DE1539562A1 - Legierte GaAs-Lumineszenzdiode,insbesondere mit geringem Temperaturkoeffizienten der Intensitaet und mit hoher Ausbeute - Google Patents
Legierte GaAs-Lumineszenzdiode,insbesondere mit geringem Temperaturkoeffizienten der Intensitaet und mit hoher AusbeuteInfo
- Publication number
- DE1539562A1 DE1539562A1 DE19661539562 DE1539562A DE1539562A1 DE 1539562 A1 DE1539562 A1 DE 1539562A1 DE 19661539562 DE19661539562 DE 19661539562 DE 1539562 A DE1539562 A DE 1539562A DE 1539562 A1 DE1539562 A1 DE 1539562A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- alloyed
- alloy
- low temperature
- temperature coefficient
- emitting diode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 title claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 claims 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 1
- 235000012976 tarts Nutrition 0.000 claims 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 235000014277 Clidemia hirta Nutrition 0.000 description 1
- 241000069219 Henriettea Species 0.000 description 1
- 229910020994 Sn-Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009069 Sn—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenezinc Chemical group [Zn]=S WGPCGCOKHWGKJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
SIEMENS AKTIENGESELISCHAi1T München 2, «j 4 APR 196 9
Berlin und München Witteisbacherplatz 2
P 15 39 562. 7 PA 66/3105
legierte GaAs-Lumineszenzdiode, insbesondere mit geringem
Temperaturkoeffizienten der Intensität und mit hoher Ausbeute
Zusatz zu Patent 1 258 980
Die Erfindung betrifft eine legierte GaAs-Lumineszenzdiode,
insbesondere mit hoher Ausbeute und niedrigem Temperaturkoeffizienten, sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung
(Legierungs-Temperaturprogramm) und ist eine Weiterbildung der im Patent 1 258 980 bereits
Rb/R1 909881 /0427"
N2Ue- Unterlagen (Art 7 ä I X>», 2 Nr. l Sau 3 Jcs Änderunase<-i λ 4. 9. lsö7i
SAD
III V
beanspruchten legierten Λ B -lunineszenzdicdc ir.it geringem
Temperaturkoeffizieiiten und hoher Liehirauobeutc.
In den genennten Hauptpatent wird beschrieben, da'3 eier
Temperaturkoeffizient der Intensität, ^, eir.er legierten
GaAs-Lunir.easenediode gegenüber einer diffundierten um. etwa
eine Zehr.erpotens geringer ist und ur.tcrhnl:. Q1- ---
liegt, in Zir.rr.crtempera turbereich ocgar gegen Null go}.·;.
W Die hohe Ausbeute und der gleichseitig geringe Temperaturkoeffizient
konnten dnra!; erklärt werden, daß die lurrincczenzotrahliuig
einer legierten Dicde in Vergleich zu einer diffundierten merklich langwelliger ist und dcchalb,
celbot bei Tenperaturerhohung, d.h. selbst bei Verbreiterung
der Energiebänder ia zu durchdringenden Halbleitermaterial,
kaum absorbiert wird.
Bei der vorliegenden Erfindung wird darüber hinaus zur
Srhühung der lichtauobeutc noch von der Beobachtung
Gebrauch g.ecacht, daß die Lunineczenzctrahlung von der
Orientierung des ebenen pn-4jbergangc abhängt (vgl.Pig.1).
So hat sich gezeigt, daß die Intensitäten bei nach (100) orientierten pn-übergang besonders intensiv ist.
Weitere Einzelheiten über die Abhängigkeit der luninec-.
zenzötrahlung von der Orientierung dec pn-tJbergango,
sowie über eine geeignete Legierungsr.othode zur Heratellung
einen gleichoäßig ausgebildeten und z.BV
- ·'"-·*' 909-881/0427 ßAD original
PA 9/501/360 . - 3 -
nach (100) orientierten pn-Übergangs sind in folgenden
und anhand der Figuren T und 2 näher erläutert.
Untersuchungen an legierten GaAc-Lumiiieozenzdioden haben
ergeben, daß sich die Intensitäten bei Orientierung des flachenhaften pn~Übergango parallel su
(100), (TTT) = (111)Aa und (11T)Ga etwa wie
■ . τ . τ . τ fi ■ · Λ » 1
verhalten. Die Orientierungen (TTT) und (111) müssen in
III Y der polaren Zinkblendestruktur der AB -Verbindungen,
hier dec GaAs, unterschieden werden. Die Richtung von
einen A .zu einen 3 , hier also von Ga zu Ao, entspricht
[111 j und die Kristalloberfläche (111) ist nit
Ga besetzt. Die entgegengesetzte Richtung, hier also
von As zu Ga, ist dann [ TTT ] und die Kristalloberflache ■
(TTT) ist mit As besetzt. Infolge der Polarität der Bindung ergeben sich auch energetische Unterschiede und
damit vinterschiedliche spektrale lagen des LuiainecsenE-für
die verschiedenen Richtungen.
In Fig. 1 sind die Ergebnisse veranschaulicht. Über der
Riotoenergie hy sind für 300 0K die relative Intensität I
der lurninesEenzstrahlung und der Absorptionskoeffizient
ο tN n dea n-Zonennaterials aufgetragen.
co
OO
CX)
^ Man erkennt deutlich, daß die Lurainessensstrahlung
t^ diffundierter.Dioden, Kurve a, energiereicher ist als die
>? legiertei" Dioden, Kurven b, und nahe der Absorptior.skante,(
PA 9/501/360 - 4 -
BAD ORIGINAL
Kurve c<n, des zu durchdringenden Materials der n-Zono
liegt.
Zur Erzeugung gleichmäßig ausgebildeter, ebener pn-Ubergünge
der jeweils gewünschten Orientierung hat sich folgendes Verfahren als optimal erwiesen. Nach den
an oich bekannten Preßpulververfahren werden Scheiben eir.er den Dotierungsstoff enthaltenden Legierung, hier z.B. eir.er
(Zn,Sn)-Legierung, zusammen rait GaAa in Graphitpulver ge-.
preßt. Damit gelingt eo, dan Zusammenlaufen der Scheiben
zu Kugeln (die Legierungotemperatur liegt höher als die
Schmelztemperatur der (Zn,Sn)-Legierung)^ so daß keine
flüchenhafte Benetzung entstände, zu verhindern und p-Zonen mit einen Durchmesser von einigen mm und einer
Dicke von einigen bis zu etwa 30/um herzustellen,, die nur
am Rand von Flüchen anderer Indizierung begrenzt cUnd.
Diese Flächen lassen sich jedoch leicht durch Ätzen be7
seitigen. Das Einlegieren selbst erfolgt zweckmäßig nach dem in Fig. 2 skizzierten Legierungs-Temperaturprogrammj
über der Zeit ist die Temperatur T aufgetragen: Zur "
Erzielung einer gleichmüßigen Benetzung werden die Proben
vor dein eigentlichen Einlegieren zunächst einige Minuten
(ca 10 Min".) auf Temperaturen von 350 - 400 0C gehalten.
Die Einlegierung seibot erfolgt dann in einen Tcnperaturintervall
zwischen 520 und 600 0C; bei zu niedrigen
Temperaturen ergibt sich oft eine ungleichmüßige Auflösung des GaAs, bei höheren Temperaturen entsteht'keine
p-potierung (wahrscheinlich wegen zu starken Abdampfens des. p-dotierten Zn). Un gleichmüßig dicke Rückkristallisations-
909881/04 27
9/501/360 · ; ^
•schichten und damit gleichmäßige.und ebene pn-Übergangc
zu erhalten, muß die anschließende Abkühlung langsam und ·
gleichmäßig, z.B. innerhalb von ca 30 Min. bis auf ca
400 0C, erfolgen. Danach kann schneller abgekühlt werden.
In der Pig. 3 ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemüßen
GaAs-Iumineszenzdiode angegeben und durch die
Tabelle erläutert. Die Halbkugelform für den n-Typ-GaAs-Kristall
ist deshalb vorteilhaft, weil so die sonst infolge
des hohen Brechungsindex von GaAsVTotalreflexionsverluote
an der Grensflache gegen Luft erheblich vermindert
werden können.
BAD ORIGINAL 90 9881/04 27
PA 9/501/360 ' - · - 6 -
Nr. | TeiIbezeichnung 1 ι in ι . ,.< |
Material | Dimenoionen/mni | Dicke: 0,2 Durchmesser:2,2 |
Bemerkungen |
1 | Krintall | GaAo n-Typ | Höhe:1,0 Durchmesser:2,O Höhe:O,3 Durchmesser:O,5 |
Dicke:O,05 Innen^:1,3 \ußen^:2,2 |
Halbkugelform Legierung zur Herstellung des p-n-Übcrgangcc |
2 3 4 _ |
Mittelkontakt | Sn-Zn (>0,3?° Zn) |
Dicke:0,4 Innenjtf: 1,3 Außen-:5,O |
vergoldet, gro£e V/ürraeleitf ,u.Aus- dehnungckoeff.an GaAa angepaßt |
|
6 7 8 |
.Grundplatte | Mo | Dicke:O,05 Außen-:2,0 |
zur Herstellung der Lötverbir.dun mit d.Grundplatt· |
|
9 | Ringkontakt | Sn-Pt (1 95.Pt) |
Dicke: 1,0 Innenfo: 1,2 Außen-:2,2 |
Heroteller: Frenchtown Porcelain |
|
Isolationsring | Keramik ra. Hickelme- tallisierü |
Sn foicke: 0,05 ilnnenjtf: 1,2 |Außen#:2,2 |
zum Verlöten d. Grundplatte mit d.Keramikring (metallisiert) |
||
Lötring | Cu !Länge: 2,5 iBreitc:0,5 i |
Cu-Netζ vergold. Maschenv/eite: 0,055 Drahtstürke: 0,035 |
|||
Kontaktatreifen | Ni | vergoldet | |||
Deckel | Ag | Ausgleichsotück f.die Dicke des Kontaktstreifcna |
|||
Ausglei chsring |
PA 9/5OI/36O
909881/0427
Ec sei noch bemerkt, daß ansteile der (Zn,Sn)-Legierung
auch eine andere Legierung, beotehend aus wenigsten einen
Metall der 2. Gruppedes Periodensyctens anstelle des Zn,
und wenigstens1 einen Element der 4· Gruppe anstelle des
Sn, verwendet werden kann.
2 Patentansprüche
3 Figuren
PA. 9/501/360
BAD ORIGINAL
909881/0427
Claims (2)
- Patent ansprücheM. Legierte GraAs-Lumineszenzdiode, insbesondere mit geringem Temperaturkoeffizienten der Lumineszenzintensität, -«<0,5 -~ t und hoher Lichtausbeute, nach PatentG
1 258 980, dadurch gekennzeichnet, daß der pn-übergang eben und parallel zu einer (100)-Kristallfläche orientiert ist. - 2. Legierungsverfahren zur Herstellung einer öaAs-Lumineszenzdiode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß eine Scheibe einer (Zn,Sn)-Legierung zusammen mit einem n-Typ-GaAs-Kristall der gewünschten Orientierung nach dem an sich bekannten Preßpulververfahren in Graphitpulver gepreßt, daß die Proben vor der eigentlichen Legierung zunächst einige Minuten, ca. 10 Min., auf etwa 350 - 400 0C gehalten, daß die Legierung dann in einem Temperaturbereich zwischen 520 und 600 0C und die anschließende Abkühlung langsam, und zwar in ca. 30 Hin» auf etwa 400 0C und erst danach schneller, vorgenommen werden.909881/0427tArt. > 4i "-4 ^ Nr. l Satz 3 *c~ .V.uerungsgej... 4. J. Uo/,-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1966S0102202 DE1258980B (de) | 1966-02-24 | 1966-02-24 | A B-Lumineszenzdiode í¬insbesondere GaAs-Lumineszenzdiode-mit geringem Temperaturkoeffizienten und hoher Lichtausbeute |
DES0106810 | 1966-10-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1539562A1 true DE1539562A1 (de) | 1970-01-02 |
Family
ID=25998362
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1966S0102202 Pending DE1258980B (de) | 1966-02-24 | 1966-02-24 | A B-Lumineszenzdiode í¬insbesondere GaAs-Lumineszenzdiode-mit geringem Temperaturkoeffizienten und hoher Lichtausbeute |
DE19661539562 Pending DE1539562A1 (de) | 1966-02-24 | 1966-10-31 | Legierte GaAs-Lumineszenzdiode,insbesondere mit geringem Temperaturkoeffizienten der Intensitaet und mit hoher Ausbeute |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1966S0102202 Pending DE1258980B (de) | 1966-02-24 | 1966-02-24 | A B-Lumineszenzdiode í¬insbesondere GaAs-Lumineszenzdiode-mit geringem Temperaturkoeffizienten und hoher Lichtausbeute |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH471520A (de) |
DE (2) | DE1258980B (de) |
FR (2) | FR1515311A (de) |
GB (2) | GB1156904A (de) |
NL (2) | NL6617894A (de) |
SE (2) | SE307813B (de) |
-
1966
- 1966-02-24 DE DE1966S0102202 patent/DE1258980B/de active Pending
- 1966-10-31 DE DE19661539562 patent/DE1539562A1/de active Pending
- 1966-12-20 NL NL6617894A patent/NL6617894A/xx unknown
-
1967
- 1967-02-21 FR FR95793A patent/FR1515311A/fr not_active Expired
- 1967-02-22 CH CH259867A patent/CH471520A/de not_active IP Right Cessation
- 1967-02-23 SE SE252667A patent/SE307813B/xx unknown
- 1967-02-23 GB GB866367A patent/GB1156904A/en not_active Expired
- 1967-06-29 SE SE979167A patent/SE315333B/xx unknown
- 1967-07-17 NL NL6709903A patent/NL6709903A/xx unknown
- 1967-10-26 FR FR126010A patent/FR93199E/fr not_active Expired
- 1967-10-30 GB GB4916067A patent/GB1156905A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE315333B (de) | 1969-09-29 |
SE307813B (de) | 1969-01-20 |
FR93199E (fr) | 1969-02-21 |
NL6617894A (de) | 1967-08-25 |
GB1156904A (en) | 1969-07-02 |
NL6709903A (de) | 1968-05-01 |
GB1156905A (en) | 1969-07-02 |
DE1258980B (de) | 1968-01-18 |
CH471520A (de) | 1969-04-15 |
FR1515311A (fr) | 1968-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2039381C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer epitaktisch auf einem n-leitenden Substrat aus Galliumphosphid gewachsenen p-leitenden Galliumphosphidschicht | |
DE1514055A1 (de) | Kuehlvorrichtung mit mindestens zwei zueinander parallel verlaufenden Kuehlblechen,insbesondere fuer Injektionslaser | |
DE1293905B (de) | Verfahren zum Herstellen eines npn-Galliumarsenid-Transistors | |
DE102017110313B4 (de) | Thermoelektrische Umwandlungsvorrichtungen | |
DE1093484B (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, insbesondere pnp- oder npn-Leistungstransistoren | |
DE1539562A1 (de) | Legierte GaAs-Lumineszenzdiode,insbesondere mit geringem Temperaturkoeffizienten der Intensitaet und mit hoher Ausbeute | |
DE1044977B (de) | Legierungsverfahren zur Herstellung von p-n-UEbergaengen in Halbleitern | |
DE1036394B (de) | Verfahren zur Erzeugung einer pn-Verbindung in einem p-Typ-Koerper aus Silizium | |
DE1639146C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer elektrolumineszenten Halbleiterdiode mit p-n-Übergang | |
DE1439952A1 (de) | Halbleiter-Dioden und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE1113519B (de) | Siliziumgleichrichter fuer hohe Stromstaerken | |
EP2537163B1 (de) | Elektrisches widerstandselement geignet für leuchtdioden, laserdioden oder fotodetektoren | |
AT274073B (de) | A<III>B<V>-Lumineszenzdiode - insbesondere auf GaAs-Basis | |
CH485381A (de) | Legierte GaAs-Lumineszenzdiode | |
DE1464305B2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen sowie nach diesem Verfahren hergestellte Bauelemente | |
DE1489517A1 (de) | Lumineszenzdiode mit einem A?-Halbleiter-Einkristall und einem durch Legieren hergestellten ebenen pn-UEbergang | |
AT201114B (de) | Verfahren zur Herstellung von halbleitenden Vorrichtungen | |
DE1489277A1 (de) | Thermoelektrische Halbleitervorrichtung | |
AT242750B (de) | Spitzendiode | |
DE1932842A1 (de) | Laufzeitdiodenoszillator | |
AT235598B (de) | Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Verbindung ohne Gleichrichterwirkung zwischen einer Stromzuführung und einem thermoelektrischen Halbleiter | |
AT247918B (de) | Halbleiteranordnung mit einem durch Einlegieren einer Metallpille erzeugten pn-Übergang | |
AT243318B (de) | Verfahren zur Herstellung hoher Dotierungsgrade in Halbleiterstoffen | |
DE1035780B (de) | Transistor mit eigenleitender Zone | |
AT138748B (de) | Verfahren zur Herstellung gesinterter Metallegierungen. |