DE3618283C2 - - Google Patents
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- DE3618283C2 DE3618283C2 DE19863618283 DE3618283A DE3618283C2 DE 3618283 C2 DE3618283 C2 DE 3618283C2 DE 19863618283 DE19863618283 DE 19863618283 DE 3618283 A DE3618283 A DE 3618283A DE 3618283 C2 DE3618283 C2 DE 3618283C2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bearbeiten
von Werkstücken mit einem Elektronenstrahl, bestehend
aus einer Arbeitskammer und mindestens einer Elek
tronenstrahlkanone, die auf der Arbeitskammer auf
einer verschiebbaren Platte befestigt ist, wobei die
Arbeitskammer und die Platte Elektronenstrahldurch
trittsöffnungen aufweisen.
Elektronenstrahlmaschinen bestehen in der Regel aus
den zwei Funktionsgruppen Elektronenstrahlkanone mit
elektrischer Versorgung und Arbeitskammer mit Pump
stand und Werkstückbewegungsvorrichtung. Die Be
arbeitung des Werkstücks findet unter Vakuum statt.
Elektronenstrahlkanone und Arbeitskammer werden
evakuiert, um die unerwünschte Verbreiterung des
Elektronenstrahls durch Streuung an den Luftmolekülen
zu vermeiden. Nur so ist die Energie der Elektronen
optimal zu nutzen. Um den Anforderungen der Produktion
nach kürzester Taktzeit, insbesondere beim Einsatz in
der Massenfertigung zu genügen, müssen extrem kurze
Pumpzeiten erreicht werden.
Aus der DE-PS 12 69 750 ist eine auf der Arbeitskammer
verfahrbare Elektronenstrahlkanone bekannt, die unter
Aufrechterhaltung der Abdichtung der Arbeitskammer
entlang eines in der Arbeitskammer angebrachten Schlit
zes verschoben wird. Zur Aufrechterhaltung eines
Vakuums werden die bei aufgesetzter Elektronenstrahl
kanone nicht geschlossenen Schlitzteile der Arbeits
kammer durch eine verschließbare Abdeckung abgedeckt.
Die Abdeckung kann hierbei als Platte oder Metall
streifen ausgebildet sein. Die Platte bzw. der Metall
streifen sind an der Elektronenstrahlkanone befestigt
und werden bei der Bewegung der Elektronenstrahlkanone
von dieser mitgenommen.
Mit dieser Vorrichtung wird zwar der Verfahrschlitz
der Arbeitskammer gegenüber der Elektronenstrahlkanone
abgedeckt, jedoch steht die Arbeitskammer mit dem Ge
häuse der Elektronenstrahlkanone über die Elektronen
strahldurchtrittsöffnungen in der Arbeitskammer und
der Platte bzw. dem Metallstreifen in Verbindung. Wird
die Arbeitskammer mit einem neuen Werkstück beladen,
so muß die Arbeitskammer und die mit der Arbeitskammer
über die Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen in Ver
bindung stehende Elektronenstrahlkanone evakuiert
werden. Dies erfordert eine hohe Pumpzeit.
Zum aufeinanderfolgenden Schweißen von Werkstücken
mittels Elektronenstrahlen ist eine Elektronenstrahl
kanone stationär zu einem Drehtisch angeordnet. Die
Arbeitskammern sind über Elektronenstrahldurchtritts
öffnungen mit der Elektronenstrahlkanone verbunden
(DE-PS 22 50 936).
In der DE-AS 19 21 226 steht eine drehbare Elektronen
strahlkanone ebenfalls immer über einer Öffnung mit
der Arbeitskammer in Verbindung. Die DE-AS 12 53 841
zeigt eine Druckstufensteuerung für eine Elektronen
strahlkanone.
Nach der DE-AS 20 04 050 soll bei einer stationär an
geordneten Elektronenstrahlkanone, die in den Arbeits
raum hineinragt, durch eine strahlenundurchlässige Ver
schlußvorrichtung ein Abschalten der Elektronenstrahl
kanone vermieden werden. Die strahlenundurchlässige
Verschlußvorrichtung besteht aus zwei sich längs einer
Z-förmigen Fuge überlappenden Plattenabschnitten, die
einen Druckausgleich zwischen Arbeitskammer und
Elektronenstrahlkanone zulassen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Pumpzeit
zu verringern, so daß die Arbeitskammer schnell eva
kuiert werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des
Anspruchs 1 gelöst.
Durch die Verbindung der Elektronenstrahlkanone mit
der Dichtplatte wird die Dichtplatte mit dem
bereits vorhandenen Fahrantrieb der
Elektronenstrahlkanone in eine Verschlußposition
gefahren. Vorteilhaft sind hierzu an der
Dichtplatte Räder oder Rollen, oder sonstige
Bauteile, die eine Rollreibung ermöglichen,
angeordnet, mit denen die Dichtplatte auf der
Arbeitskammer verfährt. Durch die Räder oder Rollen
wird eine geringe Reibung zwischen Dichtplatte und
Arbeitskammer erzeugt, so daß die Leistung des
Fahrantriebs der Elektronenstrahlkanone nicht
erhöht werden muß. Um einen gasdichten Verschluß
der Arbeitskammer gegenüber der
Elektronenstrahlkanone zu ermöglichen, ist die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der
Arbeitskammer von einer Dichtung umgeben, auf der
die Dichtplatte in der Verschlußposition angeordnet
ist. Die während des Bearbeitungsvorganges in einem
Bereich außerhalb der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen angeordnete
Dichtplatte weist einen Abstand zwischen ihrer
Unterseite und einer Arbeitskammerwand, auf der die
Dichtplatte verfährt, auf, der größer ist, als die
Höhe der Dichtung. Hierdurch wird vorteilhaft eine
Abnutzung der Dichtung während der Bearbeitung
vermieden. Um ein Absenken der Dichtplatte auf
einen Abstand zu ermöglichen, der geringer ist, als
die Höhe der die Elektronenstrahldurchtrittsöffnung
umgebenden Dichtung, sind in der Wand der
Arbeitskammer Aussparungen vorgesehen, in die die
Dichtplatte während ihrer Fahrbewegung von der
Ausgangsposition in die Verschlußposition fährt, so
daß die Dichtplatte mit den Rollen oder Rädern in
der Verschlußposition auf der Dichtung angeordnet
ist. Dabei erfolgt durch das Eigengewicht der
Dichtplatte ein gasdichter Verschluß der
Arbeitskammer. Selbstverständlich ist es auch
möglich, auf diese Dichtplatte eine Kraft,
beispielsweise Federkraft, wirken zu lassen. Dies
wird vorteilhaft dann erfolgen, wenn das
Eigengewicht der Dichtplatte nicht ausreicht, um
einen gasdichten Verschluß der Arbeitskammer zu
gewährleisten. Vorzugsweise ist vor der Dichtplatte
ein die Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der
Arbeitskammer umgebender Schmutzabstreifer
angeordnet, der mit einem senkrecht aus der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung hervorstehenden
Schutzschirm so zusammenwirkt, daß die die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der
Arbeitskammer umgebende Dichtung abgedeckt ist.
Durch diese Maßnahme wird vorteilhaft eine
Beschädigung der Dichtung während der Bearbeitung
von Werkstücken, insbesondere bei dem Schweißen,
Bohren, Umschmelzveredeln, Härten und Abtragen
erreicht. Um ein Eindringen der Außenluft in einen
Bereich zwischen Arbeitskammer und
Elektronenstrahlkanone zu verhindern, ist die
verschiebbare Platte auf einer Deckplatte gasdicht
angeordnet, die unter Bildung eines gasdichten
Verfahrraumes für die Dichtplatte mit der
Arbeitskammerwand verbunden ist. Die
Elektronenstrahlkanone ist vorteilhaft in der
Verschlußposition der Dichtplatte gegen Außenluft
abgeschlossen und muß somit ebenfalls nicht neu
evakuiert werden. Vorzugsweise sind an einer
Arbeitskammer jeweils eine Elektronenstrahlkanone
zur senkrechten und waagerechten Bearbeitung von
Werkstücken angeordnet. Bei dieser Ausführung ist
es vorteilhaft möglich, während der
aufeinanderfolgenden waagerechten Bearbeitung von
Werkstücken die senkrecht, d. h. an der Seitenwand
der Arbeitskammer angeordnete
Elektronenstrahlkanone mittels der Dichtplatte
gegenüber der Arbeitskammer zu verschließen, so daß
das zu evakuierende Gesamtkammervolumen verringert
ist.
Ein besonders einfacher Verschluß der Arbeitskammer
wird erreicht, wenn die verfahrbare Platte, auf der
die Elektronenstrahlkanone angeordnet ist, als
Dichtplatte ausgebildet ist. Dabei ist die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der
Arbeitskammer von zwei zueinander in Abstand
angeordneten Dichtungen umgeben, die zusammen mit
der auf der Arbeitskammer angeordneten
verschiebbaren Platte einen gasdichten Zwischenraum
bilden. Fährt die verschiebbare Platte mit der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung in diesen
Zwischenraum, dann ist die Arbeitskammer über den
links oder rechts von der Mittelachse der
Elektronenstrahlkanone verbleibenden Teil der
verschiebbaren Platte und die innere Dichtung
verschlossen.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der
Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher
beschrieben.
Es zeigt
Fig. 1 eine Teilschnittdarstellung der
Elektronenstrahlkanone mit Dichtplatte und
Schmutzabstreifer;
Fig. 2 ein weiteres Ausführungsbeispiel, bei dem
die verschiebbare Platte die Dichtplatte ist.
In der Fig. 1 ist eine Teilschnittdarstellung der
zwei Funktionsgruppen Elektronenstrahlkanone 10 und
Arbeitskammer 11 dargestellt. Die Arbeitskammer 11
besteht im wesentlichen aus einem umseitig durch
Wände 12, 12′ verschlossenen Gehäuse. In den Wänden
sind nicht näher dargestellte Türen oder Schleusen
zum Be- und/oder Entladen der Arbeitskammer 11
angeordnet. Die Wand 12′ weist eine in den
Arbeitsraum 13 mündende
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 auf und
erstreckt sich über die Wände 12. Senkrecht auf der
Wand 12′ sind weitere Seitenwände 15 mit ihren
Stirnseiten 16 angeordnet. Die Seitenwände 15 sind
in Abhängigkeit von der Wand 12′ in rechteckiger
Form, quadratischer Form oder als Kreisring
ausgebildet. Zwischen der Stirnseite 16 und der
Oberseite 17 der Wand 12′ ist in der Wand 12′ eine
umlaufende Dichtung 18 angeordnet. Auf den den
Stirnseiten 16 gegenüberliegenden Stirnseiten 19
der Seitenwände 15 ist eine Deckplatte 20 gasdicht
befestigt, die sich über die Seitenwände 15 hinaus
erstreckt und mit den Seitenwänden 15 und der Wand
12′ einen Verfahrraum 21 bildet. In dem durch die
Seitenwände 15 begrenzten Bereich der Deckplatte 20
ist eine in ihren Maßen von der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 abhängige
Öffnung 22 vorgesehen, die auf ihrer Oberseite von
einer umlaufenden Dichtung 23 umgeben ist. Auf der
Oberseite dieser Deckplatte 20 ist eine
verschiebbare Platte 24 angeordnet, auf der die
Elektronenstrahlkanone 10 befestigt ist. Der
Antrieb der verschiebbaren Platte 24 und damit der
Elektronenstrahlkanone 10 erfolgt über eine
Gewindespindel 25, die mit einer innerhalb der
verschiebbaren Platte 24 angeordneten Spindelmutter
26 in Verbindung steht. Die Spindel 25 ist
vorzugsweise in einem stirnseitig an der Deckplatte
20 befestigten Lagerbock 27 gelagert und kann
wahlweise von Hand oder mittels eines Fahrantriebs
gedreht werden. Die Drehbewegung wird über die
Spindelmutter 26 in eine Längsbewegung umgewandelt,
so daß die verschiebbare Platte 24 mit der
Elektronenstrahlkanone 10 entlang des Arbeitsweges
28 verfahrbar ist. Die verschiebbare Platte 24
weist eine abgestufte Zentralbohrung 29 auf, in
deren durchmessergrößeren Teil ein
Schmutzabstreifer 30 befestigt ist. Der
Schmutzabstreifer 30 besteht aus einem
büchsenähnlichen Teil 31 mit Anschraubflansch 32,
dessen Bohrung 33, vorzugsweise durchmessergleich
der Zentralbohrung 29 ist. Der Schmutzabstreifer 30
ist in seinem zur Oberseite 17 der Wand 12′
weisenden Bereich als tellerförmiger Körper 34
ausgebildet, dessen Maße größer sind, als der
Arbeitsweg 28, über den die Elektronenstrahlkanone
10 verfahrbar ist. Die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 der
Arbeitskammer 11 steht über die Bohrung 33 des
Schmutzabstreifers und die Zentralbohrung 29 der
verschiebbaren Platte 24 mit der
Elektronenstrahlkanone 10 in Verbindung. Mittels
des tellerförmigen Körpers 34 wird während der
Bearbeitung von Werkstücken die schlitzförmige
Elektronenstrahlöffnung 14 gegenüber dem
Verfahrraum 21 nahezu abgedichtet. In dem
büchsenähnlichen Teil 31 des Schmutzabstreifers 30
sind Bohrungen 35 angeordnet, in die Schalldämpfer
36 eingeschraubt sind und die den Verfahrraum 21
mit der Arbeitskammer 11 und der
Elektronenstrahlkanone 10 verbinden. An dem
tellerförmigen Körper 34 des Schmutzabstreifers 30
ist eine Dichtplatte 37 befestigt, an der Räder
oder Rollen 38 befestigt sind.
In der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 der
Arbeitskammer 11 ist ein Schutzschirm 39 befestigt,
der senkrecht aus der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung hervorsteht. Um
diesen Schutzschirm 39 ist in der Wand 12′ eine die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 umgebende
Dichtung 40 angeordnet, die durch den Schutzschirm
und die Unterseite 41 des tellerförmigen Körpers 34
während der Bearbeitung abgedeckt und somit gegen
Verschmutzungen geschützt ist.
Die Vorrichtung arbeitet wie folgt:
Über die Gewindespindel 25 wird die verschiebbare
Platte 24 mit der Elektronenstrahlkanone 10 entlang
des Arbeitsweges 28 während der Bearbeitung von
Werkstücken verfahren. Während dieser Bearbeitung
tritt der Elektronenstrahl durch die Zentralbohrung
29 der verschiebbaren Platte 24 sowie der Bohrung
33 des Schmutzabstreifers 30 und die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 der
Arbeitskammer 11. Bei dieser Bearbeitung entlang
des Arbeitsweges 28 wird die Dichtung 40 über den
Schutzschirm und die Unterseite 41 des
Schmutzabstreifers gegen Beschädigungen und
Verschmutzungen abgedeckt. Die mit dem
Schmutzabstreifer 30 verbundene Dichtplatte 37
verfährt während der Bearbeitung auf der Oberseite
17 der Wand 12′ der Arbeitskammer 11. Nach der
Bearbeitung des Werkstückes wird die
Elektronenstrahlkanone 10 soweit in Pfeilrichtung
42 verfahren, bis sich die Dichtplatte 37 in einer
Verschlußposition über der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 der
Arbeitskammer 11 befindet. Während die
Elektronenstrahlkanone 10 die über
Schmutzabstreifer und verschiebbare Platte mit ihr
verbundene Dichtplatte 37 in die Verschlußposition
schleppt, fährt die Dichtplatte 37 in nicht näher
dargestellte Aussparungen, die auf der Oberseite
der Wand 12′ der Arbeitskammer 11 angeordnet sind.
Dabei senkt sich die Dichtplatte 37 ab, bis sie mit
ihrer Unterseite auf der Dichtung 40 aufliegt.
Vorteilhaft ist die Dichtplatte so ausgebildet, daß
durch ihr Eigengewicht ein gasdichter Verschluß der
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 erreicht
wird. Selbstverständlich ist es auch möglich, wenn
beispielsweise die Dichtplatte 37 als dünnes Blech
ausgebildet ist, entsprechende Andruckelemente
vorzusehen, mit denen die Dichtplatte 37 auf die
Dichtung 40 angedrückt wird. Vorteilhaft ist somit
der Abstand 43 zwischen der Unterseite 44 der
Dichtplatte 37 und der Oberseite 17 der Wand
12′, auf der die Dichtplatte 37 verfährt größer und
in der Verschlußposition geringer als die Höhe der
Dichtung 40. Vorteilhaft wird hierdurch eine lange
Lebensdauer der Dichtung 40 erreicht.
Ist die Dichtplatte 37 in der Verschlußposition, d.
h. auf der Dichtung 40 so angeordnet, daß die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 der
Arbeitskammer gasdicht abgedichtet ist, so ist der
Raum oberhalb der Arbeitskammer 11, d. h. der
Verfahrraum 21 und der Gehäuseraum der
Elektronenstrahlkanone 10 von der Arbeitskammer 11
getrennt und braucht beim folgenden
Evakuierungsprozeß nicht abgepumpt werden. Die
Elektronenstrahlkanone 10 ist in der
Verschlußposition der Dichtplatte 37 über die
Dichtung 23 gegen Außenluft abgeschlossen und nur
mit dem ebenfalls gasdichten Verfahrraum 21
verbunden.
Das Evakuieren des Verfahrraums 21 erfolgt über die
Bohrungen 35 und die Schalldämpfer 36.
Nach einer weiteren Ausbildung der Erfindung ist
die verschiebbare Platte 24 als Dichtplatte 37
ausgebildet. In der Fig. 2 werden gleiche Teile mit
gleichen Bezugszeichen versehen. Auf der Oberseite
17 der Wand 12′ der Arbeitskammer 11 sind zwei die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen 14 umgebende
Dichtungen 40 und 45 angeordnet. Die verschiebbare
Platte, deren Antrieb nicht näher dargestellt ist,
liegt auf der Oberseite 17 der Wand 12′ auf und
wird auf dieser Oberseite 17 verfahren. Die beiden
Dichtungen 40, 45 weisen dabei einen Abstand
zueinander auf, der größer ist, als die in der
verschiebbaren Platte 24 angeordnete Zentralbohrung
29. Soll in diesem Fall die Arbeitskammer 11
gegenüber der mit der verschiebbaren Platte 24
verbundenen Elektronenstrahlkanone 10 verschlossen
werden, so verfährt die verschiebbare Platte 24 in
Pfeilrichtung 46 oder 47, bis die Zentralöffnung 29
zwischen den beiden Dichtungen 40, 45 angeordnet
ist. In dieser Verschlußposition liegt der links
oder rechts von der Zentralbohrung 29 liegende Teil
der verschiebbaren Platte 24 auf der die
Elektronenstrahldurchtrittsöffnung 14 umgebenden
Dichtung 40 auf und dichtet die Arbeitskammer
gegenüber der Elektronenstrahlkanone 10 ab, die
gleichzeitig durch die Dichtung 40 und 45 gegen
Außenluft abgeschlossen ist.
Vorteilhaft ist an einer Arbeitskammer 11 jeweils
eine Elektronenstrahlkanone 10 zur senkrechten und
eine zur waagerechten Bearbeitung von Werkstücken
angeordnet, wobei die jeweils nicht im
Arbeitseinsatz stehende Elektronenstrahlkanone 10
in der Verschlußposition angeordnet ist. Hierdurch
wird in besonders vorteilhafter Weise das
abzupumpende Volumen verkleinert und somit die
Taktzeit erhöht.
Claims (10)
1. Vorrichtung zum Bearbeiten von Werkstücken mit
einem Elektronenstrahl, bestehend aus einer Arbeits
kammer und mindestens einer Elektronenstrahlkanone,
die auf der Arbeitskammer auf einer verschiebbaren
Platte befestigt ist, wobei die Arbeitskammer und
die Platte Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen
aufweisen,
dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen Elektronenstrahlkanone (10) und
Arbeitskammer (11) mindestens eine Dichtplatte (24
oder 37) angeordnet ist, welche auf der Arbeits
kammer (11) in eine Verschlußposition verfahrbar
ist und in der Verschlußposition die Elektronen
trahldurchtrittsöffnung (14) der Arbeitskammer
(11) verschließt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Dichtplatte (37) mit der Elektronenstrahl
kanone (10) verbunden ist und von der Elektronen
strahlkanone (10) in eine Verschlußposition fahr
bar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß an der Dichtplatte (37) Räder und Rollen (38)
angeordnet sind, mit denen die Dichtplatte (37) auf
der Arbeitskammer verfährt.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (14) der
Arbeitskammer (11) von einem Dichtring (40) umgeben
ist, auf der die Dichtplatte (37) in der Verschluß
position angeordnet ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Abstand zwischen der Unterseite (44) der
Dichtplatte (37) und einer Arbeitskammerwand (12′),
auf der die Dichtplatte verfährt, größer und in der
Verschlußposition geringer ist als die Höhe der
Dichtung (40).
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß in der Wand der Arbeitskammer Aussparungen vor
gesehen sind, in denen die Dichtplatte (37) mit den
Rollen oder Rädern (38) in der Verschlußposition
angeordnet ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß vor der Dichtplatte (37) ein die Elektronen
strahldurchtrittsöffnung (14) der Arbeitskammer
(11) umgebender und die Dichtung (40) abdeckender
Schmutzabstreifer (30) angeordnet ist, dem ein
senkrecht aus der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung
(14) hervorstehender Schutzschirm (39) zugeordnet
ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die verschiebbare Platte (24) auf einer Deck
platte (20) gasdicht angeordnet ist, die unter
Bildung eines gasdichten Verfahrraumes (21) mit der
Wand (12′) der Arbeitskammer (11) verbunden ist.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Elektronenstrahlkanone (10) in der Ver
schlußposition der Dichtplatte (37) gegen Außenluft
abgeschlossen ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß an einer Arbeitskammer (11) jeweils eine Elek
tronenstrahlkanone (10) zur senkrechten und waage
rechten Bearbeitung von Werkstücken angeordnet ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19863618283 DE3618283A1 (de) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | Vorrichtung zum bearbeiten von werkstuecken mit einem elektronenstrahl |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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DE3618283A1 DE3618283A1 (de) | 1987-12-03 |
DE3618283C2 true DE3618283C2 (de) | 1989-05-03 |
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ID=6301994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE3618283A1 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1986
- 1986-05-30 DE DE19863618283 patent/DE3618283A1/de active Granted
Also Published As
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