DE1944597C - Magnesiumzink tellurid-Legierung - Google Patents
Magnesiumzink tellurid-LegierungInfo
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- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- -1 Magnesium zinc telluride alloy Chemical class 0.000 title description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical class [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- MODGUXHMLLXODK-UHFFFAOYSA-N [Br].CO Chemical compound [Br].CO MODGUXHMLLXODK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenezinc Chemical group [Zn]=S WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTBJFXYWWZPTFM-UHFFFAOYSA-N tellanylidenemagnesium Chemical compound [Te]=[Mg] ZTBJFXYWWZPTFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTLQJUQHDTWYJC-UHFFFAOYSA-N zinc;selenium(2-) Chemical compound [Zn+2].[Se-2] GTLQJUQHDTWYJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
1 2
Die Erfindung bezieht sich auf Magnesiumzink- zeigen. Die obere Grenze von 0,4 ist durch praktische
tellurid-Legierungen sowie deren Verwendung bei Erwägungen (η-Typus) diktiert,
elektrolumineszenten Halbleiterbauelementen mit Die erforderliche Charge aus Magnesium, Zink,
pn-übergang. Tellur und irgendeinem Dotierstoft, der zum Erzeu-
Vor kurzem hat eine Klasse von pn-Übergangs- 5 gen entweder eines p- oder η-Materials gewünscht ist,
Vorrichtungen größeres Interesse erfahren, die Elek- wird dann in ein Graphitschiffchen oder ein anderes
trolumineszenz am pn-übergang zeigen, wenn dieser geeignetes Gefäß gegeben und das Ganze in das eine
in Durchlaßrichtung vorgespannt wird. Im Regelfall Ende eines Graphitrohres eingesetzt. Sodann wird
zeigen diese Vorrichtungen ihre Elektrolumineszenz eine geeignete Unterlage am anderen, dem Schiffim
sichtbaren Bereich des Spektrums, sie legen daher io chen gegenüberliegenden Ende des Graphitrohrs anzahlreiche
Anwendungsmöglichkeiten auf dem Gebiet geordnet. Für die Zwecke der Erfindung werden die
der Beleuchtung und der Informations-Bildwieder- Unterlage-Materialien unter jenen Halbleitennateriagabe
nahe. lien ausgewählt, die Zinkblende-Struktur und eine
Da diese Elektrolumineszenz die Existenz eines Gitterkonstante innerhalb ±10% der Gitterkonstante
pn-Übergan-gss im Halbleitermaterial voraussetzt, 15 von Magnesiumzinktellurid (6,1 A) aufweisen. Die
muß dieses notwendigerweise sowohl für p-Leitfähig- als besonders brauchbar für diesen Zweck befundelceit
als auch für η-Leitfähigkeit dotierbar sein, also nen Materialien sind Zinktellurid, Zinkselenid usw.
insoweit amphoteren Charakter besitzen. Des weite- Nachfolgend wird das Graphitrohr in ein Quarzren
muß das Halbleitermaterial eine hinreichend rohr verbracht, dem ein Halogen- oder eine HaIogroße
Energiebandlücke haben, damit eine Licht- ao genidverbindung in einer Menge zugegeben wird, die
emission überhaupt erhältlich ist. ausreicht, um zumindest ein Milligramm Halogen
Keine der bekannten Halbleiter erfüllten bisher pro cm3 des Reaktionsrohrvolumens bereitzustellen,
diese beiden Forderungen gleichermaßen befriedi- wobei dieses Minimum von Erwägungen diktiert ist,
gend. Teils haben sie zwar amphotere Eigenschaften, die sich auf die erforderliche Halogenmenge bezieaber
nur eine unbefriedigende variierbare Energie- 35 hen, um in Reaktion mit den elementaren Materiabandlücke
fü. eine Elektrolumineszenz im ganzen Hen zur Bildung der entsprechenden Halogenide zu
sichtbaren Spektrum, und f'ls haben sie zwar ver- treten. Sodann wird ein Ende des Quarzrohres abgenünftige
Energiebandlücken, aber keine amphoteren schmolzen, und das Rohr evakuiert. Danach wird in
Eigenschaften. So hat öeisr eisweise ZnTe^xSex das System Formiergas eingeführt und der vorauszwar
amphoteren Charakter, aber eine Mindestband- 30 gehende Zyklus wird dann zumindest zweimal deslücke
bei etwa 2,12 eV für χ = 0,36, während ZnSe wegen wiederholt, um die Höhe der Restgasveruneine
BandlUcke von 2,65 eV hat, aber nur mit n-Leit- reinigung zu reduzieren. Schließlich wird das gegenfähigkeit
herstellbar ist. Ähnliches gilt für ZnTe, das überliegende Ende des Rohres abgeschmolzen, woeine
Energiebandlücke von 2,3 eV hat, aber nur mit bei ein Restdruck von 10 'S.i 100 · 10"3 Torr des
p-Leitfähigkeit hergestellt werden kann. Dieses Ma- 35 Formiergases im System erhalten wird. Als nächstes
terial zeigt eine Laser-Emission bei 5280 A bei An- wird das abgeschmolzene Rohr in einen Ofen verregung
mit einem Elektronenstrahl. Hier handelt es bracht und mehrere Stunden in einem flachen Temsich
aber um einen vollständig anderen Anregungs- peraturprofil auf annähernd 900° C erhitzt, was zu
mechanismus, der keinen p-übergang erfordert (vgl. einer Reaktion der elementaren Materialien zum Erzu
alle dem »Transactions of the Metallurgical 40 halt von Magnesiumtellurid und Zinktellurid führt.
Society of AIME«, 242 (1968), März, S. 444 Nach der Reaktion der Elemente wird das Temperabis
448). turprofil derart geändert, daß die Temperatur von
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, ein Halb- 825° C an dem Ende des Rohres, an dem sich das
leitermaterial bereitzustellen, mit dem eine Elektro- Substrat befindet, bis annähernd 995° C am vorrats-
lumineszenz im ganzen sichtbaren Spektrum von 45 seitigen Ende des Rohres reicht, wobei die Erhitzung
1,77 bis 2,52 Elektronenvolt (7000 bis 4900 A) er- 72 bis 96 Stunden lang fortgesetzt wird. Am Ende
reichbar ist. dieser Periode wird das Substrat mit der darauf nie-
Gemäß der Erfindung sind Magnesiumzinktellurid- dergeschlagenen kristallinen Schicht entnommen und
Legierungen vorgesehen, deren Zusammensetzung auf Zimmertemperatur abgekühlt,
der Formel (MgxZn,_x)Te entspricht, wobei χ einen 50 Fig. IA zeigt einen η-leitenden Kristall 11 aus
Wert zwischen 0,15 und 0,4 hat. Magnesiumzinktellurid, der wie beschrieben herge-
Diese Legierungen haben amphotere Eigenschaf- stellt worden ist. Als vorausgehender Schritt ist es
ten und liefern die gewünschte BandlUcke. wichtig, die Oberfläche des Kristalls von sämtlichen
In der Zeichnung zeigen die F i g. 1A bis 1E Spuren unerwünschter Verunreinigungen zu reinigen.
schritte einer elektrolumineszenten pn-übergangsvor- 15 Sekunden lang in Methanol-Brom geätzt, um ihn
richtung aus dem erfindungsgemäßen Material. so zur Bildung einer p-leitenden Oberflächendiffu-
und Tellur zusammen mit dem gewünschten Dotier' ίο enthält, sodann wird das Rohr abgebrannt, evakuiert
stoff enthält. Entsprechend der Erfindung wurde ge- und unter Vakuum abgeschmolzen. Anschließend
funden, daß Zusammensetzungen des Magnesium' wird das Rohr 10 bis 20 Stunden lang auf größen*
gen, wenn der Wert von χ in der allgemeinen Formel resultierenden Kristall, an dessen Oberfläche eine
(MgxZn1 JTe zwischen 0,15 und 0,4 liegt. Unter* 6j p-leitende eindiffundierte Phosphorschicht 12 erzeugt
suchungen zeigten, daß Zusammensetzungen des be- ist. Als nächstes werden Mesas 13 (Fig. 1 C) auf der
schriebenen Systems, für welche χ kleiner als 0,15 ist, Oberfläche der Schicht 12 nach Üblichen Fotolack·
der Kristall erneut in Methanol-Brom zur Beseitigung jeglicher Oberflächenbeschädigung geätzt, und es
resultiert eine Anordnung mit pn-Übergängen 14 (F i g. 1 D). Schließlich werden Spitzenkontakte 15
und 16 zu den p- und η-Zonen nach üblichen Methoden hergestellt.
Ein Magnesiumzinktellurid-Kristall und eine elektrolumineszente
pn-Ubergangsvorrichtung werden wie folgt hergestellt:
0,313 Gramm Magnesium, 2,01 Gramm Zink, 5,59 Gramm Tellur und 0,02 Gramm Aluminium
werden in ein Graphitschiffchen gegeben, das dann in ein Graphitrohr eingesetzt wird. Ein Zinktellurid-Subtrat
befindet sich am gegenüberliegenden Ende des Rohrs.
Als nächstes wird das Graphitrohr in ein Quarzrohr verbracht, und es werden 0,1 Gramm Jod zugefügt.
Sodann wird ein Ende des Quarzrohrs abge- »0 schmolzen, und das System wird dreimal abwechselnd
evakuiert und mit Formiergas gespült. Danach wird das andere Ende des Quarzrohrs abgeschmolzen,
und das Rohr wird in einen Ofen gesetzt und fünf Minuten lang auf 900° C in einem flachen Tem- as
peraturprofil erhitzt. Nachfolgend wird das Temperaturprofil derart geändert, daß das Substrat sich auf
850° C und das vorratsseitige Ende auf 970° C befinden.
Dieser Zustand wird 960 Stunden lang aufrechterhalten. Das Substrat mit der darauf niederge- 3"
schlagenen kristallinen Schicht werden entnommen und auf Raumtemperatur abgekühlt. Der gewünschte
n- leitende Magnesiumzinktellurid-Kristall wird dann auf mechanischem Wege von dem Sug»™» J*gj
trennt. Der resultierende Kristall wrd 15 Sekunden lang in Methanol-Brom geätzt und m ein Quarzroh
verbracht das 100 Milligramm Phosphor enthält. Das Rohr wi d ausgeheizt, evakuiert und unter Vakuum
abgeschmolzen8 Als nächstes wird das Rohr in einen
Offn eingesetzt, auf 900° C erhitzt undlauf chese
Temperatur 20 Stunden lang gehalten. Der Kristall wiS dann dem Rohr entnommen, und es werden
Mesas mit einem Durchmesser von etwa C2ί mm
nach üblichen Fotolack- und chemischen Ätzmethoden
erzeugt. Sodann wird der Kristall 45 Sekunden [Zl in Methanol-Brom zur Entfernung von Ober-Snbeschädigungen
geätzt. Schließlich werden metallische Spitzenkor'akte zu den p- und n-Zonen
^^Demonstration der Wirksamkeit der Vorrichtung
werden die Leitungen an eine G eichspannungsquelle zur Vorspannung in Durchlaßrichtung Pluspol
zur p-Zone und Minuspol zur η-Zone, angeschlossen. Bei Zimmertemperatur1 und bei Spannungen zwischen
17 und 3VoIt emittiert die Vorrichtung Licht, das bei etwa 2,5 Elektronenvolt (5000 A) zentriert ist.
Claims (2)
1. Magncsium-Zink-Tellurid-Legierung, dadurch
gekennzeichnet, daß ihre Zusammensetzung der Formel (Mg1Zn^x)Te entspricht,
wobei χ einen Wert zwischen 0,15 und 0,4 hat.
2. Verwendung einer Legierung der im Anspruch 1 angegebenen Zusammensetzung für pn-Übergangsvorrichtungen.
Hieizu 1 Blatt Zeichnungen
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