DE1944484B2 - Glas auf der Basis von SiO tief 2-B tief 2 0 tief 3- BaO-K tief 20 -Li tief 2 O zur Herstellung von glasisoliertem Mikrodraht in Form von kontinuierlichen Fäden bei einem Schmelzpunkt der Metalle bzw. Metallegierungen von mindestens 1450 Grad C - Google Patents
Glas auf der Basis von SiO tief 2-B tief 2 0 tief 3- BaO-K tief 20 -Li tief 2 O zur Herstellung von glasisoliertem Mikrodraht in Form von kontinuierlichen Fäden bei einem Schmelzpunkt der Metalle bzw. Metallegierungen von mindestens 1450 Grad CInfo
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