DE1956166A1 - Lichtempfindliches Element fuer die Elektrofotografie und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Lichtempfindliches Element fuer die Elektrofotografie und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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Dr.-lng. H. Kinkeld γ Dr.-lng. W. Stockmair 1 Q t: R 1 C C
Dr.-lng. H. Kinkeld γ Dr.-lng. W. Stockmair 1 Q t: R 1 C C
uvi—ι^η 22. Maximilianttr. 43 13 JO IOD
PH 2788 - 37/B*
"Idohtempfindliones Elenent für dia Elektrofotografie
und Verfahren su seiner BereteHeng"
Dio Erfindung betrifft ein Verfahren iua Herstellen eines
lichtempfindlichen Elements für die Elektrofotografie. Ferner betrifft die Erfindung lichtempfindliche Elemente
für die Elektrofotografie.
Es sind schon verschiedene Verfahren sub Herstellen von
lichtempfindlichen Elementen für die Elektrofotografie durch Aufbringen einer Isolierschicht auf eine ibtoviederetandaschicht
vorgeschlagen worden. Beispiele derartiger Verfahren sind nachstehend angegeben: 1. Wan kann die
Isolierschicht einfach auf die Oberfläche der lotowiderstandssohicht
aufbringen) 2. Man kann die Isolierschicht
009823/1304
mit der Totowiderstandsschlcht in innige Berührung bringen
und mit Hilfe eines in der Fotowiderstandsschicht enthaltenen,
klebfähigen Harzbindenittels verkleben j J. Kau kann
die Fotowiderstandssehicht und die Isolierschicht alt Hilfe einer zwischen ihnen angeordneten Klebstoff«chioht
miteinander verkleben t
Bei dem er a ten Verfahren werden nur zwei Schichten übereinandergelegt,
so daß leicht die Bildung einer unebenen Oberfläche aowie von Blasen und Palten aSglioh ist. Oa
diese Fohler kaum wieder beseitigt werden kSnnen, ist dienes
Verfahren nicht vorteilhaft»
Bei den zweiten Verfahren werden die physikalischen Eigenschaften
der Fotowideratandsschicht selbst durch die Wahl
des Bindemittels stark beeinflußt· Ss treten daher besonders
boi der Verwendung einer kleinen Bindeaittelmenge viele Nachteile auf, selbst wenn ein afl sich geeignetes
Bindesoittel gewählt worden ist. Beispielsweise hat die
Tototriderstandsschicht eine poröse Fläche, so daß beisi
Auftragen eines Isoliermaterials auf diese Fliehe oder
beim Verbinden eines Isoliermaterials mit dieser Flache
leicht Blasen zwischen dem Oberzug und der Fotowideretandsechicht
eingeschlossen worden, oder die Ubersugsschicht hat eine ungleichmäßige Dicke oder sio weist teilweise
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Verwerfungen oder Falten auf. Venn nan die Isolierschicht direkt auf der Fotowiderstandsschioht bildet, besteht die
Gefahr, daß das Lösungsmittel der Isolierschicht in die Fotowiderstandsschioht eindringt und diese schädigt· Dabei
kann so viel Lösungsmittel in die Fotowlderstsndsschloht
eintreten, daß diese nicht nur in ihrer Funktion beeinträchtigt wird, sondern sogar eine unebene Oberfläche erhält. Dieselbe Erscheinung kann auoh beobachtet werden,
wenn in der Fotowiderstandsschicht organische Halbleiter
verwendet werden· Die vorstehend angegebenen Srsoheinungen
beeinträchtigen nicht nur die funktion des lichtempfindlichen Elemente, sondern auoh die Olelohmäfligkeit der Bilddichte
und der Ladungeverteilung.
Mit dem oben'angegebenen dritten Verfahren erhält «an ein
lichtempfindliches Element mit besserer Funktionsfähigkeit als nach den beiden zuerst besprochenen Verfahren. Da die
üblicherweise verwendeten Bindemittel jedooh bei normalen
Temperaturen klebrig sind, 1st es sehr schwierig, einen dünnen Isolierfilm mit der Oberfläche der Fotowiderstand*-
schicht su verkleben, ohne daß Falten oder Blasen gebildet werden. Besonders bei einem unter Wärmeeinwirkung erfolgenden
Aufschrumpfen eines schlauchförmigen Isolierfilms auf eine eyllndrische Fotowiderstendsschioht und einem Verkleben
mit Hilfe eines Klebstoffs führt die Vämeschrumpfung
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dee Isolierfilme notwendigerweise zu örtlichen Unebenheiten,
so daß Falten auftreten und der Klebstoff Blasen bildet. Sa
diese Falten und Blaaen nur schwer wieder beseitigt werden können, ist das fertige lichtempfindliche Element kaum
verwendbar.
Es gibt mithin zwar sehr viele verschiedene Arten von Systemen für die Elektrofotografie, doch ist das erseugte Bild
in Jedem Fall stark von den Eigenschaften des liehteapfind-)
liehen Elements abhängig.
Die Erfindung geht aus von einem lichtempfindlichen Element mit wenigstens drei Schichten, und swar einer Isolierschicht,
einer Fotowiderstandsschioht und einem Schichtträger. Der·
artige lichtempfindliche Elemente sind beispielsweise in den Japanischen Patentschrift^ 23910/1967 und 24748/1968
der Anmelderin beschrieben. Bei diesen lichtempfindlichen Elementen müssen die Fotowiderstandsschlehtsn und die Iso-.
lierschicht einander sehr innig berühren, und ss treten
folgende Ladungssustände auf» Die Oberfläche der Isolierschicht
wird einer Primäraufladung unterworfen· in der
Grenzfläche «wischen Isolierschicht und Fotowiderstandseohicht
wird dadurch eine Ladung erzeugt, welche eine der Primärladung entgegengesetzte Polarität hat. Danach wird ein
zu kopierendes Bild auf das lichtempfindliche Element pro-
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jisiert und dieses gleichseitig einer Sekundäraufladung
unterworfen,* welche eine der Priuärladung entgegengesetzte
Polarität hat oder durch eine Vechselstroifr-SprÜhentladung
erzeugt wird· Erforderliahenfalle kann das lichtempfindliche
Element auf seiner ganzen Fläche einer Strahlung ausgesetzt werden, für die die Fotowiderstandsschlcht empfindlich
ist, so daß auf der Isolierschicht ein sehr kontrastreiches elektrostatisches Bild erhalten wird*
Me Qualität des elektrostatischen Bildes ist daher von dem Ladungszustand und dieser von den Eigenschaften des
lichtempfindlichen Elements abhängig. Wenn in einem lichtempfindlichen Element mit einem Schichtträger, einer Fotowiders tandsachiöht und einer Isolierschicht die beiden
letztgenannten Schichten nicht innig miteinander verklebt sind, führt unter anderem die Ungleichmäßigkeit der Ladung
su Eachteilen9 a.B, zu einer Herabsetzung des Kontrastes
des elektrostatischen Bildes, einem ungleichmäßigen Bild «2nd einem unbeständigen Bild.
Ein wesentliches Siel der Erfindung besteht somit in der
Schaffung einos Verfahrens aum innigen Verbinden bzw. Verkleben einer lototdL&eratandsechicht und einer Isolierschicht
derart, daß ein ausgezeichnetes Bild erhalten wird.
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BsI einen Verfahren zum Herstellen eines lichtempfindlichen
Elements für die Elektrofotografie der eingangs erwähnten Art let gemäß der Erfindung vorgesehen, daß auf
einem Schichtträger eine Fotovideretandaschicht gebildet
iind zwischen dieser sowie einer auf Ihr vorgesehenen Isoliere c nicht ein flüssiges bzw. forabares löeungexaittelfreies,
polymeres Hart angeordnet und durch druckausübung auf die Isolierschicht ausgebreitet wird, so daß diese alt
Hilfe der Harzschicht innig Bit der lotowiderstandsschioht
verbunden bzw· verklebt wird. Han erhält auf diese Weise für die Elektrofotografie ein lichtempfindliches Element
mit ausgezeichneten Eigenschaften, daß sich durch eine
ausgezeichnete Glätte und Gleichmäßigkeit sowohl der ?otowideratandsschicht
als auch der Isolierschicht auszeichnet«
Beim herkömmlichen Dispergieren von feinen Potowideratandsteilchen
in einem Bindemittelhars zwecks Bildung einer
fotowiderstandsschicht unter Verwendung eines lösungsmittelhaltigezi
Klebstoffe dringt das Lösungsmittel des Klebstoffes in die SOtovrideretandsschicht ein, so daß der spezifische elektrische Widerstand örtlich herabgesetzt und
die Bildqualität beeinträchtigt wird. jErfindungsgemäß wird
hingegen ein Einfluß des Klebstoffs auf die Jtotowiderstandsschlcht
dadurch verhindert, daß ein lösungsmittelfreies,
polymeres Klebemittel verwendet wird. lexner werden
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die Polymerisation und das Harten durch das Vorhandensein
eines Härtere oder durch Einwirkung von Wärme beschleunigt*
Infolgedessen können die fotowiderstand*- und die
Isolierschicht innig miteinander verklebt werden und aan erhält eine Isolierschicht von hoher mechanischer Festig»
keit.
In den hier verwendeten löeungamittelfreien polymeren
Siebemitteln wird eine Bolymerisationsreaktion und Klebwirkune
im allgemeinen durch Erhitetn oder den Zusat*
eines Härtemittels oder die Eeafctlon swisohen de» Klebstoff und einem Bestandteil der Luft herbeigeführt oder
durch den Abschluß des Klebstoffs von der Luft, wie dies beispielsweise bei Epoxydharsen, ungesättigten Polyesterharzen, Qyanoacxylathareen und verschiedenen polymeren
Monomeren der Fall ist» Ferner gibt es Auf schmelzkleber, s.B. Bolyvinylbuyral, Polyvinylacetat, Vinylchlorid-Vinyl-.acetat-Hiechpolymerieat-Karsv
Vinylacetat-Folyäthylen-Hisehpolyaerisat-nars,
Acrylharz, Kolophonium, Shenolhars, modifisiertee Fhenolhort, llelaminaäurehars, modifisierte
Bunars&ure und Caiciiiarhars, deren Erweichungspunkt in Bereich
von 70° bis 15O0C liegt, die durchsichtig sind und
einen sehr hohen Isolationswiderstand haben· Diese bei niedrigen Temperaturen erweichenden Harze sind bei normalen Temperaturen nicht klebfähigo Wenn man sie dagegen,
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e. B. durch Infrarotstrahlung, auf die angegebenen Temperaturen erhitzt, schmelzen sie und zeigen dann eine Hebwirkung.
Bei Verwendung dieser Klebemittel kann man eine innige Berührung zwischen der Isolierschicht und der Fotowideretandeschioht
einfach dadurch erzielen, daß die Isolierschicht auf die Fototfideratandeechicht gelegt wird·
Besonders bei Verwendung des Bindemittelharses in kleiner
Kenge treten verschiedene Nachteile auf, wenn feine Veilchen
aus Widerstandsmaterial in dem Bindemittelhar« dispergiert
werden. Da die Fotowiderstandsscnicht selbst eine
poröse Oberfläche hat, bleiben beim Auf tragen der vorstehend angegebenen Klebemittel zwischen dieser und der Fotowiderstandsechicht
oft Blasen eingeschlossen, so daß die Klebeschicht eine ungleichmäßige Sicke hat und der überzug
örtliche Verwerfungen und Falten besitzt. Infolgedessen
wird nicht nur die Funktion der Fotowiderstandsschicht beeinträchtigt!
sondern auch die Gefahr hervorgerufen, daß die Fotowiderstands schicht eine unebene Fläche besitzt,
was bei der Bilderzeugung su Schwierigkeiten führen kann, insbesondere wenn als Fotowiderstand ein organischer Halbleiter
verwendet wird. Barch das Auftreten der vorstehen angegebenen Erscheinungen wird nicht nur die Leistung bzw·
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Eineatasbarkeit des lichtempfindlichen Elemente beeinträchtigt/
sondern auch eine ungleichmäßige Bilddichte und eine ungleichmäßige Ladung erhalten· Man kann daher
auf diese Weise kein lichtempfindliches Element mit gleichmäßigen Eigenschaften herstellen.
Me Erfindung beseitigt diese Mängel. Hierzu wird die poröse
Oberfläche der Potowideratandsschicht mit einer IuJTtpo
renfrei en Schicht abgedeckt, die vorteilhaft auch ein
Eindringen von löeungsmittelhaltigen Klebstoffen in die
Fotowider s tends schicht verhindert t damit nicht nur die
vorstehend angegebenen, lösungsmittelfreien, polymeren Klebemittel, sondern auch losungsmittelhaltige Klebestoffe
verwendet werden können. Diese luftporenfreie Schicht wird nachstehend als Swischenisoliorschicht bezeichnet.
Erf indungsgeia&ß kamt, taithin. auf der Fotowiderstandsschicht
eine Swiechenisoliörsehicht vorgesehen sein, die dann ihrerseits
über die Hars-Klebeschicht mit der Isolierechicht
verbunden ist*
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werden.
Eb ist auch, möglich, daß in dem Hare der Klebeschicht ein
feinteiliges Fotowiderstandsmaterial diepergiert let, so
daß das lichtempfindlich« Element swei Potowiderstandaechiohten
aufweist. Wan kann in diesen beiden Schichten verschiedene Bindemittel verwenden, die so ausgewählt
sind, daß die beiden Schichten «r schieden β specif lache
elektrische Viderstandswerte "besitzen. Auf diese Weise
kann die Dauerhaftigkeit des lichtempfindlichen Elemente und die Qualität des darauf erseugten Bildes verbessert
Wenn man beispielsweise das elektrofotografische System
verwendet, das in den genannten japanischen Patentschriften 23910/1967 und 24748/1968 und der USA-Patentanmeldungen
angegeben ist, ist es bei dem licht empfinlichen Element besonders wichtig, daß die beim ersten Aufladevorgang in
der Hälie der Oberfläche der Fotowiderstandsschicht erzeugte
Ladung beständig ist und im Dunkeln nicht leicht abgebaut werden kann.
Sun kann man auf der Oberfläche der Fotowiderstandssohicht
eine beständige negative Ladung erzeugen, wenn die Totowiderstandsschicht zum Leitfähigkeitatypue gehört, und eine
beständige positive Ladung, wenn die Fo towi der β tands schicht
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sam Leitfähigkeitetjpua ρ gehört. Im allgemeinen besteht
aber eine Tendenz sum ecbnellen Abbau dieser ladung, wenn
die Fotowideret&ndesohioht einen niedrigen spesifisohen
elektrischen Widerstand hat, während «in langsamer Abbau dieser Ladung erfolgt, wenn die Totowlderstandsachleht
einen hohen spesifisohen elektrieehen Widerstand hat.
Man kann daher mit einer Fotowideratandsachicht, die aus
einer einsigen Schicht besteht, vielfach kein· genügende Wirkung erzielen.
Gemäß einer Ausgestaltung des erfindungegemaSen Verfahrene
kann ein lichtempfindliches Eleaent alt guter Wirksamkeit
verwendet werden, indem man dafür sorgt, daß seine Foto»
Widerstandsschicht in der Nähe ihrer Oberfläche eine Schioht
alt hohem epesifischem Widerstand und ferner eine Schioht
mit niedrigem spezifischem Widerstand beaitst, so daß sieh
die Ladung des belichteten Teils in dem unteren, dem Schichtträger
benachbarten Teil der Fotowi&erstandssohicht leicht
bewegen kenn.
Nach der Erfindung ist daher die Bildung von swei Fotowlder-Btandsschichten
mit verschiedenen spezifischen elektrischen Widerständen vorgesehen« indem die Klebeschicht als weitere
Totowideretandasohicht ausgebildet wird·
der Fotowiderstandeschicht eine flüseigkeitsundurchlässige
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- 12 Schicht geschaffen wird, mit der die Isolierschicht 1956166
innig verklebt wird, und ewar mit Hilfe eines Bindemittels, das im schmelzflüssigen Zustand verwendet wird· Zur Herstellung eines mehrschichtigen lichtempfindlichen Elemente
kann nach der Erfindung dessen Fotowlderstandesohlcht suerst
mit dem Schichtträger und dann mit der Isolierschicht verbunden werden oder umgekehrt, wobei eber in jede« lall·
eine innige Verbindung bzw. Verklebung der Isolierschicht
mit der Fotowlderstandsschicht gewährleistet 1st. Sine
Blasenbildung und das Auftreten von Verwerfungen und FaI-fe
ten usw. zwischen der Isolierschicht und der Fotowideretandsschicht
ist dabei mit Sicherheit unterbunden.
Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sioh
aus ,der folgenden Beschreibung von Aueführungsbeispielen
anhand der Zeichnung. Es seigern
Fig. 1 bia 5 schematisch im Querschnitt einige Aueführungeformen
des erfindungsgemKSen Verfahrens und
rig. 6 bis 13 ebenfalls schematised im Querschnitt
einige Aueführungsformen von lichtempfindlichen Elementen gemäß der Erfindung.
Gemäß Fig. 1 wird «wischen einer auf einem Schichtträger
befindlichen Fotowiderstandsschicht 2 und einer Isolierschicht 4 eines der vorstehend angegebenen Klebemittel 3
vorgesehen. Ein Quetscher 10 wird in Richtung des Pfeile
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. vom einen Eade der Isolierschicht 4 sum anderen auf dieser
unter Druck* bewegt, eo daß das pastenförmige Klebemittel
zwischen der Isolierschicht 4 und der Ibtowiderstand·-
eohieht 2 gleichmäßig auegebreitet und überschüssiges ipastenförmlgee
Klebemittel an dem anderen Bade herausgedrückt wird. Man kann die Reibung «wischen dem Isolierfilm
4- und dem Quetscher 10 dadurch herabsetseu, daß «wischen ihnen ein Schmiermittel vorgesehen wird· Auf diese Weise
wird ein glatter Quetsohvorgang ermöglicht.
Der Quetscher 10 kann B. B. aus Gummi, ürethangumml, Sillkongummi
o. dgl. bestehen. Man: kann «um Qietsohsci s,*V eine
Rolle, ein Messer oder eine Rakel verwenden*.
nicht angegeben werden, da der erforderliche Anpreßdruck ··.....
von der Art und Viekoeität des Klebemittels abhängig ist· Zweckmäßig wird der Druck so gewählt, daß dl· erhaltene
Klebatoffschioht «in· Dick« von höchstens 10 pm hat.
Selbst bei Verwendung eines Schmiermittel· und einer Isolierschicht
aus einem kratsfesten Material kann dl· Anwendung
eines genügend starken Quetsohdruokes sur Bildung
von kleinen Kratsem in der Isolierschicht selbst führen.
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Man kann dies daduroh vermeiden, daß auf der Isolierschicht eine Schutzschicht vorgesehen wird. Gemäß VIg. 2 ist daher
auf der Isolierschicht 4 eine Schutzschicht 41 vorgesehen, auf die der Quetschdruck ausgeübt wird. Venn die
Schichten des lichtempfindlichen Elements Innig miteinander verklebt worden sind, wird gemäß Fig· 4 die Schutz-*
schicht 41 abgesogen· Auf diese Weise erhält man ein lichtempfindliches
Element mit innig miteinander verklebten Schichten und einer kratzerfreien Fläche. Zwischen der
Schutsschicht und der Isolierschicht ist keine Verklebung
erforderlich. BIe Schutsschicht kann aus jedem beliebigen
Material bestehen, sofern es nur leicht abgezogen werden kann.
Auf der auf dem Schichtträger 1 angeordneten Fotowidersbandaechicht
kann gemäß Fig· 3 eine Zwischenisolierechieht
5 vorgesehen und das Klebemittel 3 zwischen letzterer und der Isolierschicht 4 angeordnet sein. Mit
Hilfe des in Fig. 1 gezeigten Quetschers 10 wird die Isolierschicht
4 mit der Zwischenschicht 5 verbunden bzw. verklebt. In diesem Fall® dringt;die Zwiechenisolierechicht
5 in die poröse Oberfläche der Fotowiderstandsschicht 2 ein, so daß die Oberfläche £latt bleibt. Die Schicht 5
wird somit zu einem Teil der Fotowiderstandsechlcht. Die
Zwischenisollerachicht 5 kann beispielsweise durch Auf-
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sprühen, Aufgießen und Aufquetschen aufgetragen werden,,
wobei der Quetscher 10 «ue einer Hakel, einer Welse oder
einem Qummlelement bestehen kenn.
Venn man auf diese Veise die Fotowiderstandseehioht mit
Isolierstoffen wie Bsrsen, Silikaten« Oxyden und Sulfiden
Ton Metallen oder Salsen übersieht ,dritte** diese Isolier*
stoffe sum größten Teil in die Boren der Sotowiderstands«
eohicht 2 ein und es bildet sieh ein dünner KIm der Zwisehenisolierschieht
5 auf der Ibtowideratendssehieht 2·
Als Earse werden vorsugsweise eolohe verwendet, die die darauf aufgetragenen Stoffe, insbesondere duroplaatisohe
Barse, nicht durchlässig sind. Vorzugsweise verwendet
man für diesen Zweck duroplastiache Earse. Dleae Barse
müssen in die Totowideretandsaohicht 2 eindringen, die
poröse Slttohe schließen und sie gleichseitig vor einem
chemiechen Angriff sohütBen· Dae Ears und das Bindemittel
der Fotowideretandeechicht 2 können unabhängig voneinander
gewählt werden, sofern daa Ears die funktion der Fotowiderstandaachi'cht
2 nicht beeinträchtigt.
SSu den duroplastischen Börsen, welche die vorgenannten
Forderungen erfüllen, gehören die Epoxydharse, Silikonharze,
Folyesterharse, Helamlnharse, Acrylharze, Phenol«
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harze, Harnstoffhorse und die von ihnen abgeleiteten modifisierten
Harr·. Von diesen Harren kann Man das Epoxyd- .
hare und das ungesättigte Polyesterharz besondere beojaea
handhaben und ait gate« Erfolg verwenden, weil sie in lan
flüssigen Barses angewendet werden können und ihnen nur
ein Härtemittel beigemiecht su werden brauoht, aber kein
Lösungsmittel erforderlieh ist·
Bei der Verwendung dieser dnroplastisohen Haree geht «en
nach der Hitsehärtung zweckmäßig wie folgt Tor· Haoh der Bildung einer Zwisehenisoliersehieht 5 wird diese «it Hilfe
des erwähnten lösungsmittelfreien polymeren Klebemittels 9
nit der Isolierschicht 4 verbunden oder ee wird gemäß
Pig. 5 auf der Fotowiderst andsachicht 2, die sieh auf den
Schichtträger 1 befindet, die Zwischenisoliersohieht 5 vorgesehen
und auf die β er Bit Hilfe der Klebeschicht 3 die Isolierschicht 4- rusenmen Bit der Schutzschicht 41 festgeklebt, worauf die Schutzschicht 41 wieder abgesogen wird·
Auf diese Weise erhält aan das lichtempfindliche Element.
Bei dem besohriebenen Verfahren erfolgt ein inniges Verkleben der Isolierschicht 4 mit der Potowiderstandssohicht 2
mit Hilfe eines lösungsmittelfrelen polymeren Elebeaittels
3· Venn dieses hierfür benutzte Mittel dasselbe Verhalten
hat wie das Bindemittel der Fotowideratandeschicht 2, kann
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das Klebemittel unverändert auch als Bindemittel in der
SOtowideretandaaehicht 2 verwendet werden·
Gemäß Fig. 6 wird auf den Schichtträger 1 eine Jtotowlderstandeeehlcht
21 aufgetragen« die durch Siepergieren eines SOtowiderstandsmaterials in einem Bindemittel gebildet
wird· Beim Auflegen der Isolierschicht 4 auf die Sbtowid©r
stands schicht 2 wird das Tbtowiderstandsmaterial in
eine Klebeschicht 22 aus flüssige© lösungsaittelfreiem,
polymer er Ears diepergiert, ehe die beiden Schichten mit*
einander verkleben. Die Fotowiderstandseehicht kenn selbst
aus swoi Schichten bestehen·
Die obere Botowiderstandsschicht 22 enthält als Bindemittel
ein lösungsmittelfreies polymeres Hare und hat daher einen höheren spezifischen elektrischen Widerstand als eine
^otowidarstandsechicht, die ein lösungsmittelhaltigee Harz
enthält· Xn der Schicht 22 wird die elektrische Ladung be~
ütändig festgehalten, die im JDunkeln nicht leicht abgebaut werden kann· Voll das lösungsmittelfreie polymere
Harz bei seiner Härtung durch Polymerisation sehr starr wird, ist das ganze lichtempfindliche Element sehr fest
und dauerhaft· Eine beträchtliche Haftwirkung wird erzielt, wenn als Isolierschicht * ein SlIm o. dgl« verwendet wird.
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Als untere Fotowideratandsschicht 21 wird eine solche
üblicher Art verwendet. Sie wird dadurch gebildet, daß
Fotowiderstandsmaterialteilchen mit einen lösungsmittelhaltigen,
flüssigen Harz vermischt und daxin diapergiert werden. Xm Bahmen der Erfindung soll diese Schicht jedoch
einen relativ niedrigen elektrischen Videretandawert besitzen. Aue diesem Grund ist das Mengenverhältnis der
Harzkomponente zu den Potowiderstandsmateri alt eilchen
vorzugsweise klein. Wenn man beispielsweise als Ibtowideretandsmaterial
Cadmiuasulfldteilohen mit eine« Durchmesser von etwa 1 pm verwendet, ist die Verwendung tos
etwa 5 bis 20 Teilchen Hars auf 100 Teile Cadmiumsulfid zv/eckmäßig.
In der oberen Schicht 3 dagegen beträgt bei Verwendung derselben Cadraiumsulfidteilchen das Verhältnis vorsugsvreiae
20 bis 100 Teile Harz auf 100 Teile Cadmiumsulfid. Infolge des Fehlens eines Lösungsmittels kann die Schicht
nur schwer gebildet werden, wenn auf 100 Teile Cadmiumsulfid
weniger als 20 Teile Harz vorhanden sind. Bei einer Verwendung von mehr als 100 Teilen Hars auf 100 Teile
Cadmiumsulfid erhält man fast eine Isolierschicht, die für den vorliegenden Zweck ungeeignet ist. Ein derartiges
lichtempfindliches Element kann beispielsweise durch Quetschen erzeugt werden. Dabei wird ein ?otowideratands~
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material in einen lösungen! ttelfreien, polymeren Ears 22
pergiert und dieses dann »tischen der unteren Fotowiderstandsschicht
21 sowie der Isolierschicht 4 angeordnet und nit Hilfe des Quetschers ausgebreitet. Hsn kann für
das Quetschen auch die oben erwähnte Schutzschicht vorsehen. Auf diese Weise kann die Isolierschicht 4 mit der
zweischichtigen Potowiderstandeschicht innig verklebt werden.
In dea oberen Teil 22 der Fotowideretandsechicht kann
nan die vorstehend angegebenen,, lösungsmittelfreien polymeren
Klebemittel unverändert ale Bindemittel verwenden. In den meisten Fällen werden diesem Klebemittel ein PoIymerisationsmittel,
ein Katalysator und ein Beschleunigungsmittel
zugesetzt, damit nach der Schichtbildung eine Polymerisation erfolgt. Bestimmte Harze, wie z.B. das
Epoxydharz, polymerisieren bei der Polymerisation zusammen, wenn man ihnen nur eine kleine Löeungsnittelaenge
zusetzt.
In der oberen Schicht 22 wird das Mengenverhältnis des Harzes zu den Fotowideretandsmaterialteilchen in Abhängigkeit von der Olabsorption dee FotowiderstandekÖrpers gewählt, d. h. von seiner Fläche und Korngröße. Man kann jedoch im allgemeinen keine pastenförmige Konsistenz errei—
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chen, und die Schichtbildung wird schwierig, wenn der Hersanteil nicht größer ist als in der unteren Schicht 22· ·
Diese Erhöhung des Herzanteils führt zu einer Erhöhung des elektrischen Widerstandswertea dieser Schicht, so daß
die auf dieser erzeugte elektrische Ladung in Dunkeln nicht leicht abgebaut werden kann·
Die in der unteren Fotowideretandssohicht 21 verwendeten
Bindemittelharze heben zweckmäßig einen relativ niedrigen ) spezifischen elektrischen Wideret and. Man kann jedoch
auch Harze mit einem hohen spezifischen elektrischen VI» derstand verwenden, wenn sie nur in begrenzter Menge beigemischt
werden. Beispielsweise eignen sich für diesen Zweck zahlreiche Harze wie Yinylacetat-Vinylchlorid-Mischpolyoerisat-Harz,
Polyvinylacetat, Nitrocellulose, Wethacrylsäureharz,
Epoxydharz, Urethanhars, Alkydharz, Helaminharz,
Acrylsäureharz und Silikonharz«
Das Mengenverhältnis von Harz zum PbtowiderstandamAterlal
ist von der Art des Harsea abhängig und liegt vorzugsweise zwischen 5 und 40 %. Ken kann dieselben Bindemittel verwenden, die vorstehend für Anordnungen angegeben wurden, in
denen die Fotowideretandsschicht aus einer einzigen Schicht
besteht, ferner auch die für diesen Zweck üblichen Bindemittelharze. Dabei nüssen Jene Harze vermieden werden,
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die einen sehr niedrigen spezifischen elektrischen Widerstandewert
besitzen, doch kann man ohne Schwierigkeiten . Harze verwenden, die in den üblichen Fotowiderstand»-
schichten allgemein gebräuchlich sind.
Tür die Wahl des Fotowiderstandsmaterials selbst ist es unwichtig,
ob die Fotowiderstandsschicht aus swel Schichten oder einer einsigen Schicht besteht. Zu den Fotowiderstand*-
materialien, die in den Bindemittel dispergiert werden können, gehören ZnO, TiOg, CdS, CdSe9 ZnS, ZnSe usw., in vielen
Fällen mit einer Korngröße wischen 0,1 um und 0,5 um.
Insbesondere CdS ist sehr zweckmäßig , weil man es mit
kleinem Kondurchmesser erhalten kann und das Katerial ein·
hohe elektrofotografische Empfindlichkeit hat. Ferner wird mit CdS im Rahmen der Erfindung ein besonderer Effekt erzielt»
Wenn die Fotowiderstandsmaterialtellchen nicht in dem Bindemittel
des Systems dispergiert, sondern einfach auf «inen
anderen Teil des lichtempfindlichen Elements aufgedampft
oder auf gestrichen werden, kann man Legierungen verwenden, die drei oder mehr Elemente enthalten, beispielsweise Se,
Se-Te, Se, Oe, Si und aufgedampftes CdS. Ken kann im Rahmen der Erfindung auch alle geeigneten organischen Halbleiter
verwenden.
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Venn die Isolierschicht 4 mit Hilfe eines flüssigent lö-Bungsmittelfreien,
polymeren Harzes verklebt wird« kann man ale Isolierschicht jene Harze verwenden, die imstande
sind ι die elektrische Ladung tu speichern und Strahlung hindurchzulessen, für welche das Fotowiderstandsmaterial
empfindlich ist. Beispielsweise kann man für diesen Zweck Polyester, Polyvinylchlorid, Polypropylen, Polyvinylidenchlorid, Polycarbonate Polystyrol, Polyamid, Polyfluoräthylen,
Polyäthylen» Po Iyin id, Polyvinylfluorid, Polyvinylidenfluorid,
Polyvinylidenchlorid usw. verwenden.
Für die Wahl des Materials für die Schutzschicht auf dem Film aus den vorstehend angegebenen Substanzen gibt es
keine Einschränkung. Ausgezeichnete Ergebnisse erzielt man
beispielsweise mit Gummi, Urethan und Silikongummi.
Der Schichtträger kann aus einem leitfähigen Material allein
oder einer Kombination eines leitfähigen Materials mit einem Isoliermaterial bestehen. Se kann aber auch aus einem
Isoliermaterial allein oder einem Isoliermaterial und einem darauf ausgebildeten, leitenden Körper oder umgekehrt zusammengesetzt
sein. Jm Rahmen der Erfindung können in dem Schichtträger Metalle, Hetallfollen, Papier und andere
elektrostatisch leitfähige Materialien als leitendes Material und beispielsweise Horzfilme, Holz, Glass, Keramik
new. als Isoliermaterial verwendet werden. Bei einer Kom-
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bination einer Isolierschicht und einer leitenden Schicht wird der Schichtträger entweder dadurch gebildet, daß
ein überzug aus dem Isoliermaterial auf der leitenden Schicht aufgetragen wird, oder daß eine leitende Fläche
auf dem Isoliermaterial aufgedampft oder aufgetragen wird.
Der so gebildete Schichtträger kann natürlich die Vorm einer ebenen Platte haben. Allgemein wird seine Form von
der gewünschten form des lichtempfindlichen Elements abhängen.
Da die Erfindung mit gutem Erfolg auf ein sylindri·
sches lichtempfindliches Element angewendet werden kann,
ersielt man gute Ergebnisse mit .einem trommeiförmigen
Schicht träger..
Das erfindungsgemäfie lichtempfindliche Element, das aus den
vorstehend angegebenen Materialien aufgebaut ist, wird nachstehend anhand von Fig. 7 bis 15 erläutert.
Die grundlegende Aueführungsform des lichtempfindlichen
Elemente nach der Erfindung besteht gemäß Fig. 7 aus einem
Schichtträger 1, einer darauf angeordneten Fotowiderstandsschicht 2 und einer Isolierschicht 4. Zwischen der Fotowiderstandsschlcht
2 und der Isolierschicht 4 befindet sich eine Schicht 5 aus einem lösrungsmittelfreien, polymeren
Klebemittel.
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Eine abgeänderte Ausfiihrungeform ist in Fig. β gezeigt · Hier besteht der Schichtträger aus zwei Schichten, und
zwar aus einer leitenden Schicht 11 und einer Isolierschicht 12. Es wurde vorstehend schon erwähnt, dafi diese
Anordnung auch umgekehrt werden kann.
Fig. 9 zeigt ein anderes lichtempfindliches Element maß der Erfindung. Eier ist auf der Fotowiderstandsschieht
2 eine Zwischenisolierschicht 5 vorgesehen, auf der dann mit Hilfe der Klebeschicht 3 wie in Fig. 7 eine Isolierschicht
4 aufgebracht wird.
Der Schichtträger 1 kann anstatt aus einen leitenden Material allein auch aue einen Verbundkörper bestehen, In dm
die leitende Schicht und die Isolierschicht gegeneinander vertauscht sind, wie dies in Fig. 10 gezeigt ist.
daß ·
Es wurde bereits erwähnt ,/die Fotowiderstand^ schicht des lichtempfindlichen Elements gemäß Fig. 6 auch aus swei Schichten bestehen kann. Hier besteht das Element aus dem Schichtträger 1, der Fotowiderstand schicht 21 alt eine« niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand, der fotowiderstandsschicht 22 mit einem hohen elektrischen Widerstand und der Isolierschicht 4. Va tür lieh kann der Schichtträger 1 auch ähnlich wie vorstehend beschrieben au« mehreren
Es wurde bereits erwähnt ,/die Fotowiderstand^ schicht des lichtempfindlichen Elements gemäß Fig. 6 auch aus swei Schichten bestehen kann. Hier besteht das Element aus dem Schichtträger 1, der Fotowiderstand schicht 21 alt eine« niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand, der fotowiderstandsschicht 22 mit einem hohen elektrischen Widerstand und der Isolierschicht 4. Va tür lieh kann der Schichtträger 1 auch ähnlich wie vorstehend beschrieben au« mehreren
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.Schichten bestehen. Sie vorstehenden Angaben gelten für
lichtempfindliche Elemente in Form einer ebenen Platte·
In der Praxis sind für ein störungsfreies, kontinuierliches Kopieren zylindrische lichtempfindliche Hemente
sehr vorteilhaft, wie sie nachstehend erliutert werden.
Es können alle vorstehend beschriebenen Sohiohtenordnungen mit gutem Erfolg auch auf sylindrisohe lichtempfindliche
Elemente angewendet werden.
Tig. 11 seigt einen Zylinder, der dieselbe Schiohtanordnung
wie das ebene lichtempfindliche Hement nach flg. 9
hat. Das Element gemäß Fig. 11 besitst einen sy lindriechen
Schichtträger 1, eine Fotowiderstandflaohleht 2, eine Zwiachenisolierechioht
5, **&* Klebeschicht 3 und eine Isolierschicht
4. Biese Schichten folgen In der angegebenen
Reihenfolge aufeinander.
Man kann diese· lichtempfindliche Element beispieleweise
mit Hilf· de» Quetschverfahrene direkt herstellen. In die-•em
Fall wird das Bild der Torlage von der In Ben Seite de·
lichtempfindlichen Elemente auf die Isolierschicht 4 pro-Visiert.
Bei einer Anordnung, in der das Bild der Tor lage von der Innenseite des sylindrisohen lichtempfindlichen
Element· profiliert wird, verwendet man sweokmJUig den in
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. 12 gezeigten Aufbau. Hier sind die Schiohten in derselben Reihenfolge angeordnet wie in Pig. 11, d.h., von
außen gtsehen folgen die Isolierschicht 4, die Hebstoffschicht
3, die Zwischenieolierechicht 5, die Potowideratandssohicht
2 und der Schichtträger 1 aufeinander. In dem Schichtträger 1 sufi jedoch ein Baus 9 vorgesehen und
der Schichtträger 1 für Strahlung durchlässig sein, für die das Totowiderstandematerial empfindlich 1st. In der
Praxis ist es zwar vorteilhaft, ein elektrostatisches Bild auf der Außenseite der Isolierschicht 4 auszubilden,
doch kann man es theoretisch auch auf dem Schichtträger er reu gen.
Kan kann ale Schichtträger 1 je nach Bedarf auch eine leitende
Schicht und eine Isolierschicht allein oder in Kombination verwenden. In einem weiteren Ausführungsbeispiel
besitzt die Fotowiderstandsschicht zwei Schichten. Fig. zeigt ein zylindrisches lichtempfindliches Element, das
dieselbe Schichtanordnung besitzt wie das Element nach Fig. 6. Auf dem Schichtträger 1 sind Tbtowiderstandsschichton
21 und 22 vorgesehen, die Bindemittel mit verschiedenem spezifischem elektrischem Widerstand enthalten. Die
Isolierschicht 4 wird unter der Wirkung der Klebkraft des einen höheren spezifischen elektrischen Widerstand besitzenden
Bindemittels der Fotowiderstandsschicht 22 innig mit dieser verklebt.
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Wie bei dor Aueführungeform nach Fig. 12 besitst der Zylinder
auch hler In β einem Inneren einen Luftraum und der
Schichtträger bee tent aus einem Material, das für Strahlung durchlässig let, für die das Jotowideratandsmaterial
empfindlich let.
Han kann somit für das licht empfindliche Element gemäß
der Erfindung die verschiedensten Schichtanordnungen wählen. Sofern dabei der Erfindungsgedanke angewendet wird,
fallen alle diese Anordnungen in den Rahmen der Erfindung«
Beispiele von elektrofotografischen elektrostatischen Bildherstellungsverfahren, in denen das erfindungsgemäfle
lichtempfindliche Element für die Elektrofotografie verwendet werden kann, sind in den vorstehend angegebenen Japanischen
Patentschriften 23910/1967 und 24746/1968 beschrieben. Han kann das lichtempfindliche Element gemäß
der Erfindung jedoch auch in sahireichen anderen Verfahren verwenden. Nachstehend werden mehrer· Ausführungsbeispiele
von elektrostatischen Bildher st el lungsverfahrem angegeben.
1. Prinaraufladungt Sekundäraufladung mit sur Primäraufladung
entgegengesetster Polarität und gleichseitige Belichtung;
Belichtung der gansen fläche.
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2« Aufladung} Aufladung durch eine VecheelstroB-Sprühentladung
bei gleichseitiger Belichtung $ Belichtung der gan~ sen Tische (wenn erforderlich)·
3· Aufladung und gleichseitige Belichtung} Belichtung der gansen Fläche.
4. Erimär auf ladung; Sefcundarauf ladung mit der entgegengesetzten Polarität; Belichtung; Tertiarauf ladung Bit sur
|| ifrimärauf ladung entgegengesetzten Polarität; Bestrahlung
der gansen Fläche·
Die Erfindung ist auch auf andere elektrofotografische Vor-»
fahren anwendbar, sofern darin ein lichtempfindliches Element verwendet wird, in dem auf einer Fotowiderstandssohicht
eine Isolierschicht angeordnet ist. Xn vielen Fallen kann
man ein Bild von hoher Qualität schon mit einer Isolier»
schicht von höchstens 50 pm erzeugen·
Nachstehend werden spezielle iiiaführungsöexapiele der Erfindung ausführlicher beschrieben. Die Anwendung der Erfindung ist jedoch nicht auf diese AusfOhrungsbelspiele
eingeschränkt, sondern es können unter Benutsung der Lehre
der Erfindimg auch andere Ausftihrungsfomen angewendet
werden.
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Auf einer 30 um dicken Aluminiumfolie wurde eine Aufschlämmung
aufgetragen, die dadurch erhalten worden war, daß 100 Teile CdS-Fotowiderstandskörner alt einem durchschnittlichen Durchmesser von 1 um vollständig diepergiert
wurden» Die aus der Aufschlämmung gebildete Fotowiderstandsschicht
hatte nach dem Trocknen eine Dicke von etwa 80 pm.
Auf die Fotowiderstandsschicht wurde ein 25 pm dicker
Polyesterfilm aufgetragen. Zwischen dem TiIm und der fotowiderst ands schicht wurde ein Klebemittel eingebracht, das
dadurch hergestellt worden war, daB 10 Teile des Härtemittels K-61B der Anchor Chemical Co. tu 100 Teilen de*
unter der Bezeichnung Epikote 815 von der Shell Petroleum
Co. gelieferten Epoxydharzes zugesetzt wurden, diesem Gelai&ch
6 Teile feinkörnige Kieselsäure zugesetst wurden und
das Gemisch dann vollständig durchgemischt sowie geknetet wurde. Das Klebemittel wurde dann dadurch ausgebreitet,
daß die Oberfläche des Films vom einen Bade her mit einem
aus Urethangummi bestehenden Quetscher aufgequetscht wurde,
so daß überschüssiges Klebemittel am anderen Ende herausgedrückt wurde. Der Quetschdruck wurde so eingestellt, daß
die Klebeschicht eine Dicke von etwa 5 um hatte.
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Danach wurde die Klebeschicht drei Stunden lang bei 70°C
gehärtet. Das auf diese Weiße erhaltene lichtempfindlich· Element war blasen- und faltenfrei und ebenflächig· Sein
Isolierfilm war mit der Fotowiderstandsschicht gleichmäßig
verbunden·
Die Oberfläche dieses lichtempfindlichen Elements wurde
einer positiven Sprühentladung und danach gleichseitig einer Belichtung nit einem Bild und einer Entladung mit.
Hilfe einer Wechaelstrom-Sprühentladung unterworfen. Anschließend
wurde die ganze Fläche belichtet. Wen erhielt
auf diese Weise ein elektrostatisches latentes Bild· Dieses wurde mit Hilfe einer Magnetbürste und eines negativen
Toners au einem scharfen konstrastreichen Bild ent- '
wickelt. Nach dem Umdrucken dieses Bildes auf ein Stück Papier wurde der Fotowiderstand gereinigt· Der vorstehend
beschriebene Vorgang wurde 10 000-mal wiederholt. Da das
epoxydharsshaltige Klebemittel nach dem Hurten sehr hart
ist, besaß die Isolierschicht eine sehr hohe mechanische Festigkeit; sie zeigte nach 10 000-maliger Verwendung
keine besonderen Schäden. Dabei blieb auch die Bildqualität fast unverändert.
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im Beispiel 1. Bann wurde das im Beispiel 1 zum Aufkleben
des Polyesterfilms verwendete Klebemittel dünn auf die Oberfläche der Fotowiderstandsschicht aufgetragen und mit
auf diese mit einem aus ürethangummi bestehenden Quetscher aufgequetscht« Danach wurde durch Erhitzen und Härten des
Klebemittels eine flüssigkeit eundurchlässlge Schicht in
einer Dicke von etwa 3 pa gebildet· Dabei drang ein Teil
des Klebemittels in die Fotowiderstandsschicht ein. Hater
Verwendung desselben Klebemittels wie im Beispiel 1 wurde in der dort beschriebenen Weise ein 25 um dicker Polyester·
film innig mit der Ibtowiderstandsschicht verklebt und das
Klebemittel gehärtet· Das auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche Element war blasen- und faltenfrei und ebenso
wie das im Beispiel 1 erhaltene ebenflächig.
Hit Hilfe dieser lichtempfindlichen Platte -wurde in dem
im Beispiel 1 angegebenen Verfahren ein Bild erzeugt und dieser Vorgang 10 000-mal wiederholt. Die Bildqualität war
eben so gut wie nach Beispiel 1. Die lichtempfindliche Platte hatte dieselbe Haltbarkeit wie die nach Beispiel 1
hergestellte·
in der Fotowiderstandsschicht von 20 auf 10 Teile pro 1,00
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Teile CdS herabgesetst. Direkt auf die Oberfläche der Potowlderstandssehicht
wurde mit Hilfe eines Qietschers, der
dem im Beispiel 1 verwendeten, ähnlich war, ein Polyester»
film geklebt. Dabei wurde eine Örtliche Blasenbildung beobachtet. Infolgedessen wurde der Film, vor dem Härten
dee Klebemittels abgesogen und mit Hilfe des Quetsehers
erneut unter Zuführung von Klebemittel auf die lichtempfindliche
Schicht aufgequetscht. Dabei wurden die vorher gebildeten Blasen vollständig herausgedrückt und es wurde
ein einheitliches lichtempfindliches Element erhalten,
Auf einer 1 mm dicken Aluminlumplatte wurde im Vakuum
amorphes Selen in einer Dicke von etwa 50 um aufgedampft
und dabei die Aluminiumplatte abgekühlt. Danach wurde auf die Se-Schicht ein 12 pn dicker Polyesterfilm nach dem
in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren mit Hilfe des Epoxyd«
horses aufgetragen und das Klebemittel gehärtet. Die dabei
erhaltene, lichtempfindliche Platte war ebenflächig und blasen- und faltenfrei·
Die Oberfläche des lichtempfindlichen Elements wurde einer
negativen Sprühentladung und danach gleichseitig einer Belichtung mit einem Bild und einer positiven Sprühentladung
unterworfen. Danach wurde die ganze Fläche belichtet· Man
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erhielt auf diese Weise ein elektrostatisches latentes
Bild. Dieses wurde aschließend mit Hilfe einer Magnetbürste
und einte positiven Toners su einem soharf en, kontrastreichen
Bild entwickelt. In diesem lichtempfindliohsn
Element erhöhte das als Klebetof verwendete Epoxydhara die
mechanische Festigkeit der Isolierschicht. Sie selgte selbst nach 10 G0O»aaliger Verwendung kaum eine Beschädigung.
Beim Aufkleben des Films auf die Oberfläche der .
Se-Schicht neon dem allgemein üblichen Verfahren bilden
sich oft kleine Blasen· Bas erfindungsgemtfie Verfahren
ermöglicht dagegen ein gleichmäßiges Aufkleben ohne Blasenbildung.
Baseelbe Ergebnis wurde erzielt» wenn anstelle des Epoxydhar&es
im Beispiel 1 ein ungesättigtes Polyesterharz verwendet wurde·
Es wurde eine Fotowiderstandsschioht aus einer Dispersion
von CdS in Epoxydhans gebildet. Barauf wurde eine 10-prosentige
JtthanollÖsung von Polyvinylbutyral, s»B. dem Produkt
£sleck MB-2 der Sekisui Co., aufgetragen und getrocknet,
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■ο daß eine Auf β chme Ir klebe schicht entstand· Auf dies·
Schicht wurde ein 25 pt dicker Polyesterfila gelegt. Horch
Warmpressen wurde eine lichtempfindliche Platte für dl· Elektrofotografie hergestellt. Diese lichtempfindliche
Platte wurde für die !Reproduktion in eine« Kopiergerät
verwendet, beispielsweise nach dem im Beispiel 1 angegebenen elektrofotografisohen Verfahren, wobei eine hochwertige Reproduktion erslelt wurde·
Aktivierte Cadmiumsulfidtei lohen alt «Ines durchschnittlichen
Durchmesser von 1 um wurden mit 10 Gewichtspros«nt
Vinylacetathars gemisch und darin dispergiert. Aus dieser
Dispersion wurde auf einer 30 pt dicken Aluminiumfolie ein 10 um dicker Übersug gebildet. Danach wurden su 100
Teilen des Epoxydharzes Nr. 815 der Shell Petroleum Co.
100 Teile Cadmiumsulfid und 10 Teile des Härtemittels X61B der Anchor Chemical Company zugesetst. Des Gemisch wurde
su einer Faste geknetet. Das Gemisch wurde denn swischen
der .vorstehend erwähnten, auf der Aluminiumfolie gebildeten Fotowiderstandsschicht und dem sur Bildung der Isolierschicht
dienenden Polyesterfilm von 25 f* angeordnet. Her
SlIm wurde mit einem Qummiquetsoher abgequetscht, wobei
die überschüssige Paste herausgedrückt wurde. Ss wurde
auf diese Weise eine gleichmäßig dicke Pastenschicht erhalten,
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die in diesem Zeitpunkt eine Dicke von etwa 10 pm hatte.
Durch einatündiges Hitsehärten der Pastenschicht bei TO0C
wurde ein lichtempfindliches Element erhalten.
Das lichtempfindliche Sleaent wurde einer Sprühentladung
von +6 kV und danach gleichseitig einer Belichtung mit einem Bild und einer Wechseletrom-Spröhentladung auegt~
eetst. Danach wurde die ganse FH&che belichtet, wobei «in
elektrostatisches latentes Bild erhalten wurde« Das latente Bild wurde mit EiIf · ein«? Kagnetbürsts und eines Entwickler·,
der einen negativen Toner, «enthielt, su «ine« scharfen, kontrastreichen Bild entwickelt« Das lichtempfindliche
Element war frei von Blasen und falten, sbenfUtafelg,
starr und fest und hatte ein· hohe Lieht empfindlichkeit.
Beispiel β
Zur Bildimg einer. Isolierschicht ward« sunHehet der PoIyeeterfilm
von dem im Beispiel 7 erssugtsa lick^aipflndlichen
Element abgesegen und anstatt dessen «im Yoqt%&$ sue
eise· Epoxydhart und «inern duroh»iohfcigen Imak in siasr
Dicke von etwa 50 pm auf die liohtsflpfindlioJt«
aufgesprüht. Die Schicht wurde 1 Stunde lang b«i
hitsgehirtet, wobei «in« Isolierschicht gebildet wurde.
Das gemlfi Beispiel 7 mit Hilfe dieses lichtempfindlichen Elements erseugte Bild war scharf und kontrastreich* Da
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das lichtempfindliche Element eine Oberfläche aue harten
duroplaetischen Hare hat, ist ee besondere dauerhaft·
Bei der Herstellung eines lichtempfindlichen Elemente wurde anstatt des im Beiepiel 7 verwendeten Epoxydhaxes ein ungesättigtes Folyeaterhars (Bigolac 200* der Biken Ooseikako
Co.) verwendet. Das in der im Beiepiel 7 angegebenen Weise ) mit diesem lichtempfindlichen Element erzeugte Bild wer
ebenso kontrastreich wie das im Beispiel 7 erhaltene. D#i lichtempfindliche Element war ebenfliohlg, blasen- und'
faltenfrei, starr, fsst und hoch lichtempfindlich.
Auf einer ebenfläehigen Aluminiumplatte 1 im format A4
wurde ein Überzug aus einem Gemisch aufgesprüht, das durch gleichmäßiges Dispergieren von 100 Teilen Oadmiumaulfid-Fotowiderstandsmaterisl
mit eines durchschnittlichen Durchmesser Ton 1 um in 50 feilen einer Lösung «ines Tinylehlorid-Vinyleoetat-Hisohpoljmerieate
gebildet worden war. XXL· Lösung hatte einen Veststoffgehalt von 10 Seilen· Der getrocknete Ober zug hatte eine Dic!x8 von etwa 60 pm. lach
dem Trocknen, wurde ein flüssiges polymeres Ears aufgetragen, das durch Vermischen von 20% des Härtemittels H-92
der Nihon Ooaetkako Oo. mit dem Epoagrdhars 815 der Shell .
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Petroleum (kv. hergestellt worden war« Dieses Gemisch wurde mit einem Gummlouetscher auf die Oberfläche der Stotowiderstandsschieht
xu einen gleichmäßigen« dünnen übersug an·
der BarslÖsung aufgequetscht. Durch diese *qfmn4IIVffng ward·
die porSse Fläche der lichtempfindlichen Sehieht ait der
genannten HarslSsung ausgefüllt und auf der. lichtempfindlichen
Sohioht eine dünne Harssohleht gebildet« Das flüssig·
bsw. formbare Ears wurde dann 2 Stunden lang bei 70°0 ge«
härtet. Danach wurde mit Hilfe desselben flüssigen Harsgemisoh··
aus 815 und H-9/2 ein 25 um dicker Bolyesterfilm
auf die Oberfläche der Harssehioht geklebt und der Mim
mit einem Gummiquetseher aufgequetscht, so dafl Überschüssige»
Bars am einen aide herausgedrückt wurde und dl· Klebeschicht
eine Dicke von 2 bi· 5 pm hatte. Bsi herkömmlichen Verfahren ohne Ausfüllung der Boren drang der Klebstoff in
die Sbtowiderstandaschioht ein» so daß diese uneinheitlich·
Eigenschaften hatte· Dieses Ergebnis trat bei der Anwendung
des erfindungsgemäSen Verfahrene niemals auf· Das Hars wurde danach 2 Stunden lang bei 720G gehärtet·
Die Oberfläche des so erhaltenen lichtempfindlichen Elemente wurde einer Sprüh entladung von +6 kV ausgesetst
und danach gleichseitig einer Sprühentladung von —6 kV sowie einer Belichtung mit einem Lichtbild mit einer
Zdohtmenge von etwa 3 Xux-sek« unterworfen· Schließlich
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wurde die ganze Fläche belichtet. Hbm auf dies« Weise erzeuge, latente Bild wurde mit Hilf® ©iner Hagn$t$»Ürste
und eines negativen Toners su einem sehr hochwertigen Bild
entwickelt, das auf ein Stück Papier umgedruckt wurde «Der
auf dem lichtempfindlichen Element verbliebene "Oner wurde
abgewischt* Das licht empfindliche Blejsent wisrde wiederholt
in der vorstehend beschriebenen Weise verwendet, wobei je»
desmal ein hochwertiges Bild ersielt wurde. Ba in dem nach
diesem Verfahren hergestellten lichtempfindlichen Element
Epoxydhare enthalten war, hatte es eine hoch« mechanische
Festigkeit·
;nateile des Epoxydharzes im Beispiel 10 wurde als Klebemittel für die Isolierschicht ein Mf^ohmelsicleber verwendet, der vorwiegend aus Vinylchlorid bestandL Das Kleben
erfolgte unter Wärmeeinwirkung; wobei ein Ergebnis eraielt
wurde, das dem im Beispiel 10 erhaltenen ähnelte. Auch in diesem fall drang fast der ganze Auf schmelzkleber in die
poröse Fläche der Fotowiderstandsschicht ein, wenn dieses
Eindringen nicht durch besondere KaSnahmen verhindert iturde.
Anstelle des Epoxydharzes im Beispiel 10 wurde sum Verhindern des Eindringens ein Hslaminhars-Klarlack verwendet,
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der ein Härtemittel enthielt. Zur Schaumbehandlung gegen
Eindringen wurde dieser Klarlack unter Bildung eine· dünnen Überzüge· aufgesprüht und dann 2 Stunden lang bei 9O0C gehalten. Man eraleite annähernd dasselbe Ergebnis wie Ib
Beispiel 10.
Anstatt la Beispiel 10 einen Pölyesterfilm auf sukl eben,
wurde ein h&rtenittelhaltiger ttelaoinhart-Klarlack unter
Bildung eines etwa 25 im dicken Überzuges aufgesprüht und
dann swei Stunden lang bei 900C gehaltea. Das erseugte
Bild hatte eine gute Qualität. Oa ein duroplaetiechee Hars
verwendet wurde, besaß die Oberfläche des llohteapfindli*
chen Eleeents eine sehr hohe mechanische Festigkeit. Auch
in diesen Fall drang ohne besondere MnBnnhs+n eine be»
trächtliehe Heage des Helaalnharsss in die Fotowideretandsschieht
ein, und eine gleichnäSlge Isolierschicht konnte
kann erseugt werden.
Oasselbe Ergebnis wie la Beispiel 13 wurde auch erslelt,
wenn nan anstelle des dort verwendeten Melamisihars-Ilarlakkes
den lusungsmlttelhaltlgen BpoxydharslaQk AQm*x V-56B
der Hihon Qoseikako Co. benutste und 4 Stunden lang bei
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1200C härtete.
Dasselbe gute Ergebnis wie im Beispiel 10 wurde ersielt,
wenn sum Verhindern des Eindringens anstelle der im Beispiel 10 angewandten Maßnahme ein übersug aus einer Aufschlämmung
von feinen Kieseleäureteilohen in Wasser gebildet wurde. Diese Aufschlämmung drang in die Boren der
Tötowiderstandseohioht ein.
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Claims (1)
- Patentansprüchefly Verfahren sum Herateilen eines lichtempfindlichen Elements für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet. daß auf einem Schichtträger eine Fotowiderstandsschicht gebildet und 2wischen dieser sowie einer auf ihr vorgesehenen Isolierschicht ein flüssiges bzw« formbares, lösungsmittelfreies, polymeres Harz angeordnet und durch Druckausübung auf die Isolierschicht ausgebreitet wird, so daß diese mit Hilfe der Harzschicht innig mit der Fotowiderstandeschicht verbunden bzw» verklebt wird.2. Verfahren zum Herstellen eines lichtempfindlichen Elementes für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem Schichtträger eine Fotowiderstandsschicht und auf dieser eine Zwischenisolierschicht vorgesehen wird, daß zwischen der Zwischenisolierschicht und einer Isolierschicht ein flüssiges bzw» formbares, lösungsmittelfreies, polymeres Harz angeordnet wird und daß die Zwischenisolierschicht und die Isolierschicht mit Hilfe dieser Harz-Kleb*schicht innig miteinander verklebt werden.3· Verfahren zum Erzeugen eines, lichtempfindlichen Elementes für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem Schichtträger eine Fotowiderstandeschicht und009823/1304 - 2 -zwischen dieser sowie einer Isolierschicht ein flüssiges bzw. formbares, lösungsmittelfreies, polymeres Hare vorgesehen wird« in dem ein feinteiliges Fotowideretandsaaterial dispergiert wird, und daß die Fotowlderetandeechicht und die Isolierschicht mit Hilfe der Klebetoffechicht Miteinander verklebt und gleichzeitig zwei Fotowideretandeschichten gebildet werden.4. Verfahren nach einem der Ansprüche Λ bis 3, dadurch «ekennzeichnet. daß das flüssige bzw. forabare, löeungsmittelfreie, polymere Harz ein Epoxydharz ist.5· Verfahren nach wenigstens einem der Anspruch« 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß zur Druckausübung und zum Auebreiten auf die Isolierschicht vom einen End· sum anderen eins Quetschwirkung mit Hilfe eines Quetschers auegeübt und dadurch überschüssiges Harz herausgedrückt wird, während die Fotowiderstandsschicht und die Isolierschicht innig miteinander verbunden bzw. verklebt werden.6. Verfahren wenigstens nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Druckausübung bzw. Quetechwirkung eine Schiit ζ schicht auf die Isolierschicht aufgebracht und über diese Schutzschicht bzw. durch sie hindurch Druck ausgeübt wird, worauf die Schutzschicht abgezogen wird.009823/-130A7> Verfahren wenigstens nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß öle Druckausübung bzw. Quetschwirkung mit Hilfe einer Rakel erfolgt.8. Verfahren wenigstens nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Druckausübung bzw. Quetschwirkung mit Hilfe einer Rolle erfolgt.9· Verfahren nach Anspruch 3« dadurch gekenn«·lehnet, daß der flüssige bzw. formbare, lösungsmittelfreie Klebstoff
ein Epoxydharz ist und die auf dem Schichtträger vorgesehene Potowiderstandsschicht einen niedrigen spezifischen
elektrischen Widerstandswvrt hat.10. Lichtempfindliches Element für dl· Elektrofotografie, gekennzeichnet durch einen Schichtträger (1), ein·.auf des Schichtträger vorgesehene FotoWiderstandeschi oht <2), ein· auf der Fotowiderstandsschicht vorgesehen·, lSsungsaittelfreie, polymere Klebstoffschicht (3) sow!· eine auf der
Klebstoffschicht vorgesehene Isolierschicht (4), so daß
mindestens vier Schichten vorhanden sind.11. Lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, gekennzeichnet durch einen Schichtträger (1), eine auf dee Schichtträger vorgesehene Fotowiderstandsschicht (2), eine auf der Fotowiderstandsschicht vorgesehene, dünne Zwischsnr009823/ 1304 - M- -isolierschicht (5) und eine auf der Zwischenlaolierechicht angeordnete Isolierschicht (4), die durch Aufquetschen alt Hilfe einer Klebstoff schicht (3)» die sich zwischen der Zwischeniso Ii erschient (5) und der Isolierschicht (4) befindet, mit der Zwischenisoliersohlcht (5) verklebt 1st.12. Lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, gekennzeichnet durch einen Schichtträger (1), eine auf dem Schichtträger vorgesehene Fotowiderstandsschicht (21), eine Isolierschicht (4) und eine Kriechen der Fotowiderstandsschicht (21) und der Isolierschicht (4) vorgesehene Schicht (22) aus einem lösungsmittelfreien polymeren Klebstoffharz, in dem feine Teilchen aus Fotowideretandsmaterial dispergiert sind und durch das die aufgequetschte Isolierschicht (4) innig mit der Fotowiderstandaschicht (21) verbunden bzw. verklebt ist.13· Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 12t dadurch gekennzeichnet, daß die lÖsungsmittelfreie, polymere Klebst off schicht (3) aus einem Epoxydharz besteht.14. Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 1?* dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger (1) aus einem leitenden Material besteht·009823/13CULichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger (1) aus einem Isoliermaterial besteht.16. Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 10 bis 13* dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger aus einem Isoliermaterial (11) und einer auf diesen vorgesehenen Schicht (12) aus einem MtfäMgen Material besteht.1?« Lichtempfindliches Element nach eines der Ansprüche 10 bis 13t dadurch gekennzeichnet« daß der Schichtträger aus einer Schicht aus einem leitenden Material und einer darauf vorgesehenen Schicht aus einem Isoliermaterial 'besteht.18. Trommeiförmiges lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnen« daß auf einem tromiaelförmigen Schichtträger (1) eine Fotowiderstandsschiht (2), eine Schicht (3) aus einem lösungsmittslfreien. polymeren Klebstoff und eine Isolierschicht (4) in dieser Reihenfolge übereinandergeschichtet sind.19. TroramelförraigöB lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet, daß eine Foto-- 6 009823/13041 9 b b I b b-V-wideretandeschicht (2), eine Schicht (3) aus ISeungsmittelfreiem polymerem Klebstoff und eine Isolierschicht (4) von innen nach außen auf der Außenfläche de« hohlen, trommel« iörmigen Schicht träge» (1) übereinandergeeehlehtet sind.20. Tromntlförmiges lichtempfindliches Element für die Elektrofotografie, dadurch (gekennzeichnet, daß auf einem trommelforaigen Schichtträger eine 7otowiderstandsechieht (2), eine Zwischenisolierachicht (5), eine Schicht (3) ausfc löaungamittelfreiea polyaerea Klebstoff und eine Isoliergchicht (4) in dieser fieihenfolge übereinander^sehichtet sind.21. Trommelförnigea lichtempfindliches Element £ür die Elektrofotografie, dadurch gekennzeichnet % daB eine iotowiderstandaschicht (2), eine Zwiechenieolierschicht (5)* eine Schicht (3) aus lSeungsmlttelfreiem polymerem Klebstoff und eine Ibölierschicht (4) in dieser Reihenfolge von innen nach außen auf der Außenfläche eines hohlen,w trommelformigen Schichtträgers übereinandergeschichtet sind.22. Lichtempfindliches Element, gekennzeichnet durch einen trommeiförmigen Schichtträger (1) eine darauf rorgesehenen Fotowiderstandsschicht (21), eine auf der Fotowiderstandsschicht vorgesehenen Schicht (22) aus einem lösungsmittel-00 9823/13 0freien, polymeren Klebstoff, in dem ein Fotowiderstand·- material dlapergiert ist, und eine auf der letztgenannten Schicht vorgesehene Isolierschicht (4).23. Lichttepfindliches Sleaent, dadurch flf 1TfP1Uf lohnet. daß eine Fotowlderetandsschicht (21), tin· Sohicht (22) aus einen lSsungsmittelfreien polymeren Hars, in d«*ein Fotowiderstandsmaterial dispergiert ist, und eine Ieoliersohicht (4) in dieser Reihenfolge τοπ innen nach außen auf der Außenfläche eines hohlen troaaelföraigen Sohichtträgere (1) übereinandergesohiehtet sind.009823/ 1304
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