische Achse drehbar sein. Die Form des Strahlpunktes wird
während der Montage nahe der Abbildungsfläche gemessen. Diese
Messung und eine Justierung werden wiederholt, bis die gemes
sene Form des Strahlpunktes ausreichend ist.
Außerdem sollte eine Biegung der Abtastzeile in der Nebenab
tastrichtung (d. h. die Abtastzeile ist eine Kurve) in einer
Abtastvorrichtung mit relativ hoher Auflösung ebenfalls kom
pensiert werden. Da die Biegung der Abtastzeile aufgrund der
Fehlausrichtung einer Linse in Nebenabtastrichtung auftritt,
kann sie durch Einstellen des Zylinderobjektivs in der Neben
abtastrichtung kompensiert werden. Obwohl die Verschiebung
des Zylinderobjektivs die Biegung der Abtastzeile kompensie
ren könnte, wird auch die Form des Strahlpunktes durch die
Bewegung des Zylinderobjektivs verändert, und die verursachte
Veränderung der Form ist größer als die Kompensation der Bie
gung der Abtastzeile.
Es ist Aufgabe der Erfindung eine Abtastvorrichtung anzuge
ben, die eine leichte Einstellung sowohl der Strahlform als
auch der Biegung der Abtastzeile gewährleistet.
Diese Aufgabe wird durch eine Abtastvorrichtung mit den Merk
malen des Patentanspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Ausführungen
sind in den Unteransprüchen angegeben.
Bei der Erfindung enthält die Abtastvorrichtung mindestens
eine Strahlungsquelle zum Abstrahlen eines Strahls, eine Ab
lenkeinheit zum Ablenken des Strahls, ein Abtastobjektiv zum
Bündeln des abgelenkten Strahls auf einer Abbildungsfläche
und eine Einheit zum Einstellen der relativen Lage in der
Nebenabtastrichtung mindestens einer Linse des Abtastobjek
tivs bezogen auf die anderen Linsen des Abtastobjektivs.
In einem Ausführungsbeispiel der Erfindung enthält die Abtast
vorrichtung zusätzlich ein im optischen Weg zwischen der
Strahlungsquelle und der Ablenkeinheit angeordnetes Abbil
dungsobjektiv zum Erzeugen einer linearen Abbildung in Ne
benabtastrichtung. Das Abbildungsobjektiv enthält z. B. eine
Zylinderlinse. In diesem Fall kann die optische Abtastvor
richtung auch eine Einheit zum Einstellen der Lage dieses
Objektivs in Nebenabtastrichtung haben.
In einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung ist min
destens eine Linse des Abtastobjektivs in einer Lagerung ein
stellbar gelagert. Vorzugsweise hat diese Linse des Abtastob
jektivs eine anamorphotische Oberfläche mit einer größeren
Brechkraft in Nebenabtastrichtung als in Hauptabtastrich
tung. Die betreffende Linse des Abtastobjektivs kann auch die
betragsmäßig größte Brechkraft der Linsen im Abtastobjektiv
haben. Weiterhin kann die betreffende Linse des Abtastobjek
tivs die Linse mit dem betragsmäßig kleinsten Krümmungsradius
im Abtastobjektiv sein.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbei
spielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert. Darin
zeigen:
Fig. 1 eine räumliche Ansicht einer optischen Abtastvor
richtung,
Fig. 2 eine Draufsicht auf die optische Abtastvorrichtung
gemäß Fig. 1 in der Hauptabtastrichtung,
Fig. 3 eine Schnittansicht der optischen Abtastvorrichtung
gemäß Fig. 1 in der Nebenabtastrichtung,
Fig. 4 den optischen Aufbau der optischen Abtastvorrich
tung gemäß Fig. 1 in der Hauptabtastrichtung,
Fig. 5 eine Seitenansicht der optischen Abtastvorrichtung
während des Einstellvorgangs,
Fig. 6 eine räumliche Ansicht eines fθ-Objektivs, wobei
die entstehende Abbildungsebene gezeigt ist,
Fig. 7 eine Darstellung von Strahlformfehlern,
Fig. 8 eine Darstellung eines Beispiels für eine gekrümmte
Abtastbewegung,
Fig. 9 eine räumliche Ansicht einer Vorrichtung zur linea
ren Einstellung einer speziellen Linse im fθ-Objek
tiv, und
Fig. 10 eine räumliche Ansicht einer Vorrichtung zur Dre
hung und linearen Ausrichtung eines Zylinderobjek
tivs.
Das erläuterte Ausführungsbeispiel betrifft eine optische
Mehrstrahl-Abtastvorrichtung, die eine Abtastbewegung mehre
rer Laserstrahlen über einen vorgegebenen Winkel durchführt,
wobei acht Abtastzeilen pro Abtastbewegung auf einer Oberflä
che erzeugt werden, zum Beispiel auf der Oberfläche eines
fotoleitenden Elementes. Unter dem Begriff "Licht" ist im
folgenden ein Strahlungsspektrum zu verstehen, das im sicht
baren und im unsichtbaren Bereich liegt.
Wie in den Fig. 3 und 4 gezeigt, enthält die Abtastvorrich
tung eine Lichtübertragungseinheit 100, einen Polygonspiegel
180 und ein fθ-Linsensystem 190 (Abtastoptik). Im Betrieb
werden acht Laserstrahlen von der Lichtübertragungseinheit
100 abgestrahlt, vom Polygonspiegel abgelenkt (abtastend) und
durch das fθ-Linsensystem 190 geleitet, um acht Abtastzeilen
auf einer fotoleitenden Oberfläche zu erzeugen, zum Beispiel
auf einer Fotoleitertrommel 210.
In dieser Beschreibung ist eine "Hauptabtastrichtung" als ei
ne Richtung definiert, in welcher ein Laserstrahl eine Ab
tastbewegung über die Oberfläche eines fotoleitenden Elements
ausführt, und eine "Nebenabtastrichtung" ist eine Richtung,
in welcher das fotoleitende Element bewegt oder gedreht wird,
um es für eine folgende Hauptabtastbewegung zu positionieren.
Die Hauptabtastrichtung und die Nebenabtastrichtung sind
senkrecht zueinander, und beide sind senkrecht zur optischen
Achse der die Laserstrahlen übertragenden Linsen. Da ein La
serstrahl gewöhnlich mehrere Male bei der Übertragung von der
Lichtquelle zu einem fotoleitenden Element reflektiert oder
"gefaltet" wird, sind die Hauptabtastrichtung und die Neben
abtastrichtung nicht absolut, sondern bezogen auf die opti
sche Achse an einem speziellen Punkt des optischen Weges.
In dieser Beschreibung ist in der Fig. 1 bis 4 ein XYZ-Koor
dinatensystem definiert. Die X-Achse ist eine Achse parallel
zur optischen Achse des fθ-Linsensystem 190, und die Y- und
die Z-Achsen liegen rechtwinklig zueinander in der Ebene
senkrecht zur X-Achse. Die Y-Achse liegt parallel zur
Hauptabtastrichtung, und die Z-Achse liegt parallel zur Ne
benabtastrichtung.
Wie in Fig. 1 gezeigt, enthält die Abtastvorrichtung weiter
hin ein offenes Gehäuse 1. Im Betriebszustand ist die obere
Öffnung des Gehäuses 1 durch einen Gehäusedeckel 2 verschlos
sen.
Wie in Fig. 4 gezeigt, enthält die Lichtübertragungseinheit
100 acht Halbleiterlaser 101 bis 108, acht Laserblöcke 310a
bis 310h (jeder auf einem Träger 300 befestigt), die jeweils
einem der Laser 101 bis 108 zugeordnet sind, acht optische
Lichtwellenleiter (z. B. Lichtleitfaserbündel) 121 bis 128 aus
Hartglas (Silikaglas), die jeweils einem der Laser 101 bis
108 zugeordnet sind, und einen Lichtwellenleiter-Ausricht
block 130. Jeder Laser 101 bis 108 ist in dem zugehörigen
Laserblock 310a bis 310h so befestigt, daß sein Laserstrahl
in den jeweils zugehörigen Lichtwellenleiter 121 bis 138 ein
tritt. Außerdem werden die Eintrittsendabschnitte der opti
schen Lichtwellenleiter 121 bis 128 von Lichtwellenleiter-
Halteelementen 319a bis 319h an den jeweiligen Laserblöcken
310a bis 310h festgehalten. Der Lichtwellenleiter-Ausricht
block 130 hält die Austrittsendabschnitte der optischen
Lichtwellenleiter 121 bis 128 zum Ausrichten derart, daß acht
Punktlichtquellen auf einer Geraden erzeugt werden.
Ein vom Lichtwellenleiter-Ausrichtblock 130 abgestrahltes di
vergierendes Lichtbündel wird mit Hilfe einer Sammellinse 140
gebündelt, die durch einen zylindrischen Sammellinsentubus
340 gehalten wird, und durch eine Blende 142 hindurchgerich
tet. Die Blende 142 hat eine rechteckige Durchtrittsöffnung,
die in der Hauptabtastrichtung länger ist und in der Hauptab
tastrichtung und der Nebenabtastrichtung das aus der Sammel
linse 140 austretende Lichtbündel begrenzt.
Das durch die Blende 142 hindurchtretende Lichtbündel wird
auf einen Strahlteiler 144 gerichtet. Der Strahlteiler 144
teilt die Strahlung in einen Steuerstrahl und in einen Haupt
strahl, der reflektiert wird. Die Durchlässigkeit des Strahl
teilers 144 (d. h. die Menge des als Steuerstrahl hindurchge
lassenen Lichtes) beträgt zum Beispiel zwischen 5 und 10 Pro
zent als Mittelwert des S-polarisierten Lichtes und des P-
polarisierten Lichtes.
Der Steuerstrahl wird in ein automatisches Leistungssteue
rungs-Sensorsystem (ALS-Sensorsystem) 150 gerichtet. Dieses
enthält eine Sammellinse 151 zum Bündeln des Steuerstrahls,
einen Polarisationsstrahlteiler 153, der den Steuerstrahl in
zwei linear polarisierte Komponenten aufteilt, die orthogonal
zueinander sind, einen ersten ALS-Lichtsensor 155 und einen
zweiten ALS-Lichtsensor 157.
Der erste und der zweite ALS-Lichtsensor 155 und 157 erfassen
die Lichtenergie der entsprechenden linearen Polarisations
komponente, und die Ausgangssignale der Lichtsensoren 155 und
157 werden für eine Regelung der Ausgangsleistung der Halb
leiterlaser 101 bis 108 genutzt.
Der am Strahlteiler 144 reflektierte Hauptstrahl tritt durch
ein dynamisches Prisma 160 hindurch. Das dynamische Prisma
160 ist in Richtung einer zur optischen Achse rechtwinkligen
Achse drehbar gelagert, um die Lage des Auftreffpunktes in
der Nebenabtastrichtung auf der Bildebene zu steuern. Das
dynamische Prisma 160 ist vorzugsweise ein Keilprisma, das um
die Hauptabtastrichtung drehbar gelagert ist, um den Haupt
strahl in Richtung der Nebenabtastrichtung abzulenken. Das
dynamische Prisma 160 berichtigt Änderungen der Lage der
Bildpunkte (in der Nebenabtastrichtung) auf der Abtastebene,
welche durch Neigungsfehler der reflektierenden Flächen des
Polygonspiegels 180 und/oder durch eine ungleichmäßige Dre
hung der Fotoleitertrommel 210 entstehen (vgl. Fig. 3 und die
später folgenden Erläuterungen).
Der durch das dynamische Prisma 160 hindurchtretende Haupt
strahl bildet mit Hilfe einer Zylinderlinse 170 ein lineares
Bild in der Umgebung der Spiegeloberfläche des Polygonspie
gels 180. Die Zylinderlinse 170 hat nur in der Nebenabta
strichtung eine positive Brechkraft. Wie in den Fig. 1 und 2
gezeigt, wird die Zylinderlinse 170 durch einen zylindrischen
Linsentubus 361 gehalten und besteht aus zwei Linsen 171, 173
mit positiver bzw. negativer Brechkraft in der Nebenabta
strichtung.
Der Polygonspiegel 180 wird, wie in Fig. 3 gezeigt, durch ei
nen Spiegelmotor 371 angetrieben (befestigt im Gehäuse 1) und
rotiert im Uhrzeigersinn in der Darstellung der Fig. 2
(dargestellt durch einen Pfeil). Außerdem ist der Poly
gonspiegel 180, wie in Fig. 1 gezeigt, von der Umgebung durch
eine haubenartige Polygonabdeckung 373 getrennt, um Drehge
räusche zu dämpfen und um Beschädigungen der Spiegeloberflä
che durch Staub oder Schmutz in der Luft zu vermeiden.
Eine Lichtweg-Durchtrittsöffnung 373e befindet sich an der
Seite der Polygonabdeckung 373, und ein Abdeckglas 375 ist in
die Lichtweg-Durchtrittsöffnung 373e eingepaßt. Der durch die
Zylinderlinse 170 hindurchtretende Hauptstrahl tritt in die
Polygonabdeckung 373 durch das Abdeckglas 375 ein, wird durch
den Polygonspiegel 180 abgelenkt und nach außen gerichtet,
wobei er wieder durch das Abdeckglas 375 hindurchtritt. Auf
der Oberseite des Polygonspiegels 180 ist weiterhin ein Kenn
zeichen M befestigt oder einmarkiert, und ein Sensorblock 376
an der Oberseite der Polygonabdeckung 373 enthält einen Sen
sor zum Erfassen des Kennzeichens M.
Ein Polygonspiegel kann Flächenfehler (Formfehler) auf den
reflektierenden Flächen haben, die während der Herstellung
entstanden sind. Diese Herstellungsfehler sind meist für die
verschiedenen reflektierenden Flächen unterschiedlich (d. h.
für die Seiten des Polygonspiegels). Um diese Flächenfehler
auszugleichen, kann der Fehlerbetrag jeder Fläche des Poly
gonspiegels 180 gemessen und in einem Speicher (nicht darge
stellt) während der Herstellung der Abtastvorrichtung gespei
chert werden. Durch Unterscheiden, welche Reflexionsfläche
des Polygonspiegels 180 gerade für die Abtastbewegung verwen
det wird, zum Beispiel mit dem Ausgangssignal des Sensors im
Sensorblock 376, kann zumindest die Strahlposition und die
Strahlintensität abhängig von dem Fehlerbetrag korrigiert
werden, welcher jeder reflektierenden Fläche des Polygonspie
gels 180 eigen ist.
Wie in Fig. 3 gezeigt, tritt der am den Polygonspiegel 180
reflektierte Hauptstrahl durch das fθ-Linsensystem 190 hin
durch (ein optisches System zur Bilderzeugung) und wird an
einem Faltungsspiegel 200 zur Fotoleitertrommel 210 reflek
tiert, wobei acht Strahlpunkte entstehen. Die Strahlpunkte
führen eine Abtastbewegung gemäß der Drehung des Polygonspie
gel 180 aus, wobei acht Abtastzeilen pro Abtastbewegung auf
der Fotoleitertrommel 210 entstehen. Die Fotoleitertrommel
210 wird angetrieben und rotiert in der Richtung eines Pfei
les R synchron mit der Abtastbewegung der Strahlpunkte, um
ein elektrostatisches latentes Bild auf der Fotoleitertrommel
210 zu erzeugen. Das latente Bild wird dann mit Hilfe eines
bekannten elektrofotografischen Verfahrens entwickelt und
auf ein Papierblatt (nicht dargestellt) übertragen.
Das fθ-Linsensystem 190 enthält eine erste, eine zweite, eine
dritte und eine vierte Linse 191, 193, 194, 197, die in die
ser Reihenfolge von der dem Polygonspiegel 180 zugewandten
Seite zu der dem Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite nega
tive, positive, positive und negative Brechkraft sowohl in
der Hauptabtastrichtung als auch in der Nebenabtastrichtung
haben. Sie sind auf einem Linsenträger 380 angeordnet. Ihre
Kombination in dem fθ-Linsensystem 190 bewirkt, daß der
Lichtstrahl, der als Bild eine lineare Form in der Nebenabta
strichtung auf dem Polygonspiegel 180 hatte, auf der Foto
leitertrommel 210 als Bild eine elliptische Form hat.
Die erste Linse 191 des fθ-Linsensystem 190 ist eine negative
Linse mit einer konkaven sphärischen Oberfläche auf der dem
Polygonspiegel 180 zugewandten Seite und einer zylindrischen
Oberfläche mit negativer Brechkraft nur in der Nebenabta
strichtung auf der dem Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite.
Die Oberflächen der Linse sind so entworfen, daß die erste
Linse 191 eine vergleichsweise große negative (d. h. größere
negative) Brechkraft in der Nebenabtastrichtung und eine ver
gleichsweise geringe negative Brechkraft in der Hauptabta
strichtung hat.
Die zweite Linse 193 des fθ-Linsensystem 190 ist eine menis
kusförmige torische Linse mit einer konvexen sphärischen
Oberfläche auf der dem Polygonspiegel 180 zugewandten Seite
und einer konvexen torischen Oberfläche auf der dem Faltungs
spiegel 200 zugewandten Seite. Die Oberflächen der Linse sind
so gestaltet, daß die zweite Linse 193 eine vergleichsweise
große positive (d. h. größere positive) Brechkraft in der Ne
benabtastrichtung und eine vergleichsweise kleine positive
Brechkraft in der Hauptabtastrichtung hat.
Die dritte Linse 195 ist eine positive Meniskuslinse mit zwei
sphärischen Oberflächen.
Die vierte Linse 197 ist eine negative Meniskuslinse mit zwei
sphärischen Oberflächen.
Der durch das fθ-Linsensystem 190 übertragene Hauptlichtfluß
wird durch ein Synchronisations-Sensorsystem 220 bei jeder
Abtastbewegung erfaßt (d. h. für jede Fläche des Polygonspie
gels 180). Das Synchronisations-Sensorsystem 220 ist im opti
schen Weg zwischen der vierten Linse 197 des fθ-Linsensystems
190 und dem Faltungsspiegel 200 angeordnet. Das Synchronisa
tions-Sensorsystem 220 enthält einen ersten, einen zweiten
und einen dritten Spiegel 221, 223, 225 und einen Synchroni
sations-Lichtsensor 230, der die an den Spiegeln 221, 223,
225 reflektierte Strahlen empfängt. Der erste Spiegel 221 ist
im optischen Weg vom Polygonspiegel 180 zum Faltungsspiegel
200 an einem Rand des Hauptabtastbereichs angeordnet, jedoch
außerhalb des vorgegebenen Bilderzeugungsbereichs (nicht dar
gestellt). Der zweite und der dritte Spiegel 223 und 225 sind
außerhalb des optischen Weges auf der dem ersten Spiegel 221
abgewandten Seite angeordnet. Der Synchronisations-Lichtsen
sor 230 ist in einer Position angeordnet, die der Position
auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 210 optisch äquiva
lent ist, auf der die Abtastung erfolgt. Somit werden die
acht Lichtstrahlen bei jeder Hauptabtastbewegung nacheinander
am ersten, zweiten und dritten Spiegel 221, 223, 225 reflek
tiert und treffen auf den Synchronisations-Lichtsensor 230.
Ein Ausgangssignal oder Ausgangssignale des Synchronisations-
Lichtsensors 230 werden dann zur Synchronisation der Übertra
gung der Bilddaten für eine Abtastbewegung von einer Steuer
schaltung (nicht dargestellt) zum Ansteuern der Halbleiterla
ser 101 bis 108 mit den Bilddaten verwendet.
Eine Abbildungsöffnung 11 im Gehäuse 1 ermöglicht, den am
Faltungsspiegel 200 reflektierten Hauptstrahl (einschließlich
der acht einzelnen Lichtstrahlen) zur Fotoleitertrommel 210
zu übertragen. Ein Abdeckglas 201 ist an der Abbildungsöff
nung 11 befestigt.
Eine Inspektionsöffnung 12 ist hinter dem Faltungsspiegel 200
angeordnet. Diese wird beim Einstellen der optischen Elemente
verwendet, nachdem (ausschließlich des Faltungsspiegels 200)
sie montiert sind. Wie in Fig. 3 gezeigt ist die Inspektions
öffnung 12 durch eine Abdeckplatte 13 beim normalen Gebrauch
abgedeckt.
Die Justierung der optischen Abtastvorrichtung wird nun im
einzelnen erläutert. Wie in Fig. 3 gezeigt, ist an der unte
ren Seite des Gehäuses 1 eine Abbildungsöffnung 11 und in der
Seitenwand des Gehäuses 1 eine Inspektionsöffnung 12 angeord
net. Im Betriebszustand wird der aus dem fθ-Linsensystem 190
(das bilderzeugende Objektiv) austretende Strahl am Faltungs
spiegel 200 reflektiert und tritt anschließend durch die Ab
bildungsöffnung 11 hindurch, um auf die Oberfläche der Foto
leitertrommel 210 (die Abbildungsebene) zu treffen. Die Ab
bildungsöffnung 11 ist rechteckig und größer als der Abtastbe
reich, so daß der vom Faltungsspiegel 200 kommende Strahl zur
Fotoleitertrommel 210 hindurchtreten kann.
Während des Einstellvorgangs wird der Faltungsspiegel 200 aus
dem Gehäuse 1 entfernt, so daß der Strahl die Inspektionsöff
nung 12 erreicht. Die Inspektionsöffnung 12 ist ebenfalls
rechteckig und größer als der Abtastbereich. Die Inspektions
öffnung ist auf der Höhe der optischen Achse des fθ-Linsensy
stems 190 angeordnet, so daß, wenn der Faltungsspiegel 200
entfernt ist, der vom fθ-Linsensystem 190 kommende Strahl
durch die Inspektionsöffnung 12 hindurchtritt. Wie bereits
erwähnt, hat die Inspektionsöffnung 12 eine Abdeckplatte 13,
welche die Inspektionsöffnung 12 verschließt, wenn diese
nicht in Gebrauch ist, um Staub vom Innern des Gehäuses 1
entfernt zu halten. Vorzugsweise wird die Abdeckplatte 13 an
das Gehäuse 1 angeschraubt, um ein ungewolltes Lösen zu
verhindern.
Fig. 5 zeigt die für den Einstellvorgang vorbereitete opti
sche Abtastvorrichtung. Während des Einstellvorgangs befindet
sich die optische Abtastvorrichtung auf einem Basisrahmen
410. Der Basisrahmen 410 hat Auflageelemente 411 zum horizon
talen Lagern des Gehäuses 1. Die Abdeckplatte 13 ist ent
fernt, so daß der durch das fθ-Linsensystem 190 übertragene
Laserstrahl durch die Inspektionsöffnung 12 parallel zur ho
rizontalen Ebene des Gehäuses 1 hindurchtritt.
Der Basisrahmen 410 hat eine Meßeinheit 400 zum Messen des
Strahldurchmesser des Laserstrahls. Die Meßeinheit 400 ist in
Richtung der optischen Achse des aus der Inspektionsöffnung
12 austretenden Strahls angeordnet und enthält eine Lichtemp
fangsfläche, die den austretenden Strahl empfängt.
Zum Lagern der Meßeinheit 400 hat der Basisrahmen 410 einen
Sockel 420, der eine am Basisrahmen 410 befestigte Platte
ist, ein Paar Leitschienen 422, die in der Hauptabtastrich
tung (Y-Richtung, Richtung senkrecht zur Papieroberfläche in
Fig. 5) verlaufen und die auf dem Sockel 420 angeordnet sind,
bewegliche Kufen 423, die jede Leitschiene umfassen, und eine
Auflage 425, die an den Kufen 423 befestigt ist. Weiterhin
sind auf der Auflage 425 Leitschienen 426 ausgebildet, die in
Richtung der optischen Achse (X-Richtung) verlaufen, und be
wegliche Kufen 427 umfassen die Leitschienen 426. An den
Kufen 427 ist eine Halteplatte 430 befestigt, welche die Meß
einheit 400 trägt. Die Meßeinheit 400 ist somit sowohl in
Hauptabtastrichtung (Y-Richtung) als auch in Nebenabtastrich
tung (X-Richtung) bewegbar.
Die Feinjustierung der optischen Abtastvorrichtung mit der
Inspektionsöffnung 12 wird nun anhand der Fig. 6 erläutert.
Beim Herstellen einer optischen Abtastvorrichtung wird diese
zuerst montiert und danach wird die Feinjustierung der Ele
mente der optischen Abtastvorrichtung durch Messen der Nei
gung, Krümmung u. a. Kenngrößen der Abbildungsebene durchge
führt.
Während dieses Vorgangs wird der Polygonspiegel 180 angehal
ten, und ein einzelner Halbleiter-Laser 101 bis 108 (vgl.
z. B. Fig. 1) wird zum Erzeugen eines Laserstrahls verwendet.
Der Laserstrahl tritt durch die Inspektionsöffnung 12 aus und
bildet einen stationären Strahlpunkt auf einer stationären
Abbildungsebene F, wie in Fig. 6 gezeigt.
Die Größe des Strahlpunktes wird an verschiedenen Positionen
auf der optischen Achse (X-Richtung) mit der Meßeinheit 400
gemessen. Die Position an der die Größe des Strahlpunktes
minimal ist, entspricht der Strahlbrennpunktposition bzw. der
Abbildungsposition. Eine gleichartige Messung der Abbildungs
positionen wird auch für verschiedene Positionen in der
Hauptabtastrichtung (an einem mittleren Meßpunkt A sowie an
Meßpunkten B und C am Rand des Abtastbereichs, vgl. Fig. 6)
durchgeführt, und die Neigung oder Krümmung der Abbildungs
ebene wird auf der Basis der aufgenommenen Daten berechnet.
Somit wird für das Beispiel der Fig. 6, bei dem eine Abbil
dungsposition, die am Meßpunkt B liegen sollte, an einem Meß
punkt B′ liegt, und eine Abbildungsposition, die am Meßpunkt
C liegen sollte, an einem Meßpunkt C′ liegt, ermittelt, daß
die Abbildungsebene F in der Richtung eines Pfeils D geneigt
bzw. gedreht ist. In diesem Fall werden die Einstellung der
Neigung einer geeigneten Linse im fθ-Linsensystem 190 und
andere Feineinstellungen solange durchgeführt, bis die Ab
bildungspositionen an den Meßpunkten B′ bzw. C′ zu den Meß
punkten B bzw. C verschoben sind.
Die Fig. 7(a) und 7(b) zeigen Darstellungen mit Beispielen
für Strahlformfehler. Wie in Fig. 7(a) gezeigt, ist die
Strahlform manchmal so deformiert, daß eine zur Z-Richtung
symmetrische, geneigte Ovalform an den Meßpunkten B und C in
der Hauptabtastrichtung auftritt.
Dieses Phänomen kann durch eine Lageverschiebung einer Linse
der optischen Abtastvorrichtung in Nebenabtastrichtung (Z-
Richtung) korrigiert werden. Da das Zylinderobjektiv 170 im
Ausführungsbeispiel klein und deshalb einfacher zu bewegen
ist, ist es in Nebenabtastrichtung (Z-Richtung) linear ver
stellbar.
Wie in Fig. 7(b) gezeigt, ist die Strahlform manchmal auch so
verformt, daß die ovalen Strahlpunkte in der gleichen Rich
tung an den Meßpunkten A, B und C in Bezug auf die Hauptabta
strichtung geneigt sind. Dieses Phänomen kann durch die Dre
hung einer torischen Linse oder einer anamorphotischen Linse
um die optische Achse des optischen Abtastsystems korrigiert
werden. Da das Zylinderobjektiv 170 in diesem Fall ebenfalls
einfach zu verstellen ist, ist es um seine Achse beim Justie
ren drehbar.
Wie in Fig. 8 gezeigt, verschiebt sich der Strahlpunkt manch
mal in der Nebenabtastrichtung an den Meßpunkten B und C der
Hauptabtastrichtung, d. h. die Abtastzeile ist gekrümmt, wie
durch eine Strichpunktlinie in Fig. 8 gezeigt. Dieses Phäno
men (ein sogenannter "Bogen") wir durch eine Lageverschiebung
einer Linse der optischen Abtastvorrichtung in Nebenabta
strichtung (Z-Richtung) korrigiert.
Dabei hat jedoch eine Verschiebung des Zylinderobjektivs 170
auch eine Veränderung der Strahlform zur Folge, wobei aber
die Veränderung der Strahlform aufgrund der Bewegung des Zy
linderobjektivs 170 größer als die Veränderung der Krümmung
(Bogen) der Abtastzeile ist.
Im Ausführungsbeispiel wird die Krümmung der Abtastzeile da
durch korrigiert, daß eine der vier fθ-Linsen (die erste
Linse 191, die zweite Linse 193, die dritte Linse 195 oder
die vierte Linse 197) des fθ-Linsensystems 190 in Nebenabta
strichtung (Z-Richtung) bewegt wird.
Bei den fθ-Linsen ruft die lineare Justierung der Linse mit
der größten Brechkraft in Nebenabtastrichtung die größte Ver
änderung in der Abtastzeile für eine vorgegeben Größe der
linearen Einstellung der Linse hervor. Die verstellbare Linse
sollte (1) eine Linse mit einer anamorphotischen Oberfläche
sein, wobei die Krümmung in der Nebenabtastrichtung größer
als in der Hauptabtastrichtung ist, (2) die Linse mit der
größten Brechkraft oder (3) die Linse mit dem Krümmungsradius
sein, der den kleinsten Absolutwert hat. Auch (4) die Linse
mit dem größten Abstand zur Abtastfläche, d. h. die Linse mit
dem geringsten Abstand zum Polygonspiegel 180, kann als ver
stellbare Linse verwendet werden. Das letzte Kriterium (4)
wird bevorzugt, da die Größe der linearen Einstellung für
diese Linse besser berechenbar ist, als für die anderen Lin
sen.
Im Ausführungsbeispiel ist jedoch die zweite Linse 193 des
fθ-Linsensystems 190 die justierbare Linse.
Fig. 9 zeigt eine räumliche Ansicht der zweiten Linse 193 und
deren Befestigung. Die Enden der zweiten Linse 193 in
Hauptabtastrichtung (Längsrichtung) werden in einem Anker
block 381 gelagert. Der Ankerblock 381 enthält zwei laterale
Abschnitte 382, welche die Längsenden der zweiten Linse 193
halten, um eine Bewegung dieser Linse in Richtung der opti
schen Achse zu verhindern. Der Ankerblock 381 enthält weiter
hin eine Basis 383, die entlang der unteren Seite der zweiten
Linse 193 verläuft.
Der Ankerblock 381 wird auf dem Linsenträger 380 mit zwei
Winkeln 385 gelagert. Jeder Winkel 385 hat einen horizontalen
Abschnitt 386 und einen vertikalen Abschnitt 387. Der hori
zontale Abschnitt 386 ist mit einer Schraube 386b am Linsen
träger 380 angeschraubt.
Der vertikale Abschnitt 387 der Winkel 385 hat auf der dem
Ankerblock 381 zugewandten Seite eine Führungsaussparung
387c, die vertikal (in Nebenabtastrichtung) absteht. An jeder
Seite des Ankerblocks 381 ist ein Führungsvorsprung 382a aus
gebildet, der mit der entsprechenden Führungsaussparung 387c
in Eingriff steht. Durch das Ineingriffstehen der Führungs
vorsprünge 382a und der Führungsaussparungen 387c ist der
Ankerblock 381 nur in vertikaler Richtung (Nebenabtast
richtung, Z-Richtung) beweglich. Der vertikale Abschnitt 387
der Winkel 385 hat ein Langloch 387a, das in vertikaler
Richtung verläuft, und der Ankerblock 381 hat ein Gewindeloch
(nicht dargestellt), so daß der Ankerblock 381 an den Winkeln
385 mit einer Ankerschraube 387b befestigt werden kann, wobei
die Ankerschraube 387b durch das Langloch 387a hindurch in
das Gewindeloch im Ankerblock 381 eingeschraubt wird. Die
Langlöcher 387a sind lang genug, um die Justierung des
Ankerblocks 381 in vertikaler Richtung (Nebenabtastrichtung,
Z-Richtung) zu ermöglichen.
Mit dieser Anordnung kann der Ankerblock 381 linear in der
vertikalen Richtung (Nebenabtastrichtung, Z-Richtung) durch
Lösen der Ankerschrauben 387b justiert werden.
Bei der obigen Konstruktion wird die Krümmung (Bogen) der
Abtastzeile durch verschieben der zweiten Linse 193 in Neben
abtastrichtung (Z-Richtung) korrigiert. Wenn die Verschiebung
der zweiten Linse 193 eine Änderung der Strahlform zur Folge
hat, wird außerdem die Strahlform durch eine Positionsver
schiebung des Zylinderobjektivs 170 korrigiert.
Im Ausführungsbeispiel ist die zweite Linse 193 des fθ-Lin
sensystems 190 linear justierbar, jedoch könnte auch die erste
Linse 191, die dritte Linse 195 oder die vierte Linse 197
eine gleichartige Anordnung wie die zweite Linse 193 haben
und linear justierbar sein.
Anhand der Fig. 10 wird nun eine Anordnung erläutert, die die
lineare Einstellung und die Winkeleinstellung des Zylinderob
jektivs 170 ermöglicht.
Fig. 10 zeigt eine Halteeinheit 360 für das Zylinderobjektiv
170. Die Halteeinheit 360 enthält ein Zylinderelement 361,
einen Gleitblock 363 und zwei Winkel 365.
Das Zylinderobjektiv 170 enthält eine erste Linse 171 mit
positiver Krümmung und eine zweite Linse 173 mit negativer
Krümmung. Die erste Linse 171 und die zweite Linse 173 werden
im Zylinderelement 361 gehalten. Das Zylinderelement 361 ist
als Zylinder um die optische Achse der ersten Linse 171 und
der zweiten Linse 173 ausgebildet. Eine Aussparung 361a mit
einer vorgegebenen Länge ist in Umfangsrichtung an der Außen
seite des Zylinderelements 361 ausgebildet.
Der Gleitblock 363 ist so ausgebildet, daß das Zylinderele
ment 361 drehbar in einer zentralen Öffnung im Gleitblock 363
gelagert wird. Mit anderen Worten wird das Zylinderelement
361 im Gleitblock 363 so gelagert, daß es um die optische
Achse des Zylinderobjektivs 170 drehbar ist.
Der Gleitblock 363 ist quaderförmig und hat auf seiner Ober
seite ein Gewindeloch 363a. Eine Ankerschraube 363b wird in
das Gewindeloch 363a geschraubt, bis sie den Boden der Aus
sparung 361a berührt, um die Rotationslage des Zylinderele
ments 361 zu fixieren. Somit kann das Zylinderelement 361 bei
gelöster Ankerschraube 363b gedreht und durch Anziehen der
Ankerschraube 363b fixiert werden, um seine Drehung zu ver
hindern.
Der Gleitblock 363 wird durch das Winkelpaar 365 gehalten.
Führungsvorsprünge 363c sind an den Seiten des Gleitblocks
363 ausgebildet, um diesen an den Winkeln 365 festzuhalten.
Die Winkel 365 sind mit Bolzen 367 am Gehäuse 1 befestigt.
Jeder Winkel 365 hat einen horizontalen Abschnitt 365a und
einen vertikalen Abschnitt 365b. Der vertikale Abschnitt 365b
der Winkel 365 hat auf der dem Gleitblock 363 zugewandten
Seite ein Führungsaussparung 365c, die in vertikaler Richtung
absteht und mit dem zugehörigen Führungsvorsprung 363c des
Gleitblocks 363 in Eingriff steht. Somit ist der Gleitblock
363 in vertikaler Richtung, d. h. in der Nebenabtastrichtung
(Z-Richtung) linerar beweglich.
Ein in vertikaler Richtung verlaufendes Langloch 366a ist im
vertikalen Abschnitt 365a derart ausgebildet, daß eine Anker
schraube 366b durch das Langloch 366a hindurch in eine Gewin
deloch (nicht dargestellt) in der Seite des Gleitblocks 363
eingeschraubt werden kann. Das Langloch 366 ist lang genug,
um ein Verstellen des Gleitblocks 363 in der vertikalen Rich
tung zu ermöglichen, d. h. in der Nebenabtastrichtung (Z-Rich
tung).
Mit der erläuterten Anordnung kann das Zylinderelement 361
linear in der vertikalen Richtung, d. h. in der Nebenabta
strichtung (Z-Richtung) bei Lösen der Ankerschraube 366b und
auch in seinem Drehwinkel um die optische Achse durch Lösen
der Ankerschraube 363b eingestellt werden.
Mit anderen Worten kann das Zylinderelement 361 und somit das
Zylinderobjektiv 170 sowohl linear in der Nebenabtastrichtung
(Z-Richtung) als auch in seinem Drehwinkel um die optische
Achse verstellt werden.
Somit hat die optische Abtastvorrichtung Mittel zum unabhän
gigen Justieren des Zylinderobjektivs 170 beim Einstellen der
Strahlform und der fθ-Linse beim Einstellen der Abtastzeilen
krümmung.
Claims (7)
1. Abtastvorrichtung,
mit mindestens einer Strahlungsquelle (101 bis 108) zum Abstrahlen eines Strahls,
einer Ablenkeinheit (180) zum Ablenken des Strahls,
einem Abtastobjektiv (190) zum Bündeln des abgelenkten Strahls auf einer Abbildungsfläche,
und mit einer Einheit (381) zum Einstellen der relativen Lage in der Nebenabtastrichtung mindestens einer Linse (193) des Abtastobjektivs (190) in Bezug auf die anderen Linsen des Abtastobjektivs (190).
mit mindestens einer Strahlungsquelle (101 bis 108) zum Abstrahlen eines Strahls,
einer Ablenkeinheit (180) zum Ablenken des Strahls,
einem Abtastobjektiv (190) zum Bündeln des abgelenkten Strahls auf einer Abbildungsfläche,
und mit einer Einheit (381) zum Einstellen der relativen Lage in der Nebenabtastrichtung mindestens einer Linse (193) des Abtastobjektivs (190) in Bezug auf die anderen Linsen des Abtastobjektivs (190).
2. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch
ein im optischen Weg zwischen der Strahlungsquelle (101
bis 108) und der Ablenkeinheit (180) angeordnetes Abbil
dungsobjektiv (170) zum Erzeugen einer linearen Abbildung
in der Nebenabtastrichtung,
und vorzugsweise durch eine Einheit (360) zum Einstellen der Lage des Abbildungsobjektivs (170) in der Nebenabta strichtung.
und vorzugsweise durch eine Einheit (360) zum Einstellen der Lage des Abbildungsobjektivs (170) in der Nebenabta strichtung.
3. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß die verstellbare Linse
(193) des Abtastobjektivs (190) in einer Lagerung (387c)
verstellbar gelagert ist.
4. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß die verstellbare Linse
(193) des Abtastobjektivs (190) eine anamorphotische
Fläche mit einer verhältnismäßig größeren Brechkraft in
Nebenabtastrichtung als in Hauptabtastrichtung hat.
5. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß die verstellbare Linse
(193) des Abtastobjektivs (190) die betragsmäßig größte
Brechkraft der Linsen des Abtastobjektivs (190) hat.
6. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß die verstellbare Linse
(193) des Abtastobjektivs (190) die Fläche mit dem be
tragsmäßig kleinsten Krümmungsradius der Linsenflächen im
Abtastobjektiv (190) hat.
7. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß das Abbildungsobjektiv (170)
mindestens eine Zylinderlinse (171, 173) enthält.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-37266 | 1996-01-31 | ||
JP8037266A JPH09211352A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 走査光学装置 |
JP4675196A JPH09218367A (ja) | 1996-02-08 | 1996-02-08 | 走査光学装置 |
JP8-46751 | 1996-02-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19703601A1 true DE19703601A1 (de) | 1997-08-07 |
DE19703601B4 DE19703601B4 (de) | 2005-08-04 |
Family
ID=26376402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19703601A Expired - Fee Related DE19703601B4 (de) | 1996-01-31 | 1997-01-31 | Abtastvorrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6064504A (de) |
DE (1) | DE19703601B4 (de) |
IL (1) | IL120110A (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3728124B2 (ja) * | 1999-01-07 | 2005-12-21 | ペンタックス株式会社 | ビーム形状補正光学系および描画装置 |
US6232991B1 (en) * | 2000-02-15 | 2001-05-15 | Xerox Corporation | ROS bow compensation |
US6671107B2 (en) | 2002-04-18 | 2003-12-30 | Lexmark International, Inc. | Mounting of pre-scan optics for a laser scanning device |
US7554710B2 (en) * | 2002-10-16 | 2009-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Two-dimensional scanning apparatus, and image displaying apparatus |
JP4481625B2 (ja) * | 2003-11-27 | 2010-06-16 | キヤノン株式会社 | 2次元走査装置及びそれを用いた走査型画像表示装置 |
EP1847122A1 (de) * | 2005-02-04 | 2007-10-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Übertragung von medieninhalten von einem persönlichen videorekorder auf eine externe speichervorrichtung |
JP5263798B2 (ja) * | 2011-03-03 | 2013-08-14 | シャープ株式会社 | 基板締結構造体、光走査装置、および画像形成装置 |
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---|---|---|---|---|
JPH0619494B2 (ja) * | 1984-11-24 | 1994-03-16 | ミノルタカメラ株式会社 | 光走査装置 |
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-
1997
- 1997-01-31 US US08/791,977 patent/US6064504A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-31 IL IL12011097A patent/IL120110A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-01-31 DE DE19703601A patent/DE19703601B4/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL120110A0 (en) | 1997-04-15 |
DE19703601B4 (de) | 2005-08-04 |
US6064504A (en) | 2000-05-16 |
IL120110A (en) | 2000-12-06 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
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