DE19514350A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Waferherstellung - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur WaferherstellungInfo
- Publication number
- DE19514350A1 DE19514350A1 DE19514350A DE19514350A DE19514350A1 DE 19514350 A1 DE19514350 A1 DE 19514350A1 DE 19514350 A DE19514350 A DE 19514350A DE 19514350 A DE19514350 A DE 19514350A DE 19514350 A1 DE19514350 A1 DE 19514350A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ingot
- wafer
- grindstone
- rotating
- cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02002—Preparing wafers
- H01L21/02005—Preparing bulk and homogeneous wafers
- H01L21/02008—Multistep processes
- H01L21/0201—Specific process step
- H01L21/02021—Edge treatment, chamfering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B9/065—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D5/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting only by their periphery; Bushings or mountings therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D1/00—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
- B28D1/003—Multipurpose machines; Equipment therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/02—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
- B28D5/022—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
- B28D5/028—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with a ring blade having an inside cutting edge
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Description
Die Erfindung befaßt sich mit einer Vorrichtung und einem
Verfahren zum Herstellen eines Wafers, und insbesondere mit einer
Vorrichtung und einem Verfahren zur Herstellung eines Wafers,
welche eine verbesserte Effizienz bei der Waferherstellung
gestatten.
Üblicherweise wird eine Scheibenschneidmaschine eingesetzt, um
einen Rohblock bzw. Rohling oder Barren in Waferscheiben zu
unterteilen. In der Scheibenschneidmaschine wird der Rohblock auf
einem Vorschubtisch der Maschine festgelegt, welcher einen
Rohblock in Vorschubrichtung vorschiebt. Nachdem ein Rohblock in
eine Scheibenschneidposition eines Schneidmessers bzw. Schneid
blattes (ein Innenumfangsschneidblatt bzw. eine Innenlochsäge
wird hierbei im allgemeinen eingesetzt) gegen das rotierende
Schneidblatt mit Hilfe einer Indexiereinrichtung des Vorschubti
sches abgesenkt worden ist, wird der Rohblock gegen das Schneid
blatt gedrückt, und der Rohblock wird zu scheibenförmigen,
flächenhaften Wafern dadurch zugeschnitten, daß der Vorschubtisch
in Scheibenschneidrichtung vorgeschoben wird. Es gibt eine
rotierende Rohblock-Scheibenschneidmaschine, welche einen
rotierenden Rohblock gegen ein rotierendes Schneidblatt drückt,
und diese Maschine zeichnet sich durch kurze Zeiten für das
Scheibenschneiden aus.
Der äußere Umfang des scheibenförmig abgeschnittenen Wafers ist
als eine Kante ausgebildet (der äußere Umfang des Wafers ist im
wesentlichen senkrecht zu einer Schneidfläche des Wafers), so daß
ein Absplittern oder ein Ausbrechen an der Kante leicht auftreten
kann. Da der Wafer leicht zum Brechen infolge von Stoßbelastungen
auf den äußeren Umfang neigt, wird hierdurch die Ausstoßleistung
bei der Herstellung von Wafern herabgesetzt. Daher wird der
äußere Umfang des Wafers abgeschrägt bzw. angefast, bevor die
Schneidfläche des Wafers mittels einer Läppmaschine gelappt wird,
so daß das Absplittern und das Ausbrechen bzw. eine Rißbildung
am Wafer verhindert werden können. Üblicherweise ist eine Rand-
bzw. Kantenschleifmaschine zwischen der Scheibenschneidmaschine
und der Läppmaschine vorgesehen, so daß der äußere Umfang des in
Form einer Scheibe abgeschnittenen Wafers abgeschrägt bzw.
angefast wird.
Wenn jedoch das Läppen nach dem Anfasen auf übliche Weise
durchgeführt wird, ist der Anfasungsteil, welcher egalisiert
worden ist, in einem ähnlichen Zustand wie eine mit #800
geschliffene Oberfläche, da das Anfasen durchgeführt wird,
nachdem der angefaste Teil des äußeren Umfangs des Wafers mittels
einer Grobanfasung durch einen Schleifstein #800 und eine
abschließende Anfasung durch einen Schleifstein #1.500 eben
gemacht worden ist. Daher läßt sich der angefaste Teil, welcher
auf #1.500 geschliffen worden ist, nicht bis zum Ende des
Verfahrens in einem solchen guten Zustand aufrechterhalten. Somit
ergibt sich eine Schwierigkeit, welche darin zu sehen ist, daß
ein zusätzlicher Schritt bei der Bearbeitung erforderlich ist und
hierdurch die Effizienz bei der Herstellung von Wafern her
abgesetzt wird, da ein Schritt mit einer Grobanfasung vorhanden
sein muß, bevor das Läppen durchgeführt wird, und ein Schritt mit
einer abschließenden Anfasung vorhanden sein muß, nachdem das
Läppen durchgeführt worden ist, um die gewünschte geschliffene
Spiegelfläche am Anfasteil des Wafers zu erhalten.
Die Erfindung wurde unter Berücksichtigung der vorstehenden
Ausführungen geschaffen, und sie zielt darauf ab, unter Über
windung der zuvor geschilderten Schwierigkeiten eine Vorrichtung
und ein Verfahren zum Herstellen eines Wafers bereitzustellen,
welche eine verbesserte Effizienz bei der Herstellung von Wafern
gestatten und äußerst geeignet dahingehend sind, daß man eine
spiegelgeschliffene Oberfläche an dem Anfasteil des Wafers
erhält.
Nach der Erfindung wird hierzu vorgeschlagen, einen sich
drehenden Rohblock gegen ein rotierendes Schneidblatt zu drücken,
um den Rohblock in flächenförmige und scheibenförmige Wafer zu
unterteilen, und daß beim Zuschneiden des Rohblocks in Scheiben
ein Schleifstein, welcher eine geeignete Gestalt zur Anfasung
hat, gegen den äußeren Umfang der Schneidausnehmung gedrückt
wird, so daß der abzuschneidende Wafer angefast werden kann. Bei
der erfindungsgemäßen Auslegung wird beim Rotieren des Rohblocks
und beim Zuschneiden desselben zu Scheiben unter Andrückung gegen
das rotierende Schneidblatt der Schleifstein, welcher eine
geeignete Gestalt zum Anfasen hat, gegen den äußeren Umfang der
Schneidausnehmung gedrückt. Alternativ wird vor dem Unterteilen
des Rohblocks in scheibenförmige Wafer der Schleifstein gegen den
äußeren Umfang in der Schneidposition gedrückt, so daß eine V-
förmige Ausnehmung entlang des Außenumfangs in der Schneidposi
tion ausgebildet wird. Wenn daher der Rohblock mittels des
Schneidblattes in Scheiben unterteilt wird, läßt sich ein Wafer,
welcher von dem Rohblock in Form einer Scheibe abgeschnitten
worden ist, gleichzeitig anfasen.
Da ferner eine Nachformeinrichtung bzw. ein Kopierbearbeitungs
einrichtung vorgesehen ist, welche das Anfasen durch ein
Kopierbearbeiten mittels des Schleifsteins an dem Außenumfang des
Rohblocks vornimmt, läßt sich der Rohblock mit einer Ausricht
abflachung auf genaue Weise anfasen.
Weiter Einzelheiten, Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben
sich aus der nachstehenden Beschreibung von bevorzugten Aus
führungsformen unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung. In
der Zeichnung sind gleiche oder ähnliche Teile mit denselben
Bezugszeichen versehen. In der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht zur Verdeutlichung des
Aufbaus einer Waferherstellungsvorrichtung nach der
Erfindung,
Fig. 2 eine schematische Ansicht zur Verdeutlichung der
Gesamtauslegung einer Anfasmaschine,
Fig. 3 eine Schnittansicht entlang der Linie III-III in Fig.
2,
Fig. 4 eine Schnittansicht entlang der Linie IV-IV in Fig. 2,
Fig. 5 eine Schnittansicht zur Verdeutlichung eines Beispiels
einer Ausgestaltungsform eines Schleifsteins bzw.
eines Schleifwerkzeugs,
Fig. 6 eine Schnittansicht zur Verdeutlichung eines weiteren
Beispiels einer Ausgestaltungsform eines Schleifsteins
bzw. Schleifwerkzeugs,
Fig. 7 eine schematische Ansicht zur Verdeutlichung einer
Arbeitsweise einer Vorrichtung zur Herstellung eines
Wafers nach der Erfindung,
Fig. 8 eine perspektivische Ansicht eines Rohblocks mit einer
Ausrichtabflachung, und
Fig. 9 eine Draufsicht auf den Rohblock nach Fig. 8.
Nachstehend erfolgt eine eingehende Beschreibung einer bevorzug
ten Ausführungsform einer Vorrichtung und eines Verfahrens zum
Herstellen eines Wafers nach der Erfindung unter Bezugnahme auf
die beigefügte Zeichnung.
Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht zur Verdeutlichung des
Aufbaus einer Vorrichtung zur Herstellung eines Wafers nach der
Erfindung. Diese Vorrichtung zum Herstellen eines Wafers weist
im wesentlichen einen Hauptkörper 18 auf, welcher mit einem
Innenumfangsschneidblatt (Innenlochsäge) 12 versehen ist, dessen
Randabschnitt 12a an einem Innenumfangsrand ausgebildet ist, um
einen säulenförmigen Rohblock 10 in Scheiben zu schneiden. Sie
weist ferner einen Indexierschlitten 20 zum Fixieren des Endes
des Rohblocks 10 und zum Bewegen des Rohblocks 10 in vertikaler
Richtung, einen säulenförmigen Ständer 22, welcher mit einem
Motor 16 versehen ist, welcher den Rohblock 10 drehantreibt, und
einen Vorschubtisch 28 auf, welcher mit einer Anfasmaschine 30
versehen ist, welche den Umfang der Schneidfläche des in Scheiben
zu schneidenden Rohblocks 10 anfast. Die Waferherstellungsvor
richtung nach der Erfindung hat somit die Aufgabe, von dem
Rohblock 10 Scheiben abzuschneiden und den in Form einer Scheibe
von dem Rohblock 10 abgeschnittenen Wafer einzeln anzufasen.
Das Innenumfangsschneidblatt 12 ist an dem oberen Teil eines
rotierenden Körpers 19 nach Fig. 7 befestigt und es kann eine
Drehbewegung mit einer hohen Geschwindigkeit ausführen. Nachdem
der Rohblock in Richtung eines Pfeils D mit Hilfe des Indexier
schlittens 20 des Vorschubtisches 28 nach unten bewegt worden
ist, bewegt sich der Vorschubtisch 28 in Richtung eines Pfeils
A, während dem der Motor 16 den Rohblock 10 drehantreibt, so daß
der Rohblock 10 in flächenförmige und scheibenförmige Wafer
unterteilt wird.
Nunmehr erfolgt eine Beschreibung der Anfasmaschine 30 unter
Bezugnahme auf Fig. 2. Die Anfasmaschine 30 weist im wesentli
chen eine Basis 32, einen Schlitten 34, welcher auf der Basis 32
eine Gleitbewegung ausführt, einen säulenförmigen Ständer 36,
welcher an dem Schlitten 34 befestigt ist, einen Arm 40, welcher
sich entlang des säulenförmigen Ständers 36 bewegt, einen
Schleifstein bzw. ein Schleifwerkzeug 50, welches drehbeweglich
an dem Ende des Arms 40 angebracht ist, und einen Antriebsmotor
51 zum Drehantreiben des Schleifsteins 50 auf. Die Basis 32 ist
an dem Vorschubtisch 28 mit Hilfe einer Schraube 32a, usw.,
befestigt. Eine Führungsschiene 32B und ein Mutternteil 32C sind
auf der Basis 32 fest angebracht.
Der Schlitten 34 hat ein lineares Lager 34A und bewegt sich auf
der Führungsschiene 32B. Ferner ist ein Schlitten 35 vorgesehen,
welcher eine Stellspindel 35A drehantreiben kann, welche auf das
Mutterteil 32C geschraubt ist. Wenn daher der Schrittmotor 35 der
Stellspindel 35A eine Drehbewegung erteilt, kann sich der
Schlitten 34 horizontal auf der Basis 32 bewegen, wie dies in
Fig. 2 gezeigt ist.
Ferner ist eine Führungsschiene 36A vertikal an dem säulenförmi
gen Ständer 36 angeordnet, und ein Drehantriebsmotor 37 mit
Grunddrehrichtung und Gegendrehrichtung ist an dem oberen Teil
des säulenförmigen Ständers vorgesehen. Eine Schraubenspindel 37A
ist entlang der Führungsschiene 36A angeordnet, und das obere
Ende der Schraubenspindel 37A ist an dem Drehantriebsmotor 37 mit
Grunddrehrichtung und Gegendrehrichtung gelagert. Die Schrauben
spindel 37A ist ferner in das Mutternteil 37C geschraubt, welches
an einem Tragteil 37B befestigt ist, welches den Arm 40 trägt.
Das Tragteil 37B ist auf der Führungsschiene 36A mittels eines
linearen Lagers 40A beweglich gelagert. Wenn daher der Dreh
antriebsmotor 37 mit Grunddrehrichtung und Gegendrehrichtung in
Betrieb ist, kann sich der Arm 40, welcher mit Hilfe des
Tragteils 37B gehalten ist, in horizontaler Richtung entlang der
Führungsschiene 36A mit Hilfe einer Vorschubspindeleinrichtung
umfassend die Schraubenspindel 37A und das Mutternteil 37C
bewegen.
Nunmehr erfolgt eine Erläuterung des Arms 40 und des Schleif
steins 50 unter Bezugnahme auf die Fig. 3 und 4. Eine
Drehbetätigungseinrichtung 41 ist an dem Ende des Arms 40
festgelegt, und ein Zahnrad 42A ist an dem oberen Ende einer
Antriebsachse 41A der Drehbetätigungseinrichtung 41 vorgesehen.
Das Zahnrad 42A ist in Kämmeingriff auf einem Zahnrad 46A,
welches fest an einer Achse 46 angebracht ist, welche mit Hilfe
eines Lagerteils 45 drehbar gelagert ist.
Riemenscheiben 47A und 47B zur Führung sind an dem Eckteil des
Arms 40 vorgesehen und eine Riemenscheibe 47C ist an dem vorderen
Ende des Arms 40 vorgesehen, welcher einen Arm 55 für einen
Schleifstein verdreht. Die Riemenscheibe 47C ist an einer
Drehachse 53 festgelegt. Diese Riemenscheiben 46B, 47A, 47B und
47C sind mittels eines Steuerriemens 48 wirkverbunden. Ein Ende
des Arms 55 für einen Schleifstein, welches im wesentlichen
senkrecht zu der Drehachse 53 (horizontal) ist, ist an dem
Bodenteil der Drehachse 53 festgelegt, und das andere Ende trägt
den Schleifsteinmotor 51. Ein wulstförmiger Schleifstein bzw. ein
wulstförmiges Schleifwerkzeug 50 ist an dem vorderen Ende einer
Drehachse 51A des Motors 51 angebracht. Eine Rolle 57, welche ein
elastisches Teil, wie ein Kautschukteil hat, ist drehbeweglich
zwischen einer oberen Platte 57A und einer unteren Platte 57B
gelagert, welche von der oberen Seite und der Bodenseite des
Schleifscheibenmotors 51 vorstehen.
Wenn daher eine Antriebsachse 41A der Drehbetätigungseinrichtung
41 eine Drehbewegung ausführt, führt die Riemenscheibe 46B über
das Teil 42A eine Drehbewegung aus, so daß der Arm 55 für einen
Schleifstein um 180° mittels des Steuerriemens 48 und der
Riemenscheibe 47C gedreht werden kann. Wie in den Fig. 5 und
6 gezeigt ist, kann der Schleifstein annähernd wulstförmig
ausgebildet sein, oder es kann eine wulstförmige Anordnung 50A
von Schleifkörnern vorgesehen sein, welche geringfügig zur
Innenseite hin ausgeschnitten ist, was bedeutet, daß die Gestalt
des Schleifsteins in so geeigneter Weise gewählt werden sollte,
daß der äußere Umfang des Wafers angefast wird.
Nunmehr erfolgt eine Beschreibung der Arbeitsweise der Scheiben
schneidmaschine, welche den vorstehend beschriebenen Aufbau nach
der Erfindung hat. Bei diesen Erläuterungen wird auf Fig. 7
Bezug genommen. Zum besseren Verständnis der Erfindung ist in
Fig. 7 ein von dem Rohblock 10 abgeschnittener Wafer 62 extrem
dick dargestellt. In Wirklichkeit hat er aber eine Dicke von
weniger als 1 mm.
Zuerst wird der Indexierschlitten 20, welcher das Ende des
Rohblocks 10 hält, in Richtung D in Fig. 1 derart bewegt, daß
die Scheibenschneidposition des Rohblocks 10 an der Position des
Innenumfangsschneidblatts 12 eingestellt wird. Wenn dann der
Vorschubtisch 28 in Richtung A in Fig. 1 bewegt wird, wird das
Abschneiden der Waferscheiben vom Rohblock eingeleitet. Da die
Basis 32 der Anfasmaschine 30 an dem Vorschubtisch 28 festgelegt
ist, bewegt sich der Schleifstein 50 ebenfalls synchron mit dem
Vorschub des Rohblocks 10.
Wenn sich dann der Vorschubtisch 28 weiter in Richtung der
Scheibenschneidrichtung um einen vorbestimmten Abstand bewegt,
und der Rohblock etwa halb durchgeschnitten ist, kommt die
Drehbetätigungseinrichtung 41 in Wirkung und der Schleifstein 50
führt eine Drehbewegung aus, so daß die Schleifkammer 50A des
Schleifsteins 50 im oberen Teil in der Öffnung des Innenumfangs
schneidblattes angeordnet sind. Ferner treibt der Schrittmotor
35 den Schlitten 34 derart an, daß der Schleifstein 50 zur Anlage
gegen den Außenumfang der Scheibenschneidausnehmung 60 des
Rohblocks 10 kommen kann, und der Vorschub des Schlittens 34
erfolgt derart, daß die Anfasgröße auf eine vorbestimmte Größe
eingestellt werden kann. Während des Anfasens wird Schleiflüssig
keit dem Schleifstein 50 über eine Schleifflüssigkeits-Zufuhrdüse
zugeführt, welche in der Zeichnung nicht dargestellt ist. Als
Folge hiervon wird der Außenumfang der Scheibenschneidausnehmung
60 des Rohblocks 10 mit einer V-förmigen Gestalt durch die
Gestaltgebung der Schleifkörner 50A geschnitten, so daß der Wafer
62, welcher vom Rohblock 10 abgeschnitten ist, nach dem Anfasen
vollends abgeschnitten wird. Fig. 7 zeigt den zu schneidenden
Wafer. Wenn der Schleifstein 50 den Außenumfang der Scheiben
schneidausnehmung 60 schleift, berührt die Rolle 57 den Außen
umfang des Rohblocks 10 und sie wird durch den sich drehenden
Rohblock angetrieben, so daß die Gestalt der Umfangsfläche des
Rohblocks 10 kopiert wird, und der Rohblock mit einer Ausricht
abflachung genau angefast werden kann, wie dies in den Fig.
8 und 9 gezeigt ist. Auch ist es möglich, die Schnittiefe dadurch
einzustellen, daß die Kontaktkraft des Schleifsteins 50 einge
stellt wird, ohne daß die Rolle 57 vorgesehen ist.
Die Kraft, mit der der Schleifstein 50 die Scheibenschneid
ausnehmung 60 kontaktiert, läßt sich mit Hilfe einer ebenen
Spiralfeder oder dergleichen aufbringen, deren beide Enden an der
Drehachse 53 festgelegt sind, welche an der Riemenscheibe 47C
vorgesehen ist, so daß der Schleifstein 50 eine Drehbewegung
derart ausführt, daß die Scheibenschneidausnehmung 60 berührt
wird. Auch sind andere entsprechende Ausgestaltungen möglich.
Währenddem der abzuschneidende Wafer angefast wird, setzt das
Innenumfangsschneidblatt 12 die Scheibenschneidbewegung an dem
Rohblock 10 fort und schneidet den Wafer 62 ab. Es ist auch
möglich, das Abschneiden von dem Rohblock 10 zeitweise anzuhal
ten, wenn der Wafer 62 um einige Millimeter eingeschnitten ist,
und dann kann man das Scheibenschneiden wieder nach der Anfasung
aufnehmen.
Die Vorrichtung zur Herstellung eines Wafers nach der Erfindung
hat somit die Funktion, den Rohblock 10 in Wafer 62 scheibenför
mig zu unterteilen, und sie hat auch die Funktion, den Wafer 62
beim Abschneiden anzufasen, so daß dann, wenn von dem Rohblock
10 scheibenförmige Gebilde abgeschnitten worden sind, der
abzuschneidende Wafer 62 zugleich angefast werden kann. Wenn die
Vorrichtung zur Herstellung nach der Erfindung von dem Rohblock
scheibenförmige Gebilde abschneidet, wird der abzuschneidende
Wafer 62 grob angefast, es erfolgt ein Läppen und dann wird das
abschließende Anfasen vorgenommen, so daß sich die Bearbeitungen
auf einfache Weise durchführen lassen. Insbesondere läßt sich
hierbei auf geeignete Weise erreichen, daß die geschliffene
Oberfläche des Anfasteils des Wafers 62 spiegelglatt ist.
Folglich läßt sich die Herstellungseffizienz für die Wafer
verbessern. Da ferner der Rohblock 10 unter Ausführung einer
Drehbewegung zugeschnitten wird, ist es nicht erforderlich, daß
der Rohblock an einer Schneidbasis angeklebt wird und der
Rohblock hiervon abgelöst wird, so daß man eine weitere Verbes
serung der Effizienz erhält. Obgleich bei der bevorzugten
Ausführungsform das Anfasen während des Abschneidvorganges von
dem Rohblock vorgenommen wird, ist die Erfindung hierauf
natürlich nicht beschränkt, sondern es ist auch möglich, daß vor
dem Abschneiden einer Scheibe von dem Rohblock 10 der Schleif
stein gegen den Außenumfang in der Scheibenschneidposition
gedrückt wird, um eine V-förmige Ausnehmung entlang des Außen
umfangs in der Scheibenschneidposition auszubilden. Ferner kann
das Anfasen zu dem Zeitpunkt beginnen, zu dem das Abschneiden
einer Scheibe von dem Rohblock eingeleitet wird.
Wie in Fig. 2 gezeigt ist, kann an dem vorderen Ende des Arms
40 eine Waferaufnahmeschale 100 mit einer Aufnahmeunterlage 100A
vorgesehen sein. Ein Arm 100B zur Aufnahme der Schale 100 wird
synchron mit der Drehbewegung der Waferaufnahmeschale 100
gedreht, und die Waferaufnahmeschale 100 wird in die untere
Position des Rohblocks 10 bewegt, so daß der Wafer 62 aufgenommen
werden kann.
Wie sich aus der voranstehenden Beschreibung ergibt, wird bei der
Vorrichtung und dem Verfahren zum Herstellen eines Wafers nach
der Erfindung der Rohblock gegen das sich drehende Schneidblatt
beim Schneidvorgang angedrückt, und der Schleifstein mit einer
vorbestimmten Gestalt wird gegen den Außenumfang der Scheiben
schneidausnehmung angedrückt. Alternativ kann der Schleifstein
mit einer vorbestimmten Gestalt gegen den Außenumfang der
Scheibenschneidposition gedrückt werden, bevor das Abschneiden
einer Scheibe von dem Rohblock eingeleitet wird, so daß die V-
förmige Scheibenschneidausnehmung entlang des Außenumfanges in
der Scheibenschneidposition ausgebildet wird. Wenn dann im
Anschluß daran eine Scheibe von dem Rohblock abgeschnitten wird,
kann der abzuschneidende Wafer zugleich angefast werden.
Hierdurch läßt sich die Effizienz bei der Herstellung eines
Wafers verbessern.
Wenn ferner die Vorrichtung zur Herstellung des Wafers nach der
Erfindung eine Scheibe von dem Rohblock abschneidet und der
abzuschneidende Wafer grob angefast wird, und anschließend ein
Läppen durchgeführt wird, sowie dann eine abschließende Anfasung
am Ende erfolgt, läßt sich ein Bearbeitungsvorgang realisieren,
welcher äußerst geeignet ist, daß man an dem Anfasteil des Wafers
eine Spiegelschleiffläche erhält.
Es ist jedoch noch zu erwähnen, daß die Erfindung nicht auf die
spezifisch dargestellten Einzelheiten beschränkt ist, sondern daß
zahlreiche Abänderungen und Modifikationen möglich sind, die der
Fachmann im Bedarfsfall treffen wird, ohne den Erfindungsgedanken
zu verlassen.
Claims (8)
1. Verfahren zum Herstellen eines Wafers, bei dem ein sich
drehender Rohblock gegen ein sich drehendes Schneidblatt
derart gedrückt wird, daß flächenförmige und scheibenähn
liche Wafer abgeschnitten werden, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Schleifstein, welcher eine vorbestimmte Gestalt zum
Anfasen hat, gegen einen Außenumfang einer Scheibenschneid
ausnehmung gedrückt wird, während der Rohblock in Scheiben
unterteilt wird, so daß der abzuschneidende Wafer angefast
wird.
2. Verfahren zum Herstellen eines Wafers, bei dem ein sich
drehender Rohblock gegen ein sich drehendes Schneidblatt
derart gedrückt wird, daß sich flächenförmige und scheiben
ähnliche Wafer abtrennen lassen, dadurch gekennzeichnet, daß
eine im wesentlichen V-förmige Ausnehmung entlang eines
Außenumfangs in einer Schneidposition ausgebildet wird und
ein Schleifstein mit einer vorbestimmten Gestalt zum Anfasen
in dieser Scheibenschneidposition gegen den Rohblock
gedrückt wird, bevor das Scheibenschneiden von dem Rohblock
begonnen wird, so daß der abzuschneidende Wafer angefast
wird.
3. Verfahren zum Herstellen eines Wafers, bei dem ein sich
drehender Rohblock gegen ein sich drehendes Schneidblatt
derart gedrückt wird, daß flächenförmige und scheibenförmige
Wafer hiervon abgeschnitten werden, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Schleifstein, welcher eine vorbestimmte Gestalt zum
Anfasen hat, gegen einen Außenumfang einer Scheibenschneid
ausnehmung gedrückt wird, um den Wafer anzufasen, wenn eine
entsprechende Scheibe (Wafer) Rohblock abgeschnitten wird.
4. Vorrichtung zum Herstellen eines Wafers, bei der ein sich
drehender Rohblock (10) gegen ein sich drehendes Schneid
blatt (12) derart gedrückt wird, daß flächenförmige und
scheibenähnliche Wafer (62) abgeschnitten werden, gekenn
zeichnet durch einen Schleifstein (50), welcher eine zum
Anfasen vorbestimmte Gestalt hat, eine Dreheinrichtung (51)
zum Drehantreiben des Schleifsteins (50), und eine Bewe
gungseinrichtung (34, 35) zum Tragen des sich drehenden
Schleifsteins (50) und zum Kontaktieren des Schleifsteins
(50) mit dem Außenumfang des Rohblocks (10) in seiner
Scheibenschneidposition und zum Zurückfahren des Schleif
steins (50) zu dem Außenumfang des Rohblocks (10) in seiner
Scheibenschneidposition am Körper desselben.
5. Vorrichtung zum Herstellen eines Wafers nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß der Schleifstein (50) scheiben
förmig ausgebildet ist und der äußere Umfang desselben in
Richtung nach außen weisend V-förmig ausgebildet ist.
6. Vorrichtung zum Herstellen eines Wafers nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Paar von Flächen den V-
förmigen äußeren Umfang bilden, welche nach innen ausge
schnitten sind.
7. Vorrichtung zum Herstellen eines Wafers nach einem der
Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kopier
einrichtung (57) vorgesehen ist, welche das Anfasen mittels
einer Nachformeinrichtung derart vornimmt, daß der Schleif
stein (50) die Anfasung am Außenumfang des Rohblocks (10)
vornimmt.
8. Vorrichtung zum Herstellen eines Wafers nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kopiereinrichtung eine Rolle
(57) ist, welche mit Hilfe der Bewegungseinrichtung (34, 35)
gelagert ist, und den Außenumfang des Rohblocks (10) kon
taktiert, um eine Drehbewegung, angetrieben durch die
Drehkraft des Rohblocks (10), auszuführen, wenn der Schleif
stein (50) eine Schneidbearbeitung an dem Außenumfang der
Scheibenschneidausnehmung (60) ausführt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6121436A JPH07323420A (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | ウェーハ製造方法及びその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19514350A1 true DE19514350A1 (de) | 1995-12-07 |
Family
ID=14811098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19514350A Ceased DE19514350A1 (de) | 1994-06-02 | 1995-04-18 | Vorrichtung und Verfahren zur Waferherstellung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5582536A (de) |
JP (1) | JPH07323420A (de) |
DE (1) | DE19514350A1 (de) |
GB (1) | GB2289982B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0813931A1 (de) * | 1996-05-22 | 1997-12-29 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben |
WO2008074464A1 (de) * | 2006-12-18 | 2008-06-26 | Jacobs University Bremen Gmbh | Kantenverrundung von wafern |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5899743A (en) * | 1995-03-13 | 1999-05-04 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Method for fabricating semiconductor wafers |
JP3828176B2 (ja) * | 1995-02-28 | 2006-10-04 | コマツ電子金属株式会社 | 半導体ウェハの製造方法 |
US6783428B1 (en) * | 1999-01-18 | 2004-08-31 | Nsk Ltd. | Method for forming grooves on workpiece and for dressing a grindstone used in the groove formation |
US6361405B1 (en) * | 2000-04-06 | 2002-03-26 | Applied Materials, Inc. | Utility wafer for chemical mechanical polishing |
EP1834731B1 (de) * | 2006-03-15 | 2010-05-12 | J. Schneeberger Holding AG | Verfahren zum Schleifen von Zerspanungswerkzeugen |
WO2020179790A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 株式会社東京精密 | ワーク加工装置及び方法 |
US11504869B2 (en) * | 2019-03-06 | 2022-11-22 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Workpiece processing device and method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4344260A (en) * | 1979-07-13 | 1982-08-17 | Nagano Electronics Industrial Co., Ltd. | Method for precision shaping of wafer materials |
US5295331A (en) * | 1991-11-28 | 1994-03-22 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Method of chamfering semiconductor wafer |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3613132A1 (de) * | 1986-04-18 | 1987-10-22 | Mueller Georg Nuernberg | Verfahren zum zerteilen von harten, nichtmetallischen werkstoffen |
US4852304A (en) * | 1987-10-29 | 1989-08-01 | Tokyo Seimtsu Co., Ltd. | Apparatus and method for slicing a wafer |
EP0329087B1 (de) * | 1988-02-15 | 1994-11-17 | Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. | Verfahren und Vorrichtung für die Nachbearbeitung auf Innenlochfeinbearbeitungsmaschinen |
JPH0767692B2 (ja) * | 1989-09-07 | 1995-07-26 | 株式会社東京精密 | スライシングマシンの切断方法 |
JP2859389B2 (ja) * | 1990-07-09 | 1999-02-17 | 坂東機工 株式会社 | ガラス板の周辺エッジを研削加工する方法及びこの方法を実施するガラス板の数値制御研削機械 |
US5274959A (en) * | 1991-06-05 | 1994-01-04 | Texas Instruments Incorporated | Method for polishing semiconductor wafer edges |
US5128281A (en) * | 1991-06-05 | 1992-07-07 | Texas Instruments Incorporated | Method for polishing semiconductor wafer edges |
DE4134110A1 (de) * | 1991-10-15 | 1993-04-22 | Wacker Chemitronic | Verfahren zum rotationssaegen sproedharter werkstoffe, insbesondere solcher mit durchmessern ueber 200 mm in duenne scheiben vermittels innenlochsaege und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
US5538463A (en) * | 1992-11-26 | 1996-07-23 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Apparatus for bevelling wafer-edge |
US5427644A (en) * | 1993-01-11 | 1995-06-27 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor wafer and system therefor |
-
1994
- 1994-06-02 JP JP6121436A patent/JPH07323420A/ja active Pending
-
1995
- 1995-04-03 US US08/415,509 patent/US5582536A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-04-13 GB GB9507755A patent/GB2289982B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-04-18 DE DE19514350A patent/DE19514350A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4344260A (en) * | 1979-07-13 | 1982-08-17 | Nagano Electronics Industrial Co., Ltd. | Method for precision shaping of wafer materials |
US5295331A (en) * | 1991-11-28 | 1994-03-22 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Method of chamfering semiconductor wafer |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0813931A1 (de) * | 1996-05-22 | 1997-12-29 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben |
WO2008074464A1 (de) * | 2006-12-18 | 2008-06-26 | Jacobs University Bremen Gmbh | Kantenverrundung von wafern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2289982A (en) | 1995-12-06 |
GB9507755D0 (en) | 1995-05-31 |
JPH07323420A (ja) | 1995-12-12 |
GB2289982B (en) | 1998-06-24 |
US5582536A (en) | 1996-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3884903T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Abschneiden einer Halbleiterscheibe. | |
DE19535616B4 (de) | Schleifvorrichtung für Waferrand | |
EP0328482B1 (de) | Scheibenförmiges, rotierendes Werkzeug zum Profilieren von zylindrischen Schleifschnecken zum Schleifen von Zahnrädern | |
DE60022356T2 (de) | Doppelseitenpolierverfahren für dünne scheibenförmige Werkstücke | |
DE19626396A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliziumscheiben | |
EP2384853B1 (de) | Doppelseitenschleifmaschine | |
DE4138087A1 (de) | Verfahren zum schleifen der kanten eines scheibenfoermigen gekerbten werkstuecks | |
EP0626234B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Nachschärfen der Messer von Zerkleinerungsmaschinen | |
DE3613132A1 (de) | Verfahren zum zerteilen von harten, nichtmetallischen werkstoffen | |
DE19514350A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Waferherstellung | |
DE2545796A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten kleiner erzeugnisse aus flexiblem material | |
DE2311011B2 (de) | Kopierschleifmaschine zum schleifen von werkstuecken aus holz | |
DE3227271A1 (de) | Vorrichtung zum schaerfen einer scheibe | |
DE4107462C2 (de) | Werkzeugmaschine zur spanabhebenden Bearbeitung von Werkstücken | |
EP0485790B1 (de) | Vorrichtung zum Trennen und Besäumen von Leiterplatten | |
DE9202992U1 (de) | Vorrichtung zur Nachbearbeitung keramischer Formkörper | |
DE3012629A1 (de) | Automatische doppelkopfschleifmaschine | |
DE3339942C1 (de) | Bearbeiten von scheibenfoermigen Werkstuecken aus sproedbruechigen Werkstoffen | |
EP2996832B1 (de) | Sägemaschine | |
EP1412149B1 (de) | Wafer-schneidemaschine | |
DE3239720T1 (de) | Innenschleifmaschine | |
DE2440123A1 (de) | Spanabhebende werkzeugmaschine, insbesondere schleifmaschine | |
DE19648790C2 (de) | Werkzeugschleifmaschine | |
DE3875143T2 (de) | Vorrichtung zum polieren. | |
DE3217362A1 (de) | Verfahren und einrichtung zur herstellung von kreissaegeblaettern durch ausschleifen der zaehne |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8131 | Rejection |