DE1942918B2 - Infrarotstrahlung-absobierendes glas, das sich besonders zur umhuellung von elektronischen bauteilen eignet, die mit strahlungswaerme eingeschmolzen werden - Google Patents

Infrarotstrahlung-absobierendes glas, das sich besonders zur umhuellung von elektronischen bauteilen eignet, die mit strahlungswaerme eingeschmolzen werden

Info

Publication number
DE1942918B2
DE1942918B2 DE19691942918 DE1942918A DE1942918B2 DE 1942918 B2 DE1942918 B2 DE 1942918B2 DE 19691942918 DE19691942918 DE 19691942918 DE 1942918 A DE1942918 A DE 1942918A DE 1942918 B2 DE1942918 B2 DE 1942918B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
infrared radiation
radiant heat
absorbing glass
felted
electronic components
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19691942918
Other languages
English (en)
Other versions
DE1942918C3 (de
DE1942918A1 (de
Inventor
Coenraad Maria; Gie Ong Tjing; Eindhoven LaGrouw (Niederlande)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE1942918A1 publication Critical patent/DE1942918A1/de
Publication of DE1942918B2 publication Critical patent/DE1942918B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1942918C3 publication Critical patent/DE1942918C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties
    • C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
    • C03C4/082—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for infrared absorbing glass
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/226—Glass filters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

2. Infrarotstrahlung-absorbierendes Glas nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung in Gew.-%:
SiO2 60 — 70
B2O3 0—2
Li2O 0,5 — 2
Na2O 12 —16
K2O 0—2
BaO 6—12
Al2O3 1,5— 4
CaO + MgO 3—5 FeO 2—4
3. Infrarotstrahlung-absorbierendes Glas nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung in Gew.-%:
SiO2 60 — 70 BaO 10 — 16
B2O3 0—2 Al2O3 1—4
Li2O 0,5 — 2 CaO 0—4
Na2O 10 —14 FeO 2—4 K2O 0,5— 2
4. Infrarotstrahlung-absorbierendes Glas nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch folgenden Zusammensetzung in Gew.-%:
35
SiO2 66,0
B2O3 2,0
Li2O 0,7
Na2O 12,8
K2O 1,0
MgO
CaO
BaO
Al2O3
FeO
0,6
2,5 8,6 3,1 2,7
45
Die Erfindung betrifft ein Infrarotstrahlung-absorbierendes Glas auf der Basis SiO2-BaO-Alkalioxide-FeO mit einer Wärmeausdehnung von 90 bis 100 · 10-'/0C (30 bis 300°C) und einer Erweichungstemperatur um 65O0C, das sich besonders zur Umhüllung von elektronischen Bauteilen eignet, die mit Strahlungswärme eingeschmolzen werden.
Die Erfindung bezieht sich damit auf ein Glas, das einen hohen Absorptionskoeffizienten für Infrarotstrahlung aufweist und. sich somit für eine Umhüllung, z. B. für einen Zungenkontakt in einem luftdicht verschlossenen Raum oder für eine Halbleitervorrichtung eignet, bei der ein Durchführungsteil auf einfache und schnelle Weise mit Strahlungswärme, z. B. aus einer Heizwendel eingeschmolzen werden kann.
Die üblichen Durchführungsmetalle sind Nickel-Eisen oder Nickel-Eisendraht mit einem Kupferbelag, sogenannter Dumet-Draht. Das für die obenerwähnten Anwendungen geeignete Glas muß also einen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, der dem dieser Durchführungsmetalb angepaßt ist, d.h. 90 bis 100 · 10~7 im Bereich von 30 bis 300 C.
Ein derartiges Glas, das einen hohen Absorptionskoeffizienten für Infrarotstrahlung aufweist und zu diesem Zweck einen bestimmten Gehalt an FsO aufweist, ist z. B. aus der FR-PS 14 51 798 bekannt.
In der Praxis werden Durchführungsteile der obenerwähnten Art nach einem mechanisierten Vorgang eingeschmolzen, bei dem eine bestimmte Gasatmosphäre oder Vakuum erforderlich ist. Dies ist vom Material der Kontakte oder von der Art der Halbleitervorrichtung, die in die Umhüllung eingeschlossen wird oder von der Art der Durchführungsmetalle abhängig. Der Einschmelzvorgang wird in einem verschlossenen Raum durchgeführt, in dem sich die Vorrichtung zum Durchführen der beim Einschmelzen erforderlichen Vorgänge und zum Zu- und Abführen der Umhüllungen und der darin einzuschmelzenden Teile befindet. Eine Schmierung der Drehpunkte mit flüssigen oder festen Schmiermitteln ist in der Regel mit Rücksicht auf eine Verschmutzung der in die Umhüllung einzuführenden Atmosphäre nicht gestattet. Wenn Fremdkörper vorhanden sind, besteht außerdem die Gefahr, daß die Wirkung der eingeschmolzenen Bauteile beeinträchtigt wird.
Es muß vermieden werden, daß die betreffenden Bauteile oder auch das Glas der Umhüllungen beim Einschmelzen Stoffe abgeben, sie sich an anderen Stellen wieder ablagern und somit eine Verschmutzung der Apparatur oder der Atmosphäre herbeiführen könnten. Die für den erwähnten Zweck bekannten Gläser sind in dieser Hinsicht nicht befriedigend.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Gläser zu schaffen, die diesen Nachteil nicht aufweisen. Bei der Auswahl dieser Gläser sind mehrere Parameter zu beachten: nicht nur der Ausdehnungskoeffizient und die Abwesenheit von bei der Einschmelztemperatur flüchtigen Bestandteilen, sondern auch eine geeignete Erweichungstemperatur. Gläser mit einer Erweichungstemperatur (d. h. die Temperatur, bei der die Viskosität 1Ο'·β Poise beträgt), die etwa 650°C überschreitet, eignen sich um so weniger für den erwähnten Zweck, je mehr diese Temperatur überschritten wird.
Bekannte Gläser, die PbO, Fluoride und/oder Chloride enthalten, sind ungeeignet, da diese Stoffe beim Einschmelzen in Dampfform frei werden. PbO ist außerdem als Bestandteil des Glases ungeeignet, weil es die Verarbeitung in einer reduzierenden Gasatmosphäre unmöglich macht.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe wird durch folgende Zusammensetzung der Gläser in Gew.-% gelöst:
SiO2
B2O3
Li2O
Na2O
K2O
60 — 70
0— 2
0,5— 2
10 — 16
0— 2
BaO 6 — 16
Al2O3 1- 4
CaO + MgO 0—5
FeO 2—4
Mit Rücksicht auf eine weitere Verrringerung der Entglasungsgefahr werden vorzugsweise Gläser verwendet, deren Zusammensetzungen in Gew.-% innerhalb der folgenden Grenzen liegen:
SiO2
B2O3
Li2O
Na2O
K8O
60 — 70
0— 2
0,5— 2
12 — 16
0— 2
BaO 6—12
Al2O3 1,5-4
CaO + MgO 3—5 FeO 2—4
Als Beispiel werden nachstehend vier Zusammensetzungen in Gew.-% erwähnt, die auf übliche Weise durch Schmelzen eines Gemisches erhalten werden, das die Oxide oder Verbindungen enthält, aus denen bei Erhitzung die Oxide durch Pyrolyse gebildet werden. Aus diesen Materialien wird Rohrglas gezogen.
Zusammensetzung (Gew.-%) 2 3 4
1 64,4 66,0 66,8
SiO2 64,7 2,0 2,0 2,0
B2O3 1,9 0,7 0,7 0,5
Li2O 0,7 12,8 12,8 15,0
Na2O 11,4 1,0 10 0,3
K2O 1,0 — 0,6 2,7
MgO — 3,0 2,5 1,7
CaO — 10,2 8,6 6,4
BaO 14,5 2,9 3,1 1,9
Al2O3 2,8 2,9 2,7 2,7
FeO 3,0 90 90 90
Ausd.-Koeff (30—300" C 90 473 486 483
Entsp.-Temn. (0C) 465 649 653 658
Erweich.-Temp. (0C) 643
Die Entspannungtemperatur oder der obere Kühlpunkt bezeichnet die Temperatur, bei der die Viskosität 1013·4 Poise beträgt, die Erweichungstemperatur ist die Temperatur, bei der die Viskosität 10'·β Poise beträgt.
Die Gläser wurden mit Erfolg als Umhülluugen für Zungenkontakte in einer Wasserstoffatmosphäre angewandt. Die Kontakte mit Zuführungsdrähten aus Nickel-Eisen wurden mittels eines Infrarotstrahlers
ίο eingeschmolzen. Verschmutzung der mechanischen Apparatur konnte nach einer Anzahl von Einschmelzvorgängen nicht festgestellt werden, während z. B. bei Verwendung des bekannten bleihaltigen Glases nachstehender Zusammensetzung (in Gew.- %)
SiO2 51,8 CaO 0,1
Na2O 4,7 PbO 31.4
K2O 7,9 FeO 2,9
Al2O3 1,2
bei einer gleichen Anzahl Einschmelzvorgängen bereits eine erhebliche Ablagerung auftrat.

Claims (1)

  1. Patentansprüche:
    Infrarotstrahlung-absorbierendes Glas auf der Basis SiOjs-BaO-Alkalioxide-FeO mit einer Wärmedehnung von 90 bis 100 · 10-7/°C (30 bis=300 C) und einer Erweichungstemperatur um 650° C, das sich besonders zur Umhüllung von elektronischen Bauteilen eignet, die mit Strahlungswärme eingeschmolzen werden, gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung in Gew.-%:
    SiO8 60 — 70
    B2O3 0—2
    Li2O 0,5— 2
    Na2O 10 — 16
    K2O 0— 2
    BaO 6 — 16
    Al2O3 1— 4
    CaO+ MgO 0— 5
    FeO 2— 4
DE19691942918 1968-09-14 1969-08-23 Infrarotstrahlung-absorbierendesGlas, das sich besonders zur Umhüllung von elektronischen Bauteilen eignet, die mit Strahlungswärme eingeschmolzen werden Expired DE1942918C3 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL6813196A NL6813196A (de) 1968-09-14 1968-09-14
NL6813196 1968-09-14
NL6907225 1969-05-10
NL6907225A NL6907225A (de) 1968-09-14 1969-05-10

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1942918A1 DE1942918A1 (de) 1970-03-19
DE1942918B2 true DE1942918B2 (de) 1976-08-05
DE1942918C3 DE1942918C3 (de) 1977-03-24

Family

ID=

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3150600A1 (de) * 1980-12-23 1982-08-19 Toshiba Ceramics Co., Ltd., Tokyo Quarzglas und verfahren zu seiner herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3150600A1 (de) * 1980-12-23 1982-08-19 Toshiba Ceramics Co., Ltd., Tokyo Quarzglas und verfahren zu seiner herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
SE348712B (de) 1972-09-11
AT291458B (de) 1971-07-12
GB1233493A (de) 1971-05-26
CH519445A (de) 1972-02-29
FR2018114A1 (de) 1970-05-29
BE738837A (de) 1970-03-12
US3698921A (en) 1972-10-17
NL6813196A (de) 1970-03-17
NL6907225A (de) 1970-11-12
DE1942918A1 (de) 1970-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112006002184B4 (de) Glaszusammensetzung
DE69305311T2 (de) Glaszusammensetzung für die Verwendung in elektrischen Lampen, Stange hergestellt aus dieser Glaszusammensetzung und Fluoreszierende Lampe mit einer Hülle aus dieser Zusammensetzung
DE69901850T2 (de) Glaszusammensetzung, Lampenstiel und Birne
DE2320720C2 (de) Bor und Fluor freie faser- oder fadenbildende Glasmischung im System SiO↓2↓-Al↓2↓O↓3↓-CaO-MgO-TiO↓2↓-ZnO/SrO/BaO- (Alkalioxide)
DE1248244B (de) Verfahren zur Herstellung eines auf einem Glas-Kristall-Mischkoerper befindlichen Metallfilmes
DE1496540B1 (de) Verfahren zur Erzeugung von UEberzuegen aus metallischem Kupfer und/oder Silber auf entglasten keramischen Formkoerpern
DE1596586C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Floatglas und Vorrichtung zu seiner Durchführung
DE2534396C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Glaslots
DE2309710C2 (de) Strontiumoxidhaltiges Glas für Kathodenstrahlröhrenkolben mit hoher Absorptionswirkung für Röntgenstrahlung
DE2446742A1 (de) Glaslotzusammensetzung
DE1496644C2 (de) Silberhaltige Überzugsmasse
DE19755005A1 (de) Glas-Zusammensetzung
DE1942918C3 (de) Infrarotstrahlung-absorbierendesGlas, das sich besonders zur Umhüllung von elektronischen Bauteilen eignet, die mit Strahlungswärme eingeschmolzen werden
DE1942918B2 (de) Infrarotstrahlung-absobierendes glas, das sich besonders zur umhuellung von elektronischen bauteilen eignet, die mit strahlungswaerme eingeschmolzen werden
DE844647C (de) Bleifreie Glaeser
DE1953891B2 (de) Hochtemperaturfestes Kittmaterial
DE69627512T2 (de) Substratglas und hiermit hergestellte plasma-anzeigevorrichtung
DE2613502A1 (de) Verfahren zum herstellen von kupferhaltigen glaszusammensetzungen
DE4315189C1 (de) Verwendung einer kadmiumfreien Silberlegierung als Hartlot
DE19841009A1 (de) Farbbild-Kathodenstrahlröhre und wasserbeständige Glasfritte
DE1273757B (de) Glas, insbesondere als lichtdurchlaessige Schutzschicht fuer Elektrolumineszenzanordnungen
DE1149140B (de) Fritte zur Herstellung von Leuchtemails
DE2643596A1 (de) Verfahren zur ueberwachung und einstellung des erweichungspunktes eines loetglases
US3545989A (en) Low loss lead fluoride sealing glasses
DE679541C (de) Verfahren zur Herstellung von Glaesern mit niedriger Waermeausdehnung

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8339 Ceased/non-payment of the annual fee