DE1956166B2

DE1956166B2 - Verfahren zur Herstellung eines elektrofotografischen Aufzeichnungsmaterials

Info

Publication number: DE1956166B2
Application number: DE1956166A
Authority: DE
Inventors: Takehiko Matsuo; Hirokazu Yokohama Kanagawa Neghishi; Umi Tosaka; Hideo Yoshikawa
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1968-11-07
Filing date: 1969-11-07
Publication date: 1974-02-14
Also published as: GB1301294A; US3948657A; DE1956166A1; DE1956166C3

Description

Mit dem oben angegebenen dritten Verfahren

erhält man ein Aufzeichnungsmaterial mit besserer

45 Funküonsfähigkeit als nach den beiden zuerst diskutierten Verfahren. Da die üblicherweise verwendeten Bindemittel jedoch bei normalen Tempera-

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur türen klebrig sind, ist es sehr schwierig, einen dün-Herstellung eines elektrofotografischen Aufzeich- nen Isolierfilm mit der Oberfläche der Foiowjdernungsmaterials mit einem Schichtträger, einer foto- so Standsschicht zu verkleben, ohne daß Falten oder leitfähigen Schicht — gegebenenfalls einer isolieren- Blasen gebildet werden. Besonders bei einem unter den Zwischenschicht — und einer isolierenden Wärmeeinwirkung erfolgenden Aufschrumpfen eines Deckschicht, bei dem auf die fotoleitfähige Schicht schlauchförmigen Isolierfilms auf eine zylindrische bzw. auf die isolierende Zwischenschicht die iso- Fotowiderstandsschicht und einem Verkleben mit lierende Deckschicht aufgepreßt wird, sj Hilfe eines Klebstoffs führt die Wärmeschrumpfung Es sind schon verschiedene Verfahren zum Her- des Isolierfilms notwendigerweise zu örtlichen UnStellen von lichtempfindlichen Elementen für die ebenheiten, so daß Falten auftreten und der Kleb-Elektrofotografie durch Aufbringen einer Isolier- stoff Blasen bildet. Da diese Falten und Blasen nur schicht auf eine Fotowiderstandsschicht vorgeschla- schwer wieder beseitigt werden können, ist das fergen worden. Beispiele derartiger Verfahren sind 60 tige Aufzeichnungsmaterial kaum verwendbar,
nachstehend angegeben: Es gibt mithin zwar sehr viele verschiedene Arten

von Systemen für die Elektrofotografie, doch ist das

1. Man kann die Isolierschicht einfach auf die erzeugte Bild in jedem Fall stark von den Eigen-Oberfläche der Fotowiderstandsschicht auf- schäften des lichtempfindlichen Elements abhängig, bringen; 65 Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur

Herstellung eines elektrofotografischen Aufzeich-

2. man kann die Isolierschicht mit der Fotowider- nungsmaterials mit wenigstens drei Schichten, und Standsschicht in innige Berührung bringen und zwar einer Isolierschicht, einer Fotowiderstands-

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3 ^! 4

schicht uad einem Schichtträger, derartige Aufzeich- schicht innig miteinander verklebt werden, und man

nur-gsmateriaUen sind beispielsweise in den japani- erhält eine Isolierschicht van hoher mechanischer

sehen Patentschriften 23 910/1967 und 24 748/1968 Festigkeit.

der Anmelderin beschrieben. Bei diesen Aufzeieh- In den hier verwendeten iösungsmitt'lfreien polyoungsmateriaiien müssen die Foiüwiderstands- 5 tneren Klebemitteln wird eine Pnlymerisationsreak- »chichten und die Isolierschicht einander sehr innig tion und Klebwirkung im allgemeinen durch Erberühren, und es treten folgesde Ladungszustände hitzen odei den Zusatz eines Härtemittels oder die auf: Die Oberfläche der Isolierschicht wird einer Reakiion zwischen dem Klebstoff und einem Be-Priniärauiladiing unterworfen. An der Grenzfläche standteil der Luft herbeigeführt oder durch den Abzwischeii Isolierschicht und Fotowiderstandsschicht io schluß des Klebstoffs von der Luft, wie dies beiwird dadujch eine Ladung erzeugt, welche eine der spielsweise bei Epoxydharzen, ungesättigten PoIy-Primärlariuüg entgegengesetzte Polarität hat. Da- esterharzen_r Cyanoacrylatharzen und verschiedenen üach wird ein zu kopierendes Bild auf das licht- polymeren Monomeren der Fall ist. Femer gibt es empfindliche Element projiziert und dieses gleich- Aufschmelzkleber, z. B. Polyvinylbutyral, Polyvinylzeitig einer Sekundäraufladung unterworfen, welche 15 acetal, Vinylchlorid-Vinylacetat-Mischpolyraerisateine der Primärladung entgegengesetzte Polarität Harz, Vinylacetat-Polyäthylen'Mischpolymerisathat oder durch eine Wechseistrorn-Spräheniladung Harz, Acrylharz, Kolophonium, Phenolharz, modiir/eugi wird. Erforderlichenfalls kann das Auf- fixiertes Phenolharz, Melaminsäureharz, modifizierte zeichnungsmaterial auf seiner ganzen Fläche einer Fumarsäure und Dammarharz, deren Erweichungs-Strahlung ausgissetzt werden, für die die Fotowider- se punkt im Bereich von 70 bis 150'"' C liegt, n^!e durch-Itanrisschicht empfindlich isi, so daß au^f der Isolier- sichtig sind und einen ^c^hr hohen Isolaüonswider- »chicht ein sehr kontrastreiches elektrostatisches stand haben. Diese bei niedrigen Temperaturen er-BiId erhalten wird. weichenden Harze sind bsi normalen Temperaluren

Die Qualität des elektrostatischen Bildes ist daher nicht klebfähig. Wenn man sie da_begen, z. B. c'urch

von dem Ladungszustand uod dieser von den Eigen- a₅ Infrarotstrahlung, auf die angegebenen Tempera-

«chaften des Aufzeichnuogsmaterials abhängig. türen erhitzt, schmelzen sie und zeigen dann ein·;

Wenn bei einem Aufzeichnungsmaterial mit einem Klebwirkung.

Schichtträger, einer Fotowiderstandsschicht und Bei Verwendung dieser Klebmittel kann man

einer Isolierschicht die beiden letztgenanntenSchich- eine innige Berührung zwischen der Isolierschicht

ten nicht innig miteinander vei«debt sind, führt unter _3O und der Fotowiderstandfeschicbt einfach dadurch

anderem die Ungleichmäßigkeit der Ladung zu erzielen, daß die Isolierschicht auf die Fotowider-

Nachteüeo, z. B. zu einer Herabsetzung des Kon- Standsschicht gelegt wird.

Irastes des elektrostatischen Bildes, einem ungleich- Besonders bei Verwendung des Biridemittelharzes

roäßigen Bild und einem -nbeständigen Bild. in kleiner Meizge treten verschiedene Nachteile auf,

Aufgabe der Erfindung ist es, ein neues Verfahren 35 wenn feine Teilchen aus Widerstandsmaterial in Zum Hersteilen eines elektrofotografischen Auf- dem Bindemittelharz dispergiert werden. Da die zcichQUügsmaterials zu schaffen, bei dem eine Foto- FoJowidcrsiandsschicht selbst eine poröse Oberfläche Widerstandsschicht und eine Isolierschicht derart hat, bleiben beim Auftragen der vorstehend angeinnig, miteinander verbunden bzw. verklebt wird, daß gebeneu Klebemittel zwischen dieser und der Fotoein ausgezeichnetes Bild auf dem Aufzeichnung- ₄₀ widefstandsschichi oft Blasen eingeschlossen, so material zu erhaltet» ist. daß die Klebeschicht eine ungleichmäßige Dicke hat

Diese Aufgabe ist bei einem Verfahren der ein- und der Überzug örtliche Verwerfungen und Falten

gangs genannten Art gemäß der Erfindung dadurch besitzt. Infolgedessen wird nicht nur die Funktion

gelöst, daß die isolierende Deckschicht mit Hilfe der Fotowiderstandsschiciit beeinträchtigt, sondern

eines formbaren, lösungsmittelfreien Kunststoffs ₄₅ auch die Gefahr hervorgerufen, daß die Fotowider-

•— der gegebenenfalls einen Fotoleiter dispergiert Standsschicht eine unebene Fläche besitzt, was bei

enthält — auf die fotoleitfähige Schicht bzw. auf die der Bilderzeugung zu Schwierigkeiten führen kann,

isolierende Zwischenschicht aufgepreßt wird. insbesondere wenn als Fotowiderstand ein organj-

Durch dieses Herstellungsverfahren wird ein aus- scher Halbleiter verwendet wird. Durch das Aufgezeichnetes elcktrofotografisches Aufzeichnungs- 50 treten d^r vorstehend angegebenen Erscheinungen Dia'terial erhalten, bei dem sowohl die Fotowider- wird nicht nur die Leistung bzw. Ersetzbarkeit des «tandsschicht als auch die Isolierschicht eine aus- lichtempfindlichen Elements beeinträchtigt, sondern gezeichnete Glätte und Gleichmäßigkeit aufweist. auch eine ungleichmäßige Bilddichte und eine un-

Beim herkömmlichen Dispergieren von feinen gleichmäßige Ladung erhalten. Man kann daher auf

Fotowiderstandsteilchen in einem Brademittelharz 55 diese Weise kein lichtempfindliches Element mit

zwecks Bildung einer Fotowiderstandsschicht unter gleichmäßigen Eigenschaften herstellen.

Verwendung eines lösungsmittelhaltigen Klebstoffs Die Erfindung beseitigt diese Mängel. Hierzu wird

dringt das Lösungsmittel des Klebstoffs in die Foto- Jie poröse Oberfläche der Fotowiderstandsschichl

Widerstandsschicht ein, so daß der spezifische elek- mit einer luftporenfreien Schicht abgedeckt, die vor-

trische Widerstand örtlich herabgesetzt und die Bild- 60 teilhaft auch ein Eindringen von lösungsmittel-

qualität beeinträchtigt wild. Erfindungsgemäß wird haltigen Klebstoffen in die Fotowiderstar.ds-schichi

hingegen ein Einfluß des Klebstoffs auf die Foto- verhindert, damit nicht nur die vorstehend ange-

widerstandsschicht dadurch verhindert, daß ein gebenen, lösungsmittelfreien, polymeren Klebemittel

lösungsmittelfreies, polymeres Klebmittel verwendet sondern auch lösungsniittelhaltige Klebstoffe ver

wirdL Ferner »erden die Polymerisation und das «5 wendet werden können. Diese iuftpt _; enfreie Schichi

Härten durch Vorhandensein eines Härters oder wird nachstehend als Zwischenisolierschicht be

durch Eiawirki ag von Wärme beschleunigt. Infolge- zeichnet. Erfindungsgemäß kann mithin auf de,

dessen können die Fotowiderstands- und die Isolier- Fotowiderstandsschicht eine Zwischenisolierschicrr

vorgesehen sein, die dann ihrerseits über die Harz-Klebeschicht mit der Isolierschicht verbunden ist.

Nach einer Ausgestaltung der Erfindung wird als Kunstharz ein Epoxydharz, in dem ein Fotoleiter dispergiert ist, und eine fotoleitfähige Schicht mit einem niedrigeren Widerstand als der der Fotoleit-Epoxydharc-Schicht verwendet. Auf diese Weise kann die Dauerhaftigkeit des lichtempfindlichen Elements und die Qualität des darauf erzeugten Bildes verbessert werden.

Wenn man beispielsweise das elektrofotografische System verwendet, das in den genannten japanischen Patentschriften 23910/1967 und 24748Ί968 angegeben ist, ist es bei dem lichtempfindlichen Element besonders wichtig, daß die beim ersten Aufladevorgang m der Nähe der Oberfläche der Fotowiderstandsschicht erzeugte Ladung beständig ist und im Dunkeln nicht leicht abgebaut werden kann.

Nun kann man auf der Oberfläche der Fotowiderstandsschicht eine beständige negative Ladung erzeugen, wenn die Fotowiderstandsschicht zum Leitfähigkeitstypus gehört, und eine beständige positive Ladung, wenn die Fotowiderstandsschicht zum Leitfähigkeitstypus ρ gehört. Im allgemeinen besteht aber eine Tendenz zum schnellen Abbau dieser Ladunc, wenn die Fotowiderstandsschicht einen niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand hat. während ein langsamer Abbau dieser Ladung erfolgt, wenn die Fotowiderstandsschicht einen hohen spezifischen elektrischen Widerstand hat. Man kann daher mit einer Fotowiderstandsschicht, die aus einer einzigen Schicht besteht, vielfach keine genücende Wirkung erzielen.

Gemäß der genannten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird dafür gesorgt, daß die Fotowiderstandsschicht in der Nähe ihrer Oberfläche eine Schicht mit niedrigem spezifischem Widerstand besitzt, so daß sich die Ladung des belichteten Teils in dem unteren, dem Schichtträger benachbarten Teil der Fotowiderstandsschicht leicht bewegen kann.

Es werden damit also zwei Fotowiderstandsschichten mit verschiedenen spezifischen elektrischen Widerständen vorgesehen, indem die Klebeschicht als weitere Fotowiderstandsschicht ausgebildet wird.

Ein wichtiger Vorteil der Erfindung besteht darin, daß auf der Fotowiderstandsschicht eine flüssigkeitsundurchlässige Schicht geschaffen wird, mit der die Isolierschicht innig verklebt wird, und zwar mit Hilfe eines Bindemittels, das im schmelzflüssigen Znstand verwendet wird. Zur Herstellung eines mehrschichtigen lichtempfindlichen Elements kann nach der Erfindung dessen Fotowiderstandsschicht zuerst mit dem Schichtträger und dann mit der Isolierschicht verbunden werden oder umgekehrt, wobei aber in jedem Fall eine innige Verbindung bzw. Verklebung der Isolierschicht mit der Fotowiderstandsschicht gewährleistet ist. Eine Blasenbildung und das Auftreten von Verwerfungen und Falten usw. zwischen der Isolierschicht und der Fotowiderstandsschicht ist dabei mit Sicherheit unterbunden.

Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen an Hand der Zeichnung. Es zeigen»

_t· -Flg.! bis S schematisch im Querschnitt einige des erfindungsgemäßen Verfah-Fig. 6 bis 13 ebenfalls schematisch im Querschnitt einige Ausführungsformen von lichtempfindlichen Elementen gemäß der Erfindung.

Gemäß F i g. 1 wird zwischen einer uuf einem Schichtträger 1 befindlichen Fotowiderstandsschicht 2 vnd einer Isolierschicht 4 eines der vorstehend angegebenen Klebemittel 3 vorgesehen. Ein Quetscher 10 wird in Richtung des Pfeils vom einen Ende der Isolierschicht 4 zum anderen auf dieser unter Druck

ίο bewegt, so daß das pastenförmige Klebemittel zwischen der Isolierschicht 4 und der Fotowiderstandsschicht 2 gleichmäßig ausgebreitet und überschüssiges pastenförmiges Klebemittel an dem anderen Ende herausgedrückt wird. Man kann die Reibung 7vvischen dem Isolierfilm 4 und dem Quetscher 10 dadurch herabsetzen, daß zwischen ihnen ein Schmiermittel vorgesehen wird. Auf diese Weise wird ein glatter Quetschvorgang ermöglicht.

Der Quetscher 10 kann z. 3. aus Gummi, Urethan-

*o gummi, Silikongummi od. dgl. bestehen. Man kann zum Quetschen z. B. eine Rolle, ein Messer oder eine Rakel verwenden.

Absolute Werte für den anzuwendenden Quetschdruck können nicht angegeben werden, da der erfor-

a5 der'.che Anpreßdruck von der Art und Viskosität des Klebemittels abhängig ist. Zweckmäßig wird der Druck so gewählt, daß die erhaltene Klebstoffschicht eine Dicke von höchstens 10 um hat.

Selbst bei Verwendung eines Schmiermittels und einer Isolierschicht aus einem kratzfesten Material kann die Anwendung eines genügend starken Quetschdruckes zur Bildung von kleinen Kratzern in der Isolierschicht selbst führen.

Man kann dies dadurch vermeiden, ■ daß auf der Isolierschicht eine Schutzschicht vorgesehen wird. Gemäß F i g. 2 ist daher auf der Isolierschicht 4 eine Schutzschicht 41 vorgesehen, auf die der Quetschdruck ausgeübt wird. Wenn die Schichten des lichtempfindlichen Elements innig miteinander verklebt worden sind, wird gemäß Fig. 4 die Schutzschicht 41 abgezogen. Auf diese Weise erhält man ein lichtempfindliches Element mit innig miteinander verklebten Schichten und einer kratzerfreien Fläche. Zwischen der Schutzschicht und der Isolierschicht ist keine Verklebung erforderlich. Die Schutzschicht kann aus jedem beliebigen Material, bestehen, sofern es nur leicht abgezogen werden kaniv

Auf der auf dem Schichtträger 1 angeordneten Fotowiderstandsschicht kann gemäß Fig. 3 eine

So Zwischenisolierschicht S vorgesehen und das Klebe mittel 3 zwischen letzterer und der Isolierschicht 4 angeordnet sein. Mit Hilfe des in F i g. 1 gezeigter] Quetschers 10 wird die Isolierschicht 4 mit der Zwi schenschicht 5 verbunden bzw. verklebt. In diesen Fall dringt die Zwischenisolierschicht 5 in die porös« Oberfläche der Fotowiderstandsschicht 2 ein, so dal die Oberfläche glatt bleibt Die Schicht 5 wird somi zu einem Teil der Fotowiderstandsschicht. Die Zwi schenisolierschicht 5 kann beispielsweise durch Auf sprühen, Aufgießen und Aufquetschen aufgetragei werden, wobei der Quetscher 10 aus einer Rake] einer Walze oder einem Gummielement bestehe kann.

Wenn man auf diese Weise die Fotowiderstand:

«5 schicht mit Isolierstoffen, wie Harzen, Silikatei Oxyden und Sulfiden von Metallen oder Salze überzieht, dringen diese Isolierstoffe τχ,πχ größte Teil in die Poren der Fotowiderstandsschicht 2 eil

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und es bildet sich ein dünner Film der Zwischen- wirkung wird erzielt, wenn als Isolierschicht 4 ein

tsolierschichv 5 auf der Fotowiderstandsschicht 2. Film od. dgl. verwendet wird.

Als Harze werden vorzugsweise solche verwendet, Als untere Fotowiderstandsschicht 21 wird eine die für die darauf aufgetragenen Stoffe, insbesondere solche üblicher Art verwendet. Sie wird dadurch duroplastische Harze, nicht durchlässig sind. Vor- 5 gebildet, daß Fotowiderstandsmatenalteilchen mit zuweise verwendet man für diesen Zweck duro- einem lösungsmittelhaltigen, flüssigen Harz verplastische Harze. Diese Harze müssen in die Foto- mischt und darin dispergiert werden. Im Rahmen Widerstandsschicht 2 eindringen, die poröse Fläche der Erfindung soll diese Schicht jedoch einen relativ ichließen und sie gleichzeitig vor einem chemischen niedrigen elektrischen Widerstandswert besitzen. Aus Angriff schützen. Das Harz und das Bindemittel der io diesem Grund ist das Mengenverhältnis der Harz-Fotowiderstandsschicht 2 können unabhängig von- komponente zu den Fotowiderstandsmaterialteilchen einander gewählt werden, sofern das Harz die Funk- vorzugsweise klein. Wenn man beispielsweise als lion der Fotowiderstandsschicht 2 nicht beein- Fotowiderstandsmaterial Cadmiumsulfidteilchen mit Irächtigt. einem Durchmesser von etwa 1 [im verwendet, ist

Zu den duroplastischen Harzen, welche die vor- i₅ die Verwendung von etwa 5 bis 20 Teilchen Harz

genannten Forderungen erfüllen, gehören die auf 100 Teile Cadmiumsulfid zweckmäßig.

Epoxydharze, Silikonharze, Polyesterharze, MeI- In der oberen Schicht 3 dagegen beträgt bei Ver-

nminharze, Acrylharze, Phenolharze, Harnstoffharze wendung derselben Cadmiumsulfidteilchen das Ver-

und die von ihnen abgeleiteten modifizierten Harze. hältnis vorzugsweise 20 bis 100 Teile Harz auf

Von diesen Harzen kann man das Epoxydharz und ₂o !00 Teile Cadmiumsulfid. Infolge des Fehlens eines

das ungesättigte Polyesterharz besonders bequem Lösungsmittels kann die Schicht nur schwer gebildet

handhaben und mit gutem Erfolg verwenden, weil werden, wenn auf 100 Teile Cadmiumsulfid weniger

Sie in Form flüssigen Harzes angewendet werden als 20 Teile Harz vorhanden sind. Bei einer Verwen-

können und ihnen nur ein Härtemittel beigemischt dung von mehr als 100 Teilen Harz auf 100 Teile

zu werden braucht, aber kein Lösungsmittel erfor- 35 Cadmiumsulfid erhält man fast eine Isolierschicht,

derlich ist. die für den vorliegenden Zweck ungeeignet ist. Ein

Bei der Verwendung dieser duroplastischen Harte derartiges lichtempfindliches Element kann beispiels-

geht man nach der Hitzehärtung zweckmäßig wie weise durch Quetschen erzeugt werden. Dabei wird

folgt vor: Nach der Bildung einer Zwischenisolier- ein Fotowiderstandsmaterial in einem lösungsmittel-

schicht 5 wird diese mit Hilfe des erwähnten lö- _3o freien, polymeren Harz 22 pergiert und dieses dann

sungsmittelfreien polymeren Klebemittels 3 mit der zwischen der unteren Fotowiderstandsschicht 21 so-

Isolicrschicht 4 verbunden, oder es wird gemäß ^wi der Isolierschicht 4 angeordnet und mit Hilfe

Fig. 5 auf der Fotowiderstandsschicht 2, die sich des Quetschers ausgebreitet. Man kann für das

auf dem Schichtträger 1 befindet, die Zwischen- Quetschen auch die obenerwähnte Schutzschicht vor-

isolierschicht 5 vorgesehen und auf dieser mit Hilfe ₃₅ sehen. Auf diese Weise kann die Isolierschicht 4 mit

der Klebeschicht 3 die Isolierschicht 4 zusammen der zweischichtigen Fotowiderstandsschicht innig

mit der Schutzschicht 41 festgeklebt, worauf die verklebt werden.

Schutzschicht 41 wieder abgezogen wird. Auf diese In dem oberen Teil 22 der Fotowiderstandsschicht

Weise erhält man das lichtempfindliche Element. kann man die vorstehend angegebenen, lösungs-

Bei dem beschriebenen Verfahren erfolgt ein inni- ₄₀ mittelfreien polymeren Klebemittel unverändert als ges Verkleben der Isolierschicht 4 mit der Foto- Bindemittel verwenden. In den meisten Fällen werwiderstandsschicht 2 mit Hilfe eines lösungsmittel- den diesem Klebemittel ein Polymerisationsmitte], freien polymeren Klebemittels 3. Wenn dieses hierfür ein Katalysator und ein Beschleunigungsmittel zubenutzte Mittel dasselbe Verhalten hat wie das gesetzt, damit nach der Schichtbildung eine PolyBindemittel der Fotowiderstandfschicht 2. kann das ₄₅ merisation erfolgt. Bestimmte Harze, wie z. B. das Klebemittel unverändert auch als Bindemittel in der Epoxydharz, polymerisieren bei der Polymerisation Fotowiderstandsschicht 2 verwendet werden. zusammen, wenn man ihnen nur eine kleine Lö-

Gemäß Fig. 6 wird auf den Schichtträger 1 eine sungsmittelmenge zusetzt

Fotowiderstandsschicht 21 aufgetragen, die durch In der oberen Schicht 22 wird das Mengenverhält-

Dispergieren eines Fotowiderstandsmaterials in _5O nis des Harzes zu den Fotowiderstandsmaterial-

einem Bindemittel gebildet wird. Beim Auflegen der teilchen in Abhängigkeit von der ölabsorption d«

Isolierschicht 4 auf die Fotowiderstandsschicht 2 Fotowiderstandskörpers gewählt, d. h. von seiner

wird das Fotowiderstandsmaterial in eine Klebe- Fläche und Korngröße. Man kann jedoch im allge-

schicht22 aus flüssigem lösungsmittelfreiem, poly- meinen keine pastenförmige Konsistenz erreichen

merem Harz dispergiert, ehe die beiden Schichten ₅₅ und die Schichtbildung wird schwierig, wenn dei

miteinander verkleben. Die Fotowiderstandsschicht Harzanteil nicht größer ist als in der unteren Schicht

kann selbst aus zwei Schichten bestehen. 22. Diese Erhöhung des Harzanteils führt zu einei

Die obere Fotowiderstandsschicht 22 enthält als Erhöhung des elektrischen Widerstandswertes diesei

Bindemittel ein lösungsmittelfreies polymeres Harz Schicht, so daß die auf dieser erzeugte elektrisch*

und hat daher einen höheren spezifischen elektri- 60 Ladung im Dunkeln nicht leicht abgebaut werder

sehen Widerstand als eine Fotowiderstandsschicht, kann.

die ein lösungsmittelhaltiges Harz enthält In der Die in der unteren Fotowiderstandsschicht 21 ver

Schicht 22 wird die elektrische Ladung beständig wendeten Bindemittelharze haben zweckmäßig einet

festgehalten, die im Dunkeln nicht leicht abgebaut relativ niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand

werden kann. Weil das lösungsmittelfreie polymere 65 Man kann jedoch auch Harze mit einem hohen spe

Harz bei seiner Härtung durch Polymerisation sehr zifischen elektrischen Widerstand verwenden, wem

starr wird, ist das ganze lichtempfindliche Element sie nur in begrenzter Menge beigemischt werden

sehr fest und dauerhaft Eine beträchtliche Haft- Beispielsweise eignen sich für diesen Zweck zahl

reiche Harze wie Vinylacetat-Vinylchlorid-Mischpolymerisat-Harz, Polyvinylacetat, Nitrocellulose, Methacrylsäurcharz, Epoxydharz, Urethanharz, Alkydharz, Melaminharz, Acrylsäureharz und Silikonharz.

Das Mengenverhältnis von Harz zum Fotowiderstandsmaterial ist von der Art des Harzes abhängig und liegt vorzugsweise zwischen 5 und 40%. Man kann dieselben Bindemittel verwenden, die vorstehend für Anordnungen angegeben wurden, in denen die Fotowiderstandsschicht aus einer einzigen Schicht besteht, ferner auch die für diesen Zweck üblichen Bindemittelharze. Dabei müssen jene Harze vermieden werden, die einen sehr niedrigen spezifischen elektrischen Widerstandswert besitzen, doch kann man ohne Schwierigkeiten Harze verwenden, die in den üblichen Fotowiderstandsschichten allgemein gebräuchlich sind.

Für die Wahl des Fotowiderstandsmaterials selbst ist es unwichtig, ob die Fotowiderstandsschicht aus zwei Schichten oder einer einzigen Schicht besteht. Zu den Fotowiderstandsmaterialien, die in dem Bindemittel dispergiert werden können, gehören ZnO, TiO₂, CdS, CdSe, ZnS, ZnSe usw., in vielen Fällen mit einer Korngröße zwischen 0,1 und 0,5 um. Insbesondere CdS ist sehr zweckmäßig, weil man es mit kleinem Korndurchmesser erhalten kann und das Material eine hohe elektrofotografische Empfindlichkeit hat. Ferner wird mit CdS im Rahmen der Erfindung ein besonderer Effekt erzielt.

Wenn die Fotowiderstandsmaterialteilchen nicht in dem Bindemittel des Systems dispergiert, sondern einfach auf einen anderen Teil des lichtempfindlichen Elements aufgedampft oder aufgestrichen werden, kann man Legierungen verwenden, die drei oder mehr Elemente enthalten, beispielsweise Se, Se-Te. Se, Ge, Si und aufgedampftes CdS. Man kann im Rahmen der Erfindung auch alle geeigneten organischen Halbleiter verwenden.

Wenn die Isolierschicht 4 mit Hilfe eines flüssigen, lösungsmittelfreien, polymeren Harzes verklebt wird, kann man als Isolierschicht jene Harze verwenden, die imstande sind, die elektrische Ladung zu speichern und Strahlung hindurchzulassen, für welche das Fotowiderstandsmaterial empfindlich ist. Beispielsweise kann man für diesen Zweck Polyester, Polyvinylchlorid, Polypropylen, Polyvinylidenchlorid, Polycarbonate Polystyrol, Polyamid, PoIyfluoräthylen, Polyäthylen, Polyimid, Polyvinylfluorid, Polyvinylidenfluorid, Polyvinylidenchlorid usw. verwenden.

Für die Wahl des Materials für die Schutzschicht auf dem Film aus den vorstehend angegebenen Substanzen gibt es keine Einschränkung. Ausgezeichnete Ergebnisse erzielt man beispielsweise mit Gummi, Urethan und Silikongummi.

Der SchichUräger kann aus einem leitfähigen Material allein oder einer Kombination eines leitfähigen Materials mit einem Isoliermaterial bestehen. Er kann aber auch aus einem Isoliermaterial allein oder einem Isoliermaterial und einem darauf ausgebildeten, leitenden Körper oder umgekehrt zusammengesetzt sein. Im Rahmen der Erfindung können in dem Schichtträger Metalle, Metallfolien, Papier und andere elektronische leitfähige Materialien als leitendes Material und beispielsweise Harzfilme, Holz, Glas, Keramik usw. als I&oBörmaterial verwendet werden. Bei einer Kombination einer Isolierschicht und einer leitenden Schicht wird der Schichtträger entweder dadurch gebildet, daß ein Überzug aus dem Isoliermaterial auf der leitenden Schicht aufgetragen wird oder daß eine leitende Fläche auf dem Isoliermaterial aufgedampft oder aufgetragen svird. Der so gebildete Schichtträger kann natürlich die Form einer ebenen Platte haben. Allgemein wird seine Form von der gewünschten Form des lichtempfindlichen Elements abhängen. Da die Erfindung

ίο mit gutem Erfolg auf ein zylindrisches lichtempfindliches Element angewendet werden kann, erzielt man gute Ergebnisse mit einem trommeiförmigen Schichtträger.

Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Element.

das aus den vorstehend angegebenen Materialien aufgebaut ist, wird nachstehend an Hand von F i g. 7 bis 13 erläutert.

Die grundlegende Ausführungsform des lichtempfindlichen Elements nach der Erfindung besteht gemäß F i g. 7 aus einem Schichtträger 1, einer darauf angeordneten Fotowiderstandsschicht 2 und einer Isolierschicht 4. Zwischen der Fotowiderstands-Schicht 2 und der Isolierschicht 4 befindet sich eine Schicht 3 aus einem lösungsmittelfreien, polymeren

J5 Klebemittel.

Eine abgeänderte Ausführungsform ist in F i g. 8 gezeigt. Hier besteht der Schichtträger aus zwei Schichten, und zwar aus einer leitenden Schicht 11 und einer Isolierschicht 12. Es wurde vorstehend schon erwähnt, daß diese Anordnung auch umgekehrt werden kann.

F i g. 9 zeigt ein anderes lichtempfindliches Element gemäß der Erfindung. Hier ist auf der Fotowiderstandsschicht 2 eine Zwischenisolierschicht 5 vorgesehen, auf der dann mit Hilfe der Klebschicht 3 wie in F i g. 7 eine Isolierschicht 4 aufgebracht wird. Der Schichtträger 1 kann anstatt aus einem leitenden Material allein auch aus einem Verbundkörper bestehen, in dem die leitende Schicht und die Isolierschicht gegeneinander vertauscht sind, wie dies in F i g. 10 gezeigt ist.

Es wurde bereits erwähnt, daß die Fotowiderstandsschicht des lichtempfindlichen Elements gemäß F i g. 6 auch aus zwei Schichten bestehen kann. Hier besteht das Element aus dem Schichtträger 1, der Fotowiderstandsschicht 21 mit einem niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand, der Fotowiderstandsschicht 22 mit einem hohen elektrischen Widerstand und der Isolierschicht 4. Natürlich kann der Schichtträger 1 auch ähnlich wie vorstehend beschrieben aus mehreren Schichten bestehen. Die vorstehenden Angaben gelten für lichtempfindliche Elemente in Form einer ebenen Platte.
In der Praxis sind für ein störungsfreies, kontinuierliches Kopieren zylindrische lichtempfindlich« Elemente sehr vorteilhaft, wie sie nachstehend erläutert werden. Es können alle vorstehend beschrie benen Schichtanordnungen mit gutem Erfolg aucl auf zylindrische lichtempfindliche Elemente ange wendet werden.

Fig. 11 zeigt einen Zylinder, der dieselbe Schicht anordnung wie das ebene lichtempfindliche Elemen nach Fig. 9 hat. Das Element gemäß Fig. 11 besitz einen zylindrischen Schichtträger 1, eine Fotowider Standsschicht 2, eine Zwischenisolierschicht 5, ein Klebeschicht 3 und eine Isolierschicht 4. Dies Schichten folgen in der angegebenen Reihenfolg aufeinander.

„ ι

Man kann dieses lichtempfindliche Element bei- 4. Primäraufladung; Sekundäraufladung mit der

spielr>weise mit Hilfe des Quetschverfahrens direkt ganzen entgegengesetzten Polarität; Belichtung;

herstellen. In diesem Fall wird das Bild der Vor- Tertinäraufladung mit zur Primäraufladung ent-

lage von der Außenseite des lichtempfindlichen EIe- gegengesetzten Polarität; Bestrahlung der gan-

ments auf die Isolierschicht 4 projiziert. Bei einer 5 zen Fläche.
Anordnung, in der das Bild der Vorlage von der

Innenseite des zylindrischen lichtempfindlichen EIe- Die Erfindung ist auch auf andere elektrofoto-

ments projiziert wird, verwendet man zweckmäßig grafische Verfahren anwendbar, sofern darin ein

den in Fig. 12 gezeigten Aufbau. Hier sind die lichtempfindliches Element verwendet wird, in dem

Schichten in derselben Reihenfolge angeordnet wie io auf einer Fotowiderstandsschicht eine Isolierschicht

in Fig. 11, d.h., von außen gesehen folgen die Iso- angeordnet ist. In vielen Fällen kann man ein Bild

lierschicht 4, die Klebstoffschicht 3, die Zwischen- von hoher Qualität schon mit einer Isolierschicht von

isolierschicht 5, die Fotowiderstandsschicht 2 und höchstens 50 [im erzeugen.

der Schichtträger 1 aufeinander. In dem Schicht- Nachstehend werden spezielle Ausführungsbeiträger 1 muß jedoch ein Raum 9 vorgesehen und der 15 spiele der Erfindung ausführlicher beschrieben. Die Schichtträger 1 für Strahlung durchlässig sein, für Anwendung der Erfindung ist jedoch nicht auf diese die das Fotowiderstandsmaterial empfindlich ist. In Ausführungsbeispiele eingeschränkt, sondern es könder Praxis ist es zwar vorteilhaft, ein elektronisches nen unter Benutzung der Lehre der Erfindung auch Bild auf der Außenseite der Isolierschicht 4 auszubil- andere Alisführungsformen angewendet werden,
den, doch kann man es theoretisch auch auf dem ao B e' s ο i e 1 1
Schichtträger 1 erzeugen. P

Man kann als Schichtträger 1 je nach Bedarf auch Auf einer 30 μηι dicken Aluminiumfolie wurde eine leitende Schicht und eine Isolierschicht allein eine Aufschlämmung aufgetragen, die dadurch er- oder in Kombination verwenden. In einem weiteren halten worden war, daß 100 Teile CdS-Fotowider-Ausführungsbeispiel besitzt die Fotowiderstands- «5 Standskörner mit einem durchschnittlichen Durchschicht zwei Schichten. Fig. 13 zeigt ein zylindri- messer von 1 μτη vollständig dispergiert wurden. Die sches lichtempfindliches Element, das dieselbe aus der Aufschlämmung gebildete Fotowiderstands-Schichtanordnung besitzt wie das Element nach schiebt hatte nach dem Trocknen eine Dicke von Fig. 6. Auf dem Schichtträger 1 sind Fotowider- etwa 80/im.

Standsschichten 21 und 22 vorgesehen, die Binde- 30 Auf die Fotowiderstandsschicht wurde ein 25 μτη mittel mit verschiedenem spezifischem elektrischem dicker Polyesterfilm aufgetragen. Zwischen dem Film Widerstand enthalten. Die Isolierschicht 4 wird unter und der Fotowiderstandsschicht wurde ein Klebeder Wirkung der Klebkraft des einen höheren spezi- mittel eingebracht, das dadurch hergestellt worden fischen elektrischen Widerstand besitzenden Binde- war, daß 10 Teile aliphatisches Aminosalz als Härtemittels der Fotowiderstandsschicht 22 innig mit die- ₃₅ mittel zu 100 Teilen eines Epoxydharzes zugesetzt ser verklebt. wurden, das eine Mischung eines Kondensats mit

Wie bei der Ausführungsform nach Fig. 12 be- einem Molekulargewicht von 370 aus Epichlorhydrin sitzt der Zylinder auch hier in seinem Inneren einen und Bisphenol A sowie 15°/o Butyl-Glyzidyläther ist, Luftraum, und der Schichtträger besteht aus einem diesem Gemisch 6 Teile feinkörnige Kieselsäure zuMaterial, das für Strahlung durchlässig ist. für die ₄₀ gesetzt wurden und das Gemisch dann vollständig das Fotowiderstandsmaterial empfindlich ist. durchgemischt sowie geknetet w :rde. Das Klebe-

Man kann somit für das lichtempfindliche EIe- mittel wurde dann dadurch ausgebreitet, daß die

ment gemäß der Erfindung die verschiedensten Oberfläche des Films vom einen Ende her mit einem

Schichtanordnungen wählen. Sofern dabei der Er- aus Urethangummi bestehenden Quetscher aufge-

findungsgedanke angewendet wird, fallen alle diese ₄₅ quetscht wurde, so daß überschüssiges Klebemittel

Anordnungen in den Rahmen der Erfindung. am anderen Ende herausgedrückt wurd Der

Beispiele von elektrofotografischen elektrostati- Quetschdruck wurde so eingestellt, daß du. Klebeschen Bildherstellungsverfahren, in denen das erfin- schicht eine Dicke von etwa 5 /im hatte,
dungsgemäße lichtempfindliche Element für die Danach wurde die Klebeschicht 3 Stunden lang ElektrofotogTifie verwendet werden kann, sind in ₅₀ bei 70° C gehärtet. Das auf diese Weise erhaltene den vorstehend angegebenen japanischen Patent- lichtempfindliche Element war blasen- und faltenfrei Schriften 23 910/1967 und 24 748/1968 beschrieben. und ebenflächig. Sein Isolierfilm war mit der Foto-Man kann das lichtempfindliche Element gemäß der Widerstandsschicht gleichmäßig verbunden.
Erfindung jedoch auch in zahlreichen anderen Ver- Die Oberfläche dieses lichtempfindlichen Elements fahren verwenden. Nachstehend werden mehrere „ wurde einer positiven Sprühentladung und danach Ausführungsbeispiele von elektrostatischen Bildher- gleichzeitig einer Belichtung mit einem Bild und stellungsverfahren angegeben. einer Entladung mit Hilfe einer Wechselstrom-

1. Primäraufladung, Sekundäraufladung mit zur Sprühentladung unterworfen. Anschließend wurde Primäraufladung entgegengesetzter Polarität und ^{die ganze F!äche bslichtet}- ^{Man erhieIt} auf diese gleichzeitige Belichtung; Belichtung der ganzen ^{6o Weise em} elektrostatisches latentes Bild. Dieses Fläche. wurde mit Hilfe einer Magnetbürste und eines nega-

-1AOJ Aiij j!.· „, ^uven Toners zu einem scharfen kontrastreichen Bild

2. Aufladung; Aufladung durch eine Wechsel- entwickelt. Nach dem Umdrucken dieses Bildes auf

^ΓΚ?^η η ^ng ^ä^f ** ^Belich- ein Stück Papier wurde der Fotowiderstand gereinigt ^{ganZen Che (We}™ ^er~ «5 Der vorstehend beschriebene Vorgang wurde

lOOOOmal wiederholt Da das epoxydharzhaltige

3. Aufladung und gleichzeitige Belichtung; Belich- Klebemittel nach dem Härten sehr hart ist, besaß die tung der ganzen Fläche. Isolierschicht eine sehr hohe mechanische Festigkeit;

13 -J U

sie zeigte nach 10 OOOmaliger Verwendung keine be- Beim Aufkleben des Films auf die Oberfläche der

sonderen Schaden Dabei blieb auch die Bildqualität Se-Schicht nach dem allgemein üblichen Verfahren

fast unverändert. bilden sich oft kleine Blasen. Das erfindungsgemäße

Verfahren ermöglicht dagegen ein gleichmäßiges

Beispiel _ _{5 Aufkleben ohne}Blasenbildung.

Die Fotowiderstandsschicht wurde ähnlich aufge- Beispiel 5
tragen wie im Beispiel 1. Dann wurde das im Beispiel 1 zum Aufkleben des Polyesterfilms verwendete Dasselbe Ergebnis wurde erztolt, wenn an Stelle Klebemittel dünn auf die Oberfläche der Fotowider- des Epoxydharzes im Beispiel 1 ein ungesättigtes Standsschicht aufgetragen und mit auf diese mit ₁₀ Polyesterharz verwendet wurde,
einem aus Urethangummi bestehenden Quetscher .
aufgequetscht. Danach wurde durch Erhitzen und Beispiel
Härten des Klebemittels eine flüssigkeitsundurch- Es wurde eine Fotowiderstandsschicht aus einer lässige Schicht in einer Dicke von etwa 3 um gebil- Dispersion von CdS in Epoxydharz gebildet. Darauf det Dabei drang ein Teil des Klebemittels in die ₁₅ wurde eine lOprozentige Äthanollösung von PoIy-Fotowiderstandsschicht ein. Unter Verwendung des- vinylbutyral aufgetragen und getrocknet, so daß eine selben Klebemittels wie im Beispiel 1 wurde in der Aufschmelzklebeschicht entstand. Auf diese Schicht dort beschriebenen Weise ein 25 μΐη dicker Poly- wurde ein 25 μχη dicker Polyesterfilm gelegt. Durch esterfilm innig mit der Fotowiderstandsschicht ver- Warmpressen wurde eine lichtempfindliche Platte klebt und das Klebemittel gehärtet. Das auf diese _ao für die Elektrofotografie hergestellt. Diese lichtemp-Weise erhaltene lichtempfindliche Eleme.it war flndliche Platte wurde für die Reproduktion in einem blasen- und faltenfrei und ebenso wie das im Bei- Kopiergerät verwendet, beispielsweise nach dem im spiel 1 erhaltene ebenflächig. Beispiel 1 angegebenen elektrofotografischen Ver-

Mit Hilfe dieser lichtempfindlichen Platte wurde fahren, wobei eine hochwertige Reproduktion erzielt

in dem im Beispiel 1 angegebenen Verfahren ein ₂₅ wurde.

Bild erzeugt und dieser Vorgang lOOOOmal wieder- Beispiel 7

holt. Die Bildqualität war ebensogut wie nach Bei- »,-·_, ^j- _ICJ ·■ _u „·♦ ^-„_Qm

spiel 1. Die lichtempfindliche Platte hatte dieselbe . Aktmerte Cadm.umsulfidie.Ichen mit einem

Haltbarkeit wie die nach Beispiel 1 hergestellte. durchschnittlichen Durchmesser von 1 μην wurden

^{F 6} mit 10 Gewichtsprozent Vinylacetatharz gemischt

Beispiel 3 3·- und darin dispergiert. Aus dieser Dispersion wurde

Gegenüber dem Beispiel 1 wurde der Anteil des auf einer 30 μπι dicken Aluminiumfolie tin IO μτη Bindemittels in der Fotowiderstandsschicht von 20 dicker Überzug gebildet. Danach wurden zu 100 Teiauf 10 Teile pro 100 Teile CdS herabgesetzt. Direkt len des im Beispiel 1 benutzten und genannten auf die Oberfläche der Fotowiderstandsschicht wurde Epoxydharzes 100 Teile Cadmiumsulfid und 10 Teile mit Hilfe eines Quetschers, der dem im Beispiel 1 ³⁵ eines aliphatischen Aminosalzes als Härtemittel zuverwendeten ähnlich war, ein Polyesterfilm geklebt. gesetzt. Das Gemisch wurde zu einer Paste geknetet. Dabei wurde eine örtliche Blasenbildung beobachtet. Das Gemisch wurde dann zwischen der vorstehend Infolgedessen wurde der Film vor dem Härten des erwähnten, auf der Aluminiumfolie gebildeten Foto-Klebemittels abgezogen und mit Hilfe des Quetschers Widerstandsschicht und dem zur Bildung der Isoliererneut unter Zuführung von Klebemittel auf die ⁴° schicht dienenden Polyesterfilm von 25 um angeordlichtempfindliche Schicht aufgequetscht. Dabei wur- net. Der Film wurde mit einem Gummiquetscher abden die vorher gebildeten Blasen vollständig heraus- gequetscht, wobei die überschüssige Paste herausgc-lrückt, und es wurde ein einheitliches lichtemp- gedrückt wurde. Es wurde auf diese Weise eine finJ I iches Element erhalten, gleichmäßig dicke Pastenschicht erhalten, die in die-_R . . . , 45 sem Zeitpunkt eine Dicke von etwa 10 um hatte Beispiel 4 Durch einstündiges Hitzehärten der Pastenschicht be

Auf einer lmm dicken Aluminiumplatte wurde 70" C wurde ein lichtempfindliches Element erhalten

im Vakuum amorphes Selen in einer Dicke von etwa Das lichtempfindliche Element wurde einer Sprüh·

50 μπι aufgedampft und dabei die Aluminumplatte entladung von +6 kV und danach gleichzeitig einei

abgekühlt. Danach wurde auf die Se-Schicht ein 5o Belichtung mit einem Bild und einer WechseFstrom

12 μπι dicker Polyesterfilm nach dem im Beispiel 1 Sprühentladung ausgesetzt. Danach wurde die ganz«

beschriebenen Verfahren mit Hilfe des Epoxydharzes Fläche belichtet, wobei ein elektrostatisches latente;

aufgetragen und das Klebemittel gehärtet. Die dabei Bild erhalten wurde. Das latente Bild wurde mi

erhaltene, lichtempfindliche Platte war ebenflächig Hilfe einer Magnetbürste und eines Entwicklers, de:

und blasen- und faltenfrei. 55 einen negativen Toner enthielt, zu einem scharfen

Die Oberfläche des lichtempfindlichen Elements kontrastreichen Bild entwickelt. Das lichtempfind

wurde einer negativen Sprühentladung und danach liehe Element war frei von Blasen und Falten, eben

gleichzeitig einer Belichtung mit einem Bild und flächig, starr und fest und hatte eine hohe Licht

einer positiven Sprühentladung unterworfen. Danach empfindlichkeit,

wurde die ganze Fläche belichtet. Man erhielt auf 6o .

diese Weise ein elektrostatisches latentes Bild. Dieses Beispiel 8

wurde anschließend mit Hilfe einer Magnetbürste Zur Bildung einer Isolierschicht wurde zunächs

und eines positiven Toners zu einem scharfen, kon- der Polyesterfilm von dem im Beispiel 7 erzeugte!

trastreichen Bild entwickelt. In diesem lichtempfind- lichtempfindlichen Element abgezogen und anstat

liehen Element erhöhte das als Klebstoff verwendete 65 dessen ein Überzug aus einem Epoxydharz um

Epoxydharz die mechanische Festigkeit der Isolier- einem durchsichtigen Lack in einer Dicke von etw

schicht. Sie zeigte selbst nach 10 OOOmaliger Ver- 30 μηι auf die lichtempfindliche Schicht aufgespriih

Wendung kaum eine Beschädigung. Die Schicht wurde 1 Stunde lang bei 150° C hitz

ί] 1 956 188

gehärtet, wobei eine Isolierschicht gebildet wurde. die Oberfläche der Harzschicht geklebt und der Film

Das gemäß Beispiel 7 mit Hilfe dieses Uchtempfind- mit eiueni Guranüquetscher aufgequetscht, so daß

liehen Elements erzeugte Bild war scharf und kon- überschüssiges Harz am einen Ende herausgedrückt

trastreich. Da das lichtempfindliche Element eine wurde und die Klebeschicht eine Dicke von 2 bis

Oberfläche aus hartem duroplastischem Harz hat, ist 5 5 um hatte. Bei herkömmlichen Verfahren ohne Aus-

es besonders dauerhaft. füllung der Poren drang der Klebstoff in die Foto-

_R . . Widerstandsschicht ein, so daß disse uneinheitliche

Beispiel y Eigenschaften hatte. Dieses Ergebnis trat bei der

Bei der Hersteilung eines lichtempfindlichen EIe- Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens ru'e-

ments wurde anstatt des im Beispiel 7 verwendeten io mais auf. Das Harz wurde danach 2 Stunden lang

Epoxydharzes ein ungesättigtes Polyesterharz ver- bei 72° C gehärtet.

wendet. Das in der im Beispiel 7 angegebenen Weise Die Oberfläche des so erhaltenen lichtempfind-

mit diesem lichtempfindlichen Element erzeugte Bild liehen Elements wurde einer Sprühentladung von

war ebenso kontrastreich wie das im Beispiel 7 er- -f6kV ausgesetzt und danach gleichzeitig einer

haltene. Das lichtempfindliche Element war eben- 15 Sprühenüadung von —6 kV sowie einer Belichtung

flächig, blasen- und faltenfrei, starr, fest und hoch mit einem Lichtbild mit einer Lichtmenge von etwa

lichtempfindlich. 3 Lux-sek. unterworfen. Schließlich wurde die ganze

. . Fläche belichtet. Das auf diese Weise erzeugte, Ia-

B eis pi el 10 _{tente Bild} wm-de mit Hilfe einer Magnetbürste und

Auf einer ebenflächigen Aluminiumplatte 1 im 20 eines negativen Toners zu einem sehr hochwertigen

Format A 4 wurde ein Überzug aus einem Gemisch Bild entwickelt, das auf ein Stück Papier umgedruckt

aufgesprüht, das durch gleichmäßiges Dispergieren wurde. Der auf dem lichtempfindlichen Element ver-

von 100 Teilen Cadmiumsulfid-Fotowiderstands- bliebene Toner wurde abgewischt. Das lichtempfind-

material mit einem durchschnittlichen Durchmesser liehe Element wurde wiederholt in der vorstehend

von 1 μΐη in 50 Teilen einer Lösimg eines Vinyl- 15 beschriebenen Weise verwendet, wobei jedesmal ein

chlorid-Vinylacetat-Mischpolymerisats gebildet wor- hochwertiges Bild erzielt wurde. Da in dem nach

den war. Die Lösung hatte einen Feststoffgehalt von diesem Verfahren hergestellten lichtempfindlichen

10 Teilen. Der getrocknete Überzug hatte eine Dicke Element Epoxydharz enthalten war, hatte es eine

von etwa 60 μηι. Nach dem Trocknen wurde ein hohe mechanische Festigkeit,

flüssiges polymeres Harz aufgetragen, das durch Ver- ₃₀

mischen von 20% einer aliphatischen Amino-Ein- Beispiel 11

h^rÄeit STSAiKSKi _H Ergebnisse wurden auch erzielt wenn man

hergestellt worden war. Dieses Gemisch wurde mit ^den losungsmittemaltigen Epo^dharzlack a™

einem Gummiquetscher auf die Oberfläche der Foto- ₃₅ wannehartbaren Epoxydharz benutzte und 4 Stunden

Widerstandsschicht zu einem gleichmäßigen, dünnen ^IanS bei IZU C nartete.
Überzug aus der Harzlösung aufgequetscht. Durch _R . . . ..-

diese Behandlung wurde die poröse Fläche der licht- Beispiel \L

empfindlichen Schicht mit der genannten Harzlösung Dasselbe gute Ergebnis wie im Beispiel 10 wurde

ausgefüllt und auf der lichtempfindlichen Schicht 40 erzielt, wenn zum Verhindern des Eindringens an

eine dünne Harzschicht gebildet. Das flüssige bzw. Stelle der im Beispiel 10 angewandten Maßnahme

formbare Harz wurde dann 2 Stunden lang bei 70⁰C ein Überzug aus einer Aufschlämmung von feiner

gehärtet. Danach wurde mit Hilfe desselben flüssigen Kieselsäureteilchen in Wasser gebildet wurde. Dies«

Harzgemisches aus dem genannten Epoxydharz und Aufschlämmung drang in die Poren der Fotowider-

dem Härtemittel ein 25 μΐη dicker Polyesterfilm auf 45 Standsschicht ein.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims

1 2

mit Hilfe eines in der Fotowiderstandsschichl enthaltenen, kJebfähigen HarzbiodeiTiUteis vtr-

Patentansprüche: kleben:

3. man kann die Fotowicierstandssebtcht und die.

1. Verfahren zur Herstellung eines elektro- 5 Isolierschicht mit Hilfe einer zwischen ihnen fotografischen Aufzeichnungsmaterials mit sinexr. angeordneten Klebstoffschicht miteinander ver-Schichtträger, einer fotoleitfäbigen Schicht — kleben.

gegebenenfalls einer isolierenden Zwischen-

sclücht — und einer isolierenden Deckschicht, Bei dem ersten Verführen werden nur zwei

bei dem auf die fotoleitfähige Schicht bzw. auf io Schichten übersmandergebgt, so daß leicht die Bii-

die isolierende Zwischenschicht die isolierende dung einer unebenen Oberfläche sowie von Blasen

Deckschicht aufgepreßt wird, dadurch ge- und Falten inögiich ist Da diese Fehler kaum

kennzeichnet, daß die isolierende Deck- wieder beseitigt werden können, ist dieses Verfahren

schicht (4) mit Hilfe eines formbaren, lösungs- ^nicnt besonders geeignet.

mittelfreien Kunststoffs (3) — der gegebenenfalls 15 Bei dem zweiten Verfahren werden die physifcaeinen Fotoleiter dispergiert enthält — auf die üschen Eigenschaften der Fotowiderslandsschicht fotoleitfähige Schicht (2) bzw. auf die isolierende selbst durch die Wahl des Bindemittels stark beZwischenschicht (5) aufgepreßt wird. einflußt. Es treten daher besonders bei der Verwen-

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- ^duQg ^einer kleinen Bindemitteimenge viele Nachteile kennzeichnet, daß als Kunststoff (3) ein Epoxyd- 20 auf, s ;lbst wenn ein an sich geeignetes Bindemittel harz verwendet wird. gewählt worden ist. Beispielsweise hat die Foto-

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, Widerstandsschicht eine poröse Fläche, so daß beim dadurch gekennzeichnet, daß als Kunstharz ein Auftragen eines Isoliermaterial auf diese Flacne Epoxydharz, in dem ein Fotoleiter dispergiert ^beim Verbinden eines Isoliermaterial rmt dieser ist, und daß eine fotoleitfähige Schicht mit einem 25 Fläche leicht Blasen zwischen dem Überzug und der niedrigeren Widerstand als der der Fotoleit- Fotowiderstand^schicht eingeschlossen werden, oder Epoxydharz-Schicht, verwendet wird. die Überzugsschicht hat eice ungleichmäßige Dicke.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- oder sie weist teilweise Verwerfungen oder Falten kennzeichnet, daß das Aufpressen mit Hilfe auf. Wenn man die Isolierschicht direkt auf der eines Quetschers (10) durchgerührt wird. 30 Fotowiderstandsschicht bildet, besteht dia Gefahr,

5. Verfahren narh Anbruch 4, dadurch ge- daß das Lösungsmittel der Isolierschicht in die Fotokennzeichnet, daß als Quetscher {10) eine Rakel Widerstandsschicht eindringt und diese schädigt, oder eine Walze verwendet , Ατά. Dabei kann scf viel "Lösungsmittel in die Fotowider-

6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 4, Standsschicht eintreten, daß diese nicht nur in ihrer dadurch gekennzeichnet, daß die isolierende ₃₅ Funktion beeinträchtigt wird, sondern sogar eine Deckschicht (4) mit einer abziehbaren Schutz- unebene Oberfläche erhält. Dieselbe Erscheinung schicht (41) bedeckt, mit Hilfe des Quetschers kann auch beobachtet werden, wenn in der Foto-(10) auf die fotoleitfähige Schicht (2) bzw. auf Widerstandsschicht organisch Halbleiter verwendet die isolierende Zwischenschicht (5) aufgepreßt werden. Die vorstehend angegebenen Erscheinungen und die Schutzschicht wieder abgezogen wird. 40 beeinträchtigen nicht nur die Funktion des Aufzeichnungsmaterials, sondern auch die Gleichmäßigkeit der Bilddichte und der Ladungsverteilung.