DE19622607A1 - Sputterkathode - Google Patents
SputterkathodeInfo
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
- H01J37/3408—Planar magnetron sputtering
Description
Die Erfindung betrifft eine Sputterkathode mit ei
nem Kathodengrundkörper mit einem aus mindestens
einem Teil gebildeten ebenen, plattenförmigen Tar
get sowie mit einem hinter dem Target angeordneten
Magnetjoch mit zwei in ovaler oder in rechteckiger
Konfiguration und koaxial zueinander in einer zur
Targetebene parallelen Ebene angeordneten Reihen
von Magneten unterschiedlicher Polung zur Erzeu
gung eines in sich geschlossenen Tunnels aus bo
genförmig gekrümmten Feldlinien vor der Targetflä
che.
Es ist eine Sputterkathode des in Frage stehenden
Typs bekannt (US 4,865,708) bei der zwischen dem
Target einerseits und dem Magnetjoch andererseits
in der Ebene der Magnetreihen, und zwar unterhalb
der Ebene der dem Target zugewandten vorderen Ma
gnetflächen Segmente aus permeablem Werkstoff an
geordnet sind, um den sich vor dem Target ausbil
denden Tunnel aus gekrümmten Feldlinien konkav ab
zulenken, um so einen breiteren Orosionsgraben am
Target und damit eine höhere Targetstandzeit zu
ermöglichen. In der Praxis hat sich jedoch ge
zeigt, daß die Abflachung der Magnetfeldlinien des
magnetischen Tunnels nicht in der erwünschten Art
erfolgt, nämlich derart, daß sich die Feldlinien
im unmittelbaren Bereich der Targetvorderseite
über einen möglichst großen Bereich parallel zur
Ebene des Targets ausrichten.
Der vorliegenden Erfindung liegt deshalb die Auf
gabe zugrunde, die Magnete und die Segmente so an
zuordnen, daß sich ein flacher und besonders brei
ter Orosionsgraben während des Sputterbetriebs
ausbildet und ein möglichst optimaler Targetabtrag
erfolgt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch
drei in die Ebene zwischen dem Target und den dem
Target zugekehrten Stirnflächen der Magnete einge
legte Blechzuschnitte oder Gruppen von Blechzu
schnitten aus magnetisch leitfähigem Material, wo
bei zwei dieser Blechzuschnitte oder Blechzu
schnittgruppen den Bereich oberhalb der Magnete
und der dritte Blechzuschnitt oder die dritte
Blechzuschnittgruppe einen Teil des Bereichs zwi
schen den Magneten abdeckt und alle Blechzuschnit
te oder Blechzuschnittgruppen zusammen zwei sich
etwa parallel der Magnetreihen erstreckende Spalte
bilden.
Weitere Merkmale und Einzelheiten sind in den Pa
tentansprüchen näher beschrieben und gekennzeich
net.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausfüh
rungsmöglichkeiten zu; eine davon ist in den bei
den anhängenden Zeichnungen rein schematisch näher
dargestellt, und zwar zeigen:
Fig. 1 den Schnitt quer durch die eine Hälfte
der Kathode und
Fig. 2 die Draufsicht auf einen Abschnitt der
einen Kathodenhälfte.
Die Sputterkathode nach der Erfindung besteht aus
einem Kathodengrundkörper 2 mit einer etwa paral
lelepipeden Konfiguration, in den eine Nut 4 ein
geschnitten ist, die ein in der Draufsicht gesehen
etwa geschlossenes Oval bildet. In diese Nut 4 ist
ein im Querschnitt U-förmiges Magnetjoch 3 einge
legt, dessen Schenkel 9, 10 jeweils eine endlose
Reihe 5 bzw. 6 von stabförmigen Permanentmagneten
7, 7′, . . . bzw. 8, 8′, . . . tragen. Oberhalb des Mag
netjochs 3 mit seinen Magnetreihen 5 bzw. 6 ist
ein Target 11 am Kathodengrundkörper 2 befestigt,
das üblicherweise auf seiner den Magnetreihen 5, 6
zugekehrten Unterseite noch fest mit einer Target
grundplatte versehen ist (nicht näher darge
stellt) . Zwischen der Targetunterseite 11′ bzw.
der Targetgrundplatte einerseits und den oberen
Stirnflächen der Magnete 7, 7′, . . . bzw. 8, 8′, . . .
sind drei Blechzuschnitte 12, 13, 14 angeordnet, von
denen jeder einzelne auch aus mehreren Teilzu
schnitten zusammengesetzt sein kann (nicht näher
dargestellt) . Die drei Blechzuschnitte 12, 13, 14
schließen zwei Spalte a bzw. b zwischen sich ein,
die auf ihrer gesamten Länge gleich groß bemessen
sein können oder aber sich verengend oder erwei
tert ausgebildet sein können, wie dies in Fig. 2
gezeigt ist. Je nach Spaltbreite a bzw. b oder a′
bzw. b′ oder a′′ bzw. b′′ werden die Feldlinien
15, 15′, . . . mehr oder weniger stark abgelenkt, so
daß ein geschlossener Tunnel aus Feldlinien
15, 15′, . . . gebildet wird, der abgeflacht ist und
damit die Sputterrate insgesamt ausgleicht und
ebenso die Targetausnutzung verbessert.
Standard-Magnetronkathoden, bestehend aus einer
einfachen Magnetanordnung (zwei Magnetreihen, de
ren Polarität gegenläufig ist), erzeugen in ihrem
Target im allgemeinen einen spitz zulaufenden
Sputtergraben. Dieser ist in der Regel um so
schmaler, je tiefer er wird. Das Wesen der Erfin
dung besteht nun darin, daß ein Magnetfeld geformt
wird, das oberhalb der Targetoberfläche und im
Target unterschiedlich ist. Das Feld oberhalb der
Targetoberfläche entspricht dem der Stan
dard-Magnetronkathoden. Es verläuft annähernd par
allel zur Targetoberfläche und tritt an den beiden
Seiten des Targets aus bzw. ein. Es entsteht ein
sogenanntes Dachfeld.
Im Gegensatz zu den Standard-Kathoden wird im Tar
get ein Feld erzeugt, das mindestens aus zwei sol
chen Dachfeldern 16, 17 besteht. Damit teilt sich
das Plasma auf der Targetoberfläche in mehrere ne
beneinander liegende Teilplasmen auf. Dadurch wer
den verstärkt nicht mehr der Mittelbereich des
Targets, sondern die Randbereiche abgetragen. Dies
führt zu einer erheblichen Erhöhung der Targetaus
nutzung, da der Sputtergraben damit deutlich brei
ter ausfällt.
Claims (3)
1. Sputterkathode mit einem Kathodengrundkörper
(2) mit einem aus mindestens einem Teil ge
bildeten ebenen, plattenförmigen Target (11)
sowie mit einem hinter dem Target (11) ange
ordneten Magnetjoch (3) mit zwei in ovaler
oder in rechteckiger Konfiguration und koa
xial zueinander in einer zur Targetebene pa
rallelen Ebene angeordneten Reihen von Magne
ten (7, 7′, . . . ; 8, 8′, . . . ) unterschiedlicher
Polung zur Erzeugung eines in sich geschlos
senen Tunnels aus bogenförmig gekrümmten
Feldlinien vor der Targetfläche, gekennzeich
net durch drei in die Ebene zwischen dem Tar
get (11) und den dem Target zugekehrten
Stirnflächen der Magnete (7, 7′, . . . bzw.
8, 8′, . . . ) eingelegte Blechzuschnitte
(12, 13, 14) oder Gruppen von Teilzuschnitten
aus magnetisch leitfähigem Material, wobei
zwei dieser Blechzuschnitte (13, 14) oder
Teilzuschnittgruppen den Bereich oberhalb der
Magnete (7, 7′, . . . bzw. 8, 8′, . . . ) und der
dritte Blechzuschnitt (12) oder die dritte
Gruppe einen Teil des Bereichs zwischen den
Magnetreihen (5, 6) abdecken und alle Blechzu
schnitte (12, 13, 14) zusammen zwei sich etwa
parallel der Magnetreihen erstreckende Spalte
(a, b) bilden.
2. Sputterkathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Breite (a, b) der Spalte
im Bereich der in gerader Linie angeordneten
Magnete (7, 7′, . . . bzw. 8, 8′, . . .) geringer be
messen ist als im Bereich der auf einem
Kreisbogen angeordneten Magnete.
3. Sputterkathode nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Breite (a, b) der Spalte
im Bereich der in gerader Linie angeordneten
Magnete (7, 7′, . . . ; 8, 8′, . . .) größer bemessen
ist als im Bereich der auf eine Kreisbogen
angeordneten Magnete.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
DE19622607A DE19622607B4 (de) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | Sputterkathode |
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Publications (2)
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DE19622607B4 DE19622607B4 (de) | 2007-12-27 |
Family
ID=7796247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19622607A Expired - Lifetime DE19622607B4 (de) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | Sputterkathode |
Country Status (1)
Country | Link |
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Also Published As
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