DE1772976A1 - Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten - Google Patents

Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten

Info

Publication number
DE1772976A1
DE1772976A1 DE19681772976 DE1772976A DE1772976A1 DE 1772976 A1 DE1772976 A1 DE 1772976A1 DE 19681772976 DE19681772976 DE 19681772976 DE 1772976 A DE1772976 A DE 1772976A DE 1772976 A1 DE1772976 A1 DE 1772976A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
circuit boards
printed circuit
production
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19681772976
Other languages
English (en)
Inventor
Horst Ringer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rockwell Collins Deutschland GmbH
Original Assignee
Teldix GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teldix GmbH filed Critical Teldix GmbH
Priority to DE19681772976 priority Critical patent/DE1772976A1/de
Publication of DE1772976A1 publication Critical patent/DE1772976A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/164Coating processes; Apparatus therefor using electric, electrostatic or magnetic means; powder coating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0079Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/427Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/10Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
    • H05K2203/105Using an electrical field; Special methods of applying an electric potential
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/061Etching masks
    • H05K3/062Etching masks consisting of metals or alloys or metallic inorganic compounds
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/108Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by semi-additive methods; masks therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

  • Fotomechanisches Verfahren von Leiterplatten zur Heratellunf- Die Erfindung betrifft ein fOto?!lechani sches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten mit durchkaschierten Bohrungen: Solche Leiterplatten sind auch unter der Bezeich-. nung "gedruckte Schaltungen" bekannt und werden in elektrotechnischen Geräten seit langem verwendet. Sie dienen als Träger von Transistoren, Widerständen und anderen Schaltungselementen. Die Erfindung betrifft insbesondere doppelseitig beschichtete Leiterplatten, bei denen Leiterbahnen der einen Seite mit Leiterbahnen der anderen Seite durch die Platte hindurch leitend verbunden sind. Die Platten haben dazu Böhrungen, deren Wandungen ebenfalls . mit einem leitenden Material beschichtet (kaschiert) sind, .so daß diese Schicht die leitende Verbindung, zwischen den vorgenannten Leiterbahnen zu beiden Seiten darstellt! Die Leiterschicht in der Bohrung darf daher nicht unterbrochen sein. Außerdem dienen solche Bohrungen als sogenannte Lötstützpunkte zum Anlöten der Schaltungselemente. Auch zum Herstellen einwandfreier Lötstellen ist eine ununterbrochen durchgehende Innenbeschichtung der Bohrung erforderlich. Das durch die Erfindung verbesserte, an sich bekannte . Herstellverfahren geht aus von zweiseitig mit Metall kaschierten Platten, beispielsweise kupferkaschierten Epoxydharzplatten. Die erforderlichen Bohrungen sind, in diese Platten schon eingebracht und die Wandungen der Bohrungen durchgehend kaschiert in vorhergehenden Verfahrensschritten, die an sich ebenfalls benannt sind und daher hier keiner näheren Erläuterung bedürfen. Nun muß die Kupferschicht zu beiden Seiten stellenweise abgeätzt werden, so daß nur noch das im wesentlichen aus den Leiterbahnen bestehende Flächenmuster bestehen bleibt. Man beschichtet dazu die ganze Platte mit einer lichtempfindlichen Lackschicht, belichtet diese mit dem Flächenmuster und löst den Zack anschließend an den belichteten Stellen in einem geeigneten Lösungsbad ab. Dabei ist jedoch, wie sich aus dem Ausführungsbeispiel noch im einzelnen ergeben wird, unbedingt darauf zu achten, daß die lichtempfindliche Schicht nur auf die ebenen Flächen der Platten, nicht aber auf die Wandungen der Bohrungen aufgebracht wird. Das erkl<jrt sich kurz so: Nur diese ebene Schicht erreicht das auftreffende Licht quer zur Schichtfläche, nur sie wird daher durchbelichtet und kann später abgelöst werden. Eine eventuelle Lackbeschichtung auf der Wandung der Bohrungen wird dagegen von den Lichtstrahlbn in Schichtrichtung beaufschlagt, das Licht kann die Schicht nicht durchdringen und daher gibt es keine Möglichkeit, die Beschichtung der Bohrungswand unter Beibehaltung der Beschichtung an einer anderen Stelle mit einem Lösungsbad abzulösen. Auch bilden sich in der Regel an den Bohrungsrändern Verdickungen der lichtempfindlichen Schicht, die ebenfalls nicht durchbelichtet werden können. Es kommt also darauf an, den aufzutragenden, lichtempfindlichen Lack nicht in die Bohrungen eindringen zu lassen. Mit Lackauftragsverfahren wie Dcstreichen, Tauchen, Schleudern und Spritzen ist dies nicht möglich. Auch das Bewalzen oder Bedrucken mit Lack hat stets die Bildung von Tropfen oder kleineren Lackansammlungen an den Rändern der Bohrungen zur folge. Erfindun&sgemäß wird daher vorgeschlagen, daß diese) lichtempfindliche Schicht, auf welche das später auszuätzende Flächenmuster zunächst foto-raf fisch übertrac;eri werden soll, mittels eines elektrostatischen Lackierverfahrens aufgebracht wird. Elektrostatische Lackierverfahren sind an sich seit längerer Zeit für Lacke aller Art bekannt. Diese Verfahren eignen sich zum Aufbringen einer gleichrnißig dicken Lachschicht insbesondere auf perforierten Flächen, Drahtwerk und ähnlichen Teilen und wurden seit la"-,Jem mit besonderer Sorgfalt und gute:: Erfolg daraufhin entwickelt, die Lackschicht auch in kleinste Poren und Ritzen eindringen zu lassen. Die Erfindung stellt sich .insofern gerade die entgegengesetzte Aufgabe, nämlich die Schicht in die kleiner: Bohrungen nicht eindringen zu lassen. Es war daher nicht zu erwarten, daß es mit dem elektrostatischer. Verfahren gelingen würde, die Bohrungen der kupferkaschierten Platten gemäß der Erfindung so vollkommen lackfrei zu halten. Es bestand daher auch gar kein Anl.aß, das neue und im Aufwand relativ teure Lackierverfahren für den Fotolackauftrag bei Leiterplatten einzusetzen. Der Vorteil bezüglich Arbeitszeitersparnis und (#ualitütsverbesseru_ng ist jedoch nach Kenntnis dieses Nebeneffektes des elektrostatischen Lackierverfahrens ganz erheblich. Es ist nun nicht mehr notwendig, die Bohrungen nach dem Lackauftrag eigens mechanisch zu sUubern; gleichzeitig ist die Sicherheit bezüglich einer einwandfreien Durchmetallisierung der Bohrung erheblich gestiegen.
  • Es ist noch besonders darauf,hinzuweisen, daß sich der angestrebte Erfolg insbesondere .bei rein elektrostatischen Lackierverfahren einstellt, das heißt, bei solchen Verfahren, bei denen die einzelnen Aerosole (Lackpartikelchen) ausschließlich aufgrund der Wirkung des elektrischen Feldes von der Sprühelektrode@abgelöst und zum Werkstück hinbefördert werden. Eine hilfsweise mechanische Zerstäubung, beispielsweise durch Sprühscheiben öder durch Druckluftzerstäubung, kann sich störend auswirken, weil dabei d.-ie Aerosole@trotz der bestehenden elektrischen Feldverhältnisse in die Bohrungen der Leiterplatten hineingeschleudert werden können Im folgenden soll ein Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert und mit dem bisher geübten Herstellungsverfahren verglichen werden. Fg. 1 zeigt einen Querschnitt durch ein Bruchstück einer fertigen Leiterplatte, Fig. 2 bis 6 zeigt das bisher geübte,llers,tellungsverfahren ohne elektrostatische Lackierung, und Fig. 7 bis 11 zeigt das erfindungsgemäße Verfahren mit seinen einzelnen Schritten.
  • In Fig. 1 ist der Plattengrundkörper aus Epoxydharz mit 1 bezeichnet. Von den vielen und meist-sehr verschlungenen Leiterbahnen ist eine herausgegriffen und mit 2 bezeichnet.. Sie endet in einem Ring 3, der eine Bohrung umschließt. Der Durchmesser solcher Bohrungen liegt in der Größenordnung von 0,5 mm bis 1,5 mm. Die Leiterbahn, der. Ring und die Wandung 4 der Bohrung bestehen aus einer unteren Kupferschicht 5 und einer darauf liegenden Zinnschicht 6. Die Zinnschicht hat im übrigen die Aufgabe, den Lötvorgang an einem solchen Lötstützpunkt zu erleichtern. Auf der Unterseite der Platte befindet sich ebenfalls ein Ring 7, von dem "ebenfalls eine hier allerdings nicht sichtbare@Leitungsbahn ausgehen kann. In den f o#nden Figuren werden die einzelnen Schritte des Herstellverfahrens an einem Ausschnitt 8 aus Fig. 1 einzeln dargestellt. Ftg. 2 zeigt zunächst die kupferkaschierte Platte in ihrem Ausgangszustand bei Beginn des Verfahrens. Die Kupferschicht 5 beschrl'inkt sich nicht nur auf die Bohrungsinnenseite und den Ringbereich um die Bohrung, sondern bedeckt die ganze Plattenfläche. Auf die ganze Fläche ist sodann eine lichempfindliche Lackschicht 9 nach einßm nicht elektrostatischen Verfahren aufgebracht, wobei sich an der Kante eine Ansammlung 12 gebildet hat, welche auch in die Bohrung hineinragt. Eine Schablone 10 soll schematisch andeuten, daß bei der Belichtung die ultravioletten Lichtstrahlen 11 nur die Bereiche 2 und 3 der lichtempfindlichen Schicht treffen. . Fig: 3 zeigt die Situation nach dem Entwickeln und Herauslösen des belichteten Teiles der Lackschicht. Der Bereich um die Bohrung, ist frei, die Lackansammlung 12 am oberen Bohrungsrand blieb jedoch bestehen. Nach der notwendigen Reinigung wird nun das Werkstück galvanssch verzinnt, wobei sich auf die blanken. Kupferflächen die Zinnschicht 6 legt. Dies zeigt Fig. 4. Wo Reste des lichtempfindlichen Lackes verblieben sind, setzt sich kein Zinn ab.
  • Fig. 5 zeigt das Werkstück nach dem Ablösen der nichtbelichteten Teile der Lackschicht mit einem anderen Lösungsmittel. Das Werkstüc ko;amt jetz in ein Ätzb5.j.d, welches die Kupferschicht, soweit sie nicht verzinnt ist, entfernt. Das Ergebnis zeigt Fig. E. Im oberen Teil der Bohrung ist das Kupfer an einem schmalen Bereich, der von der Lackansammlung 12 bedeckt war, weggefressen, so daß die Zeitungsverbindung von der einen Seite der Platte zur-anderen unterbrochen ist. Dies vermeidet die Erfindung durch den exakteren Lackauftrag, wie aus den Figuren ? - 11 zu ersehen ist.
  • Gemäß Fig. 7 wurde die lichtempfindliche Lackschicht 9 erfindungsgemäß elektrostatisch aufgebracht, die Schicht endet genau am Rand der Bohrung. Die Schicht wird nun wie bei Fig. 2 belichtet und der belichtete Bereich ausgelöst. Dies zeigt Fig. B. Fig. 9 zeigt eine durchgehende Zinnschicht auf den blanken Kupferstellen und Fig. 10 zeigt die Situation nach dem Entfernen der lichtempfindlichen Schicht 9. Fig. 11 endlich zeigt das gewünschte Ergebnis: Wie in Fig. 1 ist sowohl die Bohrungswandung a7.!#, auch der Ringbereich um die Bohrung durchgehend und fehlerfrei mit Kupfer und Zinn beschichtet.

Claims (1)

  1. Patentanspruch Fotomechanisches.Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten mit durchkaschierten Bohrungen, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht (9), auf welche da? später auszuätzende Flächenmuster zunächst fotografisch übertragen werden soll,, mittels eines elektrostatischen Lackierverfahrens aufgebracht wird.
DE19681772976 1968-07-30 1968-07-30 Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten Pending DE1772976A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19681772976 DE1772976A1 (de) 1968-07-30 1968-07-30 Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19681772976 DE1772976A1 (de) 1968-07-30 1968-07-30 Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1772976A1 true DE1772976A1 (de) 1971-08-12

Family

ID=5701477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681772976 Pending DE1772976A1 (de) 1968-07-30 1968-07-30 Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1772976A1 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002040A1 (de) * 1977-11-21 1979-05-30 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von Lötstoppmasken auf gedruckten Schaltungen mit Druckkontaktierungsbohrungen
EP0155231A2 (de) * 1984-03-07 1985-09-18 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von Abbildungen
EP0194824A2 (de) * 1985-03-08 1986-09-17 Nippon Paint Co., Ltd. Herstellungsverfahren von Trägern für gedruckte Schaltungen
DE3735798A1 (de) * 1987-10-22 1989-05-03 Klaus Grah Verfahren und vorrichtung zum elektrostatischen lackieren von elektrischen leiterplatten
US5046264A (en) * 1989-05-10 1991-09-10 Hoechst Aktiengesellschaft Method and apparatus for continuously drying boards coated on both sides

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0002040A1 (de) * 1977-11-21 1979-05-30 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von Lötstoppmasken auf gedruckten Schaltungen mit Druckkontaktierungsbohrungen
EP0155231A2 (de) * 1984-03-07 1985-09-18 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von Abbildungen
EP0155231A3 (en) * 1984-03-07 1988-01-20 Ciba-Geigy Ag Image-producing process
EP0194824A2 (de) * 1985-03-08 1986-09-17 Nippon Paint Co., Ltd. Herstellungsverfahren von Trägern für gedruckte Schaltungen
EP0194824A3 (en) * 1985-03-08 1988-01-13 Nippon Paint Co., Ltd. A method for preparing a printed circuit board
DE3735798A1 (de) * 1987-10-22 1989-05-03 Klaus Grah Verfahren und vorrichtung zum elektrostatischen lackieren von elektrischen leiterplatten
US5046264A (en) * 1989-05-10 1991-09-10 Hoechst Aktiengesellschaft Method and apparatus for continuously drying boards coated on both sides

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3013667C2 (de) Leiterplatte und Verfahren zu deren Herstellung
DE69215742T2 (de) Elektrostatische Sprühvorrichtung
DE1924775A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte
DE2353276A1 (de) Doppelseitige schaltung fuer mehrschichtschaltungen und verfahren zu ihrer herstellung
DE3433251A1 (de) Verfahren zur herstellung von galvanischen lotschichten auf anorganischen substraten
DE1772976A1 (de) Fotomechanisches Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten
DE2015643A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Mehrschi cht-Stromkreispaneelen
DE69230119T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Schattenmaske durch Ätzen einer Resistschicht
DE1814608A1 (de) Verfahren zum UEberziehen eines sich bewegenden Metallbandes
EP0127794A2 (de) Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen
DE2838982A1 (de) Verfahren zum herstellen von mehrebenen-leiterplatten
EP0457071A2 (de) Verfahren zur Erzeugung feiner Leiterbahnen
WO1995029573A1 (de) Verfahren zur bildung metallischer leitermuster auf elektrisch isolierenden unterlagen
WO1999067978A1 (de) Verfahren zum beschichten von leiterplatten oder dergleichen substraten
DE2400665B2 (de) Verfahren zur herstellung eines lotabweisenden schutzes auf leiterplatten mit durchgehenden loechern
DE1206976B (de) Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen nach der Aufbaumethode
DE10254927B4 (de) Verfahren zur Herstellung von leitfähigen Strukturen auf einem Träger und Verwendung des Verfahrens
DE2632548A1 (de) Anordnung und verfahren zur herstellen von verbindungen zwischen anschlusspunkten
DE102015218900A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Applizieren einer Funktionsstruktur auf einem textilen Substrat
DE2202077A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Mehrlagenleiterplatten
DE3110528A1 (de) Verfahren zur herstellung gedruckter schaltungen
DE1765013A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Mehrebenenschaltungen
EP1731007A1 (de) Multilayer-leiterplatte sowie verfahren zum herstellen einer solchen
EP0377872A2 (de) Verfahren zum Aufbringen einer Lötstoppabdeckung auf Leiterplatten
DE4240997C1 (de) Verfahren zur Herstellung von einfach zu bestückenden Leiterplatten