DE1962230A1 - Verwendung von Cellulosepropionat-3-morpholinobutyraten zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Photoresistschichten - Google Patents
Verwendung von Cellulosepropionat-3-morpholinobutyraten zur Herstellung von strahlungsempfindlichen PhotoresistschichtenInfo
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
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Description
Eastman Kodak Company, 343 State Street, Rochester, Staat New York, Vereinigte Staaten von Amerika
Verwendung von CelLulosepropionat~3-morpholinobutyraten zur
Herstellung von strahlungsempfindlichen Photoresistschichten
Es ist bekannt, auf dem Gebiete der photomechanischen Reproduktionstechnik
die verschiedensten Verbindungen, z. B. bichromatisierten
Schellack, Albumin, Polyvinylalkohole, Cinnamalketone und Polyvinylcinnamate zur Herstellung von
Resistbildern auf den verschiedensten Schichtträgern, insbesondere
Metallplatten, zu verwenden. Die Resistbilder aufweisenden Schichtträger können dann gewaschen tv'erden, worauf
die vom Resistbild nicht bedeckten Bezirke geätzt werden. Die auf diese Weise erhaltenen Druckplatten können zur Durchführung
von Druckverfahren des verschiedensten Typs verwendet werden.
Verfahren zur Herstellung von derartigen Resist- oder Reliefbildern
auf festen Schichtträgern sind z. B. aus den USA-Patentschriften 1 965 710, 2 610 120 und 2 732 301 bekannt.
Es ist ferner bekannt, z.B. aus der USA-Patentschrift 3 432 299, die lichtempfindlichen Verbindungen gemeinsam mit organischen
Sensibilisatoren zu verwenden«
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Die Auswahl an strahlungsempfindlichen Verbindungen, die
in vorteilhafter Weise zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Resistschichten geeignet sind, ist jedoch beschränkt.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine zur Herstellung strahlungiempfindlicher Photoresistschichten geeignete
Verbindungsklasse anzugeben.
Der Erfindung liegt die überraschende Erkenntnis zugrunde,
daß die angegebene Aufgabe in besonders vorteilhafter Weise " dadurch lösbar ist, daß Cellulosepropionat-3-niorpholinobutyrate
zur Herstellung von Photoresistschichten verwendet werden. Üs wurde gefunden, daß derartige Verbindungen empfindlich
gegenüber der Einwirkung von Licht und/oder Hitze sind und zusätzlich auch noch ausgezeichnete Filmbildner in Form von
3eschichtungsmassen auf der Basis organischer Lösungsmittel darstellen.
Gegenstand der Erfindung ist daher die Verwendung von Cellulosepropionat-3-morpholinobutyraten
zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Photoresistschichten.
Die erfindungsgemäß verwendbaren Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrate
sind sowohl allein als auch in Konbination nit
organischen pnotolytischen Sensibilisatoren, gegebenenfalls auch in Kombination mit anderen strahlungsempfindlichen Polymeren
verwendbar. Als besonders geeignet haben sich Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrate
erwiesen, die in üblicnen bekannten organischen Lösungsmitteln, z. B, Aceton und
Äthylalkohol, leicht löslich sind und einen Morpholinobutyratgehalt von etwa 20 bis 5Q Gewichtsprozent, einen Propionylgehalt
von etwa 10 bis 33 Gewichtsprozent.
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BAD
sowie einen Hydroxylgruppengehait von etwa 0 bis 5,5 Gew.-i
aufweisen.
Die Herstellung der Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrate
kann nach üblichen bekannten Verfahren erfolgen, z. B. in der Weise, daß (a) zunächst Cellulosepropionatcrotonat hergestellt wird, (b) das erhaltene Cellulosepropionatcrotonat
gegebenenfalls teilweise hydrolysiert wird und (c) das erhaltene Produkt anschließend mit Morpholin, vorzugsweise in
Gegenwart eines sauren Katalysators, z. B. Essigsäure, umgesetzt wird.
Es hat sich als besonders vorteilhaft erwiesen, das erfindungsgemäß verwendete Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrat
gegenüber dem unter bestimmten Bedingungen gegebenenfalls erfolgenden spontanen Abbau zu stabilisieren, zweckmäßig in der
Weise, daß ihm ein organisches Antioxydans, z. B. butyliertes Hydroxytoluol, p-tertiär-Butylphenol, tert.-Buty!hydrochinon,
p-Methoxyphenol und dergl., "n geringer Menge, z. B. in Konzentrationen von etwa O9OS bis 5 Gew.-I, bezogen auf das Gewicht des verwendeten Gellulosepropionat-3-morpholinobutyrats,
in ziemlich gleichmäßiger Verteilung beigemischt wird, wie dies z. B. in der französischen Patentschrift 1 573 508 beschrieben wird.
Typische geeignete, in vorteilhafter »eise gemeinsam mit den erfindungsgemäß verwendeten Cellulosepropionat-3-morpholinobutyraten verwendbare Sensibilisatoren sind z. B. die in der
USA-Patentschrift 2 610 120 beschriebenen Sensibilisatoren sowie 2-Methvlanthrachinon.
Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, die angegebenen Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrate in Form von Lösungen oder Beschichtungsmassen zu verwenden, die, gelöst in
einem organischen Lösungsmittel oder einem Gemisch aus organischen Lösungsmitteln, (al eines oder nehrere der angegebenen
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Cellulosepropionat-3-morpliolinobutyrate in Kombination mit
(b) mindestens einem Strahlungssensxbilisator enthalten, wobei die Feststoffe in Konzentrationen von etwa 1 bis 35
Gew.-S vorliegen und das Gewichtsverhältnis von Sensibilisator iCelluiosepropionat-3-morpholinobutyrat etwa 1:10 beträgt.
Derartige Lösungen sind in einfacher» üblicher Weise zur
Herstellung von strahlungsempfindlichen Photoresistschichten verwendbar, z. ß. in der Weise, daß die Lösungen auf die
Oberfläche eines Schichtträgers aufgetragen werden, worauf ψ das Lösungsmittel verdampfen gelassen wird, während gleichzeitig
der gebildete Phototesistfilm vor Licht geschützt wird. Die auf diese Weise gebildete strahlungsempfindliche
Schicht besteht somit in vorteilhafter Weise aus mindestens einem Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrat sowie mindestens
einem, die Empfindlichkeit des Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrats
gegenüber aktinischer Strahlung erhöhenden Sensibilisator.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern.
Beispiel 1
Es wurde Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrat mit einem
Stickstoffgehalt yon 3,85% (entsprechend einem Morpholinobutyrylgeha.lt
von 4 2,91), das in einer Konzentration von 1% butyliertes Hydroxytoluol als Stabilisator enthielt, in
Methyläthy!keton unter Bildung einer Bügen- Lösung gelöst,
worauf der erhaltenen Lösung in einer Konzentration von 51,
bezogen auf das Gewicht des Polymeren, 2-Methylanthrachinon
als Sensibilisator zugesetzt wurde. Ein Teil der erhaltenen Lösung wurde auf einen vorher gereinigten Aluminiumschichtträger
von den ungefähren Ausmaßen 10 χ 15 cm vergossen und über der Aluminiumoberflache verteilt. Das erhaltene Photo-
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resistmaterial wurde sodann in einen dunklen Behälter eingebracht,
in dem die überschüssige Lösung an einem Ende der beschichteten Aluminiumplatte abfließen gelassen wurde. Die
beschichtete Aluminiumplatte wurde 1 Stunde lang bei Zimmertemperatur im Dunkeln gehalten, worauf sie aus dem Behälter
entnommen und mit einem Testnegativ auf sog. Kodalähfilm in
Kontakt gebracht wurde. Die das Photoresistmaterial bildende Aluminiumplatte sowie das damit in Kontakt befindliche Testnegativ
wurden sodann zwischen zwei Glasplatten von etwa 0,64 cm Stärke im Abstand von 14 cm 8 Minuten lang einer
300 Watt-Quecksilberdampflampe vom Typ "General Electric type S-1" exponiert. Während der Belichtung wurde über die Glasoberfläche
Luft geblasen, um einen Teil der von der Lampe erzeugten Hitze abzuführen.
Nach der Belichtung wurde das aus der beschichteten Aluminiumplatte bestehende Photoresistmaterial aus dem Glasträger entnommen,
worauf die Schichtseite des Photoresistmaterials durch
1 Minute langes Waschen mit Methyläthylketon entwickelt wurde.
Nach beendeter Entwicklung war praktisch die gesamte Polymerschicht der unbelichteten Bezirke entfernt und das in Form
des unlöslichen Polymeren erzeugte Bild deutlich sichtbar. Die das Resistbild tragende Aluminiumplatte wurde 3 Minuten
lang bei 1100C in einem Ofen getrocknet und danach auf Zimmertemperatur
abkühlen gelassen, worauf sie mit einer abriebfesten Druckfarbe in einer desensibilisierenden Ätzlösung
behandelt wurde.
Das auf der Aluminiumplatte befindliche, aus angefärbtem Polymer bestehende Resistbild war scharf und ausgeprägt und konnte
ohne merklichen Schaden zu erleiden, kräftig gerieben werden.
Geringe Mengen der in Beispiel 1 beschriebenen Polymerlösung wurden auf Schichtträger aus Glas, Kupfer, rostfreiem Stahl
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bzw. Papier aufgetragen. Die erhaltenen Photoresistfilmproben
wurden durch ein Halbtonnegativ belichtet und danach nach
dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren mit Methyläthylketon entwickelt. Sämtliche Filmproben lieferten zufriedenstellende,
gut ausgeprägte Bilder. Die erhaltenen Resistbilder waren widerstandsfähig gegenüber Aceton, Methyläthyl
keton, Wasser und Alkoholen, quollen jedoch bei Einwirkung von verdünnten Säuren, z. B. Essigsäure, auf, was dazu führte,
daß die das Bild bildenden Polymere von den Schichtträgern gelöst und weggespült wurden.
Es wurde ein kleiner quadratischer Schichtträger aus schwarzem eloxiertem Aluminium mit der in Beispiel 1 beschriebenen Polymerlösung
beschichtet, worauf das gebildete Photoresistmaterial
1 Stunde lang bei Zimmertemperatur im Dunkeln gehärtet wurde. Das et* -"'tene Photoresistmaterial wurde mit der Schichtseite
mit einem HaIbtonnegativ in Kontakt gebracht und nach
dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren unter Glas belichtet. Nach der Belichtung wurde die Polymerschicht entwickelt, indem
auf die Polymeroberfläche mit Hilfe einer kleinen Sprühvorrichtung unter Verwendung eines Aerosoltreibmittels Methyläthylketon
aufgesprüht wurde. Nach Entwicklung und Trocknung war auf dem Aluminiumscnichtträger ein Resistbild sichtbar.
Das erhaltene Resistbild wurde in der Weise behandelt, daß es fünfmal langsam mit lOSiger Kaliumhydroxydlösung überschüttet
wurde. Auf diese V/eise wurde die schwarze Oberfläche des Metallschichtträgers gelöst und von den Bezirken, in denen
das Polymer während der Entwicklung entfernt worden war, entfernt, wohingegen die unter dem unlöslichen Polymer befindlichen
schwarzen Bezirke durch die Alkalibehandlung nicht angegriffen wurden. Auf diese Weise wurde auf dem eloxierten
Aluminium von dem Halbtonnegativ ein positiver Abdruck erhalten.
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ι \J U C C O \J
Es wurden kleine Proben einer lithographischen Platte mit einer Polymerlösung der in Beispiel 1 beschriebenen Zusammensetzung beschichtet, worauf die erhaltenen Photoresistraaterialproben im Dunkeln gehärtet wurden. Die erhaltenen Proben
wurden nacheinander mit einem schwarze Druckbuchstaben enthaltenden Blatt Papier in Kontakt gebracht, worauf sie, mit
der Papierseite nach unten, auf 1490C erhitzte Heizplatten
gelegt wurden. Das Erhitzen erfolgte so lange, bis durch Waschen der Aluminiumplatten mit Aceton ein Bild entwickelbar war. Es zeigte sich, daß bei 1,5 Minuten langem Erhitzen
der Proben ein Bild erzeugt wurde. Während des Erhitzens wurde allerdings die Polymerschicht teilweise gelbbraun verfärbt.
Das erhaltene Bild war in denselben Bezirken dunkel, in denen auch das als Original verwendete Papier dunkel war.
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Claims (1)
- P a t e η t a η s ρ r ü c Ii e(1, Verwendung von Cellulosepropionat-3-norpholinobutyraten zur Herstellung von s trab, lungs empfindlichen Photorcsistschichten«2· Verwendung von Cellulosepropionat-3-inorpholinobutyraten nach Anspruch 1, gemeinsam mit mindestens einem Sensibilisator für die Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrate.3. Venvendung von Cellulosepropionat-3-morpholinobutyraten nach Ansprüchen 1 und 2, gemeinsam mit mindestens einem organischen Antioxydans für die Cellulosepropionat-3-morpholinobutyrate.4. Verwendung von Cellulosepropionat-3-morpholinobutyraten nach Ansprüchen 1 bis 3, dadixrch gekennzeichnet, daß sie einen Morpholinobutyratgehalt von etwa 20 bis 50 Gew·-*», einen Propionylgehalt von etwa 10 bis 33 Gew.-% sowie einem Hydroxylgehalt von etwa 0 bis 5,5 Gew.-% aufweist.009838/1389ORIGINAL INSPECTED
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