DE1955914A1 - Hochfrequenz-Plasmagenerator - Google Patents

Hochfrequenz-Plasmagenerator

Info

Publication number
DE1955914A1
DE1955914A1 DE19691955914 DE1955914A DE1955914A1 DE 1955914 A1 DE1955914 A1 DE 1955914A1 DE 19691955914 DE19691955914 DE 19691955914 DE 1955914 A DE1955914 A DE 1955914A DE 1955914 A1 DE1955914 A1 DE 1955914A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
high frequency
plasma generator
hollow body
frequency
slot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19691955914
Other languages
English (en)
Inventor
Giuseppe Dr Lisitano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
Original Assignee
Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to BE758571D priority Critical patent/BE758571A/xx
Application filed by Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV filed Critical Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV
Priority to DE19691955914 priority patent/DE1955914A1/de
Priority to GB5267170A priority patent/GB1326412A/en
Priority to US87534A priority patent/US3663858A/en
Publication of DE1955914A1 publication Critical patent/DE1955914A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Description

8l4l-69/Dr.v.B/Bru
Institut für Plasmaphysik G.m.b.H.,8046 Garching
Hochfrequenz-Plasmagenerator
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Hochfrequenz-Plasmagenerator mit einem etwa rohrförmigen Körpger, der eine Hochfrequenzleitung bildet und mit einem Hochfrequenzgenerator gekoppelt ist.
Ein Hochfrequenz-Plasmagenerator dieses Typs ist aus der deutschen Patentschrift 1 261 608 bekannt. Der rohrförmige Hohlkörper, der z.B. die Form eines Hohlaylinders» einer Kegelstumpf-Mantelfläche oder eines Exponentialtrichters haben kann, weist in Richtung der Rohrachse verlaufende, abwechselnd beim einen und anderen Ende des Hohlkörpers verbundene, mindestens einen mäanderförmigen Schlitzzug bildende Schlitze auf, deren Länfge wenigstens annähernd ein ganzes Vielfaches der halben Wellenlänge der in den Schlitzzug eingespeisten Hochfrequenzschwin-
•m
gungen ist.
Es ist ferner aus einer Arbeit von V*E.öolant und A.D.Piliya "Transformation and absorption of high frequency waves in plasma", veröffentlicht von 8er Akademie der Wissenschaften de^· UdSSR, A.P.IOFFE Physico-Technisches Institut, Leningrad 1969, bekannt, daß ein in ein Magnetfeld eingeschlossenes Plasma durch Absorption von Hochfrequenzenergie auch dann aufrechterhalten werden kann, wenn das im Plasma herrschende Magnetfeld wesentlich grosser als das sogenannte Cyclotronfeld ist« Als Cyclotronfeld wird dabei der Feldstärkewert B bezeichnet, bei dem die
1 0 9 $? 2 /> / 0
Hoehfrequenz ω. - mit der Elektronencyclotronfrequenz
übereinstimmt, wobei e die Ladung und m die Masse des Elektrons bedeuten. Das Plasma wurde dabei in einer mit Argon gefüllten und in einem axialen Magnetfeld angeordneten Röhre erzeugt, deren Durchmesser 1 cm und deren Länge 25 cm betrugen. Die Röhre wurde etwas schräg in einem Hohlleiter für das 10-cm-Band angeordnet. Das Verhältnis m^/<i>hf betrug etwa 3.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die resonansfreie Absorption von Hochfrequenzleistung durch ein Plasma z\x verbessern, so daß mit einar gegebenen Hochfrequenzleistung höhere Ionisationsgrade erreichbar sind.
Diese Aufgabe wird gemass der Erfindung bei einem Hoch frequenz-Plasmagenerator mit einem rohrförmigen Hohlkörper, der eine Hochfrequenzleitung bildet und mit einem Hochfrequenzgenera tor gekoppelt ist, dadurch erreicht, daß der Hohlkörper eine Verzögerungsleitung bildet, in der sich die vom Hochfrequenzgenerator eingespeiste Hochfrequenzschwingung in Axialrichtung verzögert ausbreitet.
Vorzugsweise enthält der Hohlkörper einen wendeiförmigen Schlitz, der die Achse des Hohlkörpers umfÄast und mit dem Hochfrequenzgenerator gekoppelt ist.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungs beispielen in Verbindung mit der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
109824/062 3
1 , 2 und 3 Ausführungsbeispiele der Erfindung mit Koaxialeingang, und
Fig. 4 und 5 Ausführungsbeispiele der Erfindung mit Hohlleitereingang.
Der in Fig.l dargestellte Plasmagenerator enthält einen Hochfrequenzgenerator 10, der durch eine teilweise nur schematised dargestellte Koaxialleitung 12 mit einer Anordnung gekoppelt ist, die ein äußeres zylindrisches Bauteil 14 ohne Durchbrechungen und ein inneres zylindrisches Bauteil 16 enthält, das einen wendeiförmigen Schlitz 18 aufweist. Das äussere Bauteil 14 ist mit dem Aussenleiter der Koaxialleitung 12 und das innere Bauteil 16 ist mit dem Innenleiter der Koaxialleitung 12 verbunden. Die dargestellte Anoi inung , insbesondere das innere Bauteil 16, mit dem Schlitz 18 bilden eine Verzögerungsleitung in der sich die vom Hochfrequenzgenerator 10 eingespeiste Hochfrequenzleistung in Richtung der Achse 20 verzögert ausbreitet. Im Inneren des Bauteils 16 kann mit einer verhältnismässig geringen Hochfrequenzleistung ein hochgradig ionisiertes, heißes Plasma hoher Dichte erzeugt und auch bei starken Veränderungen des Neutralgasdruekes und eines im Bauteil 18 herrschenden axialen Magnetfeldes B aufrechterhalten werden, da die Verzögerungsleitung eine ausgezeichnete, breitbandige Anpassung des Hochfrequenzgenerators 10 an das Plasma darstellt.
Das äußere Bauteil 14 kann einen Teil einer nicht dargestellten Vakuumanlage bilden, mit der es durch Endflansche 22 verbunden ist. Das axiale Magnetfeld kann durch Magnetspulen 24 erzeugt werden, die in Figur 1 nur schematisch dargestellt sind.
Mit einer Anordnung gemäss Fig.l, bei der der Innendurchmesser des Bauteils 18 etwa 3cm betrug und der Hochfrequenzgenerator 10 eine Ausgangsleistung von etwa 70 Watt bei 2 QHz lieferte, konnten Plasmadichten von einigen 1(P cm·^ erzielt werden. Der Ionisationsgrad betrug etwa 30# und die gemessenen Elektronen·
109824/0623
temperaturen lagen zwischen etwa 5 und 12 eV. Die Stärke des axialen magnetischen Feldes B konnte zwischen 1,5 kG und 4,5 kG verändert werden.
Fig. 2 zeigt das äußere Bauteil 14a und das innere Bauteil 16a einer zweiten Ausführungsform der Erfindung, die sich von der Ausführungsform gemäss Fig.l im wesentlichen nur durch die Ankopplungeanordnung für die im Schnitt dargestellte Koaxialleitung 12a unterscheidet. Die Anordnung gemäss Fig. 2 eignet sich besonders für den Fall, daß die Wellenlänge λ grosser als der Innendurchmesser D des inneren Bauteils 16a ist. Vorzugsweise ist
10 (2)
ρ d
αabei bedeuten; D Innendurchmesser des Bauteile 16a, ρ Breite der stehengebliebenen Teile zwischen den Windungen dee
Schlitzes 18a
d Breite des Schlitzes 18a.
Das Ausführungsbeispiel gemäss Fig. 3 hat ebenfalls •inen Koaxialeingang 12b,von dem aus Schute« 18B ausgehen, die »jnmattriBch su einer Ebene sind, die durch die Mitte des Koaxialanechluieee 12b geht und auf der Achse 20 senkrecht steht. Bei Fig.3 «nden im Gegensatz su Fig. 1 beide Bauteile 14b und 16 an den Endflanschen 22b. Bei Flg. 1 war das inner· Bauteil 16 durch den Mittelleiter der Koaxialleitung 12 und gegebenenfalls «usätsliche Isolieretutsen im äußeren Bauteil 14 gehaltert.worden.
Fig. 4 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem die Hochfrequenzenergie vom Hochfrequenzgenerator über einen Rechteckhohlleiter 12c in den Schlitz 18c des inneren Bau-
109824/0623
teils I6c eingekoppelt wird. Das innere Bauteil ist wieder von einem undurchbrochenen äußeren Bauteil I4c mit gleichförmigem Abstand koaxial umgeben. Der Innenraum des Hohlleiters 12c verjüngt sich, wie dargestellt, in Richtung der kurzen Seiten,um eine Anpassung an den Schlitz 18 zu erreichen.
Das Ausführungsbeispiel gemäss Fig. 4 ist besonders für den Fall geeignet, daß der Innendurchmesser D des inneren " zylindrischen Bauteils 16c grosser als die Wellenlänge der Hochfrequenz ist.
Fig. 5 zeigt ein im wesentlichen Fig. 4 entsprechendes Ausführungsbeispiel. Der Unterschied zwischen Fig.4 und Fig.5 besteht darin, daß der Schlitz 18c in Figur 4 eine durchgehende Wendel bildet, die etwa in der Mitte gespeist, während der Schiit I8d in Fig. 5 aus zwei wendeiförmigen Teilen besteht, die zur Speisungsstelle symmetrisch sind und dementsprechend bezüglich der Achse 20 entgegengesetzten Windungssinn aufweisen.
Die beschriebenen Ausführungsbeispiele lassen sich selbstverständlich in öer verschiedensten Weise abwandeln, ohne den Rahmen der Erfindung zu überschreiten. Während das Bauteil 16 aus einem zumindest auf der Oberfläche gut gleitenden Material bestehen muss, kann das Bauteil 14 aus einem Leiter oder einem Nichtleiter bestehen.und gegebenenfalls ganz entfallen. Die Bauteile 14 und 16 brauchen nicht zylinderförraig sein, sondern können die Form von Kegelmänteln, Exponentialtrlettern, Prismen, Pyramiden u.dgl. haben. DBr Schlitz 18 kann offen oder mit einem Isoliermaterial gefüllt sein. Im letzteren Falle kann dann da» Bauteil 16 einen Teil des Vakuumgefässes der Anlage bilden·
Anstelle der dargestellten bevorzugten Verzögerungsleitungen , die mindestens einen wendeiförmigen Schiit* enthalten, können selbstverständlich auch andere Typen von Verlagerung·- leitungen verwendet werden, wie sie z.B. in Wandei1 feldrührer* u.d
* ft
üblich sind.
109824/0623

Claims (5)

  1. Patentansprüche
    l.)/Hoehfrequenz-Plasraagenerator mit einem etwa rohrförmigen Hohlkörper, der eine Hochfrequenzleitung bildet und mit einem Hochfrequenzgenerator gekoppelt ist, dadurch gekennzeichnet , daß der Hohlkörper (16) eine Verzögerungsleitung bildet, in der sich die vom Hochfrequenzgenerator eingespeiste Hochfrequenzschwingung in Axialrichtung (20) verzögert ausbreitet.
  2. 2.) Plasmagenerator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper aus einem mindestens an der C-«erfläche elektrisch leitenden Material besteht und einen wendelfömigen Schlitz (18) hat, der mit dem Hochfrequenzgenerator (10) gekoppelt ist·
  3. 3«) Plasmagenerator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß der wendeiförmige Schlitz an einer zwischen seinen Enden gelegenen Stelle mit einer Kopplungsvorrichtung sun Einspeisen der Hochfrequenzschwingung versehen ist.
  4. 4.) Plasmagenerator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper (16) von einem im wesentlichen undurchbrochenem Hohlkörper (14) ähnlicher Form im Abstand umgeben ist«
  5. 5.) Plasmagenerator nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Schlitz (18) mit einem Isoliermaterial ausgefüllt ist.
DE19691955914 1969-11-06 1969-11-06 Hochfrequenz-Plasmagenerator Pending DE1955914A1 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE758571D BE758571A (fr) 1969-11-06 Generateur de plasma a haute frequence
DE19691955914 DE1955914A1 (de) 1969-11-06 1969-11-06 Hochfrequenz-Plasmagenerator
GB5267170A GB1326412A (en) 1969-11-06 1970-11-05 Radio-frequency plasma generators
US87534A US3663858A (en) 1969-11-06 1970-11-06 Radio-frequency plasma generator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19691955914 DE1955914A1 (de) 1969-11-06 1969-11-06 Hochfrequenz-Plasmagenerator

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1955914A1 true DE1955914A1 (de) 1971-06-09

Family

ID=5750342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19691955914 Pending DE1955914A1 (de) 1969-11-06 1969-11-06 Hochfrequenz-Plasmagenerator

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3663858A (de)
BE (1) BE758571A (de)
DE (1) DE1955914A1 (de)
GB (1) GB1326412A (de)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3757518A (en) * 1970-11-03 1973-09-11 Messerschmitt Boelkow Blohm Ion engine
US3814983A (en) * 1972-02-07 1974-06-04 C Weissfloch Apparatus and method for plasma generation and material treatment with electromagnetic radiation
US3911318A (en) * 1972-03-29 1975-10-07 Fusion Systems Corp Method and apparatus for generating electromagnetic radiation
US4057462A (en) * 1975-02-26 1977-11-08 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Radio frequency sustained ion energy
US4584159A (en) * 1979-09-17 1986-04-22 Energy Profiles, Inc. Plasma wave damping system and method
US4390495A (en) * 1981-01-19 1983-06-28 Energy Profiles, Inc. Control of colliding ion beams
DE3711184A1 (de) * 1987-04-02 1988-10-20 Leybold Ag Vorrichtung zur einbringung von mikrowellenenergie mit einem offenen mikrowellenleiter
US4792732A (en) * 1987-06-12 1988-12-20 United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Radio frequency plasma generator
JP2805009B2 (ja) * 1988-05-11 1998-09-30 株式会社日立製作所 プラズマ発生装置及びプラズマ元素分析装置
JPH02215038A (ja) * 1989-02-15 1990-08-28 Hitachi Ltd マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置
EP0502269A1 (de) * 1991-03-06 1992-09-09 Hitachi, Ltd. Verfahren und Anordnung zum Behandeln mittels Mikrowellenplasmas
AU5017293A (en) * 1992-09-01 1994-03-29 University Of North Carolina At Chapel Hill, The High pressure magnetically assisted inductively coupled plasma
DE4337119C2 (de) * 1993-10-29 1996-10-24 Forsch Applikationslabor Plasm VHF-Plasmaquelle
US5668442A (en) * 1994-05-13 1997-09-16 Hughes Electronics Plasma-assisted tube with helical slow-wave structure
US5958266A (en) * 1997-10-24 1999-09-28 Fugo; Richard J. Method of plasma incision of matter with a specifically tuned radiofrequency electromagnetic field generator
EP1028662A4 (de) * 1997-10-24 2006-11-08 Fugo Richard James Verfahren zum plasmaschneiden von materie mittels speziell abgestimmten elektromagnetischen feldgeneratoren
US6479785B1 (en) 1998-07-09 2002-11-12 Richard J. Fugo Device for plasma incision of mater with a specifically tuned radiofrequencty electromagnetic field generator
US6518703B1 (en) * 1998-03-16 2003-02-11 Matsushita Electrical Industrial Co., Ltd. Electrodeless discharge energy supply apparatus and electrodeless discharge lamp device using surface wave transmission line
US6787730B2 (en) 1998-07-09 2004-09-07 Damian Coccio Device for plasma incision of matter with a specifically tuned radiofrequency electromagnetic field generator
DE19923018C2 (de) * 1999-05-19 2001-09-27 Univ Dresden Tech Vorrichtung zur Bearbeitung bandförmiger Werkstücke mit Hilfe resonanter Hochfrequenzplasmen
GB0312818D0 (en) * 2003-06-04 2003-07-09 Univ Cambridge Tech Acoustic sensor
WO2008021321A2 (en) 2006-08-17 2008-02-21 Rjf Holdings Iv, Inc Method and apparatus for plasma incision of cardiovascular tissue
JP5793418B2 (ja) 2008-05-02 2015-10-14 シャイン メディカル テクノロジーズ, インコーポレイテッド 医療用アイソトープ産生のための装置および方法
KR20110020702A (ko) * 2009-08-24 2011-03-03 한국기초과학지원연구원 균일한 대면적 마이크로웨이브 플라즈마 발생원을 위한 영구자석 장착형 안테나
WO2012003009A2 (en) 2010-01-28 2012-01-05 Shine Medical Technologies, Inc. Segmented reaction chamber for radioisotope production
DE102010001395B4 (de) * 2010-01-29 2013-11-14 Forschungsverbund Berlin E.V. Miniaturisierbare Plasmaquelle
US10734126B2 (en) 2011-04-28 2020-08-04 SHINE Medical Technologies, LLC Methods of separating medical isotopes from uranium solutions
IN2014DN09137A (de) 2012-04-05 2015-05-22 Shine Medical Technologies Inc

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2842712A (en) * 1953-03-06 1958-07-08 Philco Corp Electronic signal generator
US3171053A (en) * 1959-12-15 1965-02-23 Sperry Rand Corp Plasma-beam signal generator
NL265884A (de) * 1960-06-13
GB972457A (en) * 1962-08-10 1964-10-14 M O Valve Co Ltd Improvements in or relating to travelling wave tubes
US3378723A (en) * 1964-01-02 1968-04-16 Rca Corp Fast wave transmission line coupled to a plasma
US3363138A (en) * 1964-11-04 1968-01-09 Sperry Rand Corp Electron beam-plasma device operating at multiple harmonics of beam cyclotron frequency
US3388287A (en) * 1965-01-04 1968-06-11 Lockheed Aircraft Corp Tm01 mode rf pulse generator
DE1261608B (de) * 1965-12-22 1968-02-22 Inst Plasmaphysik G M B H Hochfrequenz-Plasmagenerator
US3432722A (en) * 1966-01-17 1969-03-11 Gen Electric Electromagnetic wave generating and translating apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
GB1326412A (en) 1973-08-15
BE758571A (fr) 1971-04-16
US3663858A (en) 1972-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1955914A1 (de) Hochfrequenz-Plasmagenerator
DE19628952B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma
DE1015870B (de) Spulenantenne zur Ausstrahlung und zum Empfang sehr kurzer zirkular polarisierter elektrischer Wellen
EP0916153A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von plasma
DE1099093B (de) Anordnung zum Ankoppeln der wendelfoermigen Verzoegerungsleitung einer Wanderfeldroehre an einen Hohlleiter
DE1016375B (de) Wanderfeldroehrenanordnung mit einer Verzoegerungsleitung in Form einer Doppelwendel (in sich gewendelten Wendel)
DE69614129T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur plasmaerzeugung
DE2417577C2 (de) Hochfrequenz-Erhitzungsvorrichtung zur Erhitzung eines dielektrischen Materials von langgestreckter Form und geringen Querschnitts
DE1130083B (de) Vorrichtung zur raeumlichen Begrenzung einer Vielzahl von geladenen Teilchen
DE3003258A1 (de) Hochfrequenz-resonator zur beschleunigung schwerer ionen
DE2208570A1 (de) Hochfrequenzröhre
DE2214522A1 (de) Mikrowellenfenster
DE662148C (de) Ultrakurzwellensender
DE944737C (de) Vorrichtung zum Erzeugen von Ultrakurzwellen
DE69221009T2 (de) Ionenneutralisierungsvorrichtung
DE1081086B (de) Hohlleitervorrichtung
DE1098625B (de) Magnetisches Buendelungssystem zur gebuendelten Fuehrung einer (mehrerer) Elektronenstroemung (en) mittels eines homogenen Magnetfeldes laengs einer groesseren Wegstrecke, insbesondere fuer Wanderfeldroehren
DE10358329B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma und Verfahren zur Erzeugung ionisierter Teilchen
DE904449C (de) Konzentrator fuer magnetische Feldlinien zur Induktionserhitzung
DE1060994B (de) Elektronenroehre zur Verstaerkung sehr kurzer elektrischer Wellen nach Art einer Wanderfeldroehre mit einer wendelfoermigen Verzoegerungsleitung
DE1491358A1 (de) Vorrichtung zur Phasenfokussierung von geladenen Teilchen
DE911630C (de) Anordnung zur Erregung einer Hohlrohrleitung mit ultrakurzen Wellen
DE1073636B (de) Ankopplungsanordnung für eine Wanderfeldröhre mit einer Wendel als Verzögerungsleitung
DE1541069B2 (de) Wanderfeld-Verstärkerröhre mit elektrostatischer Zentrifugalfokussierung
DE1541069C (de) Wanderfeld Verstärkerröhre mit elektro statischer Zentnfugalfokussierung