DE194824T1 - Herstellungsverfahren von traegern fuer gedruckte schaltungen. - Google Patents

Herstellungsverfahren von traegern fuer gedruckte schaltungen.

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DE194824T1 DE198686301659T DE86301659T DE194824T1 DE 194824 T1 DE194824 T1 DE 194824T1 DE 198686301659 T DE198686301659 T DE 198686301659T DE 86301659 T DE86301659 T DE 86301659T DE 194824 T1 DE194824 T1 DE 194824T1
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Katsukiyo Kuze-Gun Kyoto-Fu Ishikawa
Kanji Ibaraki-Shi Osaka-Fu Nishijima
Mamoru Nishinomiya-Shi Hyogo-Ken Seio
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    • H05K3/064—Photoresists
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Claims (3)

Patentansprüche EP 86 301 659.8
1. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltplatte mit platierten Durchgangslöchern, bei dem eine pLatierte Platte mit einer Zahl von platierten Durchgangslöchern vorgesehen wird, bei dem auf der platierten Platte ein positiv arbeitender Fotodecklack gebildet wird, bei dem der Fotodecklack durch eine auf den Fotodeck lack ' auf gesetzte, positive Maske eines Schaltkreismusters einer aktiven Strahlung ausgesetzt wird,
bei dem der Fotodecklack der platierten Platte mit einer wässrigen oder halbwässrigen alkalischen Lösung entwickelt wird,
wodurch der belichtete Bereich entfernt und ein'Ätz-Decklack gebildet wird,
und bei dem dieser Decklack einer Ätzung unterworfen wird, um Kupfermetall, das zusammen'mit dem belichteten Fotodecklack auf die platierte Platte geschichtet ist,zu entfernen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Bildung des positiv arbeitenden Fotodecklackes mittels eines E I ekt'ronie-'d'ersch lagsverf ah rens mit einem anionischen oder kationischen Elektro.niederschlagsbad durchgeführt wird, das einen acrylsaures CopoIymer-haItigen Chinon-Diazid-Schwefel-Ester enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der acrylsaures Copolymer-haltige Chinon-Diazid-Schwefel-Ester enthält ein Copolymer (A) von
(a) einer mönoolefinisehen unsaturierten Verbindung oder einem durch Kopplung von Radikalen gebildeten diolefinischen Kohlenwasserstoff,
(b) einer unsaturierten Verbindung folgender Formel
&Ogr;&Iacgr; 94824
R1
C C 0— CH0-.- CH --CH0 O CO >
2 2 &khgr;
\ OH
R2
in der &eegr; eine ganze ZahL von 1 bis 3 ist; R1 ein .Wasser stoffatom oder eine Me thy I gruppe ist; R-, ein Wasserstoffatom, ein AlkyL mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe oder eine Nitrogruppe ist; und R, ein Hasserstoffatom,
j I oder &igr; j
N* &ogr; ■ X
i st , und
(c) einer unsaturierten Verbindung mit mindestens einersäurehaltigen Gruppe gewählt aus der Reihe: CL, ß-e t hy I en i s ehe unsaturierte Carboxy l-Sauren, polymerisierbäre organische Sulfonsäuren, polymerisierbare, organophosphorische Säuren und Salze davon, oder einer Mischung des Polymers (A) und anderer Chinon-Diazid-Schwefel-Ester (B), wobei der Gehalt an dem Copolymer (A) 5 Gew.% oder mehr der Mischung ausmacht.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Chinon-Diazid-Schwefel-Ester ein kationisches, acrylsaures Polymer (C) enthält von
(a) einer monooIefi&eegr;ischen unsaturierten Verbindung oder einem durch Kopplung von Radikalen gebildeten di&ogr; I efinise hen Kohlenwasserstoff,
(b) unsaturierten Verbindung der Formel,
,R1 R
CH2 -■■:'- C - C - 0 — CH2- CH — CH2 - 0— CO — ((.))
0 OH (0R3) '
in der R1, R ? , R, und &eegr; die vorher angegebene Bedeu- -., tung haben, und
(c) einer unsaturierten Verbindung mit einer Aminogruppe oder einer Mischung des Copolymers (C) und eines anderen Chinon-Diazid-Schwefel-EstersCB), wobei der Gehalt dieses Copolymers (C) 5 Gew.% oder mehr dieser Mischung ausmacht.
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