DE1941342A1 - Plasmaerzeugende Vorrichtung - Google Patents

Description

Plasma - ersaugende Vorrichtung

Die Erfindung betrifft eine Plasma erzeugende Vorrichtung, bei der ein Gas duroh ein elektrisches Hochfrequenzfeld innerhalb einer Plasmakammer ionisiert wird, us ait einem Stoff zu reagieren, der in die Kammer zur Behandlung oder zur Analyse gelegt worden ist.

Die Erfindung bezweckt die Schaffung einer Hochfrequenzplasmaearregung unter Verwendung kapazitiver Elektroden, die außerhalb der Plasmakammern geordnet sind» wobei die elektrische Wand, die die Kammer bildet, und die Elektroden zusammenwirkend gekrümmt sind, um das Plasma in einen gleichförmigen Bereich chemischer Aktivität su bringen und zu formen, der direkt zwischen den Elektroden liegt,

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wobei für eine Einfassung des Piasaas auf den Bereich innerhalb der Plasmakammer gesorgt ist, ia wesentlichen also die Tendenz des Plasmas beseitigt wird, in die Gaszuleitungen und Ableitungen zu wandern, die an die Kammern angeschlossen sind.

Weiter soll gemäß der Erfindung eine Plasma erzeugende Torrichtung der zuvor beschriebenen Art geschaffen werden, bei der die Plasmakammer mühelos in eine Arbeitsstellung zwischen die Elektroden gebracht werden kenn und ebenso leicht auch wieder aus dieser Stellung herausgenommen werden kann. Dabei soll das Einsetzen der Kammer in ihre Arbeitsstellung eine automatische Kupplung der Gaszuleitung und der Ableitung bewirken.

Weiter soll gemäß der Erfindung eine Stützkonstruktion in einer Plasma erzeugenden Vorrichtung der zuror beschriebenen Art geschaffen werden, bei der eine Batterie tob Plasmakammern zum gleichzeitigen Betrieb sühelos eingesetzt werden kann, wobei die Kammern jeweils die angegebenen Torteile bieten.

Weiter soll gemäß der Erfindung eine Plasma erzeugende Torrichtung der vorbeschriebenen Art geschaffen werden, bei der das elektrische Hochfreojaeasfeid direkt durch den Teil der Plasmakammer einwirkt, la &®m aieh der zu behandelnde Stoff befindet? wobei eine solche direkte und wirktrngeroll« Amordmmg ssmögliekt wird, ohne daß eine usxäSige Erhöhung in Ser f empexs-frar innerhalb des Plasmas oder des Stoffs erfolgt.

Die Erfindung ist im nachfolgenden anband eines beispiele in Bezugnahme auf die Zeichnungen sl3i*r

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In den Zeichnungen sind:

Pig. 1 ein Schaubild einer Plasma erzeugenden Vorrichtung gemäß der Erfindung

Fig. 2 eine Endansicht zweier nebeneinander angeordneter Plasma erzeugender Kammern, wobei Teile weggebroch«n und im Schnitt dargestellt sind,

Fig. 3 ein Schnitt durch die in Pig. 2 gezeigte Vorrichtung im wesentlichen an der Linie 3-3 der Fig. 2 und

Fig. 4 eine Einzelheit im Schnitt im vergrößerten Maßstab durch einen Teil der Plasmakammer und einer Elektrode.

Die Plasma erzeugende Vorrichtung 8 gemäß der Erfindung besteht im wesentlichen aus einem Behälter 12, der eine Plasmakammer 14 bildet, aus zwei kapazitiven Elektrodenplatten 22, die auf gegenüberliegenden Seiten der Kammer angeordnet sind, aus einem Hochfrequenzgenerator 23, der an die Platten 22 angeschlossen ist, um das Gas in der Plasmakammer zu erregen, und aus einer Zuleitung 18 und einer Ableitung 20, die jeweils mit einer Quelle 25 aus unter druckstehendem Gas bezw. einer Vakuumpumpe 27 verbunden sind. Vorzugsweise sind ein Druckregler 29, ein Durchflußmesser und ein Ventil 33 in einer Gasleitung 78 installiert, die mit der Zuleitung 18 verbunden ist, um den Gasfluß zur Plasmakammer zu regeln und zu messen. Ein Ventil 35 ist hier mit einer Abflußleitung 90 verbunden, die abnehmbar mit der Ableitung 20 verbunden ist. Weiter sind eine Abzapfleitung 51 "und ein Abzapfventil 39 an die Leitung 90 angeschlossen. Der Stoff 41» der von dem Plasma behandelt werden soll, sitzt in einem Schiffchen 43ι um ein

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Einlegen in die Plasmakammer zu ermöglichen. Die Kammer hat hier eine Zusatzöffnung an einem Ende, die durch einen abnehmbaren Verschluß 16 verschlossen ist.

Im Betrieb wird das den zu behandelnden Stoff 41 tragende Schiffchen 43 in die Reaktionskammer 14 durch das offene Ende des Gehäuses 12 eingeführt, die Öffnung wird durch den Verschluß 16 geschlossen, das Abzapfventil 39 wird geschlossen, und die Vakuumpumpe 27 wird eingeschaltet, um den Druck in der Reaktionskammer auf den gewünschten Wert zu mindern, beispielsweise 1 oder 3 mm Quecksilbersäule..Eine schnelle Druckminderung wird dadurch erreicht, daß das Ventil 35 voll geöffnet wird. Eine langsamere Evakuierung wird dadurch erreicht, daß das Ventil 35 iⁿ seine zweite Stelleung gestellt wird, wie das in Pig. I gezeigt wird. Der Druckregler 29 kann dann auf den gewünschten Druck eingestellt werden, beispielsweise 1 oder 2 mm Quecksilbersäule. Das Ventil wird geöffnet, bis der Durchflußmesser 31 den gewünschten Gasfluß in die Kammer anzeigt. Danach wird der Generator 23 eingeschaltet, um das Gas innerhalb der Kammer zu erregen und das Plasma zu erzeugen, das seinerseits die gewünschte chemische Reaktion mit dem Stoff 41 erbringt.· Am Ende des gewünschten chemischen Prozesses wird die Pumpe 27 ausgeschaltet, und das Abblasventil 39 kann geöffnet werden, um atmosphärischen Druck in die Reaktionskammer einzuleiten. Es versteht sich, daß die Vorrichtung mit verschiedenen Gasen arbeiten kann, um verschiedene chemische Verfahren durchzuführen.

Gemäß Fig. 2 und 3 ist die Vorrichtung so konstruiert, daß sie mit mehreren Plasmakammern, also einer Batterie von Plasmakammern arbitet, die nebeneinander angeordnet sind, wobei deren offene

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Enden nach vorne gerichtet sind, um einen bequemen Zugang zu ermöglichen. Wie bereits erwähnt, sind die vorderen Enden der Behälter jeweils mit einem abnehmbaren Verschluß 16 versehen, der gemäß der Barstellung in Fig. 3 so ausgebildet ist, daß er in eine Aufnahmefassung gleitet, die durch einen Endflansch 45 am Behälter gebildet ist, der dessen offenes Ende umschließt.

Gemäß der Erfindung weist der Behälter 12 eine gekrümmte Wand 47 g aus dielektrischem Material auf, die gegenüberliegende konfexe Teile 49 hat (Fig. 2). Die Elektrodenplatten 22 sind aus Metall oder einem anderen elektrisch leitenden Werkstoff gebildet und konkav gekrümmte, aufeinanderzugerichtete Flächen 24, die sich an die Wandteile 49 anschließen und sich ia wesentlichen deren Krümmung anpassen. Vorzugsweise hat die Wand 47 eine im wesentlichen zylindrische Form, und die Platten 22 sind Zylindersegmente, die an diametral gegenüberliegenden Seiten der Wand 47 in wesentlichen konzentrisch dazu angeordnet sind, wobei die pheripher nebeneinanderliegenden Ränder der Platten im Abstand zueinander angeordnet ■ind, um damit einen offenen Bereich der Wand 47 zu belassen , an den die Zuleitung 18 und die Ableitung 2o angeschlossen werden können, wie das in Fig. 2 und 3 gezeigt ist. Für viele Anwendungs- | fälle hat es sich als zweckmäßig erwiesen, die Zuleitung 18 und die Ableitung 20 im wesentlichen in diametral gegenüberliegender Lage anzuordnen, um einen Querfluß von Gas durch die K_ammer zu erreichen. In vielen Fällen hat es sich auch als zweckmäßig erwiesen, diese Leitungen im wesentlichen in der Mitte der Länge der Kammern anzuordnen, wie das in Fig. 3 gezeigt ist.

Al· weiteres wichtiges Merkmal der Erfindung hat es sich als zweckmäßig erwiesen, besondere bei einem Betrieb der Torrichtung

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mit relativ hoher Leistung, zwischen die Platten 22 und die Wand eine Schicht aus Isolierwerkstoff 26 zu legen, der gekrümmt ist, um sich an die Platten 22 und die Wand 47 anzulegen und deren Form zu entsprechen. Besonders wichtig ist es, in solchen Anwendungsfällen', daß die Schicht 26 aus Isoliermaterial zwischen den Umfangsrändern der Platten der Wand angeordnet ist, um den Korona-Effekt auf ein Minimum zu reduzieren, der anderenfalls an den Rändern der Platten auftreten lönnte und der zu einem. Durchbrennen der Wand 47 führen könnte. Sie Schicht 26 soll aus einem Werkstoff mit hoher dielektrischer Festigkeit bestehen, soll hohen Temperaturen standhalten können und soll einen glatten (Jleitsitz mit der Wand bilden. Ein guter Werkstoff, der sich für diesen Zweck eignet, iat "TEFLON" (eingetragenes Warenzeichen). Indem die aneinanderliegenden Wand- und Elketrodenflächen symmetrisch zu einer Längsachse der Torrichtung ausgebildet werden, kann der Behälter leicht in seine Lage zwischen den Platten 22 eingeschoben und aus dieser lage herausgeschoben werden. Die Schichten 26 sind hier abnehmbar mit den Elektrodenplatten 22 rerlranden, und zwar durch Schrauben 32, die in fluchtenden Öffnungen 28 und 30 in der Schicht bzw. in der Platte sitzen und die durch Muttern 34 an der Außenseite der Platte gesichert sind, um damit einen einfachen Austausch der Schichten 26 nach Bedarf zu ermöglichen. Die Schrauben 32 sind vorzugsweise aus einem dfelektrisehen Werkstoff geformt.

Die Stützkonstruktion weist zwei im Abstand angeordnete obere und untere Plattenteile 36 taid 37 auf» die jeweils &ub zwei langgestreckt en L-förmigen Konsolen 38 und 40 gebildet sind, deren kurze Schenkel im Abstand zueinander angeordnet sind, parallel zueinanderliegen und aufeinanderzugeri eiltet sinä.. lim tJ~Profil erstreckt sich ubar die Länge der Eonsolen J8 und. 40 der

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Plattenteile 36 und ist durch Gewindebolzen r.i t den kurzen Schenkeln der L-förmigen Teile verbunden» Der Steg des Profils 4-2 springt um ein kurzes Maß über eine Ebene vor, die durch die langen Schenkeln Hex Teile gebildet ist. Ein zweites U-Profil sitzt an den freien Enden der kurzen Schenkel der L-förmigen Konsolen 38 und 40 sowohl der oberen als auch der unteren Plattenteile 36 und 37- Die Profile 44 sind jedoch relativ zum Profil umgekehrt angeordnet. Dabei ist jedes Profil 44 mit den kurzen Schenkeln der L-förmigen Konsolen 38» 40 verbunden, denen es durch Gewindebolzen zugeordnet ist. Die kurzen Schenkel der "

L-förmigen Konsolen des oberen Plattenteiles 36 zusammen mit den Profilen 42 und 44» äie sich daran anschließen, bilden also einen langgestreckten Hohlraum bzw. eine Kammer 46» die sich über die volle Länge der L-förmigen Konsolen und tJ-Profile erstreckt, die dem oberen Plattenteil 36 zugeordnet sind.

Der andere Plattenteil 37 ist identisch zum Plattenteil 36 ausgebildet, außer daß er nicht das U-Profil 44 enthält, so daß die kurzen Sehenkel der L-förmigen Konsolen 38» 40 und aas U-Profil einen Hohlraum oder Kanal 48 mit offenen Enden bilden, der sich ebenfalls über die volle Länge der Konsoleaund des Profils erstreckt.

Gemäß der Darstellung in Fig. 3 weist der jeweilige L-förmige Teil einen Torsprung 52 auf, der sich vom freien Ende der langen Schenkel senkrecht zur Ebene erstreckt, die durch die langen Schenkel gebildet ist, und zwar um ein Haß, daß gleich dem Maß ist, um daß der Steg des U-förmigen Profils 42 über diese Ebene hinausragt.

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Die Plattenteile 36, 37 sind durch Elektrodenplatten und Lagerzapfen 50 miteinander verbunden, die zu einer Einheit zusammengefaßt sind. Die Enden der Zapfen sind an den L-förmigen Konsolen 38 des jeweiligen Plattenteils durch Gewindebolzen befestigt. Der Abstand zwischen nebeneinanderliegenden Zapfen ist zweimal so groß wie der Abstand zwischen aufeinanderfolgenden Behältern Dei Plattenteile und die Zapfen sind fest miteinander verbunden und können in ein Gehäuse 53 (Fig. 3) für die Plasma erzeugende Vorrichtung 8 eingesetzt werden. Das Gehäuse wiederum kann an dem Steg des U-Profils und den Vorpsrüngen 52 der L-förmigen Konsolen anliegen, ohne daß eine Störung zwischen dem Gehäuse und den Schrauben erfolgt, mit denen die Platten 50 an den Plattenteilen befestigt sind. Geeignete Befestigungselemente, beispielsweise Gewindebolzen, stellen eine Verbindung zwischen dem Gehäuse und den Plattenteilen her.

Die Konstruktion der Plattenteile 36, 37 ist außerordentlich preiswert, da deren Teile untereinander austauschbar sind. Wichtiger is.t jedoch, daß die Hohlräume bzw. die Kammer und der Kanal 46 und 48 zusammen mit den kurzen Schenkeln der L-förmigen Konsolen 38 und 40 die Teile der Vorrichtung schützen und in der vorgesehenen Lage halten, wie das im nachfolgenden erläutert wird·

Die Länge der Plattenteile 36, 37 und die Anzahl der Platten 50 hängen natürlich von der Anzahl der Behälter 12 ab, die in der Vorrichtung vorgesehen sind. Wenn die Vorrichtung beiwpielsweise mit 6 Reaktionskammern bestückt ist, sind 4 Zapfen 50 vorgesehen, und die Länge der Plattenteile 36 und 37 ist etwa viermal so groß wie der Abstand zwischen den Zapfen. Es versteht sich natürlich,

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daß jede beliebige Anzahl von Reaktionskammern in der Vorrichtung installiert werden können.

Ein Elektrodenplatten- Hilfslagerzapfen 54 befindet sich zwischen dem jeweiligen nebeneinanderliegenden Lagerzapfen 50 und besteht aus zwei fluchtenden keramischen Isolatoren 56ι die jeweils durch Schrauben an den Plattenteilen 36 und 37 befestigt sind. Eine

langgestreckte Gewindespindel 58 sitzt zwischen den Isolatoren, g

parallel zu den Zapfen 50 und rechtwinklig zu den Achsen der an- -

grenzenden Behälter 12. Ein Lagerblock 60 hat eine Hittelöffnung mit einem Durchmesser, der größer als der der Gewindespindel 58 ist, und ist über die Spindel geschoben, so daß der Lagerblock in Längsrichtung der Spindel bewegbar ist. Eine Rändelmutter 64, die sich im Gewindeeingriff mit der Gewindespindel 58 befindet, sitzt zu beiden Seiten des Blocks, um den Block auf der Gewindespindel festzulegen und ihn an ihr zu besfestigen.

Eine langgestreckte Blattfeder 66 befindet sich an der jeweiligen Seite des Blocks, die auf eine Elektrodenplatte 22 zugerichtet ist, und sie ist in der Mitte der Feder durch ein geeignetes Befestigungselement am Block befestigt, beispielsweise mit Hilfe einer Maschinenschraube ( nicht dargestellt ). Die jeweilige Blattfeder ist in Längsrichtung bogenförmig ausgebildet, und dessen konkave Seite ist auf die angrenzende Elektrodenplatte zugerichtet. Die Enden der Federn weisen TT-förmige Ausschnitte 70 auf, in denen ein Gewindebolzen 72 eingreift, der sich von der Seite der Elektrodenplatte 22 aus wegerstreckt, die de» Behälter 12 gegenüberliegt. Eine Mutter 74 ist auf den Bolzen 72 aufgeschraubt, jedoch nicht gegen die Feder und die Slektrodenplatte festgezogen (sieh· Fig. 4)1 um «ine Relativbewegung zwischen dem Bolzen 72 und der Fider inner-

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halb der Grenzen des Ausschnitts 70 zu ermöglichen.

Dei zweite Elektrodenplatte des jeweiligen Plattenpaars ist in einer relativ feststehenden Weise mit einem Zapfen 50 durch einen Gewindebolzen 76 verbunden, der von der Elektrodenplatte auf der Seite nach unten führt, die der konkaven Fläche 24 gegenüberliegt. Der Bolzen 76 greift in ein Gewindeloch in Zapfen ein oder ist an ihm durch eine Mutter an der Innenseite des Zapfens befesteigt.

Dei Konstruktion der Zapfen $0 und 54i der Elektrodenplatten 22, der Lagerblöcke 60 und der Blattfedern 66 erfordert keine hohe Genauigkeit, um eine ordnungsgemäße Funktion der Torrichtung zu erreichen, so daß damit enge Toleranzen und hohe Herstellungskosten entfallen. Um ins einzelne zu gehen, ist die eine der jeweiligen Elektrodenplatte mit dem Zapfen 50 verbunden» die zweite Elektrodenplatte ist mit der Blattfeder 66 durch Bolzen J2 und Muttern 74 verbunden und die zwei Platten sind dadurch ausgerichtet, daS die zweite Elektrodenplatte in Längs richtung der Gewindespindel 58 des Zapfens 54 mit Hilfe der Rändelauttern 64 bewegt wird, bis sich die zwei Elektrodenplatten in einer Flucht befinden. Der Behälter 12 kann in die Vorrichtung dadurch eingesetzt werden, daß man sie zwischen die Platten schiebt. Die Enden 68 der Blattfeder 66 sind ausreichend gegen den Block 60 versetzt} um einen Angriff des Behälter an den Elektrodenplatten sicherzustellen. Die Elektrodenplatte, die an der Blattfeder befestigt ist, übt dabei eine Kraft auf en Behälter aus, um ihn an den Elketrodenplatten und an der Stützkonstruktion 10 zu befestigen. Toleranzen in der Fora des Behälters und is Abstand zwischen den Zapfen werden durch die seitlich, bewegbare Elektrodenplatte ausgeglichen, die an der Blattfeder befestigt ist. Dadurch ist weder die Relativstellung der Zapfen 50 und 54 noch die MaS-

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genauigkeit des Behälters 12, der Feder 66, oder der Elektrodenplatten 22 von großer Bedeutung, da die an einer Feder befestigte Elektrodenplatte alle üblicherweise auftretenden Herstellungs- und Montagetoleranzen ausgleichen kann.

Als ein wichtiges Merkmal der Konstruktion gemäß der Erfindung sind die Zuleitung 18 und die Ableitung 20 so angeordnet, daß sie von der vorderen Seite des Behälters mit offenen axial angeordneten Enden weggerichtet sind. Die Gasleitung 78 und die Abflußleitung 90 | sind mit axial angeordneten offenen Enden so angeordnet, daß sie automatisch mit den Leitungen 18 und 20 verbunden werden, wenn der Behälter 12 in seine Arbeitsstellung zwischen die Platten 22 eingeschoben wird. Das Ende der Leitung 78 ist hier mit einer flexiblen Schlauchkupplung 80 bestückt, um leine Fluchtungsfehler in den Teilen aufzunehmen. Das Ende der Ablteitung 20 weist eine kegelstumpfförmige Verbindungsfläche 92 auf, die eine entsprechend geformte Gegenfläche aufnimmt, welche am Ende der Abflußleitung 90 vorgesehen ist. Eine Zuleitungssammelleitung 82 ist hier mit der Zuflußleitung 78 verbunden und befindet sich im Hohlraum 46 und wird durch das U-förmige Profil 44 des Pla^ttenteils 56 getragen. Das TJ-förmige Profil 44 weist Ausschnitte 84 auf, um einen Durchgang der Zuflußleitungen 78 * von der Sammelleitung 82 zur Zuleitung 18 des Behälters 12 zu er- ^ möglichen. Die Ausschnitte in den Kanal befinden sich an einer solchen Stelle, daß die Zuflußleitungen automatisch in einer Flucht mit den Zuleitungen des Behälters liegen, wenn sie in den Ausschnitten angeordnet sind, um müheselige Montageaufrichtungsarbeiten zwischen den beiden oder komplizierte Stellvorrichtungen entfallen lassen zu können. Die Zuflußsammelleitung erstreckt sich im wesentlichen über die gesamte Länge des Plattenteils 36, um dessen Verbindung mit jeder der Heaktionskammern 14 der Vorrichtung zu ermöglichen. Um eine Beschädigung der Zuflußleitung und er Sammelleitung durch chemisch

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korrodierende Stoffe zu verhindern bestehen die beiden vorzugsweise aus Glas, Obgleich Glas bruchanfällig ist, und zwar selbst bei geringer Schlagausübung, ist die Sammelleitung gegen praktisch alle Fremdstoffe innerhalb des Hohlraumes oder der Kammer 46 gut geschützt.

Eine Abflußsammelleitung 86 ^steht mit der Vakuumpumpe über eine Öffnung 88 in der AbflußSammelleitung und mit der Abflußleitung 90 für jeden Behälter 12 über eine abgedichtete Verbindung 91 in Verbindung. Bekannte Schellen (nicht dargestellt) greifen an Planschen 86a und 96a der Abflußsammelleitung und den Abflußleitungen an, um die Verbindung 9I in festem Eingriff zu halten. Sie Abflußsammelleitung erstreckt sich im wesentlichen parallel zur Achse des Behälters von der Sammelleitung zur Ableitung 20. Die jeweilige Abflußleitung 90 ist durch halbrunde Ausschnitte 94 in den kurzen Schenkeln der L-förmigen Konsolen 38, 40 abgestützt. Die Ausschnitte 94 sorgen für eine zusätzliche Lageorientierung der jeweiligen Abflußleitung relativ zum zugehörigen Behälter 12 in der gleichen Weise, wie die Aueschnitte für eine Lageorientierung der Zuflußleitungen 78 sorgen. Gummioder Kunststoffmuffen 96, die die Kanten der L-förmigen Konsolen abdecken, welche die Ausschnitte bilden, schützen die Abflußleitungen vor einer möglichen Beschädigung. Eine Schelle 9? ergreift die jeweilige Abflußleitung zwischen den Ausschnitten und wird durch Bolzen 95 festgezogen, die am Profil 44 zwischen den L-förmigen Konsolen 38, 40 des Plattenteils 37 verankert sind. Die Schellen 93 sorgen für eine feste Verbindung der Abflußleitungen mit den Plattenteilen in den Ausschnitten 94 und verbinden damit auch die Abflußsammelleitung mit der Stützkonstruktion 10. Mühselige Aufrichtungen der Abflußleitungen während der Montage der Vorrichtung und/oder teure Orientierungsvorrichtungen für

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die Abflußleitungen entfallen dadurch) da die Leitungen lediglich in die Ausschnitte gelegt werden müssen, um die vorgeschriebene Lage einzunehmen*

Gemäß der Sarstellung in Fig. 3 sind paarweise fluchtende langgestreckte Keramikisolatoren 100 an den Plattenteilen 36 bzw. befestigt, und zwar durch Gewindebolzen, die sich in Richtung aufeinanderzu von den Plattenteilen erstrecken. Langgestreckte zylindrisohe Eollektorstangen 98 sind durch Gewindebolzen 102, an den freien Enden der Keramikisolatoren befestigt. Diese Kollektorstangen erstrecken sich über die gesamte Länge der Plattenteile an den geschlossenen Enden der Behälter 12. Sie Kollektorstangen sind mit dem Generator 23 elektrisch verbunden.

Ein relativ breites L-förmiges Anschlußband 106 ist an die jeweilige Elektrodenplatte 22 mit Hilfe eines Gewindebolzens 108 und einer Kutter 110 angeschlossen. Sas Band ist bei 112 um 90° verdreht, um die Orientierung und die Richtung dieses Bandes in Riohtung auf die eine oder die andere der Kollektorstangen zu ändern, um damit jeweils eine der beiden Elektrodenplatten mit einer der beiden Kollektorstangen zu verbinden. |

Sas freie Ende des jeweiligen Anschlußbandes umfaßt eine Schelle 114t die durch einen flexiblen Verbinder 116 am Anechlußband befestigt ist, und zwei Klauen 118 halbrunder Form aufweist, um an der Außenseite der Kollektorstange anzugreifen, lin Gewindebolzen ist vorgesehen, um die Schelle an der Kollektorstange zu befestigen. SAe Schellen sind also relativ zu ihren Anschlußbändern frei bewegbar, um für eine Flexibilität zu sorgen, wenn die bewegbare llektrodenplatte in Riohtung auf den Behälter 12 gedrückt wird.

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Die Stützkonstruktion 10, die Behälter 12, die Zuflußleitungen und Abflußleitungen 78 bzw. 90, die Zufluß- und Abfluß Sammelleitungen 82 bzw. 86 und die Kollektorstangen 98 können als Einheit in das Gehäuse 53 eingesetzt und aus ihm herausgenommen werden. Das ist besonders zweckmäßig, wenn die Plasma erzeugende Vorrichtung Behälter Terschiedener Form aufzunehmen hat, beispielsweise einen einzigen relativ großen Behälter, der quer zu den Behältern 12 und parallel zu den Stützteilen 36» 37 angeordnet ist. Ein solcher Behälter kann -verwendet werden, um relativ große Proben mit dem Plasma reagieren zu lassen, und er erfordert seine eigene Stützkonstruktion. Deren Einbau ins Gehäuse 53 ist jedoch schnell und wirtschaftlich zu bewerkstelligen, und macht die Plasma erzeugende Vorrichtung für stark voneinanderabweichende Aufgabenstellungen geeignet.

Einer oder mehrere der Behälter 12 können zu jedem beliebigen Zeitpunkt aus der Vorrichtung herausgenommen werden. Dazu wird der Behälter einfach von den Zufluß- und Abflußleitungen in axialer Richtung weggezogen, bis er nicht mehr an der Elektrodenplatte anliegt. Die Vorrichtung kann weiterarbeiten, auch wenn einer oder mehrere der Behälter aus ihr herausgenommen worden sind, indem das offene Ende der entsprechenden Zufluß- und Abflußleitungen mit eines geeigneten Stöpsel verschlossen wird.

Patentansprüche!

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Claims (12)

1. Patentansprüche

   l.J Elektrodenanordnung für eine Plasmakammer, dadurch gekennzeichnet, daß sie innerhalb einer gekrümmten Wand aus
   dielektrischem Werkstoff angeordnet ist, die gegenüberliegende konvexe Abschnitte hat, bestehend aus zwei elektrisch leitenden Platten mit konkav gekrümmten, aufeinanderzugerichteten Flächen, die sich an den Wandabschnitten befinden und sich im wesentlichen der Krümmung dieser Wandabschnitte an passen.
2. 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wand im wesentlichen zylindrische Form hat und die Platten im wesentlichen Zylindersegmente sind, die an diametral
   gegenüberliegenden Seiten der Wand im wesentlichen konzentrisch dazu sitzen, wobei die peripher benachbarten Kanten der Platten sich im Abstand zueinander befinden.
3. Anordnung nach Anspruch2, dadurch gekennzeichnet, daß die
   Wand mit Einlaß- und Auslaßöffnungen zwischen den peripher benachbarten Kanten der Platten versehen ist.
4. 4· Anordnung nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß die Einlaß- und Auslaßöffnungen im wesentlichen diametral gegen* überliegend in der Mitte der axialen Länge der Kammer angeordnet sind.

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5. 5. Anordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Wand mit einer ZugangsÖffnung zu der Kammer an einem Ende ihres Zylinders und mit einem Verschluß für die Öffnung versehen ist, die abnehmbar am Ende befestigt ist.
6. 6. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet) daß eine Schicht aus dielektrischem Werkstoff zwischen den Platten und der Wand angeordnet ist, sich deren Krümmung anpaßt und an ihnen anliegt sowie zwischen den peripheren Kanten der aufeinander zu gerichteten Flächen der Wand liegt.
7. 7. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Wand von der Schicht aufschiebbar aufgenommen ist, derart, daß die Kammer in eine Lage zwischen die Platten eingezogen und aus dieser Lage herausgezogen werden kann.
8. 8..Anordnung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch Federmittel, die mit einer der Platten verbunden sind, derart, daß die Wand federnd umfaßt ist.
9. 9. Anordnung nach Anspruch 8, gekennzeichnet durch Stützmittel für eine der Platten zur Einstellbarkeit der Lage derselben in Richtung auf die andere Platte zu und von ihr weg.
10. 10. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wandabschnitte und die Plattenflächen symmetrisch zu einer Längsachse zur Bewegung der Kammer in Längsrichtung

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    der Achse in einer Arbeitsstellung zwischen den Platten und zur Herausnahme aus dieser Arbeitsstellung ausgebildet sind) wobei die Platten im Abstand zueinanderliegende periphere benachbarte Kanten haben» die im wesentlichen parallel zu der Achse liegen, daß eine Zu- und eine Ableitung mit der Wand zwischen den Plattenkanten rerbunden ist, die axial liegende Enden haben, und daß Gas-Zufluß- und Abflußleitungen vorgesehen sind, die axial liegende offene Enden in einer solchen Stellung haben, daß bei einer Bewegung der Kammer in ihre Arbeitsstellung eine automatische Verbindung mit den Leitungsenden der Zu- und Ableitung herstellbar ist.
11. 11. Anordnung naoh Anspruoh 9» daduroh gekennzeichnet, daß die Wand symmetrisch su einer Längsachse ausgebildet ist, die Stützmittel einen langgestreckten Zapfen aufweisen, der sioh im Abstand zu dieser Aohse befindet und quer zu dieser orientiert ist, ein Lagerblook auf dem Zapfen zur Bewegung in Längsrichtung desselben gelagert ist und Mittel vorgesehen sind, die für eine Verbindung des Blocks mit einer der Elektrodenplatten sorgen.
12. 12. Anordnung naoh Anspruoh 9t gekennzeichnet durch eine Anzahl im seitlichen Abstand angeordneter Sätze llektrodenplatten und einer Anzahl von Kammern, die jeweils zwischen einem Paar der Platten sitzen, und durch eine Stützkonstruktion für die Platten mit zwei gegenüberliegenden Plattenteilen, die parallel su den Längsachsen der Kammern liegen, wobei . einer der Plattenteile einen Kanal bildet und sioh in ihm eine Sammelleitung Befindet, die in einer Flüseigkeitsverbindung mit den Leitungen 3teht, die an die Kammern angesohlossen sind.

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    13· Anordnung nach Anspruch 9» gekennzeichnet durch einen zweiten Gewindezapfen, der im wesentlichen parallel zu de» ersten Zapfen angeordnet ist, einem zweiten Lagerblock, der auf dem zweiten Zapfen verschiebbar gelagert und «it der anderen Elektrodenplatte verbunden ist, und eine in Gewindeingriff auf dem zweiten Zapfen sitzende Mutter zur Einstellung der Lage de· zweiten Lagerblooks auf ihm.

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