DE1765608B1 - Verfahren zum entfernen einer schichtfoermigen auflage von der oberflaeche eines werkstuecks - Google Patents

Verfahren zum entfernen einer schichtfoermigen auflage von der oberflaeche eines werkstuecks

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DE1765608B1
DE1765608B1 DE19681765608 DE1765608A DE1765608B1 DE 1765608 B1 DE1765608 B1 DE 1765608B1 DE 19681765608 DE19681765608 DE 19681765608 DE 1765608 A DE1765608 A DE 1765608A DE 1765608 B1 DE1765608 B1 DE 1765608B1
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circuit
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Withdrawn
Application number
DE19681765608
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German (de)
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Inventor
William Robert Wescosvil-Ie Pa. Wanesky (V.StA.)
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AT&T Corp
Original Assignee
Western Electric Co Inc
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10P95/00—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • H10W74/47—

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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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US3515607A (en) 1970-06-02
NL140658B (nl) 1973-12-17

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