DE1804199C3 - Korpuskularstrahlgerät zur wahlweisen Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagrammes - Google Patents
Korpuskularstrahlgerät zur wahlweisen Abbildung eines Präparates oder seines BeugungsdiagrammesInfo
- Publication number
- DE1804199C3 DE1804199C3 DE1804199A DE1804199A DE1804199C3 DE 1804199 C3 DE1804199 C3 DE 1804199C3 DE 1804199 A DE1804199 A DE 1804199A DE 1804199 A DE1804199 A DE 1804199A DE 1804199 C3 DE1804199 C3 DE 1804199C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lens
- diffraction
- beam device
- image
- objective lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 title claims description 24
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 30
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 24
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 14
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004783 Serene Substances 0.000 description 1
- 238000004125 X-ray microanalysis Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N serine Chemical compound OCC(N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/295—Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
30
Die Erfindung betrifft ein Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop, zur wahlweisen
Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagramms, enthaltend einen Bestrahlungsieil in
Strahlrichtung vor sowie einen Abbildungsteil in Strahlrichtung hinter dem Präparat, der zwischen dem
Linscnspalt einer magnetischen Objektivlinse mit einer Linsenbohrung und einer magnetischen Projektionslinse
eine individuell einschaltbareelektiomagnetische
Beugungslinse solcher Auslegung aufweist, daß sie das in der hinteren Brennebene der Objektivlinse
entworfene Beugungsdiagramm in die Gegenstandsebene der Projekf.ionslinse überträgt.
Ein Elektronenmikroskop dieser Art ist aus einem Aufsatz auf den S. 33 bis 64 der Zeitschrift »Philips"
Technische Rundschau«, August 1950 bereits bekannt. Bei diesem bekannten Korpuskularstrahlgerät
ist die Projektionslinse die Projektivlinse eines Elektronenmikroskops, d. h. seine in Strahlrichtung letzte
Abbildungslinse, und es wird wahlweise die Beugungslinse oder die zwischen ihr und der Projektivlinse
angeordnete Zwischcnlinse eingeschaltet. In dem erstgenannten Betriebszustand wird das Beugungsdiagramm vergrößert auf einem Endbildschirm abge-
bildet, während der Betriebszustand mit eingeschalteter Zwischenlinse die normale elektronenmikroskopischc
Abbildung des Präparates vorzunehmen gestattet.
Bei dem bekannten Elektronenmikroskop kann infolge Verwendung elektromagnetischer Linsen sowie
infolge dcrwechselweiscn Einschaltung der Zwischcnlinse
und der Beugungslinse, die unterschiedliche Brechkräfte haben müssen, beim Übergang von der
üblichen elektronenmikroskopischen Abbildung des Präparates zur Abbildung seines Beugungsdiagramms
und umgekehrt eine zusätzliche Bildverdrehung auftreten, die die Zuordnung des Bildes des Beugungsdiagramms
zum Bild des Präparates erschwert. Außerdem nimmt die Beusungslinse als zusätzlich
zwischen den Abbildungslinsen angeordnete selbständige Linse Platz in axialer Richtung in Anspruch, und
man ist bestrebt, das üblicherweise senkrecht stehend angeordnete Elektronenmikroskop mit möglichst kleiner
Bauhöhe zu konstruieren.
Um eine bei Hochauflösungs-Untersuchungen störende Änderung der Streuflüsse im Bereich des Präparates
zu vermeiden, die störende Beeinflussungen des auf das Präparat auftreifenden Elektronenstrahls
hervorrufen können, ist in den Veröffentlichungen des 6. Internationalen Kongresses für Elektronenmikroskop^
in Kyoto, 1966, S. 19 und 20, bereits die Verwendung
einer elektrostatischen Beugungslinse innerhalb eines im übrigen mit elektromagnetischen Linsen
ausgerüsteten Elektronenmikroskops beschrieben worden. Siraiggenommen finden dort zwei elektrostatische
Linsen Verwendung, von denen die eine eine Verkleinerungslinse und die andere eine Vergrößerungslinse
ist. Die Linsen werden wahlweise eingeschaltet, wobei nach Einschalten der Vcrkleinerungslinse
und bei eingeschalteter Zwischenlinse hinter den beiden Beugungslinsen (dreistufige Pvaparaiabbildung)
sowie bei abgeschalteter Zwischenlinsc (zweistufige Präparalabbildung) unter Einschaltung der vergrößernden
Beugungslinse jeweils ein zweistufig vergrößertes Bild des Beugungsdiagramms mit brauchbarer
Kameralänge gewonnen wird.
Bei dieser Anordnung tritt zwar durch die Einschaltung der Beugungslinscn infolge ihrer Ausbildung
als elektrostatische Linsen keine zusätzliche Bilddrehung auf, aber die Linsen erfordern außer
dem Platzaufwand für selbständige Linsen mit im Hinblick auf die Durchschlagsfestigkeit zwischen den
Elektroden und anderen hochspannungsführenden Teilen bedingten Dimensionen ferner einen zusätzlichen
Hochspannungserzeuger, der eine sehr konstante Spannung abgeben muß.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ganz allgemein ein Korpuskularstrahlgerät zur wahlweiscn
Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagramms zu schaffen, das auch mit permanentmagnetischen
Linsen im Bcstrahlungs- und im Abbildungstcil — die elektromagnetische Beugungslinse
ausgenommen — augerüstet sein kann und die Nachteile der bekannten Anordnungen vermeidet. Außer
einem Elektronenmikroskop betrifit die Erfindung also beispielsweise auch ein Ionenmikroskop.
Die crfindungsgcmäße Lösung der Aufgabe ist bei
einem Korpuskularstrahlgerät der eingangs genannten Art dadurch gekennzeichnet, daß die Bcugungslinse
als Doppellinse mit zwei Linscnspalten ausgebildet ist. deren Abstand voneinander kleiner als die Bildweite
der den in Strahlrichtung ersten Linsenspalt enthaltenden Teillinse der Beugungslinsc ist und deren
magnetische Flüsse längs der Linsenachse entgegengesetzt gerichtet ;md sowie betragsmäßig in einem
störende Bilddrehungen durch dieBcugungslinsc ausschließenden
Verhältnis stehen, und daß die Beugungslinse innerhalb der Bohrung der Objektivlinse
magnetisch isoliert angeordnet ist.
Die Erfindung vereint also die Vorteile einer elektrostatischen Bcugungslinse — gute Abschirmung,
keine Bilddrehung— mit den Vorteilen einer elektromagnetischen
Beugungslinse — kein zusätzlicher Hochspannungserzeuger, leichte Einstcllbarkcit der
Linsenerregung — unter Verringerung d^s bei beiden
Linsen in ihrer bekannten Ausführung erforderlichen zusätzlichen axialen Platzbedarfs dadurch, daß eine
bilddrehungsfreie Konstruktion der Linse gewählt ist und die Beugungslinse innerhalb der Objektivlinse
untergebracht ist.
Die Konstruktion elektromagnetischer Doppellinsen ist in mehreren prinzipiellen Ausführungen bereits
seit langem bekannt. So beschreibt die deutsche Patentschrift 8 19 438, 21 g 37/20, ein Doppellinsensystem,
bei dem eine einzige Wicklung zur Erzeugung des magnetischen Flusses und ein einziger Eisenkreis
mit zwei in Strahlrichtung aufeinanderfolgende Linsenspalten vorhanden sind. Eine derartige Linsenanordnung
ermöglicht die Erzielung derselben Brennweite wie eine Einzellinse, jedoch mit erheblich kleineren
Querschnitten im flußführenden Eisenpfad. Ein derartiges Doppellinsensystem findet jedoch bei der
Erfindung nicht Verwendung, denn bei ihm sind die magnetischen Flüsse in den beiden Linsenspalten
gleichgerichtet, so daß nach wie vor die bei der Erfindung gerade vemiedcne Bilddrehung auftritt.
Eine andere bekannte prinzipielle Ausbildung von Doppellinsen zeigt beispielsweise die USA.-Patentschrift
24 18 349. Hier sind zwei Linsen mit individuellen Wicklungen und Eisenkreisen und demgemäß
mit zwei Linsenspalten unmittelbar hintereinander angeordnet, wobei die in Strahlrichtung gesehen zweite
der Linsen innerhalb der Brennweite der in Strahlrichtung gesehen ersten Linse angeordnet ist. Der
Sinn dieser Maßnahme ist die Verringerung von Linsenfehlcrn.
Eine ähnliche Anordnung beschreibt die deutsche Patentschrift 6 80 284, 21 g 37/20. Bei ihr dient die
Verwendung von zwei im gleichen Sinne stromdurchflossenen und jeweils einem Linsenspalt zugeordneten
Linsenwicklungen dazu, durch passende Strombelastung jeder der Wicklungen das Gewicht der optischen
Beeinflussung des Strahls an eine beliebige Stelle zwischen den beiden Linsenspalten legen zu
können. Auch hier sind die magnetischen Flüsse in den beiden Linsenspalten gleichgerichtet.
Demgegenüber beschreibt eine Arbeit in der »Zeitschrift
für Physik«, 1935, S. 634 bis 642, eine elektromagnetische Doppellinse, die so ausgebildet ist,
daß infolge entgegengesetzter Richtung der Flüsse in den beiden Linsenspalten sich die durch jede der Teillinsen
der Anordnungen hervorgerufenen Bilddrehungen gerade aufheben. Eine derartige Linsenanordnung
findet bei der Erfindung in dadurch besonders vorteilhafter Weise als Beugungslinse Verwendung,
daß die Doppellinse innerhalb der Objektivlinse angeordnet ist. Wesentlich für die erfindungsgemäß
verwendete Doppellinse ist dabei, daß kein Zwischenbild zwischen den beiden Linsenspalten auftritt;
andernfalls würde es sich um die normale Aufeinanderfolge von zwei getrennten Linsen handeln.
Die bei der Erfindung ausgenutzte Wirkung einer derartigen Doppellinse beruht bekanntlich darauf, daß
die Brechkraft der Linse proportional dem Quadrat der magnetischen Feldstärke und damit unabhängig
von der Richtung der magnetischen Flüsse in den beiden Linsenspalten ist, während die Bilddrehung
linear proportional der Feldstärke und damit abhängig von der Richtung der magnetischen Flüsse ist.
Der Vorteil der Verwendung einer zusätzlichen Beugungslinse schlechthin besteht in einer erheblichen
Bedienungsvcrcinfachung des Gerätes beim Übergang von üblicher Präparatabbildung zur Abbildung des
Beugungsdiagramms oder umgekehrt. Üblicherweise nimmt man diesen Übergang durch Umschalten der
Erregung der Zwischenlinse in der Weise vor, daß abwechselnd das Bild des Präparates oder das Bild
des Beugungsdiagramms auf dem Endbildlcuchtschirm des Gerätes oder auf fotografischem Material
entworfen wird. Dies verursacht nicht nur eine Änderung der durch die Zwischenlinse hervorgerufene
Bilddrehung infolge der Änderung ihres Erregerstromes, sondern kann insbesondere bei gedrängten Konstruktionen
des Korpuskularstrahlgerätes auch die bebeits beschriebene Änderung der Streuflüsse im Bereich
des Präparates hervorrufen, so daß Nachjustierungen im Bestrahlungsteil erforderlich werden.
Schaltet man dagegen zur Abbildung des Beugungsdiagramms eine zusätzliche Beugungslinse ein. so
bleibt die Erregung der Zwischenlinse konstant, und bei der erfindungsgemäßen Ausbildung der Beugungslinse tritt keine störende Bilddrehung auf.
In der Regel wird man die Beugungslinse in zweckmäßiger Weiterbildung der Erfindung so auslegen,
daß sie das Beugungsdiagramm in die Gegenstandsebene einer ihr unmittelbar benachbarten Projektionslinse,
also einer Zwischenlinse bei einem mehr als zwei Abbildungslinsen enthaltenden Korpuskularstrahlgerät,
überträgt. Es ist aber grundsätzlich auch möglich, die Beugungslinse so zu dimensionieren
bzw. ihren Erregerstrom so veränderbar zu machen, daß die Beugungslinse auch eine Übertragung in die
Gegenstandebene einer anderen Projektionslinse, also bei einem dreistufigen Korpuskularstrahlgerät in
die Gegenstandsebenc der Projektivlinse, vornimmt. Weiterhin kann es zweckmäßig sein, den Erregerstrom
der erfindungsgemäß vorgesehenen Beugungs-
linse so veränderbar zu machen, daß bei abgeschaltetem Erregerstrom der Objektivlinse die Beugungslinse das Präparat in die Gegenstandsebene der Projektionslinse
abbildend eingestellt werden kann. Bei dieser Betriebsweise bietet sich die Möglichkeit, die
Beugungslinse praktisch als Objektiv langer Brennweite einzusetzen, daß das Präparat, das sich in seiner
üblichen La/γ befindet, mit einer geringen Vergrößerung
oder mi, Jem Abbildungsmaßstab 1 : 1 in die
Gegenstandsebene beispielsweise der Zwischenlinse abbildet. Damit erhält man eine Möglichkeit zur Erzielung
kleiner Vergrößerungen, beispielsweise mit einem Elektronenmikroskop, bei hinreichender Auflösung.
In der Regel brauchen zu dieser Verwendung der
erfindungsgemäß vorgesehenen Beugungslinse keine zusätzlichen Regeleinrichtungen vorgesehen zu werden,
da der Abstand zwischen der Präparatebene und der hinteren Brennebene der Objektivlinse in aller
Regel sehr klein ist und im Linsenstromkreis der Beugungslinse ohnehin Mittel zur Feineinstellung der
Brechkraft dieser Linse vorgesehen sein müssen.
Eben war bereits angedeutet worden, daß die Beugungslinse als echte Übertragungslinse, d. h. mit dem
Abbildungsmaßstab 1:1, verwendet werden kann.
daß es aber auch möglich ist, einen hiervon abweichenden Abbildungsmaßstab einzustellen. In der Regel
wird man daran interessiert sein, infolge geeigneter Wahl dieses Abbildungsmaßstabes bei der Abbildung
des vom Objektiv entworfenen ersten Bilde«
des Präparates und der Abbildung seines Beugungsdiagramms zumindest ungefähr dieselbe Vergröße
rung zu haben. Auf der anderen Seite kann es bei bestimmten Präparatstrukturen zweckmäßig sein, da;
Beugungsdiagramm stärker zu vergrößern als das Bild
des Präparates. Allerdings begrenzen die vorhandenen Plat/.vcrhältnisse die Wahl des Abbildungsmaßstabs
häufig auf einen Wert,der in der Nähe des Abbildungsmaßstabes 1 : I liegt.
Diesen Abbildungsmaßstab 1 : 1 wird man beispielsweise dann einstellen, wenn das Beugungsdiagramm in die Gegenstandsebene der unmittelbar
benachbarten Projeklionslinsc übertragen wird und dieselbe Vergrößerung wie bei der Abbildung des ersten
Bildes des Präparates gewünscht wird.
An dieser Stelle sei eingefügt, daß eine Pmiektionsiinsc
im Gegensatz zu einer Übcrlragungslinsc eine Abhängigkeit ihrer Brennweite vom Betrag der magnetischen
Feldstärke zeigt, die durch ein Minimum gekennzeichnet ist. während die Brennweite einer
Übcrtragungslinse, beispielsweise der Objektivlinse, mit zunehmender magnetischer Feldstärke einsinnig
abnimmt. Im Sinne dieser Definition wird im Rahmen der Erfindung der Begriff der Projcktionslinse
verwendet.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die Bcugungslinse zwei flußerzeugende
Wicklungen sow e einen F.isenpfad auf, der aus drei auf den Stirnflächen der Wicklungen liegenden Lochscheiben
und einem die Außenflächen derselben verbindenden, die beiden Wicklungen umschließenden
rohrförmigen Teil besteht; ferner definieren die der Linsenachse zugekehrten inneren Bereiche der Lochscheibe
paarweise die beiden Linsenspalte. Die Doppellinse besitzt dann also weder einen inneren Eisenkern
noch besondere Polschuhe zur Definition der Linsenspalte, sondern diese werden durch die Scheiben
als Spalte mit Längen gebildet, die praktisch übereinstimmen mit der Höhe der parallel dazu liegenden
jeweiligen Wicklung. Dies bietet nicht nur den Vorteil einer geringen Verzeichnung, sondern
auch die Begrenzung des resultierenden magnetischen Flusses, so daß die Eisenquerschnitte klein gehalten
werden können. Außerdem empfiehlt sich ein derartiger kernloser Aufbau für die Beugungslinse auch im
Hinblick auf den Einbau derselben in die Objektivlinse, wodurch die Platzverhältnisse sehr begrenzt
sind. Man kann bei diesem Aufbau der Beugungslinse die Induktion im Eisenpfad so klein halten, daß
dafür hochpermeible Eisenlegierungen mit einer sehr kleinen Koerzitivkraft und damit niedriger Remanenz
Verwendung fine en können. Dann ist sichergestellt, daß nach Abschalten des Erregerstromes für die Beugungslinie
diese den Korpuskularstrahl nicht mehr beeinflußt.
Eine bevorzugte Variante der Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß die Objektivlinsc als Polschuhlinse
ausgebildet ist und die Bohrung ihres in Strahlrichtung zweiten Polschuhes in seinem dem Linsenspalt
abgekehrten Bereich eine Aufnahme für die Beugungslinsc bildend aufgeweitet ist. Bei dieser Anordnung
umgibt bei Verwendung einer elektromagnetischen Objektivlinse die Wicklung derselben also die
Beugungslinse, so daß in axialer Richtung kein oder zumindest kein störender Platzbedarf für die Beugungslinse
vorliegt.
Man kann diese räumliche Konzentration von strahlbeeinflussenden Einrichtungen noch dadurch
fortsetzen, daß man die Aufweitung in dem zweiten Objektivpolschuh zugleich eine Aufnahme für einen
in Strahlrichtung vor der Beugungslinsc angeordneten Stigmator bilden läßt. Derartige Stigmatoranordnungen
sind beispielsweise aus der USA.-Patentschrift 31 50 258 bekannt.
In derselben Hinsicht vorteilhaft kann im Rahmen der Erfindung ein an sich beispielsweise aus den
USA.-Patentschriften 28 51611 und 29 39 955 bekannter
Aufbau der Objektivlinse sein, bei dem die Objektivlinse zwei in Strahlrichtung hintereinanderliegende
Erregerwicklungen aufweist, zwischen denen seitlich des Linsenspaltes Platz für eine Einrichtung
ίο zur seitlichen Einführung des Präparates in den Linsenspalt
gelassen ist. Bei einer derartigen seitlichen Präparateinführung braucht also oberhalb der Objektivlinse
kein Platz, für eine Schleusenordnung vorgesehen zu sein, und es ragt auch keine Objektpatrone
in die Bohrung des oberen Polschuhes der Objektivlinsc hinein. Dann kann man in der Bohrung des in
Strahlrichtung gesehen ersten Polschuhes der Objektivlinse ein Ablenksystem für den Korpuskularstrahl
vorsehen, damit auch Beugungsdiagramme im Lichte einzelner Reflexe hergestellt werden können. Derartige
Ablenksysteme gehören ebenfalls zum Stand der Technik; sie können aus jeweils zwei Paaren sich gegenüberliegender
Spulen oder elektrostatischer Ablenkplatten gebildet sein, so daß durch entsprechende
Erregung der beiden Paare der Korpuskularstrahl vor seinem Auftreffen auf das Präparat in beliebige Richtungen
abgelenkt werden kann. Man kann die beiden Paare von Ablenkeinrichtungen aber auch dadurch
zusammenfassen (vgl. z. B. deutsche Auslegeschrift 10 88 628. 21 g 37/01), daß man die dem Strahl zugekehrten
Stirnflächen der Spulen eines Paares zugleich als elektrostatische Ablenkplatten isoliert anordnet
und an Spannung legt, so daß sie zugleich das zweite Paar bilden.
Aus konstruktiven Gründen wird es häufig zweckmäßig sein, die in Strahlrichtung erste Wicklung der
Objektivlinse für eine größere Amperewindungszahl auszulegen als die zweite Erregerwicklung. Beispielsweise
kann man der ersten Wicklung zwei Drittel der gesamten Amperewindungszahl geben.
An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, daß infolge der Anordnung der Beugungslinse innerhalb
der Objektivlinse mit ihren magnetisch leitenden Teilen eine gute Abschirmung der Präparatumgebung
gegen von der Beugungslinse etwa herrührende Streufelder erzielt wird. Auch in dieser Hinsicht ist die
kernlose Ausbildung der Beugungslinse mit geringer Feldstärke vorteilhaft.
Untersuchungen haben ergeben, daß die Beugungslinse zwar infolge ihres Aufbaues eine relativ große
Öffnungsfehlerkonstante besitzt, daß aber die Störung durch den Öffnungsfehler bis zu niedrigen Vergrößerungen
herab praktisch vernachlässigt werden kann. Wie an sich bekannt, wird man in aller Regel in
der Gegenstandsebene derjenigen Projektionslinse, in die die Beugungslinse das Beugungsdiagramm überträgt,
eine Selektorblende anordnen, um Einzelheiter im Bild ausblenden zu können. In diesem Falle isi
also die Objektivlinse fest auf die Selektorblendenebene eingestellt, und zwar ebenso die darunterliegende
Projektionslinse, die in der Regel eine Zwischenlinse im Gerät darstellt. Die Gesamtvergrößerung
des Korpuskularstrahlgerätes muß daher durch Änderungen der Erregung der Zwischenlinse und dei
Brechkraft der Projektivlinse eingestellt werden. D; sowohl die Gegenstandsebene als auch die Bildebenf
fest vorgegeben sind, kann es erforderlich werden, ir Wc.terbildung der Erfindung zwei Zwischenlinser
509 651/8;
vorzusehen, von denen die in Strahlrichtung erste die Projektionslinse ist, in deren Gegenstandsebene die
Beugungslinse das Beugungsdiagramm übertrugt. Die Erregerströme der beiden Zwischenlinsen müssen
dann entsprechend dem gewünschten Gesamtvergrößerungsbereich bei konstant gehaltenem Erreger-Strom
für die Objektivlinse veränderbar sein. Hierzu werden übliche Stromeinsteller verwendet. Auch
können, wie an sich beispielsweise aus der deutschen Patentschrift 9 29 747, 21 g 37,20, bekannt, der Objektivlinse
mehrere austauschbare Polschuhsysteme zugeordnet sein, die beispielsweise in einer drehtrommelartigen
Anordnung gehalten sind.
Wie erwähnt, erfolgt die Vergrößerungseinstellung durch Änderung der Erregung der Zwischenlinscn.
Wenn man schon durch entsprechende Ausbildung der Beugungslinse eine störende Bilddrehung durch
diese ausschließt, ist es zweckmäßig, auch die Zwischenlinsen als bilddrehungsfreie Doppellinsen auszubilden.
Man hat dann ein Korpuskularstrahlgerät, das die Herstellung sowohl von vergrößerten Bildern
eines Beugungsdiagramms als auch von vergrößerten Bildern eines Präparates unabhängig von der jeweiligen
Vergrößerung mit gleicher Orientierung gestattet. "
Verwendet man eine feste Einstellung der Brechkräfte des Objektivs und des Projektivs, so muß man
bei der Konstruktion der Zwischenlinsen beachten, daß besonders die in Strahlrichtung zweite Zwischenlinse
bei kleiner Vergrößerung einen abbildenden Korpuskularstrahl mit großem Durchmesser aufnehmen
muß. Aber auch die Bohrung der ersten Zwischenlinse muß mit Rücksicht auf die Bildfehler
einen großen Durchmesser haben, da bei einer niedrigen Vergrößerung diese Linse verkleinern und bei
einer hohen Vergrößerung ein Bild dicht vor der zweiten Zwischenlinse erzeugen muß. Weiterhin gehl.
wie die jedem Fachmann geläufige Anwendung der üblichen Linsenformeln erkennen läßt, in die Dimensionierung
wesentlich die Entfernung zwischen der Selektorblendenebene und der Hauptebene der ersten
Zwischenlinse ein.
Zwischen den beiden Zwischenlinsen läßt sich bei geeignetem Abstand zwischen diesen beiden Linsen
eine zusätzliche Einrichtung zur Universalbeugung einsetzen, die im wesentlichen eine Objekthalterune
und eine nachgeschaltete Linse enthält. Derartige Anordnungen sind an sich bekannt, vgl. die USA.-Patentschrift
24 03 529. Auch für eine Einrichtung zur Röntgenmikroanalyse ist Platz vorhanden.
Die bevorzugte konstruktive Ausbildung der Erfindung sieht vor, daß die Beugungslinse in die Bohrung
der Objektivlinse hineinragend an einer Grundplatte gehalten ist, die sich unter Zwischenfügung von Vakuumdichtungen
gegen die in Strahlrichtung hintere Stirnfläche der Objektivlinse legt und Kanäle zur vakuumdichten
Durchführung elektrischer Anschlußleitungen besitzt. Auch Kanäle für ein Kühlmittel
können in ihr vorgesehen sein. Dieser Grundplatte kann ein Verstelltrieb zur Querverschiebung zwecks
Zentrierung der Beugungslinse bezüglich der Achse der Objektivlinse zugeordnet sein. Im Prinzip kann
man hierzu eine Konstruktion verwenden, wie sie zur Querverschiebung von Objekttischen beispielsweise
aus derUSA.-Pafentschrift 29 39 955 bekannt ist. Die
vakuumdichte Durchführung derartiger Antriebe ist dem Fachmann wohlbekannt; vgl. beispielsweise
auch die USA.-Patentschrift 24 23 l"58.
ίο
Wie bereits eingangs erwähnt, ist es erforderlich die Beugungslinse magnetisch isoliert in die Obiek
tivlinse einzusetzen, um eine Trennung der Flüsse dei
beiden Linsen sicherzustellen. Da sich die Beugungslinse innerhalb des Vakuumraumes des Gerätes be·
findet, kann man diese Isolierung dadurch erreichen daß die Beugungslinse unter Bildung eines Spaltes ir
der Bohrung der Objektivlinse angeordnet ist.
Die eben beschriebene Grundplatte kann auch du Halterung für eine Stigmatoranordnung bilden, wöbe
es zweckmäßig ist, auf der Platte ein in die Objektivlinse hineinragendes Rohr aus magnetisch unwirksamem
Material vorzusehen und auf dieses Rohr sowohl die Beugungslinse als auch die Stigmatoranordnung
aufzufädeln.
In Strahlrichtuni', auf die Grundplatte folgend kann man eine magnetische Streufelder abschirmende
Scheibe mit Aufnahmen für die Selektorblende unc ihr zugeordnete Antriebe sowie darauffolgend di<
Projektionslinse anordnen, wobei die Scheibe untci Zwischenlage von Vakuumdichtungen zwischen die
genannten Einrichtungen eingefügt ist.
Fig. 1 zeigt schematisch eine als Polschuhlinse ausgebildete Objektivlinse eines Elektronenmikroskops
mit einer als Doppellinse konstruierten Beugungslinse;
Fig. 2 dient zur Wiedergabe der bei der Berechnung
der Beugungslinse wesentlichen Größen, und die
Fig. 3 und 4 lassen, teilweise im Schnitt, die in diesem
Zusammenhang wesentlichen Teile eines Elektronenmikroskops an Hand eines Ausführungsbeispiels
erkennen.
Der Linsenspalt I der Objektivlinse in Fi 2. 1 wird
begrenzt durch die beiden Polschuhe 2 und 3. die Bohrungen zum Durchtritt des Elektronenstrahls aufweisen,
dessen Achse bei 4 angedeutet ist. Die allgemein mit S bezeichnete Bohrung des in Strahlrichtung
zweiten Polschuhes 3 ist als^Aufnahme sowohl fur die Stigmatoranordnung 6 als auch für die allgemein
mit 7 bezeichnete Beugungslinse ausgebildet. Die Beugungslinse enthält die beiden Erregerwicklungen
8 und 9 sowie für den magnetischen Fluß einen Eisenpfad, der durch die drei Scheiben 10, 11
und 12 an den Stirnflächen der Wicklungen 8 und 9 sowie das Rohr 13 gebildet ist, das die Außenflächen
der drei Scheiben magnetisch leitend verbindet. Die Linsenspalte der Beugungslinse 7 erstrecken sich zwischen
den Scheiben 12 und 11 bzw 11 und 10, da kern magnetischer Kern vorgesehen ist. Die magnetischen
Flusse in diesen Spalten sind infolge einander entgegengerichteter Ströme in den Wicklungen 8 und
9 ebenfalls einander entgegengerichtet, öle Stromnchtung
.st in Fig. 1 durch jeweils ein Kreuz und einen Punkt innerhalb eines Kreises angedeutet. Demgemäß
arbeitet die Beugungslinse 7 bei gleicher Amperewindungszahl ihrer Wicklungen 8 und 9 bilddrehungsfrei.
Wird sie eingeschaltet, so fokussiert sie den Elektronenstrahl
auf die Selektorblendenebene 14; bei 15 ist der Strahlverlauf bei eingeschalteter Beugungslinse
und bei 16 bei abgeschalteter Beugungslinse Angedeutet.
Die Selektorblendenebene 14 ist identisch mit der Gegenstandsebene der ersten Zwischenlinse 17, deren
Linsenspalt bei 18 angedeutet ist.
Ehe auf ein konstruktives Ausführungsbeispiel nach den F ι g. 3 und 4 eingegangen wird, sei unter Benut-
zung der F i g. 2 ein Hinweis auf die Berechnung des
Zusammenhanges zwischen der Brennweite / der ersten und zweiten Teillinse der die Beugungslinse darstellenden
Doppellinse einerseits und der resultierenden Brennweite F andererseits gegeben. Dieselbe Betrachtung
läßt sich auch für die Berechnung der als Doppellinsen ausgebildeten Zwischenlinsen anstellen,
linier der Voraussetzung, daß die Entfernung <· zwischen den Miltcnebcncn L' und L" der beiden
Teillinsen merklich kleiner als die Brennweite / der Teillinsen und außerdem, was in der Praxis der Fall
ist, die Abweichung zwischen den Lagen der Hauptebenen von den Linsenmiüen zu vernachlässigen ist.
läßt sich folgender Zusammenhaue ansehen:
2 V/
c
c
Mit L ist in F i g. 2 die Hauptebene der Doppellinse bezeichnet.
In der Regel wird der quadratische Ausdruck im Zähler in der Nähe von 0,1 liegen, so daß man als
Näherung die auch in der Lichtoptik gebräuchliche Formel für die Brennweite eines Linsendoubletts verwenden
kann:
F i g. 3 zeigt den Bereich der Objektivlinse und der ersten Zvvischenünse eines Elektronenmikroskops. In
der Darstellung verläuft dervon einem Strahlerzeuger bekannter Bauart erzeugte Elektronenstrahl längs der
Achse 20 in F i g. 3 von links nach rechts. Er durchsetzt ein nicht dargestelltes, im Spalt 21 der Objektiv
linse angeordnetes Präparat, so daß durch die Objektivlinse und die nachfolgende Vergrößerunclinsen in
Abhängigkeit von der durch die nachfolgenden Linsen jeweils abgebildeten Ebene das Bild des Präparates
oder des Beugungsdiagramms vergrößert auf einem ebenfalls nicht dargestellten Leuchtschirm oder
auf Fotomaterial entworfen wird.
Die Objeküvlinse enthält in diesem Ausführungsbeispiel zwei Wicklungen 22 und 23, die beiderseits
des Linsenspaltes 21 angeordnet sind. In diesem Ausführungsbeispiel ist eine mit 24 bezeichnete Wasserkühlung
für die beiden Linsenwicklungen vorgesehen.
Der von den Wicklungen erzeugte magnetische Fluß schließt sich über den Eisenpfad, dessen Teile
mit 25 bis 28 bezeichnet sind, und die beiden Polschuhe 29 und 30. Die Wasserkühlung 24 ist magnetisch
unwirksam, da zu ihrer Herstellung Kupfer verwendet ist.
Mit 31 und 32 sind Anschlußstutzen für Vakuumleitungen bezeichnet.
Die Bohrung 33 des in Strahlrichtung gesehen zweiten Polschuhes 29 (der rohrförmige innere Bereich
des Teiles 25 und die Polschuhspitze 29 können in diesem Zusammenhang als ein Teil angesehen werden)
ist die Aufnahme für die Beugungslinse 34 und den elektromagnetischen Stigmator 35 bildend aufgeweitet.
Dabei sind dieser Bohrungsdurchmesser und der Außendurchmesser der Beugungslinse 34 so gewühlt,
daß ein magnetisch isolierender Spalt 36 zwischen den beiden Tei'en gewährleistet ist. Die Beugungslinse
34 enthält, wie schon in Fig. I, zwei gcsienläulig
stromduichflossene Erregerwicklungen 37 und 38 sowie den Eisenpfad 39, der denselben Aufbau
wie in I7 i g. 1 besitzt.
Sowohl die Spulen des Siigmators 35 als auch die Beugungslinse 34 sind unter Verwendung von Gießo
harz 40 isoliert.
Der Stigmator 35 und die Beugungslinse 3 sind auf den rohrförmigen Träger 41 aufgefädelt, das den
llanschartigen Bereich 42 besitzt und mit diesem auf der Grundplatte 43 aus magnetisch unwirksamem
Material befestigt ist. Diese Grundplatte erstreckt sich in Strahlrichtung hinter der Objektiv linie so weit
quer zum Strahl, daß sie bis in den Bereich des allgemein mit 44 bezeichneten Mantels des Mikroskops
ragt. Sie ist in diesem Auslührungsbeispiel mittels
2.-1 Schrauben 45 an dem Teil 25 befestigt Geeignet angeordnete
Dichtungen 47 und 48 sorgen dafüi, daß der Vakuumraum de-· Gerätes möglichst klein ist.
Innerhalb der Grundplatte 43 sind Kanäle 49 für
die Durchleitung eines Kühlmittels angeordnet: weitere
Kanäle SO dienen zur Zuführung von elektrischen 1.eilungen sowohl zu den Wicklungen 37 und 38 :;K
atich zu den Spulen des Stigmauirs 35. Diese Leitungen
sind der Übersichtlichkeit halber nur bei 51 unJ
52 angedeutet; sie verlaufen also in dem magnetisch isolierenden Zwischenraum 36.
Die Kühlkanäle 49 münden in diesem Auslührungsbeispiel in die Kühlkammer 49«. deren Form
ebenso wie die Anordnung der Kanäle aus F i g. 4 ersichtlich ist. Diese Figur zeigt die Grundplatte 43, die
beispielsweise aus Messing oder Bronze bestehen
i.ann.
Iu Strahl richtung !vnter der Grundmine 43 befindet
sich die Fluß-perre 53. die dafür sorgt, daß die
Streutlüsse der Beugungslinse 34 und der in Strahlrichtung nr.chgeschaltelen. ebenfalls als Doppellinse
ausgebildeten Zwischenlinse 5-ti sich nicht frei ausbilden
können. Diese ebenfalls als Platte, aber aus magnetisch leitendem Material, ausgebildete Flußsperre
53 besitzt Kanäle 55 sowie den Käfig 56 zur Aufnähme
einer Selcktorblende bekannter Bauart mit ebenfalls bekannten Antrieben zur Querverschiebung
derselben.
Die Zwischenlinse 54 besiizl als in diesem Zusammenhang
besonders interessierendes Merkmal die bei-
den Erregerwicklungen 57 und 58. denen jeweils eir
Linsenspah 59 bzw. 60 zugeordnet ist. Er wird durch Unterbrechungen des Eisenkreises durch ringförmige
Teile 61 bzw. 62 aus unmagnetischem Materia! erzeugt.
Mit 63 ist eine Wasserkühlung bezeichnet.
5= In der hinteren Brennebene der Beugungslinse ;s
die Aperturblende 64 angeordnet. Sie ist so dimen sionierl, daß sie bei abgeschalteter Objektivlinse der
Strahl, der dann einen relativ großen Querschnitt ir ihrer Ebene besitzt, ungehindert durchläßt.
Die Objektivlinse ist stets auf die Ebene der Se lektorblende, d. h. auf die Ebene des Käfigs 56. fo
kussiert. Dasselbe gilt für die erste Zwischenlinse54
Sobald aber die Beugungslinse 34 eingeschaltet wird überträgt sie das in der hinteren Brennebene der Ob
jektivlinse entworfene Beugungsdiagramm in di Ebene der Selektorblende, so daß dieses vergrößei
abgebildet wird.
Wie bereits bemerkt, kann aber die B.ugungslins
!geschalteter Cbjektivlinse auch als Qbiekinger
Brennweite zur Präparatabbildung mit Vergrößerung Verwendung finden,
sätzlich ist es auch möglich, die Linsen r Beugungslinse als pcrmanentmagnciische uszubilden, jedoch können hierbei Schwiebezüglich der Änderung der Brechkräfte
sätzlich ist es auch möglich, die Linsen r Beugungslinse als pcrmanentmagnciische uszubilden, jedoch können hierbei Schwiebezüglich der Änderung der Brechkräfte
Man erkennt, daß die erfindungsgemäß verwendet Beucuncslinse insbesondere bei kernloser Ausfür
run« keine störende Vergrößerung der Durchmesse des Teiles 25 hervorruft. In in diesem Zusammenhan
zweckmäßiger Weise ist bei dem Ausführungsbeispii nach Fi g. 3 die größere Amperewindungszahl der i
Strahlrichtung ersten Wicklung 22 der Objektivlins eeecbcn worden.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen
Claims (23)
1. Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop,
zur wahlweisen Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagramms, enthaltend einen Bestrahlungsteil in Strahl richtung
vor sowie einen Abbildungsteil in Strahlrichtung hinter dem Präparat, der zwischen dem Linsenspalt
einer magnetischen Objektivlinse mit einer Linsenbohrung und einer magnetischen Projektionslinse
eine individuell einschaltbare elektromagnetische Beugungslinse solcher Auslegung
aufweist, daß sie das in der hinteren Brennebene der Objektivlinse entworfene Beugangsdiagramm
in dis Gegenstandsebene der Projektionslinse überträgt, dadurch gekennzeichnet, daß
«die Beugungsiinse (7, 34) als DoppeJlinse mit zwei
jLinsenspalten ausgebildet ist, deren Abstand voneinander
kleiner als die Bildweite der den in Strahlrichtung ersten Linsenspalt enthaltenden
Teillinse der Beugungslinse (7, 34) ist und deren !Magnetische Flüsse längs der Linsenachse entlegengesetzt
gerichtet sind sowie betragsmäßig in tinem störende Bilddrehungen durch die Beugungslinse
(7, 34) ausschließenden Verhältnis ptehen, und daß die Beugungslinse (7, 34) innerhalb
der Bohrung (5, 33) der Objektivlinse magnetisch isoliert angeordnet ist.
2. Korpuskularslrahlgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Objektivlinse
lind die Projektionslinse als elektromagnetische Linsen ausgebildet sind.
3. Korpiiskularstrahlgerät nach Anspruch 1 ©der 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Beugungslinse
(7, 34) zwei flußerzeugende Wicklungen (8, 9, 37, 38) sowie einen Eisenpfad für ihre
magnetischen Flüsse aufweist, der aus drei auf (den Stirnflächen der Wicklungen (8, 9, 37, 38)
liegenden Lochscheiben (10, 11, 12) und einem die Außenflächen derselben verbindenden, die
(beiden Wicklungen umschließenden rohrförmigen Teil (13) besteht, und daß die der Linsenachse
Jtugekehrten inneren Bereiche der Lochscheiben (10, 11, 12) paarweise die beiden Linsenspalte
tJefinieren.
4. Korpuskularstrahlgerät nach einem der An-Iprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
ßeugungslinse (7, 34) für ihre magnetischen Flüsse einen Eisenpfad aus einem Material niedfiger
Remanenz aufweist.
5. Korpuskularstrahlgerät nach einem der An-Iprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Objektivlinse als Polschuhlinse ausgebildet ist lind die Bohrung (5, 33) ihres in Strahlrichiung
fcweiten Polschuhes (3, 29) in seinem dem Linsen- »palt abgekehrten Bereich eine Aufnahme für die
beugungsiinse (7, 34) bildend aufgeweitet ist.
6. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufwertung zugleich
eine Aufnahme für einen Stigmator (6, 35) in Strahlrichtung vor der Beugungslinse (5, 34)
bildet.
7. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der
Abbildungsmaßstab für die Übertragung des Beugungsbildes so gewählt ist, daß die Abbildung des
von der Objektivlinse entworfenen ersten Bildes des Präparates und diejenige seines Beugungsdiagramms durch das Gerät zumindest ungefähr
mit derselben Vergrößerung erfolgt.
8. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der
Abbildungsmaßstab für die Übertragung des Beugungsbildes zumindest ungefähr den Wert 1 :1 hat.
9Γ Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche
1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Abbildungsmaßstab für die Übertragung des
Beugungsbildes größer als 1 : 1 ist.
10. Korpuskuiarstrahlgerät nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß in
der Gegenstandsebene (14) der Projektionslinse (17) eine Selektorblende angeordnet ist.
11. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche
2 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die ProjekiionsJinse die in Strahlrichtung erste von
zwei Zwischenlinsen ist, deren Erregerströme entsprechend dem gewünschten Gesamtvergrößerungsbereich
bei konstant gehaltenem Erregerstrom für die Objektivlinse veränderbar sind.
12. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß auch die Zwischenlinsen
(54) als bilddrehungsfreic Doppellinsen ausgebildet sind.
13. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche
1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Abbildungsteil als in Strahlrichtung letzte Linse
eine Projektivlinse mit austauschbaren Polschuhsystemen aufweist.
14. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche
1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Beugungslinse (34) in die Bohrung (33) der Objektivlinse
hineinragend an einer Grundplatte (43) gehalten ist, die sich unter Zwischenfügung von
Vakuumdichtungen (47, 48) gegen die in Strahlrichtung hintere Stirnfläche der Objektivlinse legt
und Kanäle (50) zur vakuumdichten Durchführung elektrischer Anschlußleitungen (51, 52) besitzt.,
15. Korpuskuiarstrahlgerät nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundplatte (43)
Verstelltriebc zur Querverschiebung zugeordnet sind.
16. Korpuskuiarstrahlgerät nach einem der Ansprüche
1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Beugungsünsc (34) unter Bildung eines magnetisch
isolierenden Spaltes (36) in der Bohrung(33) der Objektivlinse angeordnet ist.
17. Korpuskularstrahlgerät nach den Ansprüchen 10 und 14, dadurch gekennzeichnet, daß in
Strahlrichtung auf die Grundplatte (43) eine magnetische Streufelder abschirmende Scheibe (53)
mit Aufnahmen für die Selektorblende und ihr zugeordnete Antriebe sowie die Projektionslinse
(54) unter Zwischenfügung von Vakuumdichtungen unmittelbar aufeinanderfolgen.
18. Korpuskularslrahlgerät nach einem der Ansprüche I bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß
bei abgeschaltetem Erregeistrom der Objektivlinse die Beugungsiinse (7) das Präparat in die
Gegenstandsebenc (14) der Projektionslinse (17) abbildend eingestellt ist.
19. Korpuskuiarstrahlgerät nach einem der Ansprüche
2 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Objektivlinse zwei in Strahlrichtung hintereinanderliegende
Erregerwicklungen (22, 23) auf-
weist, zwischen denen seitlich des Linscnspahes (21) Platz für eine Einrichtung zur seitlichen Einführung
des Präparates in den Linsenspalt (21) gelassen ist.
20. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die in Strahlrichtung
erste Erregerwicklung (22) eine gröbere Ai iperewindungszahl
besitzt als die in Strahlrichtunc zweite Erregerwicklung (23).
21. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 19
oder 20, dadurch gekennzeichnet, daß von der Bohrung des in itrahlrichtung gesehen ersten Polschuhes
(30) der Objektivlinse ein Ablenksystem für den Korpuskularstrahl aufgenommen ist.
22. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche 1 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß
die Beugungslinse (7) das Beugungsdiegramm in die Gegenstandsebene (14) einer ihr unmittelbar
benachbarten Projektionslinse (17) übertragend eingestellt ist.
23. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß in
der hinteren Brennebene der Beugungslinse (34) eine Aperturblende (64) solcher Dimensionierung
angeordnet ist, daß sie den Strahl bei abgeschalteter Objektivlinse ungehindert durchläßt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH445168 | 1968-03-26 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1804199A1 DE1804199A1 (de) | 1969-10-16 |
DE1804199B2 DE1804199B2 (de) | 1975-05-07 |
DE1804199C3 true DE1804199C3 (de) | 1975-12-18 |
Family
ID=4276363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1804199A Expired DE1804199C3 (de) | 1968-03-26 | 1968-10-15 | Korpuskularstrahlgerät zur wahlweisen Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagrammes |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3560739A (de) |
DE (1) | DE1804199C3 (de) |
GB (1) | GB1258453A (de) |
NL (1) | NL6900724A (de) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1395201A (en) * | 1972-09-04 | 1975-05-21 | Nat Res Dev | Magnetic lenses |
JPS5138578B2 (de) * | 1972-10-23 | 1976-10-22 | ||
JPS5953658B2 (ja) * | 1980-01-30 | 1984-12-26 | 株式会社日立製作所 | 電子レンズ |
GB2192092A (en) * | 1986-06-25 | 1987-12-31 | Philips Electronic Associated | Magnetic lens system |
JPH0760661B2 (ja) * | 1988-07-22 | 1995-06-28 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡 |
US5079428A (en) * | 1989-08-31 | 1992-01-07 | Bell Communications Research, Inc. | Electron microscope with an asymmetrical immersion lens |
US8527412B1 (en) * | 2008-08-28 | 2013-09-03 | Bank Of America Corporation | End-to end monitoring of a check image send process |
US20110168888A1 (en) * | 2010-01-11 | 2011-07-14 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Weak-lens coupling of high current electron sources to electron microscope columns |
US9823958B2 (en) | 2016-02-08 | 2017-11-21 | Bank Of America Corporation | System for processing data using different processing channels based on source error probability |
US10437778B2 (en) | 2016-02-08 | 2019-10-08 | Bank Of America Corporation | Archive validation system with data purge triggering |
US10437880B2 (en) | 2016-02-08 | 2019-10-08 | Bank Of America Corporation | Archive validation system with data purge triggering |
US10460296B2 (en) | 2016-02-08 | 2019-10-29 | Bank Of America Corporation | System for processing data using parameters associated with the data for auto-processing |
US10067869B2 (en) | 2016-02-12 | 2018-09-04 | Bank Of America Corporation | System for distributed data processing with automatic caching at various system levels |
US9952942B2 (en) | 2016-02-12 | 2018-04-24 | Bank Of America Corporation | System for distributed data processing with auto-recovery |
CN110398260B (zh) * | 2019-07-26 | 2021-06-11 | 宿迁市美德机械有限公司 | 一种电磁发生装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2418349A (en) * | 1945-12-13 | 1947-04-01 | Rca Corp | Method of and means for correcting for distortion in electron lens systems |
US3046397A (en) * | 1959-06-17 | 1962-07-24 | Tesla Np | Device for compensating axial astigmatism of electron-optical systems |
-
1968
- 1968-10-15 DE DE1804199A patent/DE1804199C3/de not_active Expired
-
1969
- 1969-01-16 NL NL6900724A patent/NL6900724A/xx not_active Application Discontinuation
- 1969-03-25 GB GB1258453D patent/GB1258453A/en not_active Expired
- 1969-03-26 US US810698A patent/US3560739A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3560739A (en) | 1971-02-02 |
DE1804199A1 (de) | 1969-10-16 |
DE1804199B2 (de) | 1975-05-07 |
GB1258453A (de) | 1971-12-30 |
NL6900724A (de) | 1969-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1804199C3 (de) | Korpuskularstrahlgerät zur wahlweisen Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagrammes | |
DE973258C (de) | Magnetische Polschuhlinse kleiner Brennweite fuer elektronenoptische Vergroesserungen in Elektronenmikroskopen | |
DE2822242C2 (de) | ||
EP0492295B1 (de) | Elektronenenergiefilter, vorzugsweise vom Alpha- oder Omega-Typ | |
EP1385193A2 (de) | Objektivlinse für ein Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopiesystem | |
DE2752598C3 (de) | Verfahren zum Betrieb einer elektromagnetischen fokussierenden elektronen-optischen Linsenanordnung und Linsenanordnung hierfür | |
DE2307822C3 (de) | Supraleitendes Linsensystem für Korpuskularstrahlung | |
DE69610287T2 (de) | Korpuskularoptisches gerät mit einer festen blende für den monochromatorfilter | |
DE887685C (de) | Elektronenmikroskop mit magnetischer Fokussierung | |
DE69817618T2 (de) | Wien filter | |
DE3438987C2 (de) | ||
DE899095C (de) | Anordnung an einem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop | |
DE2311578A1 (de) | Permanentmagnet-linsensystem | |
DE202008018179U1 (de) | Vorrichtung zur räumlichen Darstellung von Proben in Echtzeit | |
DE3224871C2 (de) | Magnetische Elektronenlinse | |
DE1920941A1 (de) | Elektronenmikroskop | |
DE10255032A1 (de) | Verringerung von Aberrationen, die in einem Rasterelektronenmikroskop oder Ähnlichem durch ein Wien-Filter erzeugt werden | |
DE1614688C3 (de) | Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop, mit einer Doppelkondensoranordnung | |
DE680284C (de) | Magnetische Sammellinse kurzer Feldlaenge | |
DE857992C (de) | Magnetlinsensystem mit mindestens drei im Strahlengang hintereinander liegenden Linsenspalten | |
DE2059781B2 (de) | Magnetische Linsenanordnung | |
DE756332C (de) | Elektronenmikroskop mit magnetischen Linsen, insbesondere fuer hohe Vergroesserungen | |
DE917440C (de) | Elektronen-UEbermikroskop mit Vorrichtung zur Herstellung von Feinstrahl-Elektronenbeugungsdiagrammen | |
DE764029C (de) | Elektronenoptische Abbildungseinrichtung, insbesondere Elektronen-mikroskop, zur Abbildung durchstrahlter Objekte mit Hilfe eines elektrischen Immersionsobjektivs | |
AT163805B (de) | Drehbare Röntgenröhre |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |