DE4418162A1 - Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum - Google Patents
Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im VakuumInfo
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- C21D1/09—Surface hardening by direct application of electrical or wave energy; by particle radiation
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- B23K15/06—Electron-beam welding or cutting within a vacuum chamber
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Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung, mit welcher elektro
nenstrahltechnologische Prozesse - insbesondere zur Oberflächen
modifikation - durchgeführt werden. Ein bevorzugtes Anwendungsge
biet ist das Härten von Führungsbahnen an Werkstücken für den
Maschinenbau, Führungsleisten und auch Flächen bzw. Ebenen an
beliebig gestalteten Maschinenteilen.
Es ist bekannt, derartige Verfahren in Einrichtungen auszuüben,
die aus einem Rezipienten mit den zugehörigen Pumpen zur Evakuie
rung bestehen, an welchem eine Elektronenkanone zur Strahlerzeu
gung angeordnet ist. In dem Rezipienten ist mehrdimensional
beweglich eine Vorrichtung zur Aufnahme der zu behandelnden
Werkstücke angeordnet. Zur gesamten Anlage gehören neben der
Stromversorgung und der Steuerung für den Elektronenstrahl auch
die Werkstückbewegung sowie Beobachtungs- und Kontrolleinrichtun
gen. Dieses Grundprinzip ist entsprechend dem speziellen Anwen
dungszweck bzw. den zu behandelnden Werkstücken modifiziert. Dazu
ist es beispielsweise bekannt, durch Bewegung des Werkstückes
und/oder der Elektronenkanone eine Relativbewegung zwischen
beiden auszuführen.
Die bekannten Einrichtungen haben gemeinsam den Nachteil, daß bei
sich ändernden Werkstückabmessungen oder vor allem bei sich
ändernder Form Probleme dahingehend auftreten, daß das Verhältnis
des Rezipientenvolumens oder der Rezipientenabmessung zum
Werkstück sehr ungünstig ist. Das bedeutet, es muß ein unnötig
großes Rezipientenvolumen bei kleinen Teilen evakuiert werden.
Das wiederum bedeutet lange Nebenzeiten. Besonders tritt der
Nachteil auf, wenn Führungsleisten oder -bahnen sehr unterschied
licher Längen zu bearbeiten sind. Der Rezipient muß also stets
mindestens die doppelte Länge haben, wie das Werkstück lang ist.
Es ist versucht worden, den Rezipienten den maximalen Maßen der
zu bearbeitenden Werkstücke anzupassen und in dem Fall, daß das
Volumen der Werkstücke wesentlich kleiner ist, werden in den
Rezipienten dem Leerraum angepaßte Formkörper eingebracht, die
somit das zu evakuierende Volumen verkleinern. Diese Lösung ist
aber mit dem Mangel behaftet, daß diese Formkörper vakuumdicht
und dadurch sehr stabil ausgeführt sein müssen. Das bedingt ein
hohes Gewicht und außerdem ist die Anbringung aufwendig.
Eine weitere bekannte Ausführung derartiger Einrichtungen besteht
darin, daß zur Erweiterung des Bereiches für die Beaufschlagung
der Werkstückoberfläche, insbesondere quer zur
Werkstücktransportrichtung, die Elektronenkanone in dieser
Richtung bewegbar oder auch schwenkbar ist. Diese Lösung ist nur
in geringem Umfang geeignet, die Mängel zu beseitigen, da der
Schwenk- bzw. Ablenkbereich in keinem Verhältnis zu den möglichen
Variationen der zu beaufschlagenden Fläche steht.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung zur
Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse zu schaf
fen, die universell einsetzbar ist, indem sie ermöglicht,
Werkstücke zu behandeln, deren Abmessungen - insbesondere in
Längsrichtung - sehr unterschiedlich sind. Dabei soll vor allem
das zu evakuierende Volumen dem jeweiligen Werkstückvolumen bzw.
der Werkstücklänge angepaßt sein, damit die Evakuierungszeit
gering ist. Es soll mit der Einrichtung auch möglich sein, die
Werkstückaufnahme relativ einfach dem Werkstück und dem Rezipien
tenvolumen anzupassen. Der apparative und zeitliche Aufwand dafür
soll gering sein.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe nach den Merkmalen des Patentan
spruches 1 gelöst. Weitere Ausgestaltungen der Einrichtung sind
in den Patentansprüchen 2 bis 7 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Einrichtung ist durch die Kombination von an
sich bekannten Baugruppen charakterisiert, die sich dadurch
auszeichnet, daß ein relativ kleiner Rezipient, der alle prozeß
bedingten Baugruppen enthält, in seiner Länge ohne wesentlichen
Aufwand beliebig an die Länge der zu bearbeitenden Werkstücke
anpaßbar ist. Das sog. Mittelteil des Rezipienten, welches die
Elektronenkanone, Beobachtungseinrichtungen, Anschlüsse für
Vakuumpumpen aufweist, kann beliebig ein- oder beiderseitig
ergänzt bzw. verlängert werden. Diese Verlängerung erfolgt durch
einzelne Segmente, die mittels üblicher Dichtungen und mechani
scher Verbindungen aneinander gereiht werden.
Die einzelnen Segmente sind in bestimmten Längen als eine kom
plette Einheit vorhanden und werden derart aneinander gereiht,
daß sie in ihrem oberen Bereich aneinander gehängt werden; z. B.
greifen Klauen ineinander. Durch ihr Eigengewicht drücken diese
abdichtend gegeneinander und werden im unteren Bereich verspannt
und lagefixiert. Die dazwischen befindliche Dichtung ist zweckmä
ßigerweise eine Schlauchdichtung. Durch das Zusammenklappen der
Segmente untereinander und an das Mittelteil rasten die
Führungsbahnen ineinander.
Der Querschnitt des Mittelteils und der Segmente kann rund und
auch rechteckig sein.
In dem Mittelteil sowie in den Segmenten, die unterschiedliche
Länge haben können, ist eine Führungsbahn derart angeordnet, daß
sich beim Aneinanderreihen der Segmente diese zu einer gemeinsa
men Führungsbahn lückenlos verbinden. Damit ist gewährleistet,
daß auf einer so entstandenen durchgehenden Führungsbahn die
Werkstückaufnahme durch den gesamten Rezipienten bewegt werden
kann.
Zweckmäßig besteht die Führungsbahn aus mindestens je einem
Führungs- und Transportelement. Die Führungsbahn kann auch
zweckmäßigerweise so ausgebildet sein, daß sie so weit in dem
Endteil angeordnet ist, um bei geöffneter Tür mit einer gleich
ausgeführten Führungsbahn auf einem Außenbett verbunden zu
werden. Dadurch ist es möglich, die Werkstückaufnahme aus dem
Rezipienten herauszufahren, um die Be- und Entstückung vorzuneh
men. Auch für Wartungsaufgaben und zur Reinigung des Rezipienten
ist das Herausfahren der Werkstückaufnahme zweckmäßig. Die Lager
für die Transportelemente der Führungsbahn in den Endteilen sind
dann entsprechend zu gestalten, daß ein Herausfahren möglich ist.
Gleichzeitig muß die Führungsbahn zu beiden Seiten Anschläge
besitzen, um den Fahrtweg zu begrenzen.
Es ist auch möglich, daß das Transportelement beispielsweise eine
Spindel ist und die Werkstückaufnahme durch deren Rotation in
Längsrichtung bewegt. Der Antrieb der Spindel befindet sich dabei
im Mittelteil.
Eine andere Ausführungsform besteht darin, daß das Transportele
ment eine Zahnstange ist, in die ein Ritzel eingreift, welches
ein an der Werkstückaufnahme angeordneter Antrieb antreibt.
Ist die Länge des Rezipienten und damit sein Volumen sehr groß,
wird über den weiteren im Mittelteil vorhandenen Pumpstutzen eine
weitere Vakuumpumpe angeschlossen. Sollte es prozeßbedingt
erforderlich sein, die Werkstückaufnahme zu kühlen, werden die
Wasserzu- und -ableitung als bewegliche Leitung ausgeführt und
mit der Leitung für die Energiezuführung an einen Festpunkt im
Rezipienten geführt.
Die Werkstückaufnahme ist zweckmäßig ein Schlitten, der eben oder
winklig ausgeführt ist. Auf ihm werden in bekannter Weise die
Werkstücke befestigt. Es ist auch möglich, darauf Drehvorrichtun
gen oder Magazine zu montieren, die den Werkstückwechsel im
Rezipienten, von außen angetrieben oder mit eigenem Antrieb,
bewirken.
Zur Erweiterung des Beaufschlagungsbereiches des Elektro
nenstrahls, d. h. zur Vergrößerung des Bearbeitungsfeldes, ist
die Elektronenkanone um die Längsachse schwenkbar oder auch quer
zur Längsrichtung des Rezipienten verschiebbar angeordnet.
Dadurch können auch senkrechte Flächen der Werkstücke vom Elek
tronenstrahl beaufschlagt werden.
Die erfindungsgemäße Einrichtung hat den Vorteil, daß die Länge
des Rezipienten bei optimalem Volumen baukastenförmig veränderbar
und damit der Werkstücklänge anpaßbar ist. Die Einrichtung kann
auch mit geringem Aufwand nur mit dem Mittelteil betrieben
werden, da dieses alle prozeßnotwendigen Baugruppen enthält.
Schließlich besteht der Vorteil darin, daß für alle Ausführungs
varianten ein einheitliches Mittelteil als Grundausstattung mit
allen prozeßnotwendigen Baugruppen verwendet wird. Die Größen der
Segmente sind insbesondere in ihrer Länge einheitlich bzw.
abgestuft herstellbar. Damit kann der Betreiber eine Grundein
heit, das Mittelteil, anschaffen und jederzeit durch Nachliefe
rung von standardisierten Segmenten seine vorhandene Anlage
erweitern. Die zugehörigen Endteile sind stets verwendbar. Ein
weiterer Vorteil ist es, daß diese Konstruktion von beiden Seiten
eine max. Zugängigkeit in den Rezipienten gewährleistet, was
günstig bei Reinigungsarbeiten ist. Für den Anlagenhersteller
besteht der wesentliche Vorteil, daß er sämtliche Teile des
Rezipienten als Standardteile herstellen kann. Selbst für eine
kleine Anlage, d. h. einen Rezipienten mit geringer Länge, kann
nur ein Mittelteil zum Einsatz kommen.
An einem Ausführungsbeispiel wird die Erfindung näher erläutert.
In den zugehörigen Zeichnungen zeigen
Fig. 1 einen Längsschnitt durch eine Einrichtung,
Fig. 2 einen Querschnitt durch das Mittelteil der Einrichtung.
Ein Mittelteil 1 des Rezipienten enthält alle für den vakuumtech
nologischen Prozeß erforderlichen Baugruppen, wie z. B. die
Elektronenkanone 2, einen Anschluß 3 für Vakuumpumpen zum Evaku
ieren des Rezipienten und eine Beobachtungseinrichtung 4. Zu
beiden Seiten des Mittelteiles 1 sind Segmente 5 angeordnet, die
an das Mittelteil 1 angeflanscht sind. An das jeweils äußerste
Segment 5 ist ein Endteil 6 angeflanscht, welches als Tür 7
ausgebildet ist. Zwischen dem Mittelteil 1, den Segmenten 5 und
den Endteilen 6 sind übliche Flanschdichtungen oder Schlauchdich
tungen (nicht gezeichnet) angeordnet. Die einzelnen Segmente 5
werden mit dem Mittelteil 1 des Rezipienten und mit den Endteilen
6 in ihrem oberen Bereich durch Einhängen, beispielsweise in
Klauen, verbunden. Desweiteren sind Anschlagmittel vorgesehen,
die der Lagefixierung dienen. Durch ihr Eigengewicht drücken sie
mit ihren Stirnflächen dichtend gegeneinander. Gegenüber den
Klauen, d. h. im unteren Bereich, kann zusätzlich eine Spannvor
richtung angeordnet sein, mit welcher die einzelnen Teile bzw.
Segmente verspannt und noch zusätzlich aneinandergepreßt werden
können.
Im Mittelteil 1 und jedem Segment 5 ist eine Führungsbahn 7
angeordnet. Diese Führungsbahnen 7 fügen sich mit dem Zusammen
flanschen der Teile zu einem gesamten Rezipienten lückenlos
aneinander und bilden eine durchgehende Führungsbahn 7. Die
Führungsbahn 7 besteht aus einem Führungselement, eine Schiene 8,
und einem Transportelement, eine Zahnstange 9. Beim Aneinander
reihen der Segmente 5 werden die Führungs- und Transportelemente
fluchtend verbunden. Auf der Führungsbahn 7 bewegt sich in
Längsrichtung zum Rezipienten eine Werkstückaufnahme 10. An
dieser ist ein Antrieb 11 angeordnet, der über ein Ritzel 12 in
die Zahnstange 9 eingreifend die Bewegung ausübt. Die Werkstück
aufnahme 10 ist als ebener Schlitten ausgeführt, auf dem die zu
behandelnden Werkstücke 13 in geeigneter Weise angeordnet sind.
Entsprechend der max. Werkstücklänge ist der Rezipient aus einer
Anzahl Segmente 5 zusammengesetzt und in seiner Gesamtlänge in
einem relativ großen Bereich variabel. Die Werkstückaufnahme 10
fährt auf der der Rezipientenlänge angepaßten Führungsbahn 7
durch den Beaufschlagungsbereich der Elektronenkanone 2. Die
Steuerung der Bewegung und Geschwindigkeit der Werkstückaufnahme
10 erfolgt in bekannter Weise abhängig von den Anforderungen an
das zu behandelnde Werkstück 13.
Alle für den elektronenstrahltechnologischen Prozeß erforderli
chen Baugruppen, Versorgungseinrichtungen, Steuereinrichtungen
usw. sind in herkömmlicher Weise ausgeführt und mit dem Mittel
teil 1 verbunden bzw. an ihm angeordnet. Mit 14 sind Füße des
Rezipienten bezeichnet, die entsprechend seiner Gesamtlänge,
d. h. der Anzahl der Segmente 5, verteilt angeordnet sind.
Zum Schutz vor austretenden Röntgenstrahlen an der Verbindungs
stelle der Segmente 5 und Endteile 6 und dem Mittelteil 1 sind in
diesen Bereichen Mittel zum Röntgenstrahlenschutz vorgesehen.
Claims (7)
1. Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer
Prozesse, bestehend aus einem Rezipienten, einer an dem Rezipien
ten angeordneten Elektronenkanone, einer im Rezipienten bewegli
chen Aufnahmevorrichtung für die zu behandelnden Werkstücke,
Vakuumpumpen, Stromerzeugungsrichtungen und Steuer- und Kontrol
leinrichtungen, gekennzeichnet durch folgende Merkmale:
- - der Rezipient besteht aus einem Mittelteil (1), an das die Elektronenkanone (2) angeflanscht und an dem mindestens ein Anschluß (3) zur Evakuierung angeordnet ist,
- - auf mindestens einer Seite des Mittelteils (1) ist mindestens ein Segment (5) an das Mittelteil (1) vakuumdicht angeflanscht,
- - die Segmente (5) sind miteinander vakuumdicht verbunden,
- - an dem jeweils äußeren Segment (5) ist vakuumdicht ein dieses vakuumdicht verschließendes Endteil (6) angeordnet, wobei minde stens ein Endteil (6) als Tür ausgeführt ist,
- - in den Rezipienten ist eine in Längsrichtung des Rezipienten verfahrbare Werkstückaufnahme (10) auf einer Führungsbahn, die im Mittelteil (1) und in jedem Segment (5) derart angeordnet ist, daß sie beim Aneinanderreihen der Segmente (5) und dem Verbinden mit dem Mittelteil (1) zu einer durchgehenden Führungsbahn (7) gekoppelt sind.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Führungsbahn (7) aus mindestens einem Antriebselement und minde
stens einem Führungselement besteht.
3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Antriebselement eine Zahnstange (9), in die der Antrieb (11) der
Werkstückaufnahme (10) eingreift, ist.
4. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Antriebselement eine Gewindespindel ist, die von einem im Mittel
teil angeordneten Antrieb angetrieben ist.
5. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Werkstückaufnahme (10) ein ebener
oder winkelförmig ausgebildeter Schlitten ist, auf welchem die
Werkstücke (13) direkt oder auf einer Drehvorrichtung auf der
Grundfläche oder des senkrechten Schenkels des Schlittens befe
stigt sind.
6. Einrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Werkstückaufnahme (10) durch Ausziehen entsprechend der Länge des
Rezipienten verlängerbar ist.
7. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenkanone (2) im Mittel
teil (1) quer zur Längsachse des Rezipienten verfahrbar und/oder
um ihre Längsachse schwenkbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944418162 DE4418162A1 (de) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944418162 DE4418162A1 (de) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4418162A1 true DE4418162A1 (de) | 1995-11-30 |
Family
ID=6518884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944418162 Ceased DE4418162A1 (de) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4418162A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19527048C2 (de) * | 1995-07-25 | 2001-06-28 | Fraunhofer Ges Forschung | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3365091A (en) * | 1964-10-30 | 1968-01-23 | Welding Research Inc | Vacuum chamber |
DE3022094A1 (de) * | 1979-06-12 | 1980-12-18 | Agusta Aeronaut Costr | Rasterelektronenmikroskop mit anpassbarer kammer, insbesondere fuer die untersuchung von teilen grosser abmessungen |
-
1994
- 1994-05-25 DE DE19944418162 patent/DE4418162A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Prospekt der Fi. Leybold-Heraeus GmbH, Hanau, "Elektronenstrahlschweissen, Grosskammer- anlagen" 1985, Druckzeichen 62.210.1 T & D 5.1.85 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE19527048C2 (de) * | 1995-07-25 | 2001-06-28 | Fraunhofer Ges Forschung | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |