DE19527048C2 - Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse - Google Patents
Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer ProzesseInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechno
logischer Prozesse im Vakuum, insbesondere zur Elektronenstrahloberflächen
modifikation und zum Elektronenstrahlschweißen. Ein bevorzugtes Anwendungs
gebiet sind Elektronenstrahlprozesse an Werkstücken, die in ihrer Längsabmes
sung groß gegenüber ihren Querschnittsabmessungen sind, insbesondere Rohre
und Profile, wie Führungsleisten.
Es ist bekannt, Vakuumkammern von Elektronenstrahlanlagen so zu dimensionie
ren, daß alle für die Behandlung in diesen Anlagen vorgesehenen Werkstücke in
der Vakuumkammer aufgenommen und prozeßspezifisch bewegt werden können.
Diese Anlagen haben den Nachteil, daß für lange Werkstücke große bzw. der
Werkstücklänge angepaßte Vakuumkammern mit einem entsprechend großen
Volumen erforderlich sind. Die damit verbundenen langen Evakuierungszeiten
wirken sich nachteilig auf die Produktivität solcher Anlagen aus. Ein weiterer
Nachteil besteht darin, daß die Werkstücke, die zu einem späteren Zeitpunkt ei
nem Elektronenstrahlprozeß unterzogen werden sollen und länger als die zur
Verfügung stehende Vakuumkammer sind, nicht in dieser Elektronenstrahlanlage
bearbeitet werden können.
Es wurde vorgeschlagen, Vakuumkammern mit Verlängerungs- oder Erweite
rungsbaugruppen herzustellen, die in ihrer Längsausdehnung der Länge der
Werkstücke angepaßt werden können. Das erfolgt derart, daß eine Vakuumkam
mer, die alle zur Prozeßdurchführung notwendigen Baugruppen besitzt, ein- oder
beidseitig durch Ansetzen weiterer Vakuumkammersegmente erweiterbar ist
(DE 44 18 162 A1).
Es wurde weiterhin vorgeschlagen, um ein Mittelteil einer Vakuumkammer, wel
ches alle zur Prozeßdurchführung notwendigen Baugruppen besitzt, ein- oder
beidseitig mehrere Segmente derart anzuordnen, daß diese vakuumdicht inein
ander bzw. übereinander schiebbar sind. Mit einer solchen Ausgestaltung läßt
sich die Vakuumkammer an die Länge der zu behandelnden Werkstücke anpas
sen (DE 44 18 161 A1).
Beide Lösungen haben jedoch den Nachteil, daß bei feststehender Elektronenka
none die prozeßspezifische Bewegung vom Werkstück übernommen werden
muß. Daraus folgt, daß bei einer Behandlung des Werkstückes in. Richtung seiner
Längsausdehnung die Vakuumkammer doppelt so lang sein muß, wie das Werk
stück. Auch mit einer in Längsrichtung beweglichen Elektronenkanone läßt sich
dieser Nachteil nur unzureichend vermeiden, da es nicht möglich ist, die Elektro
nenkanone über die gesamte Länge einer derart zusammensetzbaren oder erwei
terbaren Vakuumkammer zu verfahren. Dadurch bedingt steigt der Evakuierungs
aufwand stark an, womit der erreichbaren Dimension zu behandelnder Werkstü
cke Grenzen gesetzt sind.
Es ist auch bekannt, sogenannte Nullrezipienten zu verwenden, d. h. die Vakuum
kammer umschließt das Werkstück derart, daß das über das Werkstückvolumen
hinausgehende zu evakuierende Volumen nahezu Null ist. Man erreicht dabei mit
geringen Aufwand an Evakuierungstechnik sehr kurze Evakuierungszeiten. Der
Einsatz von Nullrezipienten für lange Werkstücke ist aber ungünstig, da der Strö
mungswiderstand bei der Evakuierung stark ansteigt, was wiederum eine Erhö
hung der Evakuierungszeiten zur Folge hat, bzw. den Einsatz weiterer Evakuie
rungstechnik erforderlich macht. Desweiteren kann mit einem Nullrezipienten nur ei
ne vorbestimmte Werkstückgröße bearbeitet werden.
Es sind auch Spezialanlagen bekannt, die über kompliziert gestaltete Adapter auf
Großteile aufgesetzt werden und sich auf diesen Teilen entlang der vorgegebenen
Kontur bewegen. Diese Anlagen verlangen aber eine besondere geometrische
Anpassung an die am Prozeßort vorhandene Oberfläche. Dabei ist über aufwen
dige, an das spezielle Bauteil angepaßte Dichtungen die Evakuierbarkeit der zum
Bauteil hin offenen Vakuumkammer zu gewährleisten. Weiterhin benötigen solche
Anlagen zusätzliche Einrichtungen, die das Führen der Elektronenkanone, der
Vakuumkammer, sowie der Versorgungseinrichtungen ermöglichen.
Diese Nachteile sind der Grund, weshalb in der Praxis solche Anlagen nur in
Ausnahmefällen und nur für sehr große und teure Einzelteile eingesetzt werden.
Es ist weiterhin eine Einrichtung zum Elektronenstrahlschweißen bekannt, welche nur den
Bereich des zu schweißenden Werkstückes aufnimmt. Das Werkstück wird durch eine
vakuumdichte Durchführung in die Vakuumkammer eingebracht und ist in der Durch
führung bewegbar. Dadurch ist es möglich, kleinere Vakuumkammern zu verwenden
(Leybold-Heraeus GmbH, 62-120.2, ESW 15/3-60). Der Nachteil besteht jedoch darin, dass
der aus der Vakuumkammer ragende Teil des Werkstückes von einer Vorrichtung zur
Werkstückhandhabung aufgenommen werden muss, so dass sich die zu schweißenden
Werkstücke auf kleine Werkstückabmessungen beschränken.
Es ist weiterhin bekannt, zwei Rohre in einem Rezipienten stirnseitig zu verschweißen,
indem die Elektronenkanone um die feststehenden Rohre rotiert (GB 13 70 442). Diese
Einrichtung ist außerdem nur für einen jeweilig bestimmten Rohrdurchmesser anwendbar.
Es ist auch bekannt, für das Verschweißen von zwei Rohren diese im Rezipienten an beiden
Seiten über Dichtungen einzuführen und in Rotation zu versetzen. Die zu erzeugende
Schweißnaht wird unter der feststehenden Elektronenkanone positioniert
(JP-A-55-112 187). Auch diese Lösung ist auf einen bestimmten Rohrdurchmesser
abgestellt.
Beiden Lösungen ist gemeinsam - bedingt dadurch, dass sie zum Verschweißen von
Rohrleitungen, wie es bei der Verlegung von Rohrsträngen, z. B. Pipelinen, erforderlich ist,
vorgesehen sind - eine Einrichtung zu schaffen, die nur für einen bestimmten Rohr
durchmesser ausgelegt, leicht handhabbar und ortsveränderlich einsetzbar ist. Sie sind nicht
für beliebige Querschnitte und Profile einsetzbar.
Die bekannten Einrichtungen haben gemeinsam den Nachteil, daß sie die Ausfüh
rung elektronenstrahltechnologischer Prozesse an langgestreckten Werkstücken,
vorzugsweise an Rohren oder Profilen nicht oder nur mit unverhältnismäßig gro
ßem Aufwand ermöglichen, indem ein großer apparativer Aufwand, wie z. B. Er
weiterungsbaugruppen, zusätzliche Evakuierungstechnik und zusätzliche Einrich
tungen zur Bauteilhandhabung oder teure Sonderkonstruktionen für einzelne
Bauteile, erforderlich ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung zur Durchführung
elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum zu schaffen, die eine Va
kuumkammer mit nur kleinem evakuierbaren Volumen erfordert und trotzdem für
Werkstücke mit verschieden großen Längen geeignet ist, d. h. für Werkstücke, die
im Verhältnis zu ihrem Querschnitt eine große Längsausdehnung aufweisen. Es
soll außerdem möglich sein, derartige Werkstücke in bereits vorhandenen Einrich
tungen, in denen sie bisher infolge ihrer Länge nicht von der Vakuumkammer auf
genommen werden konnten, zu behandeln. Lange Werkstücke sollen abschnitts
weise bearbeitbar sein. Es soll weiterhin möglich sein, derartig langgestreckte
Werkstücke nur an den Enden oder Stirnseiten mit dem Elektronenstrahl zu be
handeln, ohne daß die Vakuumkammer der gesamten Werkstücklänge angepaßt
werden muß.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe nach den Merkmalen des Patentanspruches 1
gelöst. Weitere Ausgestaltungen der Einrichtung sind in den Patentan
sprüchen 2 bis 6 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Einrichtung hat den Vorteil, daß für die Durchfüh
rung von Elektronenstrahlprozessen an langen Werkstücken die Vakuumkammer
nicht das Werkstück in seiner gesamten Länge aufnehmen muß, sondern nur den
Bereich, der behandelt werden soll. Dabei können sich mehrere Bereiche lücken
los aneinander anschließen oder die Bereiche sind im Abstand voneinander vor
gegeben. Die Vakuumkammer ist in Bewegungsrichtung der zu behandelnden
Werkstücke nur so lang ausgeführt, damit der Bereich, der in einem Prozeßschritt
vom Elektronenstrahl zu behandeln ist, aufgenommen werden kann. Vorhandene
Einrichtungen, die nicht zur Aufnahme des Werkstückes in seiner gesamten Län
ge geeignet sind, können verwendet werden, wenn deren Vakuumkammer nur so
lang ist, daß sie der Länge des Bereiches des Werkstückes entspricht, der vom
Elektronenstrahl zu behandeln ist.
Die erfindungsgemäße Durchführung zum vakuumdichten Einführen des Werkstücks in die Vakuum
kammer enthält als eine Baugruppe die Spannvorrichtung, eine
Dichtung für das jeweils zu bearbeitende Werkstück und ein Antriebselement zur Durchfüh
rung der translatorischen und rotatorischen Bewegung des Werkstückes über einen an sich
bekannten Antrieb. Diese Baugruppe ist leicht auswechselbar und an den Querschnitt des
Werkstückes anpaßbar.
Es ist zweckmäßig, die Durchführung an einer Stirnseite oder einer Tür der Vaku
umkammer anzuordnen. So kann es auch zweckmäßig sein, besonders bei Null
rezipienten, die Durchführung und die Vakuumkammer so zu gestalten, daß die
Durchführung die Stirnseite bildet.
Bei der Lösung bestimmter Bearbeitungsaufgaben, z. B. Härten der Stirnflächen
von Wellen, ist es zweckmäßig, die Durchführung auf der der Elektronenkanone
gegenüberliegenden Fläche anzuordnen, so daß das Werkstück entgegen der
Strahlrichtung eingebracht wird.
Verwendet man das Prinzip des sogenannten Nullrezipienten, das bedeutet, daß
der Querschnitt der Vakuumkammer dem Querschnitt der zu bearbeitenden
Werkstücke weitestgehend angepaßt ist, kann die Vakuumkammer im Vergleich
zu herkömmlichen Anlagen wesentlich kleiner ausgeführt werden. Im gleichen
Maße verringert sich das zu evakuierende Volumen, so daß die Evakuierungs
technik für die Vakuumkammer kleiner dimensioniert werden kann. Dadurch wer
den die Kosten für eine solche Einrichtung und die Nebenzeiten gesenkt, was zu
einer Steigerung der Produktivität führt. Für eine Bearbeitung von hohen Stück
zahlen ist diese Ausführungsform der Einrichtung besonders zweckmäßig.
Bei vorhandenen Einrichtungen, in denen die Werkstücke infolge ihrer Längsab
messung bisher nicht von der Vakuumkammer er aufgenommen werden konnten, ist
durch die erfindungsgemäße Anordnung der Durchführung an einer Fläche der Vakuumkammer,
zweckmäßigerweise der Tür, die Möglichkeit gegeben, nunmehr auch lange
Werkstücke zu bearbeiten, wenn die Vakuumkammer nur so lang ist, daß der vom
Elektronenstrahl zu beaufschlagende Bereich in die Vakuumkammer eingebracht
werden kann. Der Vorteil besteht darin, daß dadurch die Einsatzmöglichkeiten ei
ner vorhandenen Einrichtung erhöht werden, ohne dass eine größere Vakuum
kammer mit dazugehöriger Evakuierungstechnik erforderlich wird oder die Vaku
umkammer durch zusätzliche Anbauten vergrößert werden muß.
Bei der Bearbeitung von Hohlprofilen wird durch eine entsprechende Vakuum
dichtung ein Ende des Werkstückes innerhalb oder außerhalb der Vakuumkam
mer abgedichtet.
Vorteilhafterweise kann die Dichtung in der Durchführung für einfache Querschnit
te als aufblasbarer Schlauch ausgebildet sein. Dadurch ist es möglich, daß dieser
für mehrere Querschnittsgrößen von Werkstücken verwendbar ist.
Es kann aber auch zweckmäßig sein, das Führungselement in der Vakuumkam
mer so auszubilden, daß es gleichzeitig für die Abdichtung von Hohlprofilen ge
eignet ist.
An zwei Ausführungsbeispielen wird die Er
findung näher erläutert. Die zugehörigen Zeichnungen zeigen in:
Fig. 1: einen Schnitt durch eine Einrichtung zur Bearbeitung langer Werkstücke
mit einer dem Querschnitt des Werkstückes angepaßten Vakuumkammer,
Fig. 2: einen Schnitt durch eine vorhandene Einrichtung, die für die Bearbeitung
langer Werkstücke erweitert ist,
Fig. 3: einen Halbschnitt durch eine Durchführung in der Wand der Vakuum
kammer
Fig. 1 zeigt eine Einrichtung zum Elektronenstrahlhärten von langen Werkstücken
1, nach der Ausführungsform der Einrichtung mit einer dem Werkstück 1 ange
paßten Vakuumkammer 2. Das Werkstück 1 ist eine Hohlwelle (Rohr), deren En
den in einem kurzen Bereich, in dem sie gelagert wird, mit dem Elektronenstrahl 3
gehärtet werden. Auf der Vakuumkammer 2 ist eine Elektronenkanone 4 ange
ordnet, die den Elektronenstrahl 3 erzeugt. Eine Evakuierungseinrichtung 5 zur
Erzeugung des notwendigen Arbeitsdruckes ist an die Vakuumkammer 1 ange
schlossen.
An einer Stirnseite der Vakuumkammer 2 ist eine Durchführung 6 angeflanscht,
die die Vakuumkammer 2 vakuumdicht abschließt. Die Durchführung 6 ist in Fig. 3
näher beschrieben. Das an den Enden zu härtende Werkstück 1 wird derart durch
die Durchführung 6 in die Vakuumkammer 2 eingebracht, daß jeweils der auf je
der Seite zu härtende Bereich vom Elektronenstrahl 3 beaufschlagt werden kann.
Zur Führung des Werkstückes 1 sind außerhalb der Vakuumkammer 2 Führungs
elemente 7 angeordnet. Durch ein speziell ausgebildetes Führungselement 8,
das in der Vakuumkammer 2 angeordnet ist, wird das Werkstück 1 gelagert und
zugleich gegen den Atmosphärendruck abgedichtet. Nach der Evakuierung der
Vakuumkammer 2 auf Arbeitsdruck, wird das Werkstück 1 in bekannter Weise
durch Beaufschlagung mit dem Elektronenstrahl 3 gehärtet. Die für eine Härtung
des Umfangs erforderliche Drehbewegung des Werkstückes 1 wird durch ein mit
der Durchführung 6 kombiniertes Antriebselement 9 realisiert. Die Steuerung und
Ablenkung des Elektronenstrahls 3 wird in Abhängigkeit von der Werkstückbewe
gung in bekannter Weise programmiert.
Fig. 2 zeigt eine Ausführungsform der Einrichtung zum Elektronenstrahlhärten
unter Einbeziehung einer vorhandenen Einrichtung für die Bearbeitung beliebiger
Werkstücke, deren Vakuumkammer 2 an sich nicht zweckmäßig zur Bearbeitung
von Werkstücken großer Länge ausgeführt ist. D. h. die Vakuumkammer 2 ist nicht
geeignet, die Werkstücke 1 in ihrer Länge aufzunehmen. Das zu bearbeitende
Werkstück 1 ist ein Rohr.
Die Vakuumkammer 2 ist üblicherweise an einer Stirnseite durch eine Tür 10 ver
schließbar. Auf der Vakuumkammer 2 ist in Längsrichtung der Vakuumkammer 2
beweglich die Elektronenkanone 4 angeordnet und eine Evakuierungseinrichtung
5 zur Erzeugung des notwendigen Arbeitsdruckes angeschlossen. In der Vaku
umkammer 2 ist eine Werkstückaufnahme 11 zur Führung und Abstützung des
Werkstückes 1 angeordnet.
Durch die erfindungsgemäße Erweiterung der Einrichtung mit dem Einbau einer
Durchführung 6 in die Tür 10 der Vakuumkammer 2, sowie der Anordnung von
Führungselementen 7 außerhalb der Vakuumkammer 2 in Verbindung mit dem
Antriebselement 9, welches mit der Durchführung 6 kombiniert ist, ist die Härtung
der Endbereiche des Werkstückes 1 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel
durchführbar.
Durch die Durchführung 6 wird das Werkstück 1 in die Vakuumkammer 2 einge
bracht, ohne das dazu die Tür 10 geöffnet werden muß. Die Abdichtung des
Werkstückes 1 gegen den Atmosphärendruck erfolgt durch eine Kappe 12, wel
che das Werkstückende vakuumdicht verschließt. Durch Fixierung des Werkstüc
kes 1 in der Durchführung 6 wird die schlupffreie, prozeßspezifische Drehbewe
gung des Werkstückes 1 ermöglicht.
Fig. 3 zeigt eine Durchführung 6, als eine Baugruppe die für beide Ausführungsformen geeignet ist.
Ihr als Flansch ausgebildeter Außenring 13 ist an der Vakuumkammer 2 in be
kannter Weise auswechselbar und vakuumdicht befestigt. Im Außenring 13 ist
drehbar und vakuumdicht ein Innenring 14 gelagert, welcher über einen Zahn
kranz 15 von einem bekannten Antrieb (hier nicht gezeichnet) angetrieben wird. Im Innenring
14 ist einem, dem Werkstückquerschnitt angepaßten Formstück 16 befestigt, wel
ches eine aufblasbare Dichtung 17 und eine Spannvorrichtung 18 aufnimmt. (Alle
für die Funktion erforderlichen Dichtungen und Lager als integraler Bestandteil
der Durchführung 6 sind nicht gezeichnet.)
Zur Bearbeitung wird, wie bereits beschrieben, das Werkstück 1 durch die
Durchführung 6 in die Vakuumkammer 2 eingebracht. Nachdem das Werkstück 1
in der Spannvorrichtung 18 fixiert wurde, wird durch das Aufblasen der Dichtung
17 das Werkstück 1 vakuumdicht über den gesamten Umfang abgedichtet.
Claims (6)
1. Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse an
Werkstücken, bestehend aus einer Vakuumkammer, deren Querschnitt annähernd
dem Querschnitt der zu bearbeitenden Werkstücke entspricht, deren Länge der
Ausdehnung des in einem Prozessschritt vom Elektronenstrahl zu beaufschlagenden
Bereiches angepasst ist, einer an der Vakuumkammer fest oder beweglich
angeordneten Elektronenkanone, Evakuierungseinrichtungen, Stromerzeugungs
einrichtungen, Steuer- und Kontrolleinrichtungen, Führungs- und/oder Antriebs
elementen und einer Durchführung (6), die an einer Seite der Vakuumkammer (2) zum
vakuumdichten Einführen des Werkstückes (1) angeordnet und für eine rotatorische und
translatorische Werkstückbewegung geeignet ist, wobei die Durchführung (6) aus einem
Außenring (13), der vakuumdicht über lösbare Verbindungselemente an der Vakuum
kammer (2) befestigt ist, einem in den Außenring vakuumdicht eingesetzten und mit
einem Antriebselement für eine translatorische und rotatorische Bewegung
verbundenen Innenring (14), einem in den Innenring eingesetzten und an den Querschnitt
des Werkstückes angepassten Formstück (16), einer zwischen Werkstück und Formstück
befindlichen, das Werkstück umschließenden Dichtung (17) und einer das Werkstück im
Formstück fixierenden Spannvorrichtung (18) besteht.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß insbesondere die
Spannvorrichtung (18) und die Dichtung (17) der Durchführung (6) entsprechend dem
Querschnitt des Werkstückes (1) ausgeführt ist.
3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtung (17) ein
aufblasbarer Schlauch ist.
4. Einrichtung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei Werkstücken
(1), die Hohlprofile sind, auf einer Stirnseite des Werkstückes (1) eine Kappe (12) vaku
umdicht aufgebracht ist.
5. Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kappe (12) zugleich
als Führungselement ausgebildet ist.
6. Einrichtung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchführung
(6) an einer Tür (10) der Vakuumkammer (2) angeordnet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1995127048 DE19527048C2 (de) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse |
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Publications (2)
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DE19527048A1 DE19527048A1 (de) | 1997-01-30 |
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ID=7767668
Family Applications (1)
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DE1995127048 Expired - Fee Related DE19527048C2 (de) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse |
Country Status (1)
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DE (1) | DE19527048C2 (de) |
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DE4418161A1 (de) | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
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Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |