DE1956166A1

DE1956166A1 - Lichtempfindliches Element fuer die Elektrofotografie und Verfahren zu seiner Herstellung

Info

Publication number: DE1956166A1
Application number: DE19691956166
Authority: DE
Inventors: Takehiko Matsuo; Hirokazu Neghishi; Umi Tosaka; Hideo Yoshikawa
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1968-11-07
Filing date: 1969-11-07
Publication date: 1970-06-04
Also published as: DE1956166B2; GB1301294A; US3948657A; DE1956166C3

Description

Dlpl.-lng. A. OrOnackef
Dr.-lng. H. Kinkeld γ Dr.-lng. W. Stockmair 1 Q t: R 1 C C

uvi—ι^η 22. Maximilianttr. 43 13 JO IOD

PH 2788 - 37/B*

Firma Canon Kabuaniki Kaieha, Totaro / Japan

"Idohtempfindliones Elenent für dia Elektrofotografie und Verfahren su seiner BereteHeng"

Dio Erfindung betrifft ein Verfahren iua Herstellen eines lichtempfindlichen Elements für die Elektrofotografie. Ferner betrifft die Erfindung lichtempfindliche Elemente für die Elektrofotografie.

Es sind schon verschiedene Verfahren sub Herstellen von lichtempfindlichen Elementen für die Elektrofotografie durch Aufbringen einer Isolierschicht auf eine ibtoviederetandaschicht vorgeschlagen worden. Beispiele derartiger Verfahren sind nachstehend angegeben: 1. Wan kann die Isolierschicht einfach auf die Oberfläche der lotowiderstandssohicht aufbringen) 2. Man kann die Isolierschicht

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mit der Totowiderstandsschlcht in innige Berührung bringen und mit Hilfe eines in der Fotowiderstandsschicht enthaltenen, klebfähigen Harzbindenittels verkleben j J. Kau kann die Fotowiderstandssehicht und die Isolierschicht alt Hilfe einer zwischen ihnen angeordneten Klebstoff«chioht miteinander verkleben t

Bei dem er a ten Verfahren werden nur zwei Schichten übereinandergelegt, so daß leicht die Bildung einer unebenen Oberfläche aowie von Blasen und Palten aSglioh ist. Oa diese Fohler kaum wieder beseitigt werden kSnnen, ist dienes Verfahren nicht vorteilhaft»

Bei den zweiten Verfahren werden die physikalischen Eigenschaften der Fotowideratandsschicht selbst durch die Wahl des Bindemittels stark beeinflußt· Ss treten daher besonders boi der Verwendung einer kleinen Bindeaittelmenge viele Nachteile auf, selbst wenn ein afl sich geeignetes Bindesoittel gewählt worden ist. Beispielsweise hat die Tototriderstandsschicht eine poröse Fläche, so daß beisi Auftragen eines Isoliermaterials auf diese Fliehe oder beim Verbinden eines Isoliermaterials mit dieser Flache leicht Blasen zwischen dem Oberzug und der Fotowideretandsechicht eingeschlossen worden, oder die Ubersugsschicht hat eine ungleichmäßige Dicke oder sio weist teilweise

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Verwerfungen oder Falten auf. Venn nan die Isolierschicht direkt auf der Fotowiderstandsschioht bildet, besteht die Gefahr, daß das Lösungsmittel der Isolierschicht in die Fotowiderstandsschioht eindringt und diese schädigt· Dabei kann so viel Lösungsmittel in die Fotowlderstsndsschloht eintreten, daß diese nicht nur in ihrer Funktion beeinträchtigt wird, sondern sogar eine unebene Oberfläche erhält. Dieselbe Erscheinung kann auoh beobachtet werden, wenn in der Fotowiderstandsschicht organische Halbleiter verwendet werden· Die vorstehend angegebenen Srsoheinungen beeinträchtigen nicht nur die funktion des lichtempfindlichen Elemente, sondern auoh die Olelohmäfligkeit der Bilddichte und der Ladungeverteilung.

Mit dem oben'angegebenen dritten Verfahren erhält «an ein lichtempfindliches Element mit besserer Funktionsfähigkeit als nach den beiden zuerst besprochenen Verfahren. Da die üblicherweise verwendeten Bindemittel jedooh bei normalen Temperaturen klebrig sind, 1st es sehr schwierig, einen dünnen Isolierfilm mit der Oberfläche der Fotowiderstand*- schicht su verkleben, ohne daß Falten oder Blasen gebildet werden. Besonders bei einem unter Wärmeeinwirkung erfolgenden Aufschrumpfen eines schlauchförmigen Isolierfilms auf eine eyllndrische Fotowiderstendsschioht und einem Verkleben mit Hilfe eines Klebstoffs führt die Vämeschrumpfung

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dee Isolierfilme notwendigerweise zu örtlichen Unebenheiten, so daß Falten auftreten und der Klebstoff Blasen bildet. Sa diese Falten und Blaaen nur schwer wieder beseitigt werden können, ist das fertige lichtempfindliche Element kaum verwendbar.

Es gibt mithin zwar sehr viele verschiedene Arten von Systemen für die Elektrofotografie, doch ist das erseugte Bild in Jedem Fall stark von den Eigenschaften des liehteapfind-) liehen Elements abhängig.

Die Erfindung geht aus von einem lichtempfindlichen Element mit wenigstens drei Schichten, und swar einer Isolierschicht, einer Fotowiderstandsschioht und einem Schichtträger. Der· artige lichtempfindliche Elemente sind beispielsweise in den Japanischen Patentschrift^ 23910/1967 und 24748/1968 der Anmelderin beschrieben. Bei diesen lichtempfindlichen Elementen müssen die Fotowiderstandsschlehtsn und die Iso-. lierschicht einander sehr innig berühren, und ss treten folgende Ladungssustände auf» Die Oberfläche der Isolierschicht wird einer Primäraufladung unterworfen· in der Grenzfläche «wischen Isolierschicht und Fotowiderstandseohicht wird dadurch eine Ladung erzeugt, welche eine der Primärladung entgegengesetzte Polarität hat. Danach wird ein zu kopierendes Bild auf das lichtempfindliche Element pro-

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jisiert und dieses gleichseitig einer Sekundäraufladung unterworfen,* welche eine der Priuärladung entgegengesetzte Polarität hat oder durch eine Vechselstroifr-SprÜhentladung erzeugt wird· Erforderliahenfalle kann das lichtempfindliche Element auf seiner ganzen Fläche einer Strahlung ausgesetzt werden, für die die Fotowiderstandsschlcht empfindlich ist, so daß auf der Isolierschicht ein sehr kontrastreiches elektrostatisches Bild erhalten wird*

Me Qualität des elektrostatischen Bildes ist daher von dem Ladungszustand und dieser von den Eigenschaften des lichtempfindlichen Elements abhängig. Wenn in einem lichtempfindlichen Element mit einem Schichtträger, einer Fotowiders tandsachiöht und einer Isolierschicht die beiden letztgenannten Schichten nicht innig miteinander verklebt sind, führt unter anderem die Ungleichmäßigkeit der Ladung su Eachteilen₉ a.B, zu einer Herabsetzung des Kontrastes des elektrostatischen Bildes, einem ungleichmäßigen Bild «2nd einem unbeständigen Bild.

Ein wesentliches Siel der Erfindung besteht somit in der Schaffung einos Verfahrens aum innigen Verbinden bzw. Verkleben einer lototdL&eratandsechicht und einer Isolierschicht derart, daß ein ausgezeichnetes Bild erhalten wird.

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BsI einen Verfahren zum Herstellen eines lichtempfindlichen Elements für die Elektrofotografie der eingangs erwähnten Art let gemäß der Erfindung vorgesehen, daß auf einem Schichtträger eine Fotovideretandaschicht gebildet iind zwischen dieser sowie einer auf Ihr vorgesehenen Isoliere c nicht ein flüssiges bzw. forabares löeungexaittelfreies, polymeres Hart angeordnet und durch druckausübung auf die Isolierschicht ausgebreitet wird, so daß diese alt Hilfe der Harzschicht innig Bit der lotowiderstandsschioht verbunden bzw· verklebt wird. Han erhält auf diese Weise für die Elektrofotografie ein lichtempfindliches Element mit ausgezeichneten Eigenschaften, daß sich durch eine ausgezeichnete Glätte und Gleichmäßigkeit sowohl der ?otowideratandsschicht als auch der Isolierschicht auszeichnet«

Beim herkömmlichen Dispergieren von feinen Potowideratandsteilchen in einem Bindemittelhars zwecks Bildung einer fotowiderstandsschicht unter Verwendung eines lösungsmittelhaltigezi Klebstoffe dringt das Lösungsmittel des Klebstoffes in die SOtovrideretandsschicht ein, so daß der spezifische elektrische Widerstand örtlich herabgesetzt und die Bildqualität beeinträchtigt wird. jErfindungsgemäß wird hingegen ein Einfluß des Klebstoffs auf die Jtotowiderstandsschlcht dadurch verhindert, daß ein lösungsmittelfreies, polymeres Klebemittel verwendet wird. lexner werden

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die Polymerisation und das Harten durch das Vorhandensein eines Härtere oder durch Einwirkung von Wärme beschleunigt* Infolgedessen können die fotowiderstand*- und die Isolierschicht innig miteinander verklebt werden und aan erhält eine Isolierschicht von hoher mechanischer Festig» keit.

In den hier verwendeten löeungamittelfreien polymeren Siebemitteln wird eine Bolymerisationsreaktion und Klebwirkune im allgemeinen durch Erhitetn oder den Zusat* eines Härtemittels oder die Eeafctlon swisohen de» Klebstoff und einem Bestandteil der Luft herbeigeführt oder durch den Abschluß des Klebstoffs von der Luft, wie dies beispielsweise bei Epoxydharsen, ungesättigten Polyesterharzen, Qyanoacxylathareen und verschiedenen polymeren Monomeren der Fall ist» Ferner gibt es Auf schmelzkleber, s.B. Bolyvinylbuyral, Polyvinylacetat, Vinylchlorid-Vinyl-.acetat-Hiechpolymerieat-Kars_v Vinylacetat-Folyäthylen-Hisehpolyaerisat-nars, Acrylharz, Kolophonium, Shenolhars, modifisiertee Fhenolhort, llelaminaäurehars, modifisierte Bunars&ure und Caiciiiarhars, deren Erweichungspunkt in Bereich von 70° bis 15O⁰C liegt, die durchsichtig sind und einen sehr hohen Isolationswiderstand haben· Diese bei niedrigen Temperaturen erweichenden Harze sind bei normalen Temperaturen nicht klebfähig_o Wenn man sie dagegen,

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e. B. durch Infrarotstrahlung, auf die angegebenen Temperaturen erhitzt, schmelzen sie und zeigen dann eine Hebwirkung.

Bei Verwendung dieser Klebemittel kann man eine innige Berührung zwischen der Isolierschicht und der Fotowideretandeschioht einfach dadurch erzielen, daß die Isolierschicht auf die Fototfideratandeechicht gelegt wird·

Besonders bei Verwendung des Bindemittelharses in kleiner Kenge treten verschiedene Nachteile auf, wenn feine Veilchen aus Widerstandsmaterial in dem Bindemittelhar« dispergiert werden. Da die Fotowiderstandsscnicht selbst eine poröse Oberfläche hat, bleiben beim Auf tragen der vorstehend angegebenen Klebemittel zwischen dieser und der Fotowiderstandsechicht oft Blasen eingeschlossen, so daß die Klebeschicht eine ungleichmäßige Sicke hat und der überzug örtliche Verwerfungen und Falten besitzt. Infolgedessen wird nicht nur die Funktion der Fotowiderstandsschicht beeinträchtigt! sondern auch die Gefahr hervorgerufen, daß die Fotowiderstands schicht eine unebene Fläche besitzt, was bei der Bilderzeugung su Schwierigkeiten führen kann, insbesondere wenn als Fotowiderstand ein organischer Halbleiter verwendet wird. Barch das Auftreten der vorstehen angegebenen Erscheinungen wird nicht nur die Leistung bzw·

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Eineatasbarkeit des lichtempfindlichen Elemente beeinträchtigt/ sondern auch eine ungleichmäßige Bilddichte und eine ungleichmäßige Ladung erhalten· Man kann daher auf diese Weise kein lichtempfindliches Element mit gleichmäßigen Eigenschaften herstellen.

Me Erfindung beseitigt diese Mängel. Hierzu wird die poröse Oberfläche der Potowideratandsschicht mit einer IuJTtpo renfrei en Schicht abgedeckt, die vorteilhaft auch ein Eindringen von löeungsmittelhaltigen Klebstoffen in die Fotowider s tends schicht verhindert _t damit nicht nur die vorstehend angegebenen, lösungsmittelfreien, polymeren Klebemittel, sondern auch losungsmittelhaltige Klebestoffe verwendet werden können. Diese luftporenfreie Schicht wird nachstehend als Swischenisoliorschicht bezeichnet. Erf indungsgeia&ß kamt, taithin. auf der Fotowiderstandsschicht eine Swiechenisoliörsehicht vorgesehen sein, die dann ihrerseits über die Hars-Klebeschicht mit der Isolierechicht verbunden ist*

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werden.

Eb ist auch, möglich, daß in dem Hare der Klebeschicht ein feinteiliges Fotowiderstandsmaterial diepergiert let, so daß das lichtempfindlich« Element swei Potowiderstandaechiohten aufweist. Wan kann in diesen beiden Schichten verschiedene Bindemittel verwenden, die so ausgewählt sind, daß die beiden Schichten «r schieden β specif lache elektrische Viderstandswerte "besitzen. Auf diese Weise kann die Dauerhaftigkeit des lichtempfindlichen Elemente und die Qualität des darauf erseugten Bildes verbessert

Wenn man beispielsweise das elektrofotografische System verwendet, das in den genannten japanischen Patentschriften 23910/1967 und 24748/1968 und der USA-Patentanmeldungen angegeben ist, ist es bei dem licht empfinlichen Element besonders wichtig, daß die beim ersten Aufladevorgang in der Hälie der Oberfläche der Fotowiderstandsschicht erzeugte Ladung beständig ist und im Dunkeln nicht leicht abgebaut werden kann.

Sun kann man auf der Oberfläche der Fotowiderstandssohicht eine beständige negative Ladung erzeugen, wenn die Totowiderstandsschicht zum Leitfähigkeitatypue gehört, und eine beständige positive Ladung, wenn die Fo towi der β tands schicht

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sam Leitfähigkeitetjpua ρ gehört. Im allgemeinen besteht aber eine Tendenz sum ecbnellen Abbau dieser ladung, wenn die Fotowideret&ndesohioht einen niedrigen spesifisohen elektrischen Widerstand hat, während «in langsamer Abbau dieser Ladung erfolgt, wenn die Totowlderstandsachleht einen hohen spesifisohen elektrieehen Widerstand hat. Man kann daher mit einer Fotowideratandsachicht, die aus einer einsigen Schicht besteht, vielfach kein· genügende Wirkung erzielen.

Gemäß einer Ausgestaltung des erfindungegemaSen Verfahrene kann ein lichtempfindliches Eleaent alt guter Wirksamkeit verwendet werden, indem man dafür sorgt, daß seine Foto» Widerstandsschicht in der Nähe ihrer Oberfläche eine Schioht alt hohem epesifischem Widerstand und ferner eine Schioht mit niedrigem spezifischem Widerstand beaitst, so daß sieh die Ladung des belichteten Teils in dem unteren, dem Schichtträger benachbarten Teil der Fotowi&erstandssohicht leicht bewegen kenn.

Nach der Erfindung ist daher die Bildung von swei Fotowlder-Btandsschichten mit verschiedenen spezifischen elektrischen Widerständen vorgesehen« indem die Klebeschicht als weitere Totowideretandasohicht ausgebildet wird·

Ein wichtiger Vorteil der Erfindung besteht darin, daß auf

der Fotowiderstandeschicht eine flüseigkeitsundurchlässige

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- 12 Schicht geschaffen wird, mit der die Isolierschicht 1956166 innig verklebt wird, und ewar mit Hilfe eines Bindemittels, das im schmelzflüssigen Zustand verwendet wird· Zur Herstellung eines mehrschichtigen lichtempfindlichen Elemente kann nach der Erfindung dessen Fotowlderstandesohlcht suerst mit dem Schichtträger und dann mit der Isolierschicht verbunden werden oder umgekehrt, wobei eber in jede« lall· eine innige Verbindung bzw. Verklebung der Isolierschicht mit der Fotowlderstandsschicht gewährleistet 1st. Sine Blasenbildung und das Auftreten von Verwerfungen und FaI-fe ten usw. zwischen der Isolierschicht und der Fotowideretandsschicht ist dabei mit Sicherheit unterbunden.

Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sioh aus ,der folgenden Beschreibung von Aueführungsbeispielen anhand der Zeichnung. Es seigern

Fig. 1 bia 5 schematisch im Querschnitt einige Aueführungeformen des erfindungsgemKSen Verfahrens und

rig. 6 bis 13 ebenfalls schematised im Querschnitt einige Aueführungsformen von lichtempfindlichen Elementen gemäß der Erfindung.

Gemäß Fig. 1 wird «wischen einer auf einem Schichtträger befindlichen Fotowiderstandsschicht 2 und einer Isolierschicht 4 eines der vorstehend angegebenen Klebemittel 3 vorgesehen. Ein Quetscher 10 wird in Richtung des Pfeile

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. vom einen Eade der Isolierschicht 4 sum anderen auf dieser unter Druck* bewegt, eo daß das pastenförmige Klebemittel zwischen der Isolierschicht 4 und der Ibtowiderstand·- eohieht 2 gleichmäßig auegebreitet und überschüssiges ipastenförmlgee Klebemittel an dem anderen Bade herausgedrückt wird. Man kann die Reibung «wischen dem Isolierfilm 4- und dem Quetscher 10 dadurch herabsetseu, daß «wischen ihnen ein Schmiermittel vorgesehen wird· Auf diese Weise wird ein glatter Quetsohvorgang ermöglicht.

Der Quetscher 10 kann B. B. aus Gummi, ürethangumml, Sillkongummi o. dgl. bestehen. Man: kann «um Qietsohsci s,*V eine Rolle, ein Messer oder eine Rakel verwenden*.

Absolute Werte für den anzuwendenden Quetsehdruok können

nicht angegeben werden, da der erforderliche Anpreßdruck ··..... von der Art und Viekoeität des Klebemittels abhängig ist· Zweckmäßig wird der Druck so gewählt, daß dl· erhaltene Klebatoffschioht «in· Dick« von höchstens 10 pm hat.

Selbst bei Verwendung eines Schmiermittel· und einer Isolierschicht aus einem kratsfesten Material kann dl· Anwendung eines genügend starken Quetsohdruokes sur Bildung von kleinen Kratsem in der Isolierschicht selbst führen.

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Man kann dies daduroh vermeiden, daß auf der Isolierschicht eine Schutzschicht vorgesehen wird. Gemäß VIg. 2 ist daher auf der Isolierschicht 4 eine Schutzschicht 41 vorgesehen, auf die der Quetschdruck ausgeübt wird. Venn die Schichten des lichtempfindlichen Elements Innig miteinander verklebt worden sind, wird gemäß Fig· 4 die Schutz-* schicht 41 abgesogen· Auf diese Weise erhält man ein lichtempfindliches Element mit innig miteinander verklebten Schichten und einer kratzerfreien Fläche. Zwischen der Schutsschicht und der Isolierschicht ist keine Verklebung erforderlich. BIe Schutsschicht kann aus jedem beliebigen Material bestehen, sofern es nur leicht abgezogen werden kann.

Auf der auf dem Schichtträger 1 angeordneten Fotowidersbandaechicht kann gemäß Fig· 3 eine Zwischenisolierechieht 5 vorgesehen und das Klebemittel 3 zwischen letzterer und der Isolierschicht 4 angeordnet sein. Mit Hilfe des in Fig. 1 gezeigten Quetschers 10 wird die Isolierschicht 4 mit der Zwischenschicht 5 verbunden bzw. verklebt. In diesem Fall® dringt;die Zwiechenisolierechicht 5 in die poröse Oberfläche der Fotowiderstandsschicht 2 ein, so daß die Oberfläche £latt bleibt. Die Schicht 5 wird somit zu einem Teil der Fotowiderstandsechlcht. Die Zwischenisollerachicht 5 kann beispielsweise durch Auf-

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sprühen, Aufgießen und Aufquetschen aufgetragen werden,, wobei der Quetscher 10 «ue einer Hakel, einer Welse oder einem Qummlelement bestehen kenn.

Venn man auf diese Veise die Fotowiderstandseehioht mit Isolierstoffen wie Bsrsen, Silikaten« Oxyden und Sulfiden Ton Metallen oder Salsen übersieht ,dritte** diese Isolier* stoffe sum größten Teil in die Boren der Sotowiderstands« eohicht 2 ein und es bildet sieh ein dünner KIm der Zwisehenisolierschieht 5 auf der Ibtowideratendssehieht 2·

Als Earse werden vorsugsweise eolohe verwendet, die die darauf aufgetragenen Stoffe, insbesondere duroplaatisohe Barse, nicht durchlässig sind. Vorzugsweise verwendet man für diesen Zweck duroplastiache Earse. Dleae Barse müssen in die Totowideretandsaohicht 2 eindringen, die poröse Slttohe schließen und sie gleichseitig vor einem chemiechen Angriff sohütBen· Dae Ears und das Bindemittel der Fotowideretandeechicht 2 können unabhängig voneinander gewählt werden, sofern daa Ears die funktion der Fotowiderstandaachi'cht 2 nicht beeinträchtigt.

SSu den duroplastischen Börsen, welche die vorgenannten Forderungen erfüllen, gehören die Epoxydharse, Silikonharze, Folyesterharse, Helamlnharse, Acrylharze, Phenol«

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harze, Harnstoffhorse und die von ihnen abgeleiteten modifisierten Harr·. Von diesen Harren kann Man das Epoxyd- . hare und das ungesättigte Polyesterharz besondere beojaea handhaben und ait gate« Erfolg verwenden, weil sie in lan flüssigen Barses angewendet werden können und ihnen nur ein Härtemittel beigemiecht su werden brauoht, aber kein Lösungsmittel erforderlieh ist·

Bei der Verwendung dieser dnroplastisohen Haree geht «en nach der Hitsehärtung zweckmäßig wie folgt Tor· Haoh der Bildung einer Zwisehenisoliersehieht 5 wird diese «it Hilfe des erwähnten lösungsmittelfreien polymeren Klebemittels 9 nit der Isolierschicht 4 verbunden oder ee wird gemäß Pig. 5 auf der Fotowiderst andsachicht 2, die sieh auf den Schichtträger 1 befindet, die Zwischenisoliersohieht 5 vorgesehen und auf die β er Bit Hilfe der Klebeschicht 3 die Isolierschicht 4- rusenmen Bit der Schutzschicht 41 festgeklebt, worauf die Schutzschicht 41 wieder abgesogen wird· Auf diese Weise erhält aan das lichtempfindliche Element.

Bei dem besohriebenen Verfahren erfolgt ein inniges Verkleben der Isolierschicht 4 mit der Potowiderstandssohicht 2 mit Hilfe eines lösungsmittelfrelen polymeren Elebeaittels 3· Venn dieses hierfür benutzte Mittel dasselbe Verhalten hat wie das Bindemittel der Fotowideratandeschicht 2, kann

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das Klebemittel unverändert auch als Bindemittel in der SOtowideretandaaehicht 2 verwendet werden·

Gemäß Fig. 6 wird auf den Schichtträger 1 eine Jtotowlderstandeeehlcht 21 aufgetragen« die durch Siepergieren eines SOtowiderstandsmaterials in einem Bindemittel gebildet wird· Beim Auflegen der Isolierschicht 4 auf die Sbtowid©r stands schicht 2 wird das Tbtowiderstandsmaterial in eine Klebeschicht 22 aus flüssige© lösungsaittelfreiem, polymer er Ears diepergiert, ehe die beiden Schichten mit* einander verkleben. Die Fotowiderstandseehicht kenn selbst aus swoi Schichten bestehen·

Die obere Botowiderstandsschicht 22 enthält als Bindemittel ein lösungsmittelfreies polymeres Hare und hat daher einen höheren spezifischen elektrischen Widerstand als eine ^otowidarstandsechicht, die ein lösungsmittelhaltigee Harz enthält· Xn der Schicht 22 wird die elektrische Ladung be~ ütändig festgehalten, die im JDunkeln nicht leicht abgebaut werden kann· Voll das lösungsmittelfreie polymere Harz bei seiner Härtung durch Polymerisation sehr starr wird, ist das ganze lichtempfindliche Element sehr fest und dauerhaft· Eine beträchtliche Haftwirkung wird erzielt, wenn als Isolierschicht * ein SlIm o. dgl« verwendet wird.

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Als untere Fotowideratandsschicht 21 wird eine solche üblicher Art verwendet. Sie wird dadurch gebildet, daß Fotowiderstandsmaterialteilchen mit einen lösungsmittelhaltigen, flüssigen Harz vermischt und daxin diapergiert werden. Xm Bahmen der Erfindung soll diese Schicht jedoch einen relativ niedrigen elektrischen Videretandawert besitzen. Aue diesem Grund ist das Mengenverhältnis der Harzkomponente zu den Potowiderstandsmateri alt eilchen vorzugsweise klein. Wenn man beispielsweise als Ibtowideretandsmaterial Cadmiuasulfldteilohen mit eine« Durchmesser von etwa 1 pm verwendet, ist die Verwendung tos etwa 5 bis 20 Teilchen Hars auf 100 Teile Cadmiumsulfid zv/eckmäßig.

In der oberen Schicht 3 dagegen beträgt bei Verwendung derselben Cadraiumsulfidteilchen das Verhältnis vorsugsvreiae 20 bis 100 Teile Harz auf 100 Teile Cadmiumsulfid. Infolge des Fehlens eines Lösungsmittels kann die Schicht nur schwer gebildet werden, wenn auf 100 Teile Cadmiumsulfid weniger als 20 Teile Harz vorhanden sind. Bei einer Verwendung von mehr als 100 Teilen Hars auf 100 Teile Cadmiumsulfid erhält man fast eine Isolierschicht, die für den vorliegenden Zweck ungeeignet ist. Ein derartiges lichtempfindliches Element kann beispielsweise durch Quetschen erzeugt werden. Dabei wird ein ?otowideratands~

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material in einen lösungen! ttelfreien, polymeren Ears 22 pergiert und dieses dann »tischen der unteren Fotowiderstandsschicht 21 sowie der Isolierschicht 4 angeordnet und nit Hilfe des Quetschers ausgebreitet. Hsn kann für das Quetschen auch die oben erwähnte Schutzschicht vorsehen. Auf diese Weise kann die Isolierschicht 4 mit der zweischichtigen Potowiderstandeschicht innig verklebt werden.

In dea oberen Teil 22 der Fotowideretandsechicht kann nan die vorstehend angegebenen,, lösungsmittelfreien polymeren Klebemittel unverändert ale Bindemittel verwenden. In den meisten Fällen werden diesem Klebemittel ein PoIymerisationsmittel, ein Katalysator und ein Beschleunigungsmittel zugesetzt, damit nach der Schichtbildung eine Polymerisation erfolgt. Bestimmte Harze, wie z.B. das Epoxydharz, polymerisieren bei der Polymerisation zusammen, wenn man ihnen nur eine kleine Löeungsnittelaenge zusetzt.

In der oberen Schicht 22 wird das Mengenverhältnis des Harzes zu den Fotowideretandsmaterialteilchen in Abhängigkeit von der Olabsorption dee FotowiderstandekÖrpers gewählt, d. h. von seiner Fläche und Korngröße. Man kann jedoch im allgemeinen keine pastenförmige Konsistenz errei—

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chen, und die Schichtbildung wird schwierig, wenn der Hersanteil nicht größer ist als in der unteren Schicht 22· · Diese Erhöhung des Herzanteils führt zu einer Erhöhung des elektrischen Widerstandswertea dieser Schicht, so daß die auf dieser erzeugte elektrische Ladung in Dunkeln nicht leicht abgebaut werden kann·

Die in der unteren Fotowideretandssohicht 21 verwendeten Bindemittelharze heben zweckmäßig einen relativ niedrigen ) spezifischen elektrischen Wideret and. Man kann jedoch auch Harze mit einem hohen spezifischen elektrischen VI» derstand verwenden, wenn sie nur in begrenzter Menge beigemischt werden. Beispielsweise eignen sich für diesen Zweck zahlreiche Harze wie Yinylacetat-Vinylchlorid-Mischpolyoerisat-Harz, Polyvinylacetat, Nitrocellulose, Wethacrylsäureharz, Epoxydharz, Urethanhars, Alkydharz, Helaminharz, Acrylsäureharz und Silikonharz«

Das Mengenverhältnis von Harz zum PbtowiderstandamAterlal ist von der Art des Harsea abhängig und liegt vorzugsweise zwischen 5 und 40 %. Ken kann dieselben Bindemittel verwenden, die vorstehend für Anordnungen angegeben wurden, in denen die Fotowideretandsschicht aus einer einzigen Schicht besteht, ferner auch die für diesen Zweck üblichen Bindemittelharze. Dabei nüssen Jene Harze vermieden werden,

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die einen sehr niedrigen spezifischen elektrischen Widerstandewert besitzen, doch kann man ohne Schwierigkeiten . Harze verwenden, die in den üblichen Fotowiderstand»- schichten allgemein gebräuchlich sind.

Tür die Wahl des Fotowiderstandsmaterials selbst ist es unwichtig, ob die Fotowiderstandsschicht aus swel Schichten oder einer einsigen Schicht besteht. Zu den Fotowiderstand*- materialien, die in den Bindemittel dispergiert werden können, gehören ZnO, TiOg, CdS, CdSe₉ ZnS, ZnSe usw., in vielen Fällen mit einer Korngröße wischen 0,1 um und 0,5 um. Insbesondere CdS ist sehr zweckmäßig , weil man es mit kleinem Kondurchmesser erhalten kann und das Katerial ein· hohe elektrofotografische Empfindlichkeit hat. Ferner wird mit CdS im Rahmen der Erfindung ein besonderer Effekt erzielt»

Wenn die Fotowiderstandsmaterialtellchen nicht in dem Bindemittel des Systems dispergiert, sondern einfach auf «inen anderen Teil des lichtempfindlichen Elements aufgedampft oder auf gestrichen werden, kann man Legierungen verwenden, die drei oder mehr Elemente enthalten, beispielsweise Se, Se-Te, Se, Oe, Si und aufgedampftes CdS. Ken kann im Rahmen der Erfindung auch alle geeigneten organischen Halbleiter verwenden.

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Venn die Isolierschicht 4 mit Hilfe eines flüssigen_t lö-Bungsmittelfreien, polymeren Harzes verklebt wird« kann man ale Isolierschicht jene Harze verwenden, die imstande sind ι die elektrische Ladung tu speichern und Strahlung hindurchzulessen, für welche das Fotowiderstandsmaterial empfindlich ist. Beispielsweise kann man für diesen Zweck Polyester, Polyvinylchlorid, Polypropylen, Polyvinylidenchlorid, Polycarbonate Polystyrol, Polyamid, Polyfluoräthylen, Polyäthylen» Po Iyin id, Polyvinylfluorid, Polyvinylidenfluorid, Polyvinylidenchlorid usw. verwenden.

Für die Wahl des Materials für die Schutzschicht auf dem Film aus den vorstehend angegebenen Substanzen gibt es keine Einschränkung. Ausgezeichnete Ergebnisse erzielt man beispielsweise mit Gummi, Urethan und Silikongummi.

Der Schichtträger kann aus einem leitfähigen Material allein oder einer Kombination eines leitfähigen Materials mit einem Isoliermaterial bestehen. Se kann aber auch aus einem Isoliermaterial allein oder einem Isoliermaterial und einem darauf ausgebildeten, leitenden Körper oder umgekehrt zusammengesetzt sein. Jm Rahmen der Erfindung können in dem Schichtträger Metalle, Hetallfollen, Papier und andere elektrostatisch leitfähige Materialien als leitendes Material und beispielsweise Horzfilme, Holz, Glass, Keramik new. als Isoliermaterial verwendet werden. Bei einer Kom-

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bination einer Isolierschicht und einer leitenden Schicht wird der Schichtträger entweder dadurch gebildet, daß ein überzug aus dem Isoliermaterial auf der leitenden Schicht aufgetragen wird, oder daß eine leitende Fläche auf dem Isoliermaterial aufgedampft oder aufgetragen wird. Der so gebildete Schichtträger kann natürlich die Vorm einer ebenen Platte haben. Allgemein wird seine Form von der gewünschten form des lichtempfindlichen Elements abhängen. Da die Erfindung mit gutem Erfolg auf ein sylindri· sches lichtempfindliches Element angewendet werden kann, ersielt man gute Ergebnisse mit .einem trommeiförmigen Schicht träger..

Das erfindungsgemäfie lichtempfindliche Element, das aus den vorstehend angegebenen Materialien aufgebaut ist, wird nachstehend anhand von Fig. 7 bis 15 erläutert.

Die grundlegende Aueführungsform des lichtempfindlichen Elemente nach der Erfindung besteht gemäß Fig. 7 aus einem Schichtträger 1, einer darauf angeordneten Fotowiderstandsschicht 2 und einer Isolierschicht 4. Zwischen der Fotowiderstandsschlcht 2 und der Isolierschicht 4 befindet sich eine Schicht 5 aus einem lösrungsmittelfreien, polymeren Klebemittel.

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Eine abgeänderte Ausfiihrungeform ist in Fig. β gezeigt · Hier besteht der Schichtträger aus zwei Schichten, und zwar aus einer leitenden Schicht 11 und einer Isolierschicht 12. Es wurde vorstehend schon erwähnt, dafi diese Anordnung auch umgekehrt werden kann.

Fig. 9 zeigt ein anderes lichtempfindliches Element maß der Erfindung. Eier ist auf der Fotowiderstandsschieht 2 eine Zwischenisolierschicht 5 vorgesehen, auf der dann mit Hilfe der Klebeschicht 3 wie in Fig. 7 eine Isolierschicht 4 aufgebracht wird.

Der Schichtträger 1 kann anstatt aus einen leitenden Material allein auch aue einen Verbundkörper bestehen, In dm die leitende Schicht und die Isolierschicht gegeneinander vertauscht sind, wie dies in Fig. 10 gezeigt ist.

daß ·
Es wurde bereits erwähnt ,/die Fotowiderstand^ schicht des lichtempfindlichen Elements gemäß Fig. 6 auch aus swei Schichten bestehen kann. Hier besteht das Element aus dem Schichtträger 1, der Fotowiderstand schicht 21 alt eine« niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand, der fotowiderstandsschicht 22 mit einem hohen elektrischen Widerstand und der Isolierschicht 4. Va tür lieh kann der Schichtträger 1 auch ähnlich wie vorstehend beschrieben au« mehreren

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.Schichten bestehen. Sie vorstehenden Angaben gelten für lichtempfindliche Elemente in Form einer ebenen Platte·

In der Praxis sind für ein störungsfreies, kontinuierliches Kopieren zylindrische lichtempfindliche Hemente sehr vorteilhaft, wie sie nachstehend erliutert werden. Es können alle vorstehend beschriebenen Sohiohtenordnungen mit gutem Erfolg auch auf sylindrisohe lichtempfindliche Elemente angewendet werden.

Tig. 11 seigt einen Zylinder, der dieselbe Schiohtanordnung wie das ebene lichtempfindliche Hement nach flg. 9 hat. Das Element gemäß Fig. 11 besitst einen sy lindriechen Schichtträger 1, eine Fotowiderstandflaohleht 2, eine Zwiachenisolierechioht 5, **&* Klebeschicht 3 und eine Isolierschicht 4. Biese Schichten folgen In der angegebenen Reihenfolge aufeinander.

Man kann diese· lichtempfindliche Element beispieleweise mit Hilf· de» Quetschverfahrene direkt herstellen. In die-•em Fall wird das Bild der Torlage von der In Ben Seite de· lichtempfindlichen Elemente auf die Isolierschicht 4 pro-Visiert. Bei einer Anordnung, in der das Bild der Tor lage von der Innenseite des sylindrisohen lichtempfindlichen Element· profiliert wird, verwendet man sweokmJUig den in

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. 12 gezeigten Aufbau. Hier sind die Schiohten in derselben Reihenfolge angeordnet wie in Pig. 11, d.h., von außen gtsehen folgen die Isolierschicht 4, die Hebstoffschicht 3, die Zwischenieolierechicht 5, die Potowideratandssohicht 2 und der Schichtträger 1 aufeinander. In dem Schichtträger 1 sufi jedoch ein Baus 9 vorgesehen und der Schichtträger 1 für Strahlung durchlässig sein, für die das Totowiderstandematerial empfindlich 1st. In der Praxis ist es zwar vorteilhaft, ein elektrostatisches Bild auf der Außenseite der Isolierschicht 4 auszubilden, doch kann man es theoretisch auch auf dem Schichtträger er reu gen.

Kan kann ale Schichtträger 1 je nach Bedarf auch eine leitende Schicht und eine Isolierschicht allein oder in Kombination verwenden. In einem weiteren Ausführungsbeispiel besitzt die Fotowiderstandsschicht zwei Schichten. Fig. zeigt ein zylindrisches lichtempfindliches Element, das dieselbe Schichtanordnung besitzt wie das Element nach Fig. 6. Auf dem Schichtträger 1 sind Tbtowiderstandsschichton 21 und 22 vorgesehen, die Bindemittel mit verschiedenem spezifischem elektrischem Widerstand enthalten. Die Isolierschicht 4 wird unter der Wirkung der Klebkraft des einen höheren spezifischen elektrischen Widerstand besitzenden Bindemittels der Fotowiderstandsschicht 22 innig mit dieser verklebt.

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Wie bei dor Aueführungeform nach Fig. 12 besitst der Zylinder auch hler In β einem Inneren einen Luftraum und der Schichtträger bee tent aus einem Material, das für Strahlung durchlässig let, für die das Jotowideratandsmaterial empfindlich let.

Han kann somit für das licht empfindliche Element gemäß der Erfindung die verschiedensten Schichtanordnungen wählen. Sofern dabei der Erfindungsgedanke angewendet wird, fallen alle diese Anordnungen in den Rahmen der Erfindung«

Beispiele von elektrofotografischen elektrostatischen Bildherstellungsverfahren, in denen das erfindungsgemäfle lichtempfindliche Element für die Elektrofotografie verwendet werden kann, sind in den vorstehend angegebenen Japanischen Patentschriften 23910/1967 und 24746/1968 beschrieben. Han kann das lichtempfindliche Element gemäß der Erfindung jedoch auch in sahireichen anderen Verfahren verwenden. Nachstehend werden mehrer· Ausführungsbeispiele von elektrostatischen Bildher st el lungsverfahrem angegeben.

1. Prinaraufladungt Sekundäraufladung mit sur Primäraufladung entgegengesetster Polarität und gleichseitige Belichtung; Belichtung der gansen fläche.

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2« Aufladung} Aufladung durch eine VecheelstroB-Sprühentladung bei gleichseitiger Belichtung $ Belichtung der gan~ sen Tische (wenn erforderlich)·

3· Aufladung und gleichseitige Belichtung} Belichtung der gansen Fläche.

4. Erimär auf ladung; Sefcundarauf ladung mit der entgegengesetzten Polarität; Belichtung; Tertiarauf ladung Bit sur || ifrimärauf ladung entgegengesetzten Polarität; Bestrahlung der gansen Fläche·

Die Erfindung ist auch auf andere elektrofotografische Vor-» fahren anwendbar, sofern darin ein lichtempfindliches Element verwendet wird, in dem auf einer Fotowiderstandssohicht eine Isolierschicht angeordnet ist. Xn vielen Fallen kann man ein Bild von hoher Qualität schon mit einer Isolier» schicht von höchstens 50 pm erzeugen·

Nachstehend werden spezielle iiiaführungsöexapiele der Erfindung ausführlicher beschrieben. Die Anwendung der Erfindung ist jedoch nicht auf diese AusfOhrungsbelspiele eingeschränkt, sondern es können unter Benutsung der Lehre der Erfindimg auch andere Ausftihrungsfomen angewendet werden.

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Beispiel I

Auf einer 30 um dicken Aluminiumfolie wurde eine Aufschlämmung aufgetragen, die dadurch erhalten worden war, daß 100 Teile CdS-Fotowiderstandskörner alt einem durchschnittlichen Durchmesser von 1 um vollständig diepergiert wurden» Die aus der Aufschlämmung gebildete Fotowiderstandsschicht hatte nach dem Trocknen eine Dicke von etwa 80 pm.

Auf die Fotowiderstandsschicht wurde ein 25 pm dicker Polyesterfilm aufgetragen. Zwischen dem TiIm und der fotowiderst ands schicht wurde ein Klebemittel eingebracht, das dadurch hergestellt worden war, daB 10 Teile des Härtemittels K-61B der Anchor Chemical Co. tu 100 Teilen de* unter der Bezeichnung Epikote 815 von der Shell Petroleum Co. gelieferten Epoxydharzes zugesetzt wurden, diesem Gelai&ch 6 Teile feinkörnige Kieselsäure zugesetst wurden und das Gemisch dann vollständig durchgemischt sowie geknetet wurde. Das Klebemittel wurde dann dadurch ausgebreitet, daß die Oberfläche des Films vom einen Bade her mit einem aus Urethangummi bestehenden Quetscher aufgequetscht wurde, so daß überschüssiges Klebemittel am anderen Ende herausgedrückt wurde. Der Quetschdruck wurde so eingestellt, daß die Klebeschicht eine Dicke von etwa 5 um hatte.

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Danach wurde die Klebeschicht drei Stunden lang bei 70°C gehärtet. Das auf diese Weiße erhaltene lichtempfindlich· Element war blasen- und faltenfrei und ebenflächig· Sein Isolierfilm war mit der Fotowiderstandsschicht gleichmäßig verbunden·

Die Oberfläche dieses lichtempfindlichen Elements wurde einer positiven Sprühentladung und danach gleichseitig einer Belichtung nit einem Bild und einer Entladung mit. Hilfe einer Wechaelstrom-Sprühentladung unterworfen. Anschließend wurde die ganze Fläche belichtet. Wen erhielt auf diese Weise ein elektrostatisches latentes Bild· Dieses wurde mit Hilfe einer Magnetbürste und eines negativen Toners au einem scharfen konstrastreichen Bild ent- ' wickelt. Nach dem Umdrucken dieses Bildes auf ein Stück Papier wurde der Fotowiderstand gereinigt· Der vorstehend beschriebene Vorgang wurde 10 000-mal wiederholt. Da das epoxydharsshaltige Klebemittel nach dem Hurten sehr hart ist, besaß die Isolierschicht eine sehr hohe mechanische Festigkeit; sie zeigte nach 10 000-maliger Verwendung keine besonderen Schäden. Dabei blieb auch die Bildqualität fast unverändert.

Beispiel 2 Die Fotowiderstandsschicht wurde ähnlich aufgetragen wie

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im Beispiel 1. Bann wurde das im Beispiel 1 zum Aufkleben des Polyesterfilms verwendete Klebemittel dünn auf die Oberfläche der Fotowiderstandsschicht aufgetragen und mit auf diese mit einem aus ürethangummi bestehenden Quetscher aufgequetscht« Danach wurde durch Erhitzen und Härten des Klebemittels eine flüssigkeit eundurchlässlge Schicht in einer Dicke von etwa 3 pa gebildet· Dabei drang ein Teil des Klebemittels in die Fotowiderstandsschicht ein. Hater Verwendung desselben Klebemittels wie im Beispiel 1 wurde in der dort beschriebenen Weise ein 25 um dicker Polyester· film innig mit der Ibtowiderstandsschicht verklebt und das Klebemittel gehärtet· Das auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche Element war blasen- und faltenfrei und ebenso wie das im Beispiel 1 erhaltene ebenflächig.

Hit Hilfe dieser lichtempfindlichen Platte -wurde in dem im Beispiel 1 angegebenen Verfahren ein Bild erzeugt und dieser Vorgang 10 000-mal wiederholt. Die Bildqualität war eben so gut wie nach Beispiel 1. Die lichtempfindliche Platte hatte dieselbe Haltbarkeit wie die nach Beispiel 1 hergestellte·

Beispiel 3 Gegenüber dem Beispiel 1 wurde der Anteil des Bindemittels

in der Fotowiderstandsschicht von 20 auf 10 Teile pro 1,00

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Teile CdS herabgesetst. Direkt auf die Oberfläche der Potowlderstandssehicht wurde mit Hilfe eines Qietschers, der dem im Beispiel 1 verwendeten, ähnlich war, ein Polyester» film geklebt. Dabei wurde eine Örtliche Blasenbildung beobachtet. Infolgedessen wurde der Film, vor dem Härten dee Klebemittels abgesogen und mit Hilfe des Quetsehers erneut unter Zuführung von Klebemittel auf die lichtempfindliche Schicht aufgequetscht. Dabei wurden die vorher gebildeten Blasen vollständig herausgedrückt und es wurde ein einheitliches lichtempfindliches Element erhalten,

Beispiel 4

Auf einer 1 mm dicken Aluminlumplatte wurde im Vakuum amorphes Selen in einer Dicke von etwa 50 um aufgedampft und dabei die Aluminiumplatte abgekühlt. Danach wurde auf die Se-Schicht ein 12 pn dicker Polyesterfilm nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren mit Hilfe des Epoxyd« horses aufgetragen und das Klebemittel gehärtet. Die dabei erhaltene, lichtempfindliche Platte war ebenflächig und blasen- und faltenfrei·

Die Oberfläche des lichtempfindlichen Elements wurde einer negativen Sprühentladung und danach gleichseitig einer Belichtung mit einem Bild und einer positiven Sprühentladung unterworfen. Danach wurde die ganze Fläche belichtet· Man

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erhielt auf diese Weise ein elektrostatisches latentes Bild. Dieses wurde aschließend mit Hilfe einer Magnetbürste und einte positiven Toners su einem soharf en, kontrastreichen Bild entwickelt. In diesem lichtempfindliohsn Element erhöhte das als Klebetof verwendete Epoxydhara die mechanische Festigkeit der Isolierschicht. Sie selgte selbst nach 10 G0O»aaliger Verwendung kaum eine Beschädigung.

Beim Aufkleben des Films auf die Oberfläche der . Se-Schicht neon dem allgemein üblichen Verfahren bilden sich oft kleine Blasen· Bas erfindungsgemtfie Verfahren ermöglicht dagegen ein gleichmäßiges Aufkleben ohne Blasenbildung.

Beispiel f?

Baseelbe Ergebnis wurde erzielt» wenn anstelle des Epoxydhar&es im Beispiel 1 ein ungesättigtes Polyesterharz verwendet wurde·

Beispiel 6

Es wurde eine Fotowiderstandsschioht aus einer Dispersion von CdS in Epoxydhans gebildet. Barauf wurde eine 10-prosentige JtthanollÖsung von Polyvinylbutyral, s»B. dem Produkt £sleck MB-2 der Sekisui Co., aufgetragen und getrocknet,

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■ο daß eine Auf β chme Ir klebe schicht entstand· Auf dies· Schicht wurde ein 25 pt dicker Polyesterfila gelegt. Horch Warmpressen wurde eine lichtempfindliche Platte für dl· Elektrofotografie hergestellt. Diese lichtempfindliche Platte wurde für die !Reproduktion in eine« Kopiergerät verwendet, beispielsweise nach dem im Beispiel 1 angegebenen elektrofotografisohen Verfahren, wobei eine hochwertige Reproduktion erslelt wurde·

Beispiel 7

Aktivierte Cadmiumsulfidtei lohen alt «Ines durchschnittlichen Durchmesser von 1 um wurden mit 10 Gewichtspros«nt Vinylacetathars gemisch und darin dispergiert. Aus dieser Dispersion wurde auf einer 30 pt dicken Aluminiumfolie ein 10 um dicker Übersug gebildet. Danach wurden su 100 Teilen des Epoxydharzes Nr. 815 der Shell Petroleum Co. 100 Teile Cadmiumsulfid und 10 Teile des Härtemittels X61B der Anchor Chemical Company zugesetst. Des Gemisch wurde su einer Faste geknetet. Das Gemisch wurde denn swischen der .vorstehend erwähnten, auf der Aluminiumfolie gebildeten Fotowiderstandsschicht und dem sur Bildung der Isolierschicht dienenden Polyesterfilm von 25 f* angeordnet. Her SlIm wurde mit einem Qummiquetsoher abgequetscht, wobei die überschüssige Paste herausgedrückt wurde. Ss wurde auf diese Weise eine gleichmäßig dicke Pastenschicht erhalten,

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die in diesem Zeitpunkt eine Dicke von etwa 10 pm hatte. Durch einatündiges Hitsehärten der Pastenschicht bei TO⁰C wurde ein lichtempfindliches Element erhalten.

Das lichtempfindliche Sleaent wurde einer Sprühentladung von +6 kV und danach gleichseitig einer Belichtung mit einem Bild und einer Wechseletrom-Spröhentladung auegt~ eetst. Danach wurde die ganse FH&che belichtet, wobei «in elektrostatisches latentes Bild erhalten wurde« Das latente Bild wurde mit EiIf · ein«? Kagnetbürsts und eines Entwickler·, der einen negativen Toner, «enthielt, su «ine« scharfen, kontrastreichen Bild entwickelt« Das lichtempfindliche Element war frei von Blasen und falten, sbenfUtafelg, starr und fest und hatte ein· hohe Lieht empfindlichkeit.

Beispiel β

Zur Bildimg einer. Isolierschicht ward« sunHehet der PoIyeeterfilm von dem im Beispiel 7 erssugtsa lick^aipflndlichen Element abgesegen und anstatt dessen «im Yoqt%&$ sue eise· Epoxydhart und «inern duroh»iohfcigen Imak in siasr Dicke von etwa 50 pm auf die liohtsflpfindlioJt« aufgesprüht. Die Schicht wurde 1 Stunde lang b«i hitsgehirtet, wobei «in« Isolierschicht gebildet wurde. Das gemlfi Beispiel 7 mit Hilfe dieses lichtempfindlichen Elements erseugte Bild war scharf und kontrastreich* Da

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das lichtempfindliche Element eine Oberfläche aue harten duroplaetischen Hare hat, ist ee besondere dauerhaft·

Beispiel 9

Bei der Herstellung eines lichtempfindlichen Elemente wurde anstatt des im Beiepiel 7 verwendeten Epoxydhaxes ein ungesättigtes Folyeaterhars (Bigolac 200* der Biken Ooseikako Co.) verwendet. Das in der im Beiepiel 7 angegebenen Weise ) mit diesem lichtempfindlichen Element erzeugte Bild wer ebenso kontrastreich wie das im Beispiel 7 erhaltene. D#i lichtempfindliche Element war ebenfliohlg, blasen- und' faltenfrei, starr, fsst und hoch lichtempfindlich.

Beispiel 10

Auf einer ebenfläehigen Aluminiumplatte 1 im format A4 wurde ein Überzug aus einem Gemisch aufgesprüht, das durch gleichmäßiges Dispergieren von 100 Teilen Oadmiumaulfid-Fotowiderstandsmaterisl mit eines durchschnittlichen Durchmesser Ton 1 um in 50 feilen einer Lösung «ines Tinylehlorid-Vinyleoetat-Hisohpoljmerieate gebildet worden war. XXL· Lösung hatte einen Veststoffgehalt von 10 Seilen· Der getrocknete Ober zug hatte eine Dic!x8 von etwa 60 pm. lach dem Trocknen, wurde ein flüssiges polymeres Ears aufgetragen, das durch Vermischen von 20% des Härtemittels H-92 der Nihon Ooaetkako Oo. mit dem Epoagrdhars 815 der Shell .

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Petroleum (kv. hergestellt worden war« Dieses Gemisch wurde mit einem Gummlouetscher auf die Oberfläche der Stotowiderstandsschieht xu einen gleichmäßigen« dünnen übersug an· der BarslÖsung aufgequetscht. Durch diese *qfmn4IIVffng ward· die porSse Fläche der lichtempfindlichen Sehieht ait der genannten HarslSsung ausgefüllt und auf der. lichtempfindlichen Sohioht eine dünne Harssohleht gebildet« Das flüssig· bsw. formbare Ears wurde dann 2 Stunden lang bei 70°0 ge« härtet. Danach wurde mit Hilfe desselben flüssigen Harsgemisoh·· aus 815 und H-9/2 ein 25 um dicker Bolyesterfilm auf die Oberfläche der Harssehioht geklebt und der Mim mit einem Gummiquetseher aufgequetscht, so dafl Überschüssige» Bars am einen aide herausgedrückt wurde und dl· Klebeschicht eine Dicke von 2 bi· 5 pm hatte. Bsi herkömmlichen Verfahren ohne Ausfüllung der Boren drang der Klebstoff in die Sbtowiderstandaschioht ein» so daß diese uneinheitlich· Eigenschaften hatte· Dieses Ergebnis trat bei der Anwendung des erfindungsgemäSen Verfahrene niemals auf· Das Hars wurde danach 2 Stunden lang bei 72⁰G gehärtet·

Die Oberfläche des so erhaltenen lichtempfindlichen Elemente wurde einer Sprüh entladung von +6 kV ausgesetst und danach gleichseitig einer Sprühentladung von —6 kV sowie einer Belichtung mit einem Lichtbild mit einer Zdohtmenge von etwa 3 Xux-sek« unterworfen· Schließlich

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wurde die ganze Fläche belichtet. Hbm auf dies« Weise erzeuge, latente Bild wurde mit Hilf® ©iner Hagn$t$»Ürste und eines negativen Toners su einem sehr hochwertigen Bild entwickelt, das auf ein Stück Papier umgedruckt wurde «Der auf dem lichtempfindlichen Element verbliebene "Oner wurde abgewischt* Das licht empfindliche Blejsent wisrde wiederholt in der vorstehend beschriebenen Weise verwendet, wobei je» desmal ein hochwertiges Bild ersielt wurde. Ba in dem nach diesem Verfahren hergestellten lichtempfindlichen Element Epoxydhare enthalten war, hatte es eine hoch« mechanische Festigkeit·

Beispiel 11

^;nateile des Epoxydharzes im Beispiel 10 wurde als Klebemittel für die Isolierschicht ein Mf^ohmelsicleber verwendet, der vorwiegend aus Vinylchlorid bestandL Das Kleben erfolgte unter Wärmeeinwirkung; wobei ein Ergebnis eraielt wurde, das dem im Beispiel 10 erhaltenen ähnelte. Auch in diesem fall drang fast der ganze Auf schmelzkleber in die poröse Fläche der Fotowiderstandsschicht ein, wenn dieses Eindringen nicht durch besondere KaSnahmen verhindert iturde.

Beispiel 12

Anstelle des Epoxydharzes im Beispiel 10 wurde sum Verhindern des Eindringens ein Hslaminhars-Klarlack verwendet,

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der ein Härtemittel enthielt. Zur Schaumbehandlung gegen Eindringen wurde dieser Klarlack unter Bildung eine· dünnen Überzüge· aufgesprüht und dann 2 Stunden lang bei 9O⁰C gehalten. Man eraleite annähernd dasselbe Ergebnis wie Ib Beispiel 10.

Beispiel 13

Anstatt la Beispiel 10 einen Pölyesterfilm auf sukl eben, wurde ein h&rtenittelhaltiger ttelaoinhart-Klarlack unter Bildung eines etwa 25 im dicken Überzuges aufgesprüht und dann swei Stunden lang bei 90⁰C gehaltea. Das erseugte Bild hatte eine gute Qualität. Oa ein duroplaetiechee Hars verwendet wurde, besaß die Oberfläche des llohteapfindli* chen Eleeents eine sehr hohe mechanische Festigkeit. Auch in diesen Fall drang ohne besondere MnBnnhs+n eine be» trächtliehe Heage des Helaalnharsss in die Fotowideretandsschieht ein, und eine gleichnäSlge Isolierschicht konnte kann erseugt werden.

Beispiel

Oasselbe Ergebnis wie la Beispiel 13 wurde auch erslelt, wenn nan anstelle des dort verwendeten Melamisihars-Ilarlakkes den lusungsmlttelhaltlgen BpoxydharslaQk AQm*x V-56B der Hihon Qoseikako Co. benutste und 4 Stunden lang bei

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120⁰C härtete.

Beispiel 15

Dasselbe gute Ergebnis wie im Beispiel 10 wurde ersielt, wenn sum Verhindern des Eindringens anstelle der im Beispiel 10 angewandten Maßnahme ein übersug aus einer Aufschlämmung von feinen Kieseleäureteilohen in Wasser gebildet wurde. Diese Aufschlämmung drang in die Boren der Tötowiderstandseohioht ein.

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Claims

Patentansprüche

fly Verfahren sum Herateilen eines lichtempfindlichen Elements für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet. daß auf einem Schichtträger eine Fotowiderstandsschicht gebildet und 2wischen dieser sowie einer auf ihr vorgesehenen Isolierschicht ein flüssiges bzw« formbares, lösungsmittelfreies, polymeres Harz angeordnet und durch Druckausübung auf die Isolierschicht ausgebreitet wird, so daß diese mit Hilfe der Harzschicht innig mit der Fotowiderstandeschicht verbunden bzw» verklebt wird.

2. Verfahren zum Herstellen eines lichtempfindlichen Elementes für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem Schichtträger eine Fotowiderstandsschicht und auf dieser eine Zwischenisolierschicht vorgesehen wird, daß zwischen der Zwischenisolierschicht und einer Isolierschicht ein flüssiges bzw» formbares, lösungsmittelfreies, polymeres Harz angeordnet wird und daß die Zwischenisolierschicht und die Isolierschicht mit Hilfe dieser Harz-Kleb*schicht innig miteinander verklebt werden.

3· Verfahren zum Erzeugen eines, lichtempfindlichen Elementes für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem Schichtträger eine Fotowiderstandeschicht und

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zwischen dieser sowie einer Isolierschicht ein flüssiges bzw. formbares, lösungsmittelfreies, polymeres Hare vorgesehen wird« in dem ein feinteiliges Fotowideretandsaaterial dispergiert wird, und daß die Fotowlderetandeechicht und die Isolierschicht mit Hilfe der Klebetoffechicht Miteinander verklebt und gleichzeitig zwei Fotowideretandeschichten gebildet werden.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche Λ bis 3, dadurch «ekennzeichnet. daß das flüssige bzw. forabare, löeungsmittelfreie, polymere Harz ein Epoxydharz ist.

5· Verfahren nach wenigstens einem der Anspruch« 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß zur Druckausübung und zum Auebreiten auf die Isolierschicht vom einen End· sum anderen eins Quetschwirkung mit Hilfe eines Quetschers auegeübt und dadurch überschüssiges Harz herausgedrückt wird, während die Fotowiderstandsschicht und die Isolierschicht innig miteinander verbunden bzw. verklebt werden.

6. Verfahren wenigstens nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Druckausübung bzw. Quetechwirkung eine Schiit ζ schicht auf die Isolierschicht aufgebracht und über diese Schutzschicht bzw. durch sie hindurch Druck ausgeübt wird, worauf die Schutzschicht abgezogen wird.

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7> Verfahren wenigstens nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß öle Druckausübung bzw. Quetschwirkung mit Hilfe einer Rakel erfolgt.

8. Verfahren wenigstens nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Druckausübung bzw. Quetschwirkung mit Hilfe einer Rolle erfolgt.

9· Verfahren nach Anspruch 3« dadurch gekenn«·lehnet, daß der flüssige bzw. formbare, lösungsmittelfreie Klebstoff
ein Epoxydharz ist und die auf dem Schichtträger vorgesehene Potowiderstandsschicht einen niedrigen spezifischen
elektrischen Widerstandswvrt hat.

10. Lichtempfindliches Element für dl· Elektrofotografie, gekennzeichnet durch einen Schichtträger (1), ein·.auf des Schichtträger vorgesehene FotoWiderstandeschi oht <2), ein· auf der Fotowiderstandsschicht vorgesehen·, lSsungsaittelfreie, polymere Klebstoffschicht (3) sow!· eine auf der
Klebstoffschicht vorgesehene Isolierschicht (4), so daß
mindestens vier Schichten vorhanden sind.

11. Lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, gekennzeichnet durch einen Schichtträger (1), eine auf dee Schichtträger vorgesehene Fotowiderstandsschicht (2), eine auf der Fotowiderstandsschicht vorgesehene, dünne Zwischsnr

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isolierschicht (5) und eine auf der Zwischenlaolierechicht angeordnete Isolierschicht (4), die durch Aufquetschen alt Hilfe einer Klebstoff schicht (3)» die sich zwischen der Zwischeniso Ii erschient (5) und der Isolierschicht (4) befindet, mit der Zwischenisoliersohlcht (5) verklebt 1st.

12. Lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, gekennzeichnet durch einen Schichtträger (1), eine auf dem Schichtträger vorgesehene Fotowiderstandsschicht (21), eine Isolierschicht (4) und eine Kriechen der Fotowiderstandsschicht (21) und der Isolierschicht (4) vorgesehene Schicht (22) aus einem lösungsmittelfreien polymeren Klebstoffharz, in dem feine Teilchen aus Fotowideretandsmaterial dispergiert sind und durch das die aufgequetschte Isolierschicht (4) innig mit der Fotowiderstandaschicht (21) verbunden bzw. verklebt ist.

13· Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 12_t dadurch gekennzeichnet, daß die lÖsungsmittelfreie, polymere Klebst off schicht (3) aus einem Epoxydharz besteht.

14. Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 1?* dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger (1) aus einem leitenden Material besteht·

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Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger (1) aus einem Isoliermaterial besteht.

16. Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 13* dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger aus einem Isoliermaterial (11) und einer auf diesen vorgesehenen Schicht (12) aus einem MtfäMgen Material besteht.

1?« Lichtempfindliches Element nach eines der Ansprüche 10 bis 13t dadurch gekennzeichnet« daß der Schichtträger aus einer Schicht aus einem leitenden Material und einer darauf vorgesehenen Schicht aus einem Isoliermaterial 'besteht.

18. Trommeiförmiges lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnen« daß auf einem tromiaelförmigen Schichtträger (1) eine Fotowiderstandsschiht (2), eine Schicht (3) aus einem lösungsmittslfreien. polymeren Klebstoff und eine Isolierschicht (4) in dieser Reihenfolge übereinandergeschichtet sind.

19. TroramelförraigöB lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet, daß eine Foto-

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1 9 b b I b b

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wideretandeschicht (2), eine Schicht (3) aus ISeungsmittelfreiem polymerem Klebstoff und eine Isolierschicht (4) von innen nach außen auf der Außenfläche de« hohlen, trommel« iörmigen Schicht träge» (1) übereinandergeeehlehtet sind.

20. Tromntlförmiges lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, dadurch (gekennzeichnet, daß auf einem trommelforaigen Schichtträger eine 7otowiderstandsechieht (2), eine Zwischenisolierachicht (5), eine Schicht (3) aus

fc löaungamittelfreiea polyaerea Klebstoff und eine Isoliergchicht (4) in dieser fieihenfolge übereinander^sehichtet sind.

21. Trommelförnigea lichtempfindliches Element £ür die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet % daB eine iotowiderstandaschicht (2), eine Zwiechenieolierschicht (5)* eine Schicht (3) aus lSeungsmlttelfreiem polymerem Klebstoff und eine Ibölierschicht (4) in dieser Reihenfolge von innen nach außen auf der Außenfläche eines hohlen,

w trommelformigen Schichtträgers übereinandergeschichtet sind.

22. Lichtempfindliches Element, gekennzeichnet durch einen trommeiförmigen Schichtträger (1) eine darauf rorgesehenen Fotowiderstandsschicht (21), eine auf der Fotowiderstandsschicht vorgesehenen Schicht (22) aus einem lösungsmittel-

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freien, polymeren Klebstoff, in dem ein Fotowiderstand·- material dlapergiert ist, und eine auf der letztgenannten Schicht vorgesehene Isolierschicht (4).

23. Lichttepfindliches Sleaent, dadurch flf ¹TfP¹Uf lohnet. daß eine Fotowlderetandsschicht (21), tin· Sohicht (22) aus einen lSsungsmittelfreien polymeren Hars, in d«*ein Fotowiderstandsmaterial dispergiert ist, und eine Ieoliersohicht (4) in dieser Reihenfolge τοπ innen nach außen auf der Außenfläche eines hohlen troaaelföraigen Sohichtträgere (1) übereinandergesohiehtet sind.

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