DE19651731A1 - Stickstoff enthaltende Silanverbindung - Google Patents
Stickstoff enthaltende SilanverbindungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine neue Stickstoff enthaltende Silanverbin
dung; sie bezieht sich insbesondere auf eine Stickstoff enthaltende Silanver
bindung, die speziell geeignet ist für die Verwendung als Ausgangsmaterial
zur Herstellung von hochfesten, hochzähen Siliciumnitrid-Keramiken, die als
Baukeramiken verwendet werden können.
Siliciumnitrid-Keramiken weisen ausgezeichnete Eigenschaften auf, beispiels
weise eine hohe Festigkeit, eine hohe Zähigkeit und eine hohe Korrosionsbe
ständigkeit. Aufgrund dieser ausgezeichneten Eigenschaften werden Silici
umnitrid-Keramiken in zunehmendem Maße auf verschiedenen Gebieten ver
wendet, beispielsweise als Baumaterialien oder als mechanische Teile, die bei
Temperaturen von nicht mehr als 1000°C eingesetzt werden.
Da Siliciumnitrid in der Regel gesintert wird, nachdem Oxide, z. B. Y₂O₃ und
Al₂O₃, in einer Menge von etwa 5 bis etwa 10 Gew.-% zugegeben worden sind,
haben die dabei erhaltenen Siliciumnitrid-Sinterkörper jedoch den Nachteil,
daß ihre mechanischen Eigenschaften in Abhängigkeit von den angewendeten
Sinterbedingungen variieren. Um die Schwankung der mechanischen Eigen
schaften mit sich ändernden Sinterbedingungen zu eliminieren, um dadurch
auf stabile Weise Siliciumnitrid-Keramiken herzustellen, die auch unter
schwankenden Sinterbedingungen ausgezeichnete mechanische Eigenschaf
ten aufweisen, wurden Forschungsarbeiten durchgeführt auf der Suche nach
Sinterhilfsmitteln, wie Y₂O₃, MgO und Sc₂O₃, und nach Methoden zum Disper
gieren von harten Teilchen, wie Cr₂N-, NbB-, TaSi₂- und ZrSi₂-Teilchen, zu
sammen mit Untersuchungen in bezug auf die Bedingungen für die Herstellung
von Siliciumnitrid-Pulver für die Verwendung als Ausgangsmaterial für Sinter
körper.
Das Imid-Zersetzungsverfahren, bei dem ein Siliciumhalogenid mit Ammoniak
umgesetzt wird, ist bereits bekannt als ein Verfahren zur Herstellung von Sili
ciumnitrid-Pulver. Man sagt, daß das nach diesem Verfahren hergestellte Sili
ciumnitrid-Pulver leicht zu einem Sinterkörper mit ausgezeichneten Eigen
schaften sinterbar ist.
Es wurden nun nähere Untersuchungen von den Erfindern der vorliegenden
Erfindung durchgeführt in bezug auf die Beziehungen zwischen den Pulver-Ei
genschaften von Stickstoff enthaltenden Silanverbindungen für die Verwen
dung als Ausgangsmaterialien in dem Imid-Zersetzungsverfahren und der Eig
nung zum Sintern der aus den Verbindungen erhaltenen Siliciumnitrid-Pulver
und den Eigenschaften der aus dem Pulver erhaltenen Sinterkörper. Als Er
gebnis wurde gefunden, daß dann, wenn eine Stickstoff enthaltende Silanver
bindung mit spezifischen Pulver-Eigenschaften verwendet wird und das daraus
erhaltene Siliciumnitrid-Pulver unter üblichen Bedingungen gesintert wird, Si
liciumnitrid-Keramiken mit ausgezeichneten mechanischen Eigenschaften auf
stabile Weise mit einer zufriedenstellenden Reproduzierbarkeit hergestellt
werden können.
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, eine Stickstoff enthaltende Silan
verbindung bereitzustellen, die als Ausgangsmaterial für die Herstellung von
Siliciumnitrid-Pulver verwendet werden kann, aus dem Siliciumnitrid-Kerami
ken mit ausgezeichneten mechanischen Eigenschaften auf stabile Weise und
mit einer zufriedenstellenden Reproduzierbarkeit hergestellt werden können.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Stickstoff enthaltende Silanverbindung,
die hauptsächlich Siliciumdiimid umfaßt und eine Reindichte (true density) von
1,4 bis 1,9 g/cm³, eine Rohdichte bei geringer Belastung (light-charged bulk
density) von 0,045 bis 0,090 g/cm³, eine spezifische Oberflächengröße von
600 bis 1000 m²/g, einen Sauerstoffgehalt von 3,5 Gew.-% oder weniger und
einen Kohlenstoffgehalt von weniger als 0,25 Gew.-% aufweist.
Die erfindungsgemäße Stickstoff enthaltende Silanverbindung umfaßt haupt
sächlich Siliciumdiimid, das durch die chemische Formel Si(NH)₂ dargestellt
wird. Die erfindungsgemäß verwendete Stickstoff enthaltende Silanverbindung
weist im allgemeinen einen Stickstoffgehalt von 45,5 bis 51,5 Gew.-% und ei
nen Siliciumgehalt von 44,5 bis 51,5 Gew.-% auf.
Da Siliciumdiimid eine dreidimensionale Netzwerkstruktur hat, die aus Siliciu
matomen und Stickstoffatomen besteht, variiert die Reindichte desselben in
Abhängigkeit von der Regelmäßigkeit der Si-N-Bindungen.
Die Reindichte der erfindungsgemäßen Stickstoff enthaltenden Silanverbin
dung beträgt 1,4 bis 1,9 g/cm³, vorzugsweise 1,5 bis 1,7 g/cm³. Wenn die
Reindichte derselben weniger als 1,4 g/cm³ beträgt, besteht die Gefahr, daß
die Calcinierung der Verbindung zur Bildung von nadelförmigen Kristallen
führt, weil die Kristallisation bei einer zu der Höhertemperatur-Seite verscho
benen Temperatur auftritt. Siliciumnitrid-Pulver, das einen erhöhten Men
genanteil an nadelförmigen Kristallen aufweist, ergibt Sinterkörper mit vermin
derten Festigkeitseigenschaften und erhöhten Schwankungen in bezug auf die
Festigkeit, deren Zuverlässigkeit somit beeinträchtigt ist. Außerdem ist die
Oxidationsbeständigkeit des resultierenden Sinterkörpers beeinträchtigt, was
eine Zunahme der Oxidation und eine Abnahme der Festigkeit nach der Oxi
dation mit sich bringt. Wenn Stickstoff enthaltende Silanverbindungen mit ei
ner Reindichte von höher als 1,9 g/cm³ calciniert werden, werden kantige stabi
le Teilchen gebildet, weil die Kristallisation bei einer zu der Niedrigtemperatur-Seite
verschobenen Temperatur auftritt. Zu stabile Teilchen sind jedoch uner
wünscht, da sie beim Sintern weniger aktiv sind und es somit schwierig ist, sie
für die Herstellung eines dichten Sinterkörpers zu verwenden.
Die Rohdichte bei geringer Belastung der Stickstoff enthaltenden Silanverbin
dung beträgt 0,045 bis 0,090 g/cm³, vorzugsweise 0,055 bis 0,085 g/cm³.
Wenn die Rohdichte bei geringer Belastung derselben unter 0,045 g/cm³ liegt,
weist das aus der Silanverbindung durch Calcinieren erhaltene Siliciumnitrid-Pul
ver einen verminderten Gehalt an β-Phase und eine starke Neigung zur
Aggregation auf. Wenn daher das Pulver mit einem Sinterhilfsmittel mittels
einer Kugelmühle oder dgl. naß gemischt wird, ist es schwierig, das Sinter
hilfsmittel gleichmäßig in dem Pulver zu dispergieren. Es gibt einen optimalen
Bereich für den β-Phasen-Gehalt bei einem Siliciumnitrid-Pulver und zu nied
rige β-Phasen-Gehalte sind unerwünscht. Die Schwierigkeiten beim gleichmä
ßigen Vermischen des Pulvers mit einem Sinterhilfsmittel bringen das Problem
mit sich, daß die Mischung Sinterkörper ergibt, die eine verminderte Raum
temperatur-Festigkeit und Hochtemperatur-Festigkeit aufweisen. Wenn die
Rohdichte bei geringer Belastung der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung
0,090 g/cm³ übersteigt, weist das durch Calcinieren daraus erhaltene Silici
umnitrid-Pulver einen erhöhten Gehalt an β-Phase auf und es neigt weniger
zur Aggregation und es läßt sich leicht zu einzelnen Teilchen zerkleinern. Ob
gleich dieses Siliciumnitrid-Pulver mit einem Sinterhilfsmittel unter Verwen
dung einer Kugelmühle oder dgl. gleichmäßig naß gemischt werden kann, ist
das Pulver insofern unerwünscht, als bei ihm das Problem auftritt, daß ein
Preßling (Formkörper), der daraus hergestellt worden ist, eine verminderte
Dichte aufweist und einen Sinterkörper mit einer verminderten Bruchzähigkeit
ergibt.
Die spezifische Oberflächengröße der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung
beträgt 600 bis 1000 m²/g, vorzugsweise 700 bis 800 m²/g. Wenn ihre spezifi
sche Oberflächengröße unter 600 m²/g liegt, weist das durch Calcinieren aus
der Silanverbindung erhaltene Pulver einen erhöhten Aggregationsindex auf
und der schließlich daraus erhaltene Sinterkörper weist eine verminderte
Hochtemperatur-Festigkeit auf. Spezifische Oberflächengrößen, die 1000 m²/g
übersteigen, sind unerwünscht, da das aus der Siliciumverbindung erhaltene
Siliciumnitrid-Pulver einen verminderten Gehalt an α-Phase und eine geringe
re Eignung zum Sintern aufweist.
Der Sauerstoffgehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung beträgt 3,5 Gew.-%
oder weniger, vorzugsweise 2,5 Gew.-% oder weniger. Wenn ihr Sau
erstoffgehalt 3,5 Gew.-% übersteigt, ergibt das aus der Silanverbindung erhal
tene Siliciumnitrid-Pulver Sinterkörper mit einer verminderten Hochtemperatur-Festig
keit, obgleich seine Eignung für das Sintern zufriedenstellend ist. Da der
innere Sauerstoffgehalt des resultierenden Siliciumnitrid-Pulvers ansteigt, wird
außerdem die Festigkeit nach der Oxidation des resultierenden Sinterkörpers
vermindert.
Bei der Herstellung der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung gelangen
Kohlenstoff enthaltende Substanzen (z. B. Toluol) aus den verwendeten Aus
gangsmaterialien oder dem verwendeten Reaktionsmedium als Verunreinigun
gen in die Silanverbindung. Der Gehalt an solchen Verunreinigungen beträgt
weniger als 0,25 Gew.-%, vorzugsweise weniger als 0,10 Gew.-%, ausge
drückt als Kohlenstoffmenge. Kohlenstoffgehalte der Stickstoff enthaltenden
Silanverbindung von nicht weniger als 0,25 Gew.-% sind insofern uner
wünscht, als das aus der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung durch
Calcinieren erhaltene Siliciumnitrid-Pulver einen Kohlenstoffgehalt aufweist,
der 0,10 Gew.-% übersteigt und somit die Eignung zum Sintern beeinträchtigt
ist.
Vom Standpunkt der Erreichung des Ziels der vorliegenden Erfindung aus be
trachtet liegen der durchschnittliche Teilchendurchmesser, der Gehalt an Me
tall-Verunreinigungen und der Halogengehalt der erfindungsgemäßen Stick
stoff enthaltenden Silanverbindung zweckmäßig innerhalb der nachstehend
angegeben jeweiligen Bereiche.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der Stickstoff enthaltenden Silan
verbindung beträgt vorzugsweise 100 nm oder weniger. Wenn ihr durch
schnittlicher Teilchendurchmesser 100 nm übersteigt, besteht bei der Calcinie
rung der Silanverbindung die Neigung, daß nadelförmige Kristalle gebildet
werden. Als Folge des erhöhten Anteils an nadelförmigen Kristallen in dem
aus einer solchen Silanverbindung erhaltenen Siliciumnitrid-Pulver weist der
aus dem Pulver hergestellte Sinterkörper eine verminderte Festigkeit und er
höhte Schwankung der Festigkeit und somit eine geringere Zuverlässigkeit
auf. Außerdem wird die Oxidationsbeständigkeit des Sinterkörpers beeinträch
tigt, was eine Zunahme der Oxidation und eine Abnahme der Festigkeit nach
der Oxidation mit sich bringt.
Der Gehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung an Metall-Ver
unreinigungen beträgt vorzugsweise 100 ppm oder weniger. Metall-Ver
unreinigungen verbleiben in dem durch Calcinierung erhaltenen Pulver.
Wenn sein Gehalt an Metall-Verunreinigungen 100 ppm übersteigt, weisen die
erhaltenen Sinterkörper eine verminderte Festigkeit auf. Außerdem treten eine
Änderung der Zusammensetzung und eine Abscheidung der Verunreinigungen
an den Korngrenzen des Sinterkörpers auf und die Oxidationsbeständigkeit
des Sinterkörpers ist beeinträchtigt, was zu einer erhöhten Oxidation und zu
einer Verminderung der Festigkeit nach der Oxidation führt. Da Metall-Ver
unreinigungen in einem Sinterkörper als Zentren (Stellen) wirken, an denen
der Sinterkörper zu brechen beginnt, ist eine Verminderung der Metall-Ver
unreinigungen erforderlich zur Herstellung hochzuverlässiger Sinterkörper.
Der Halogengehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung beträgt vor
zugsweise 180 ppm oder weniger. Etwa die halbe Menge des in einer Stick
stoff enthaltenden Silanverbindung enthaltenen Halogens verbleibt beim
Calcinieren in dem Pulver. Das in dem Siliciumnitrid-Pulver enthaltene Halo
gen reichert sich beim Sintern in der intergranulären Phase des Sinterkörpers
an und bewirkt, daß die Erweichungstemperatur der intergranulären Phase
abnimmt. Daher weist der schließlich erhaltene Sinterkörper dann, wenn der
Halogengehalt der Stickstoff enthaltenden intergranulären Phase 180 ppm
übersteigt, eine verminderte Hochtemperatur-Festigkeit und eine beeinträchtig
te Oxidationsbeständigkeit auf.
Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Stickstoff enthaltenden Si
lanverbindung unterliegen keinen speziellen Beschränkungen, so lange eine
Stickstoff enthaltende Silanverbindung mit den vorstehend beschriebenen Ei
genschaften erhalten wird. So kann beispielsweise die Stickstoff enthaltende
Silanverbindung hergestellt werden durch Umsetzung eines Halogensilans mit
flüssigem Ammoniak, wie nachstehend angegeben, die vorliegende Erfindung
ist darauf jedoch nicht beschränkt.
Es wird ein Reaktionssystem verwendet, das flüssiges Ammoniak und ein or
ganisches Lösungsmittel umfaßt, das mit dem flüssigen Ammoniak nicht
mischbar ist und ein höheres spezifisches Gewicht als flüssiges Ammoniak
aufweist, wobei die beiden Substanzen aufgrund des Unterschieds in bezug
auf das spezifische Gewicht zwei getrennte Schichten bilden. Eine Lösung, die
ein Halogensilan und das gleiche organische Lösungsmittel wie oben angege
ben umfaßt, wird dem organischen Lösungsmittel als die untere Schicht zuge
führt, um das Halogensilan mit flüssigem Ammoniak umzusetzen. Die Stickstoff
enthaltende Silanverbindung, die bei der Umsetzung erhalten wird, wird mit
flüssigem Ammoniak gewaschen, um das als Nebenprodukt gebildete Ammo
niumhalogenid zu entfernen.
Bei der vorstehend beschriebenen Reaktion kann durch Anwendung von Be
dingungen, bei denen der Reaktionsdruck 0,54 bis 13,6 atm beträgt und die
Reaktionstemperatur -45 bis 36°C beträgt, eine Stickstoff enthaltende Silan
verbindung mit einer Reindichte von 1,4 bis 1,9 g/cm³ erhalten werden. Außer
dem kann durch Einstellung (Steuerung) des Reaktionsdruckes auf den Be
reich von 1,5 bis 7,2 atm und der Reaktionstemperatur auf den Bereich von
-20 bis 15°C die Reindichte der resultierenden Stickstoff enthaltenden Silan
verbindung auf den Bereich von 1,5 bis 1,7 g/cm³ eingestellt werden.
Die erhaltene Stickstoff enthaltende Silanverbindung kann so eingestellt wer
den, daß sie eine Rohdichte bei geringer Belastung in dem Bereich von 0,045
bis 0,090 g/cm³ aufweist, indem man die Trocknungszeit und die Umdrehungs
geschwindigkeit beim Rühren während des Trocknens der Stickstoff enthal
tenden Silanverbindung unter Verwendung eines Rührbehälters vom
Mantel-Typ und dgl. ändert.
Die Beziehung zwischen den Trocknungsbedingungen und der Rohdichte bei
geringer Belastung variiert in Abhängigkeit von der Art der verwendeten
Trocknungsvorrichtung und deshalb können die Trocknungsbedingungen
durch vorherige Festlegung der Beziehung zwischen den Trocknungsbedin
gungen und der Rohdichte bei geringer Belastung eingestellt werden.
Außerdem kann durch Einstellung (Kontrolle) des Volumenverhältnisses von
Halogensilan zu flüssigem Ammoniak, das für die Reaktion zugeführt wird, auf
den Bereich von 0,030 bis 0,047, vorzugsweise von 0,035 bis 0,041, eine
Stickstoff enthaltende Silanverbindung mit einer spezifischen Oberflächengrö
ße von 600 bis 1000 m²/g, vorzugsweise von 700 bis 800 m²/g, synthetisiert
werden. Da das flüssige Ammoniak, das in großem Überschuß in der An
fangsstufe der Reaktion vorliegt, allmählich mit dem Ablauf der Reaktion ver
braucht wird, sollte außerdem flüssiges Ammoniak kontinuierlich dem Reakti
onsbehälter zugeführt werden. Das Volumenverhältnis zwischen dem Halo
gensilan und dem flüssigen Ammoniak, die dem Reaktionsbehälter in einem
kontinuierlichen Zustand zugeführt werden, wird kontrolliert (eingestellt).
Außerdem wird der Wassergehalt des flüssigen Ammoniaks, das zum Wa
schen der durch die obige Reaktion erhaltenen, Stickstoff enthaltenden Silan
verbindung verwendet wird, auf den niedrigstmöglichen Wert eingestellt, wo
durch der Sauerstoffgehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung auf
3,5 Gew.-% oder weniger, vorzugsweise 2,5 Gew.-% oder weniger, herabgesetzt
werden kann. Insbesondere beträgt das Produkt (HxW) zwischen dem Was
sergehalt (H) des flüssigen Ammoniaks (ppm) und dem Verhältnis (W) zwi
schen der Menge des zum Waschen verwendeten flüssigen Ammoniaks und
der Menge der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung, die gewaschen wer
den soll, im allgemeinen 31 500 oder weniger, vorzugsweise 22 500 oder we
niger.
Ferner kann durch Einstellung des Gehaltes an organischen Verbindungen in
dem zum Waschen der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung verwendeten
flüssigen Ammoniak auf 1500 ppm oder weniger, vorzugsweise 600 ppm oder
weniger, der Kohlenstoffgehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung auf
weniger als 0,25 Gew.-%, vorzugsweise weniger als 0,10 Gew.-%, herabge
setzt werden.
Der durchschnittliche Teilchen-Durchmesser der Stickstoff enthaltenden Silan
verbindung kann variiert werden durch Regulierung sowohl der Temperatur
des Reaktionsbehälters als auch des Volumenverhältnisses zwischen dem
dem Reaktionsbehälter zugeführten Halogensilan und dem zum Verdünnen
verwendeten organischen Lösungsmittel. Durch Einstellung des Gewichtsver
hältnisses zwischen dem Halogensilan und dem organischen Lösungsmittel
auf 0,08 oder mehr kann eine Stickstoff enthaltende Silanverbindung mit einem
durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 100 nm oder weniger erhalten
werden.
Metallverunreinigungen gelangen in die Stickstoff enthaltende Silanverbindung
durch den Gleitabrieb und den Kontaktabrieb der Rührschaufeln, die in dem
Reaktionsbehälter, dem Waschbehälter, dem Trockner und dgl. angeordnet
sind. Der Gehalt an Metallverunreinigungen kann durch Einstellung der Vor
richtung und durch Verbesserung der Genauigkeit der Kontrolle herabgesetzt
werden. Insbesondere kann der Gehalt an Metallverunreinigungen auf 100 ppm
oder weniger herabgesetzt werden durch Einstellung des Abstandes zwi
schen der Rührschaufel und den anderen Teilen (der Filterplatte, der Behäl
terwand und dgl.) auf 5 mm oder mehr, vorzugsweise auf 10 mm oder mehr,
und Einstellung (Kontrolle) der maximalen Umfangsgeschwindigkeit des obe
ren Endes der Rührschaufel auf 5 m/s oder weniger.
Der Halogengehalt in der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung variiert in
Abhängigkeit von der Menge des flüssigen Ammoniaks, das zum Waschen zur
Entfernung des Ammoniumhalogenids aus der Mischung von Stickstoff enthal
tender Silanverbindung und Ammoniumhalogenid, das aus der Reaktion resul
tiert, verwendet wird. Im allgemeinen kann durch Verwendung von 40 l oder
mehr an flüssigem Ammoniak pro kg der Stickstoff enthaltenden Silanverbin
dung der Halogengehalt auf 180 ppm oder weniger herabgesetzt werden. Ob
gleich der Halogengehalt auf jeden gewünschten Wert verringert werden kann
durch Verwendung einer größeren Menge an flüssigem Ammoniak zum Wa
schen, ist ein übermäßiges Waschen unwirtschaftlich, weil es zu einer Ko
stensteigerung führt.
Zu Beispielen für das Halogensilan, das in der vorstehend beschriebenen Re
aktion verwendet wird, gehören Fluorsilane, wie SiF₄, H₂SiF₆, HSiF₃, H₃SiF₅,
H₃SiF und H₅SiF₃, Chlorsilane, wie SiCl₄, HSiCl₃, H₂SiCl₂ und H₃SiCl, Bromsi
lane wie SiBr₄, HSiBr₃, H₂SiBr₂ und H₃SiBr, und Jodsilane, wie SiJ₄, HSiJ₃,
H₂SiJ₂ und H₃SiJ. Verwendbar sind auch Halogenalkylsilane, z. B. RSiX₃,
R₂SiX₂ und R₃SiX (worin R für eine Alkylgruppe, beispielsweise für Methyl,
Ethyl und Propyl, und X für ein Halogenatom, z. B. für Fluor, Chlor, Brom und
Jod, stehen).
Was als organisches Lösungsmittel für die Verwendung in der Reaktion einge
setzt werden kann, ist ein Lösungsmittel, das weder mit flüssigem Ammoniak
noch mit dem Halogensilan reagiert, mit flüssigem Ammoniak bei der ange
wendete Reaktionstemperatur nicht mischbar ist und ein größeres spezifisches
Gewicht hat als flüssiges Ammoniak. Zu Beispielen dafür gehören aliphatische
oder alicyclische Kohlenwasserstoffe mit 5 bis 7 Kohlenstoffatomen, wie
n-Heptan, n-Hexan, n-Pentan und Cyclohexan, und aromatische Kohlenwasser
stoffe, wie Benzol, Toluol und Xylol. Diese können einzeln oder in Form einer
Mischung derselben verwendet werden.
Die erfindungsgemäße Stickstoff enthaltende Silanverbindung kann als Aus
gangsmaterial für ein Siliciumnitrid-Pulver verwendet werden, aus dem Silici
umnitrid-Keramiken mit ausgezeichneten mechanischen Eigenschaften auf
stabile Weise und mit zufriedenstellender Reproduzierbarkeit hergestellt wer
den können.
Zuerst wird die Stickstoff enthaltende Silanverbindung bei einer Temperatur
von 600 bis 1200°C in Stickstoff, der einen Sauerstoffgehalt von nicht höher
als 5% aufweist, oder in einer Ammoniak enthaltenden Inertgasatmosphäre
calciniert zur Herstellung eines amorphen Siliciumnitrid-Pulvers.
Während der Calcinierung unterliegt die Stickstoff enthaltende Silanverbin
dung einer allmählichen Zersetzung, wenn die Temperatur derselben von
Raumtemperatur ab ansteigt und sie zersetzt sich heftig insbesondere bei 250
bis 600°C unter Bildung von Ammoniak.
Zu Beispielen für das Stickstoffgas oder das Ammoniak enthaltende Inertgas
gehören Stickstoff und Gasgemische, die Stickstoff und Ammoniak enthalten,
und die Gasgemische enthalten ferner Argon, Helium und dgl.
Anschließend wird das erhaltene amorphe Siliciumnitrid-Pulver in einer Stick
stoff- oder in einer Ammoniak enthaltenden Inertgas-Atmosphäre gebrannt
unter Bildung eines kristallinen Siliciumnitrid-Pulvers.
Die Brenntemperatur beträgt 1400 bis 1600°C. Wenn die Brenntemperatur
unter 1400°C liegt, tritt keine ausreichende Kristallisation des Siliciumnitrids
auf. Brenntemperaturen, die 1600°C übersteigen, sind unerwünscht, da die
Neigung besteht, daß ein kristallines Siliciumnitrid-Pulver erhalten wird, das
grobe Kristalle umfaßt. Ein schneller Anstieg der Brenntemperatur ist vom
Standpunkt der Erzielung einer gleichmäßigen Teilchengestalt aus betrachtet
unerwünscht und es ist erwünscht, das Pulver allmählich so zu erhitzen, daß
seine Temperatur über einen Zeitraum von mindestens 1,5 h von 1150 auf
1400°C erhöht wird.
Zu Beispielen für Öfen oder Brennöfen, die zum Erhitzen der Stickstoff enthal
tenden Silanverbindung und des amorphen Siliciumnitrid-Pulvers verwendbar
sind, gehören Chargen-Elektroöfen vom Hochfrequenzinduktions- oder Ohm
schen Widerstands-Erhitzungs-Typ, Druck-Brennöfen oder -Brennkammern,
Rotationsöfen, Schachtöfen und Brennöfen oder Brennkammern vom Fluidisie
rungs-Typ. Insbesondere kontinuierliche Brennöfen oder Brennkammern stel
len wirksame Einrichtungen zur wirksamen Abführung der bei der Kristallisati
onsreaktion des amorphen Siliciumnitrids auftretenden Wärme dar.
Zum Sintern des erhaltene Siliciumnitrid-Pulvers können die gleichen Metho
den wie für konventionelles Siliciumnitrid-Pulver angewendet werden. So wird
beispielsweise das Siliciumnitrid-Pulver mit Sinterhilfsmitteln, z. B. mit Alumini
umoxid, Yttriumoxid und Magnesiumoxid, gemischt und die Mischung wird zu
einer vorgegebenen Form gepreßt und dann gesintert, wobei man eine Silici
umnitrid-Keramik(-Sinterkörper) erhält. Der Druck für das Pressen kann etwa
0,5 bis 5 t/cm² betragen. Die Sinterbedingungen können umfassen eine Sinter
temperatur von etwa 1500 bis 2000°C, einen Druck der Sinteratmosphäre von
etwa 0,5 bis 100 atm und eine Sinterdauer von etwa 1 bis 10 h.
Die aus dem Siliciumnitrid-Pulver hergestellten Siliciumnitrid-Keramiken
(-Sinterkörper) weisen eine höhere Festigkeit, eine höhere Zähigkeit und einen
höheren Weibull-Faktor auf als die konventionellen Keramiken und außerdem
weisen sie eine ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit auf. Deshalb ist das
aus der erfindungsgemäßen Stickstoff enthaltenden Silanverbindung herge
stellt Siliciumnitridpulver besonders gut geeignet für die Verwendung als Ma
terial zur Herstellung von Siliciumnitrid-Keramiken, die als Baumaterialien oder
mechanische Teile für Wärmekraftmaschinen, z. B. Turborotoren, Ventile und
Subverbrennungskammern von Dieselmotoren bei Temperaturen von nicht
höher als 1400°C verwendet werden.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die folgenden Beispie
le und Vergleichsbeispiele näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu
sein.
Die Luft im Innern eines vertikalen Reaktionsbehälters mit einem Durchmesser
von 30 cm und einer Höhe von 45 cm wurden durch Stickstoffgas ersetzt bei
der in der folgenden Tabelle I angegebenen Temperatur und dem darin ange
gebenen Druck. Danach wurden flüssiges Ammoniak und Toluol in den Reak
tionsbehälter eingeführt, in dem das flüssige Ammoniak und das Toluol sich
voneinander trennten unter Bildung einer oberen Schicht bzw. einer unteren
Schicht. Eine Toluollösung, bestehend aus Siliciumtetrachlorid und Toluol in
dem in der Tabelle I angegebenen Mengenverhältnis, wurde durch eine Rohr
leitung der untere Schicht zugeführt, die unter langsamem Rühren gehalten
wurde. Nach der Zuführung der Toluollösung fiel ein weißes Reaktionsprodukt
um die Grenzfläche zwischen der oberen Schicht und der unteren Schicht her
um aus.
Nach Beendigung der Reaktion wurde die Reaktionsmischung in einen Filtrati
onsbehälter überführt, aus dem das Reaktionsprodukt durch Filtrieren ent
nommen wurde. Das Reaktionsprodukt wurde mit flüssigem Ammoniak gewa
schen, wobei man eine Stickstoff enthaltenden Silanverbindung erhielt, die
hauptsächlich Siliciumdiimid umfaßte.
Die Reindichte der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung wurde durch Vari
ieren der Temperatur des Reaktionssystems in der obigen Reaktion einge
stellt.
Die Rohdichte bei geringer Belastung der Stickstoff enthaltenden Silanverbin
dung wurde durch Variieren der Trocknungszeit der erhaltenen, Stickstoff ent
haltenden Silanverbindung und der Rühr-Drehgeschwindigkeit während des
Trocknens eingestellt. Das Trocknen wurde durchgeführt unter Verwendung
eines Rührbehälters vom Mantel-Typ (mit einem Paar von unter 45° geneigten
Rührschaufeln) mit erhitztem Wasserdampf. Da die Temperatur der Verbin
dung anstieg, wenn die Flüssigkeit vollständig verdampft war, wurde der End
punkt der Trocknung durch den Zeitpunkt festgelegt, bei dem die Temperatur
der Verbindung anzusteigen begann, so daß die Trocknungszeit beendet wur
de.
Die spezifische Oberflächengröße der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung
wurde durch Variieren des Volumenverhältnisses zwischen Siliciumtetrachlorid
und flüssigem Ammoniak während der Reaktion eingestellt. Da das flüssige
Ammoniak, das in großem Überschuß in der Anfangsstufe der Reaktion vor
handen ist, mit dem Fortschreiten der Reaktion verbraucht wird, sollte auch
flüssiges Ammoniak kontinuierlich dem Reaktionsbehälter zugeführt werden.
Das Volumenverhältnis zwischen dem Siliciumtetrachlorid und dem flüssigen
Ammoniak, die in einem kontinuierlichen Zustand in das Reaktionsgefäß ein
geführt wurden, wurde innerhalb des in der nachstehenden Tabelle I angege
ben Bereiches variiert, wodurch Stickstoff enthaltende Silanverbindungen mit
verschiedenen spezifischen Oberflächengrößen synthetisiert wurden.
Der Sauerstoffgehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung wurde ein
gestellt durch Variieren des Wassergehaltes des zum Waschen der erhaltenen
Stickstoff enthaltenden Silanverbindung verwendeten flüssigen Ammoniaks
innerhalb des in der Tabelle I angegebenen Bereiches.
Der Kohlenstoffgehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung wurde
ebenfalls reguliert durch Variieren des Toluolgehaltes des zum Waschen der
Stickstoff enthaltenden Silanverbindung verwendeten flüssigen Ammoniaks
innerhalb des in der Tabelle I angegeben Bereiches.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der Stickstoff enthaltenden Silan
verbindung wurde eingestellt durch Variieren sowohl der Temperatur des Re
aktionsbehälters als auch des Volumenverhältnisses zwischen dem Silicium
tetrachlorid und dem Toluol, die dem Reaktionsbehälter zugeführt wurden, in
nerhalb der in der Tabelle I angegebenen Bereiche.
Der Chlorgehalt der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung wurde eingestellt
durch Variieren der Menge des zum Waschen der Stickstoff enthaltenden Si
lanverbindung verwendeten flüssigen Ammoniaks innerhalb des in der Tabelle I
angegebenen Bereiches.
Der Gehalt an Metallverunreinigungen der Stickstoff enthaltenden Silanverbin
dung wurde variiert durch Regulieren der Einstellung der Rührschaufeln.
Die Pulver-Eigenschaften der erhaltenen, Stickstoff enthaltenden Silanverbin
dung sind in der Tabelle II angegeben.
Die Reindichte jeder Stickstoff enthaltenden Silanverbindung wurde mit einem
Pycnometer in dehydratisiertem Xylol als Medium nach ausreichender Durch
führung einer Entgasung bestimmt. Die Messung erfolgte gemäß JIS H1902.
Die Rohdichte bei geringer Belastung derselben wurde mit einem handelsübli
chen 100 ml-Meßzylinder als Behälter bestimmt, der mit dem Pulver beschickt
wurde entsprechend JIS K5101.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser wurde bestimmt durch Betrachten
der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung durch ein Transmissionselektro
nenmikroskop, wobei man eine Teilchendurchmesser-Verteilung aus einer Mi
krophotographie der Verbindung erhielt und den durchschnittlichen Teilchen
durchmesser der Primärteilchen aus der Verteilung ermittelte.
Die spezifische Oberflächengröße der Stickstoff enthaltenden Silanverbindung
wurde nach der Einzelpunkt-BET-Methode mit Flowsorb Typ 2300, hergestellt
von der Firma Shimadzu-Micromeritics Co., Ltd., bestimmt.
Der Sauerstoffgehalt derselben wurde bestimmt nach der Inertgas-Fusions-
Infrarot-Absorptionsmethode mit einem Stickstoff/Sauerstoff-Simultan-Ana
lysator vom Typ TC-136, hergestellt von der Firma LECO Corp.
Ihr Kohlenstoffgehalt wurde bestimmt nach der Verbrennungswärme-
Leitfähigkeits-Methode mit einem Kohlenstoff-Analysator vom Typ WR-12,
hergestellt von der Firma LECO Corp.
Jede erhaltene Stickstoff enthaltende Silanverbindung wurde thermisch zer
setzt durch Erhitzen derselben auf 1000°C in einer Stickstoffatmosphäre, die
0,5% Sauerstoff enthielt, wobei man ein amorphes Siliciumnitridpulver erhielt.
Das erhaltene amorphe Siliciumnitridpulver wurde mit einer Schwingmühle
gemahlen, in einem Elektroofen in einer Stickstoffatmosphäre mit einer Erhit
zungsgeschwindigkeit von 100°C/h auf 1550°C erhitzt und dann 1 h lang bei
dieser Temperatur gehalten, wobei man ein gräulich-weißes Siliciumnitridpul
ver erhielt.
Eine Untersuchung mit einem Abtastelektronenmikroskop zeigte, daß das er
haltene Siliciumnitridpulver nur aus isotropen Teilchen mit einem Durchmesser
von 0,05 bis 0,5 µm zusammengesetzt war.
Das in den Beispielen 1 bis 14 und in den Vergleichsbeispielen 1 bis 8 erhal
tene Siliciumnitridpulver wurde jeweils zur Herstellung eines Sinterkörpers
unter Anwendung des folgenden Verfahrens verwendet. Die Fertigdichte, die
Biegefestigkeit und die Bruchzähigkeit jedes erhaltenen Sinterkörpers sind in
der folgenden Tabelle III angegeben. Die Schüttdichte und die Biegefestigkeit
jedes Sinterkörpers wurden nach der Archimedes-Methode bzw. dem Vier
punkt-Biegetest, wie er in JIS R1601 vorgesehen ist, bestimmt. Seine Bruch
zähigkeit wurde nach der SEPB-Methode, wie sie in JIS R1607 vorgesehen ist,
bestimmt. Außerdem wurde aus dem resultierenden Sinterkörper ein Teststück
hergestellt durch Zuschneiden des Sinterkörpers auf eine vorgegebene Ge
stalt und Polieren der Oberfläche desselben. Das Teststück wurde in einen
Elektroofen gelegt und 100 h lang unter einem Luftstrom bei 1300°C wärme
behandelt und dann wurde die Gewichtszunahme des Teststückes nach der
Wärmebehandlung bestimmt. Der durch Dividieren der Gewichtszunahme
durch die Oberflächengröße des Teststückes erhaltene Wert wurde als Oxida
tionszunahme (g/m²) bestimmt. Die Festigkeit nach der Oxidation wurde an
hand der Biegefestigkeit des Teststückes nach der Wärmebehandlung unter
Anwendung des Vierpunkt-Biegetests bestimmt.
Jedem Siliciumnitrid-Pulver wurden 6 Gew.-% Yb₂O₃, 1,5 Gew.-% Al₂O₃ und
0,5 Gew.-% HfO₂ zugesetzt. Diese Komponenten wurden mittels einer Kugel
mühle naß durchmischt und die Mischung wurde mit einer Gummipresse bei
einem Druck von 2 t/cm² gepreßt. Die resultierenden Preßlinge (Formkörper)
wurden in einen Schmelztiegel aus Siliciumnitrid gegeben und in einem Elek
troofen in einer 1 atm-Stickstoffatmosphäre mit einer Erhitzungsgeschwindig
keit von 200°C/h erhitzt und dann 4 h lang bei 1770°C gehalten, wobei man
Siliciumnitrid-Sinterkörper erhielt.
Die erfindungsgemäße Stickstoff enthaltende Silanverbindung kann als Aus
gangsmaterial für ein Siliciumnitridpulver verwendet werden, aus dem Silici
umnitrid-Keramiken mit einer hohen Festigkeit, einer hohen Zähigkeit, einer
hohen Zuverlässigkeit und einer hohen Oxidationsbeständigkeit auf stabile
Weise und mit zufriedenstellender Reproduzierbarkeit hergestellt werden kön
nen.
Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf bevorzugte
spezifische Ausführungsformen näher erläutert, es ist jedoch für den Fach
mann selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern
daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und modifiziert werden können,
ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.
Claims (5)
1. Stickstoff enthaltende Silanverbindung, dadurch gekennzeichnet, daß
sie hauptsächlich Siliciumdiimid umfaßt und eine Reindichte von 1,4 bis 1,9 g/cm³,
eine Rohdichte bei geringer Belastung von 0,045 bis 0,090 g/cm³, eine
spezifische Oberflächengröße von 600 bis 1000 m²/g, einen Sauerstoffgehalt
von 3,5 Gew.-% oder weniger und einen Kohlenstoffgehalt von weniger als
0,25 Gew.-% aufweist.
2. Stickstoff enthaltende Silanverbindung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Stickstoff enthaltende Silanverbindung eine Reindichte
von 1,5 bis 1,7 g/cm³ und eine Rohdichte bei geringer Belastung von 0,055 bis
0,085 g/cm³ aufweist.
3. Stickstoff enthaltende Silanverbindung nach Anspruch 1 und/oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß sie eine spezifische Oberflächengröße von 700
bis 800 m²/g, einen Sauerstoffgehalt von 2,5 Gew.-% oder weniger und einen
Kohlenstoffgehalt von weniger als 0,10 Gew.-% aufweist.
4. Stickstoff enthaltende Silanverbindung nach mindestens einem der An
sprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen durchschnittlichen
Teilchendurchmesser von 100 nm oder weniger, einen Gehalt an Metallverun
reinigungen von 100 ppm oder weniger und einen Halogengehalt von 180 ppm
oder weniger aufweist.
5. Stickstoff enthaltende Silanverbindung nach mindestens einem der An
sprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Stickstoffgehalt von
45,5 bis 51,5 Gew.-% und einen Siliciumgehalt von 44,5 bis 51,5 Gew.-% auf
weist.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2415708A1 (de) * | 2009-03-30 | 2012-02-08 | Ube Industries, Ltd. | Stickstoffhaltige silanvpulververbindung und herstellungsverfahren dafür |
CN104203813A (zh) * | 2012-03-28 | 2014-12-10 | 宇部兴产株式会社 | 氮化硅粉末的制造方法和氮化硅粉末以及氮化硅烧结体和使用其的电路基板 |
Family Cites Families (5)
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---|---|---|---|---|
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JPS58172206A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 金属窒化物の製造方法 |
US4686095A (en) * | 1985-12-23 | 1987-08-11 | Ford Motor Company | Method of making ultrapure silicon nitride precursor |
DE3924361A1 (de) * | 1989-07-22 | 1991-01-24 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von siliciumdiimid mit geringem kohlenstoffgehalt |
DE4031070A1 (de) * | 1990-10-02 | 1992-04-09 | Bayer Ag | Siliciumdiimid, verfahren zu dessen herstellung sowie daraus erhaltenes siliciumnitrid |
-
1996
- 1996-12-12 DE DE1996151731 patent/DE19651731B4/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2415708A1 (de) * | 2009-03-30 | 2012-02-08 | Ube Industries, Ltd. | Stickstoffhaltige silanvpulververbindung und herstellungsverfahren dafür |
EP2415708A4 (de) * | 2009-03-30 | 2014-06-25 | Ube Industries | Stickstoffhaltige silanvpulververbindung und herstellungsverfahren dafür |
CN104203813A (zh) * | 2012-03-28 | 2014-12-10 | 宇部兴产株式会社 | 氮化硅粉末的制造方法和氮化硅粉末以及氮化硅烧结体和使用其的电路基板 |
EP2832687A4 (de) * | 2012-03-28 | 2015-11-25 | Ube Industries | Herstellungsverfahren für siliciumnitridpulver, siliziumnitridpulver, siliciumnitrid-sinterkörper und schaltungssubstrat damit |
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DE19651731B4 (de) | 2012-08-16 |
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