DE1522728C3 - Verfahren zur Herstellung einer elektrophotographischen Platte - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer elektrophotographischen PlatteInfo
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- DE1522728C3 DE1522728C3 DE19671522728 DE1522728A DE1522728C3 DE 1522728 C3 DE1522728 C3 DE 1522728C3 DE 19671522728 DE19671522728 DE 19671522728 DE 1522728 A DE1522728 A DE 1522728A DE 1522728 C3 DE1522728 C3 DE 1522728C3
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Description
3 4
aus einem photoleitfähigen Stoff in Teilchenform, phisches Aufzeichnungsmaterial aus einer photoleitder
in einem nichtleitenden Bindemittel dispergiert fähigen Schicht, die als Photoleiter PbO, ZnO, BaO,
ist. So ist aus der DT-AS 12 04 759 ein Verfahren TiO2, CdO, Bi2O3, Ga2O3, In2O3, SnO, SnO2, Sb2O3,
zur Herstellung eines Photoleiters bekannt, bei dem TeO2, Cu2O und/oder HgO, als Glasbildner SiO2,
ein Gemisch von photoleitenden Körnern und Glas- 5 GeO2, B2O3, V2O5, P2O5, TeO2, As2O3 und/oder
emaillekörnern als Bindemittel auf eine Temperatur Sb2O3 und als Zusatz gegebenenfalls Al2O3, MgO,
oberhalb der Schmelztemperatur des Glasemailles Li2O,' Na2O, K2O und/oder CaO enthält, und gegeerhitzt
wird. Dieses Erhitzen bewirkt eine Sinterung, benenfalls einem elektrisch leitenden Schichtträger,
wodurch die photoleitenden Körner durch das Glas- das dadurch gekennzeichnet ist, daß die photoleitemaille
miteinander verbunden sind. Als photo- 10 fähige Schicht homogen glasartig ist. Die Herstellung
leitende Körner werden anorganische kristalline Ver- dieser Schicht erfolgt in der Weise, daß die Bestandbindungen,
z. B. Kadmiumsulfid, verwendet. Diese teile geschmolzen werden und die Schmelze abgekühlt
Photoleiterschichten haben zwar eine befriedigende und zu einer Platte verarbeitet wird,
photographische Geschwindigkeit und Spektral- Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer empfindlichkeit; sie sind jedoch auch nach färb- 15 elektrophotographischen Platte, die die vorstehend licher Sensitivierung im allgemeinen viel weniger genannten Nachteile und Mangel nicht aufweist und empfindlich als Selen. Sie sind ferner im allgemeinen sich durch eine gleichmäßige Verteilung der Teilnicht wiederverwendbar, da zur Erzielung aus- chengröße und der Teilchendispersion im Bindereichender Empfindlichkeiten hohe Anteile, z. B. 60 mittel auszeichnet.
photographische Geschwindigkeit und Spektral- Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer empfindlichkeit; sie sind jedoch auch nach färb- 15 elektrophotographischen Platte, die die vorstehend licher Sensitivierung im allgemeinen viel weniger genannten Nachteile und Mangel nicht aufweist und empfindlich als Selen. Sie sind ferner im allgemeinen sich durch eine gleichmäßige Verteilung der Teilnicht wiederverwendbar, da zur Erzielung aus- chengröße und der Teilchendispersion im Bindereichender Empfindlichkeiten hohe Anteile, z. B. 60 mittel auszeichnet.
bis 90 Volumprozent, an photoleitfähigem Pigment 20 Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren
verwendet werden müssen, wodurch die Erzielung zur Herstellung einer elektrophotographischen Platte,
glatter Oberflächen erschwert wird. Eine glatte Ober- bei dem eine Mischung aus PbO, ZnO, BaO, TiO2,
fläche ist für wiederverwendbare elektrophotogra- CdO, Bi2O3, Ga2O, In2O3, SnO2, Sb2O3, TeO2, Cu2O,
phische Platten notwendig, da nur solche Platten eine HgO und/oder As2O3 als Photoleiter, SiO2, B2O3,
wirksame Übertragung des Bildpulvers und eine an- 25 P2O5, Sb2O3, GeO2 und/oder V2O5 als glasartiges
schließende Reinigung vor der Wiederverwendung Bindemittel und gegebenenfalls Al2O3, MgO, Li2O,
ermöglichen. Ein zusätzlicher Nachteil bei der Ver- Na2O, K2O, CaO und/oder SrO als Zusatz über den
wendung anorganischer Pigment-Bindemittelplatten Schmelzpunkt ihrer Bestandteile erhitzt sowie abgebesteht
darin, daß sie nur durch negative Korona- kühlt und zu einer Platte verarbeitet wird, das da-Entladung
aufgeladen werden können, was ungünstig 30 durch gekennzeichnet ist, daß die Mischung nach
ist, da bei der negativen Korona-Entladung viel mehr dem Erhitzen abgeschreckt, anschließend wieder erOzon
erzeugt wird und diese Aufladungsart relativ hitzt und nach diesem zweiten Erhitzen langsam abschwer
steuerbar ist. gekühlt wird, und daß eine solche Mischung ver-
Aus der US-PS 31 51 982 sind bereits Pigment- wendet wird, die beim Abschrecken amorph bleibt
Bindemittelplatten für elektrophotographische Zwecke 35 und beim langsamen Abkühlen teilweise kristallin
bekannt, die zu einem größeren Anteil aus einem wird.
nichtphotoleitfähigen Glasbindemittel bestehen. An- Die erfindungsgemäß hergestellte Platte zeichnet
organische photoleitfähige Pigmentteilchen werden sich durch ihre Stabilität, ihre hohe Lichtempfindmit
Glasteilchen gemischt, das Glas wird geschmol- lichkeit und ihre Abnutzungsfestigkeit aus. Sie hat
zen und die zweiphasige Mischung wird auf eine 40 vorzügliche physikalische und elektrische Eigenleitfähige
Unterlage aufgebracht, so daß eine elektro- schäften und ist sowohl für den einmaligen als auch
photographische Platte entsteht. Diese Platten haben für den wiederholten Gebrauch verwendbar,
im allgemeinen ausgezeichnete physikalische Eigen- Die erfindungsgemäß hergestellte Platte umfaßt schäften, da sie sehr glatte, feste Oberflächen haben, eine zweiphasige Schicht, deren größerer Anteil aus die leicht zu reinigen und ungewöhnlich abnutzungs- 45 mindestens einem photoleitfähigen Metalloxid befest sind. Jedoch haben diese Platten auch einige der steht, das in einem glasartigen Bindemittel entweder für die Bindemittelplatten beschriebenen Nachteile. als einfaches oder komplexes Oxid rekristallisiert ist. Um eine Platte mit einer glatten Oberfläche herzu- Bei der Herstellung einer solchen Platte wird ein stellen, dürfen nicht mehr als ungefähr 40 Gewichts- größerer Anteil photoleitfähiges Metalloxid mit prozent der Platte aus photoleitfähigen Teilchen be- 50 einem geringeren Anteil mindestens eines anderen stehen. Zur Steigerung der Lichtempfindlichkeit glasbildenden Stoffes, in dem das bzw. die Metallmüßte ein größerer Anteil photoleitfähiger Teilchen oxide gut löslich sind, vermischt. Nach dem Schmelverwendet werden, wodurch nicht wiederverwend- zen wird die Mischung abgeschreckt, wobei ein einbare Platten mit sehr rauher Oberfläche entständen. phasiges Glas erhalten wird. Dieses Glas wird dann Da die Platten normalerweise durch Mischung photo- 55 zur Abscheidung des Metalloxids in Form feinverleitfähiger Teilchen mit Glasteilchen sowie durch teilter, gleichmäßig dispergierter Teilchen der erfinnachfolgendes Sintern des Glases hergestellt werden, dungsgemäßen zweiten Hitzebehandlung unterworfen, ist es oft schwierig, eine gleichmäßige Dispersion der Polykristalline Feststoffe, die durch die gesteuerte photoleitfähigen Teilchen im Glasbindemittel zu er- Kristallisation von Gläsern erhalten werden, werden reichen. Auch ist die Teilchengröße der photoleit- 6° als »Glas-Keramik« bezeichnet. Diese Materialien, fähigen Teilchen oft nicht gleichmäßig, und die Teil- die von P. W. McMillan in »Glass-Ceramics«, chen können oft nicht so klein gehalten werden, wie Academic Press, New York, 1964, beschrieben sind, dies erwünscht ist. Platten mit einer ungleichmäßigen unterscheiden sich von Gläsern dadurch, daß sie teil-Dispersion der photoleitfähigen Teilchen oder Ände- weise kristallin sind, während echte Gläser völlig rangen in der Teilchengröße zeigen eine nicht gleich- 65 amorphe Struktur haben. Die Kristallisation wird mäßige Lichtempfindlichkeit und ergeben keine opti- durch eine genau regulierte Hitzebehandlung des malen Bilder. Glases erreicht, wodurch eine Phasentrennung sowie
im allgemeinen ausgezeichnete physikalische Eigen- Die erfindungsgemäß hergestellte Platte umfaßt schäften, da sie sehr glatte, feste Oberflächen haben, eine zweiphasige Schicht, deren größerer Anteil aus die leicht zu reinigen und ungewöhnlich abnutzungs- 45 mindestens einem photoleitfähigen Metalloxid befest sind. Jedoch haben diese Platten auch einige der steht, das in einem glasartigen Bindemittel entweder für die Bindemittelplatten beschriebenen Nachteile. als einfaches oder komplexes Oxid rekristallisiert ist. Um eine Platte mit einer glatten Oberfläche herzu- Bei der Herstellung einer solchen Platte wird ein stellen, dürfen nicht mehr als ungefähr 40 Gewichts- größerer Anteil photoleitfähiges Metalloxid mit prozent der Platte aus photoleitfähigen Teilchen be- 50 einem geringeren Anteil mindestens eines anderen stehen. Zur Steigerung der Lichtempfindlichkeit glasbildenden Stoffes, in dem das bzw. die Metallmüßte ein größerer Anteil photoleitfähiger Teilchen oxide gut löslich sind, vermischt. Nach dem Schmelverwendet werden, wodurch nicht wiederverwend- zen wird die Mischung abgeschreckt, wobei ein einbare Platten mit sehr rauher Oberfläche entständen. phasiges Glas erhalten wird. Dieses Glas wird dann Da die Platten normalerweise durch Mischung photo- 55 zur Abscheidung des Metalloxids in Form feinverleitfähiger Teilchen mit Glasteilchen sowie durch teilter, gleichmäßig dispergierter Teilchen der erfinnachfolgendes Sintern des Glases hergestellt werden, dungsgemäßen zweiten Hitzebehandlung unterworfen, ist es oft schwierig, eine gleichmäßige Dispersion der Polykristalline Feststoffe, die durch die gesteuerte photoleitfähigen Teilchen im Glasbindemittel zu er- Kristallisation von Gläsern erhalten werden, werden reichen. Auch ist die Teilchengröße der photoleit- 6° als »Glas-Keramik« bezeichnet. Diese Materialien, fähigen Teilchen oft nicht gleichmäßig, und die Teil- die von P. W. McMillan in »Glass-Ceramics«, chen können oft nicht so klein gehalten werden, wie Academic Press, New York, 1964, beschrieben sind, dies erwünscht ist. Platten mit einer ungleichmäßigen unterscheiden sich von Gläsern dadurch, daß sie teil-Dispersion der photoleitfähigen Teilchen oder Ände- weise kristallin sind, während echte Gläser völlig rangen in der Teilchengröße zeigen eine nicht gleich- 65 amorphe Struktur haben. Die Kristallisation wird mäßige Lichtempfindlichkeit und ergeben keine opti- durch eine genau regulierte Hitzebehandlung des malen Bilder. Glases erreicht, wodurch eine Phasentrennung sowie
Ein älterer Vorschlag betrifft ein elektrophotogra- Kristallwachstumsphasen innerhalb des Glases auf-
treten. Diese Glas-Keramiken haben im allgemeinen eine viel höhere mechanische Festigkeit als das
ursprüngliche Glas.
Die durch diese Rekristallisation erzeugten Platten zeichnen sich durch eine ungewöhnlich gleichmäßige
Dispersion der photoleitfähigen Kristalle besonders geringer Größe im gesamten glasartigen Bindemittel
aus. Dieses Verfahren ermöglicht die Verwendung besonders hoher Anteile photoleitfähiger Stoffe, ohne
eine rauhe Oberfläche zu erzeugen.
In der Zeichnung ist ein übliches ternäres Zusammensetzungsdiagramm
für ein Dreikomponentenglas dargestellt, das aus Bleioxid, Siliciumdioxid und Aluminiumdioxid
besteht. Dieses Diagramm, das lediglich zur Verdeutlichung eines Ausführungsbeispieles
der Erfindung dient, ist typisch für die Form der anderen Diagramme von erfindungsgemäß hergestellten
Zusammensetzungen. Längs jeder Achse sind die Anteile der Komponenten in Molprozent aufgetragen.
Das schraffierte Feld bezeichnet diejenigen Zusammensetzungen, die bei der erfindungsgemäßen
Hitzebehandlung eine Ausscheidung von Bleioxidteilchen in dem glasartigen Bindemittel zeigen.
Die durch die Punkte 1 bis 3 des Diagramms gekennzeichneten Zusammensetzungen sind in den Vergleichsbeispielen
I bis III beschrieben. Sie hatten amorphe Struktur und konnten durch eine der üblichen Hitzebehandlungen nicht rekristallisiert
werden. Die durch die Punkte 4 bis 17 gekennzeichneten Zusammensetzungen der Vergleichsbeispiele IV
bis XVII behielten ihre glasige Struktur nicht, d. h., sie kristallisierten augenblicklich und vollständig
nach dem ersten Abkühlen der Schmelze. Bei den durch die Punkte 18 bis 20 gekennzeichneten Zusammensetzungen
der Beispiele I bis III trat bei der erfindungsgemäßen Hitzebehandlung die Abscheidung
von Bleioxidteilchen in dem glasartigen Bindemittel ein. Wie aus dem Diagramm hervorgeht, werden
zur erfindungsgemäßen Herstellung einer elektrophotographischen Glaskeramikplatte, in der Bleioxid
in einem amorphen Bindemittel rekristallisiert vorliegt, vorzugsweise etwa 65 bis 75 Molprozent
Bleioxid verwendet. Bei Verwendung anderer Bindemittel kann sich der bevorzugt eingesetzte Bleioxidanteil
etwas ändern.
Wie aus diesem als Beispiel dienenden Diagramm hervorgeht, soll der größere Anteil der Zusammensetzung
ein photoleitfähiges Metalloxid sein. Vorzugsweise wird daher zur Herstellung der erfindungsgemäßen
Platte eine Mischung mit einem Gehalt von mindestens 50 Gewichtsprozent Photoleiter verwendet.
Hierbei wird dann eine besonders gleichmäßige Glasschmelze erhalten, aus der der Photoleiter später
rekristallisiert wird. Der hohe Anteil des Photoleiters führt zu einer Platte mit einer hohen Lichtempfindlichkeit.
Im erfindungsgemäßen Verfahren werden als Photoleiter die Metalloxide PbO, ZnO, BaO, TiO2,
CdO, Bi2O1, Ga2O3, In2O3, SnO2, Sb2O3, TeO2,
Cu2O, As2O3 und deren Mischungen eingesetzt.
Diese Metalloxide sind in glasbildenden Stoffen löslich und rekristallisierbar. Da mit Bleioxid besonders
gute Ergebnisse erzielt werden, wird diese Verbindung bevorzugt. Bleioxid enthaltende Platten sind
ungewöhnlich haltbar und sehr lichtempfindlich. Sie sind infolge ihrer Empfindlichkeit auf sichtbares
Licht in der üblichen Electrophotographic anwendbar; ferner sind sie gegen Röntgenstrahlen empfindlich
und eignen sich daher besonders gut für die Elektroradiographie. Elektroradiographische Verfahren
und Systeme, in denen diese Platten verwendbar sind, sind in der US-PS 26 66 144 beschrieben.
Als glasartige Bindemittel, in denen das photoleitfähige Metalloxid löslich ist, dienen im erfindungsgemäßen
Verfahren SiO2, B2O3, P2O5, Sb2O3, GeO2,
V2O5 und deren Mischungen.
Der Mischung aus Photoleiter und glasartigem Bindemittel können gegebenenfalls noch Al2O3, MgO,
Li2O, Na2O, K2O, CaO, SrO und deren Mischungen
zugesetzt werden. Diese Verbindungen ändern beispielsweise die Empfindlichkeit und die elektrischen
Eigenschaften der Platte.
Die erfindungsgemäß hergestellte zweiphasige photoleitfähige Glaskeramikschicht kann auf jeden
geeigneten Träger aufgebracht oder als selbsttragende Schicht ausgebildet sein. Die Platte kann gegebenenfalls
mit weiteren Materialien beschichtet sein. Sie kann in Form einer mehrschichtigen Ausführung auf
eine dielektrische Schicht aufgebracht sein, wie es z. B. von GoIovin et al. in »A New Electric Photographic
Process Effected by Means of Combined Electret Layers«, Doklady, Akad. Nauk SSSR,
Bd. 129, Nr. 5, S. 1008 bis 1011, November-Dezember 1959, beschrieben ist. "■
Als Träger für die erfindungsgemäß hergestellte Photoleiterschicht können eine Vielzahl von Materialien,
z. B. Aluminium, Messing, Kupfer, korrosionsbeständiger Stahl, Nickel, Zink usw., oder mit
einer leitfähigen Schicht, z. B. aus Zinn, Indium oder Aluminium, überzogenes Glas, verwendet werden.
Unter bestimmten Bedingungen, beispielsweise erhöhten Temperaturen, hat übliches Fensterglas einen
ausreichend geringen Widerstand, so daß es als Träger verwendet werden kann. Die für den Träger zu
verwendenden Materialien können einen erstaunlich hohen Widerstand von 10e—108 Ohmcm haben. Das
Material muß im Falle der direkten Aufbringung der Photoleiterschicht beständig gegenüber den für die
erfindungsgemäßen Hitzebehandlungen erforderlichen Temperaturen sein.
Es hat sich gezeigt, daß bei Durchführung des weiteren Erhitzens während 4 Stunden auf wenigstens
400° C besonders gute Ergebnisse erzielt werden, weshalb diese Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Verfahrens bevorzugt ist.
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Teile und Prozente beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht
anders angegeben.
Vergleichsbeispiel I
85 Teile (60 Molprozent) pulverisiertes PbO werden in Aceton mit 15 Teilen (40 Molprozent) pulverisiertem
SiO2 in einem Tonmörser gemischt. Die Mischung wird bei 100° C 30 Minuten in einem
Platintiegel getrocknet. Der Tiegel wird dann bei 900° C in einen Kolben gebracht und auf dieser
Temperatur 15 Minuten gehalten. Die Schmelze wird dann in destilliertes Wasser gegossen, bei
100° C getrocknet und nochmals geschmolzen. Die Schmelze wird dann auf ein auf 200° C vorgeheiztes
Stahlblech gegossen. Diese Probe hat eine völlig amorphe Struktur. Versuche zur Rekristallisation des
Bleioxidteils durch Hitzebehandlung zwischen 350° C und 500° C über 8 bis 20 Stunden waren erfolglos.
Diese Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den Punkt 1 gekennzeichnet.
7 8
Vergleichsbeispiel II Prozent) besteht. Die gesamte Probe kristallisiert bei
Verfestigung sofort aus. Diese Zusammensetzung ist
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel I wird wie- in der Zeichnung durch den Punkt 8 gekennzeichnet,
derholt mit einer Mischung, die aus 87 Teilen PbO . . .
(65 Molprozent) und 13 Teilen SiO? (35 Molprozent) 5 Vergleichsbeispiel IX
besteht. Das Produkt ist wieder völlig amorph, und Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird
Versuche zur Rekristallisation des PbO sind erfolg- wiederholt mit einer Mischung, die aus 89 Teilen
los. Diese Zusammensetzung ist in der Zeichnung PbO (70 Molprozent), 6 Teilen SiO2 (18 Molprozent)
durch den Punkt 2 gekennzeichnet. und 5 Teilen Al2O3 (12 Molprozent) besteht. Die ge-
ίο samte Probe kristallisiert bei Verfestigung sofort aus.
Vergleichsbeispiel III Diese Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel I wird wie- den Punkt 9 gekennzeichnet,
derholt mit einer Mischung, die aus 87 Teilen PbO . .
(65 Molprozent), 10 Teilen SiO2 (25 Molprozent) Vergleichsbeispiel X
und 3 Teilen Al2O3 (10 Molprozent) besteht. Die er- 15 Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird
haltene Probe ist wiederum völlig amorph und Ver- wiederholt mit einer Mischung, die aus 87 Teilen
suche zur Rekristallisation des PbO sind erfolglos. PbO (70 Molprozent), 5 Teilen SiO2 (15 Molprozent)
Diese Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch und 8 Teilen Al2O3 (15 Molprozent) besteht. Die ge-
den Punkt 3 gekennzeichnet. samte Probe kristallisiert bei Verfestigung der
20 Schmelze aus. Diese Zusammensetzung ist in der
Vergleichsbeispiel IV Zeichnung durch den Punkt 10 gekennzeichnet.
84 Teile PbO (65 Molprozent) werden in Aceton . . .
V mit 5 Teilen SiO2 (15 Molprozent) und 11 Teilen Vergleichsbeispiel XI
Al2O3 (20 Molprozent) in einem Tonmörser ge- Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird
mischt. Die Mischung wird bei 1100C 30 Minuten in 25 wiederholt mit einer Mischung, die aus 90 Teilen
einem Platintiegel getrocknet. Der Tiegel wird dann PbO (73,5 Molprozent), 7 Teilen SiO2 (22,5 Molproin
einem Ofen 15 Minuten auf etwa 900° C gehalten. zent) und 3 Teilen Al2O1 (5 Molprozent) besteht. Die
Die Schmelze wird dann in destilliertes Wasser ge- gesamte Probe kristallisiert bei Verfestigung der
gössen und bei 100° C getrocknet. Das so erhaltene Schmelze sofort aus. Diese Zusammensetzung ist in
Material erscheint vollständig kristallisiert und zeigt 30 der Zeichnung durch den Punkt 11 gekennzeichnet,
keine amorphe Phase. Nach mehrmaligem Schmelzen wird das Material auf eine auf 200° C erhitzte Vergleichsbeispiel XII
Stahlplatte gegossen. Die gesamte Mischung scheint
Stahlplatte gegossen. Die gesamte Mischung scheint
wiederum nur kristallin zu sein und keine amorphe Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird
Phase zu haben. Diese Zusammensetzung ist in der 35 wiederholt mit einer Mischung, die aus 90 Teilen
Zeichnung durch den Punkt 4 gekennzeichnet. PbO (73 Molprozent), 7 Teilen SiO2 (20 Molprozent)
Λ7 ,.,,..,,, und 3 Teilen Al2O, (7 Molprozent) besteht. Die
Vergleichsbeispiel V Probe kristallisiert bei Verfestigung der Schmelze
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird sofort aus. Diese Zusammensetzung ist in der Zeichwiederholt
mit einer Mischung, die aus 85 Teilen 40 nung durch den Punkt 12 gekennzeichnet.
PbO (66 Molprozent), 7 Teilen SiO2 (18 Molprozent) .. , . , , . . , VTTT
und 8 Teilen Al2O3 (16 Molprozent) besteht. Die ge- Vergleichsbeispiel XIII
samte Schmelze kristallisiert bei der Verfestigung. Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird ), Diese Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch wiederholt mit einer Zusammensetzung, die aus den Punkt 5 gekennzeichnet. 45 89 Teilen PbO (72,5 Molprozent), 5 Teilen SiO2 ., . . , , . . ]T7T (17,5 Molprozent) und 6 Teilen Al2O, (10 Molpro-VergleichsbeispielVI zent) best£ht ^ probe kristallisi 2 ert 3 bei Verfesti-
PbO (66 Molprozent), 7 Teilen SiO2 (18 Molprozent) .. , . , , . . , VTTT
und 8 Teilen Al2O3 (16 Molprozent) besteht. Die ge- Vergleichsbeispiel XIII
samte Schmelze kristallisiert bei der Verfestigung. Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird ), Diese Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch wiederholt mit einer Zusammensetzung, die aus den Punkt 5 gekennzeichnet. 45 89 Teilen PbO (72,5 Molprozent), 5 Teilen SiO2 ., . . , , . . ]T7T (17,5 Molprozent) und 6 Teilen Al2O, (10 Molpro-VergleichsbeispielVI zent) best£ht ^ probe kristallisi 2 ert 3 bei Verfesti-
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird gung sofort aus. Diese Zusammensetzung ist in der
wiederholt mit einer Mischung, die aus 84 Teilen Zeichnung durch den Punkt 13 gekennzeichnet.
PbO (67 Molprozent) und 16 Teilen SiO2 (33 Mol- 50
PbO (67 Molprozent) und 16 Teilen SiO2 (33 Mol- 50
prozent) besteht. Diese Mischung kristallisiert bei Vergleichsbeispiel XIV
Verfestigung der Schmelze völlig aus. Die Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den Punkt 6 Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird gekennzeichnet. wiederholt mit einer Mischung, die aus 87 Teilen Vereleichsbeisoiel VII 55 PbO (72>5 Molprozent), 3 Teilen SiO2 (10 Molpro-
Verfestigung der Schmelze völlig aus. Die Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den Punkt 6 Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird gekennzeichnet. wiederholt mit einer Mischung, die aus 87 Teilen Vereleichsbeisoiel VII 55 PbO (72>5 Molprozent), 3 Teilen SiO2 (10 Molpro-
zent) und 10 Teilen Al2O3 (17,5 Molprozent) besteht.
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird Die Probe kristallisiert bei Verfestigung aus. Diese
wiederholt mit einer Mischung, die aus 84 Teilen Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den
j PbO (67 Molprozent), 5 Teilen SiO2 (13 Molprozent) Punkt 14 gekennzeichnet.
j und 11 Teilen Al2O3 (20 Molprozent) besteht. Diese 60 . . .
Mischung kristallisiert bei Verfestigung der Schmelze Vergleichsbeispiel XV
! völlig aus. Die Zusammensetzung ist in der Zeich- Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird
! nung durch den Punkt 7 gekennzeichnet. wiederholt mit einer Mischung, die aus 89 Teilen
! ,, . . , , . .,,,TTT PbO (74 Molprozent), 4 Teilen SiO2 (14 Molprozent)
Vergleichsbeispiel VIII 6s und 7 t^/a^ (12 Molprozent) besteht. Diese
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird Zusammensetzung kristallisiert bei Verfestigung der
wiederholt mit einer Mischung, die aus 90 Teilen Schmelze sofort aus. Sie ist in der Zeichnung durch
PbO (70 Molprozent) und 10 Teilen SiO2 (30 Mol- den Punkt 15 gekennzeichnet.
9 10
χ r ι ■ u u ■ ;^i -v\n Der Tiegel wird dann in einem Ofen 15 Minuten bei
Vergleichsbeispiel XVI 85QO c ^^ Die Schmelze wkd dann -n destU.
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird liertes Wasser gegossen, bei 110° C getrocknet und
wiederholt mit einer Mischung, die aus 91 Teilen nochmals geschmolzen. Die Schmelze wird dann auf
PbO (75 Molprozent), 7 Teilen SiO2 (20 Molprozent) 5 eine auf 200° C erhitzte Stahlplatte gegossen. Die
und 2 Teilen Al2O3 (5 Molprozent) besteht. Die Probe wird in 6 Teile geteilt, von denen jeder in der
Probe kristallisiert" bei Verfestigung sofort aus. Diese nachfolgend beschriebenen Weise einer Hitzebehand-
Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den lung unterworfen wird.
Punkt 16 gekennzeichnet. Die Probe A wird 16 Stunden auf 370° C erhitzt.
v ίο Nach Abkühlung auf Zimmertemperatur und Prüfung
Vergleichsbeispiel XVII mit dem Polariskop sowie mit Hilfe der Röntgen-
Der Versuch gemäß Vergleichsbeispiel IV wird beugungstechnik erweist sich die Probe als völlig
wiederholt mit einer Mischung, die aus 92 Teilen amorph und enthält keine abgeschiedene Phase. Die
PbO (80 Molprozent), 4 Teilen SiO2 (13 Molprozent) Probe B wird 10 Stunden auf 500° C erhitzt und
und 4 Teilen Al2O3 (7 Molprozent) besteht. Die 15 dann auf Raumtemperatur abgekühlt. Bei Prüfung
Probe kristallisiert bei Verfestigung sofort. Diese Zu- zeigt sie eine kristalline Phase innerhalb des Glassammensetzung
ist in der Zeichnung durch den bindemittels. Die kristalline Phase scheint eine Punkt 17 gekennzeichnet. Mischung von Bleioxid und PbAl2O4 zu sein. Die
. Probe C wird 5 Stunden auf 450° Cferhitzt und dann
Beispiel 1 20 auf Raumtemperatur abgekühlt. Bei Prüfung zeigt
88 Teile PbO (70 Molprozent) werden in Aceton sich eine in dem gesamten glasartigen Bindemittel
mit 9 Teilen SiO2 (25 Molprozent) und 3 Teilen Al2O3 dispergierte kristalline Phase. Diese kristalline Phase
(5 Molprozent) gemischt. Die Mischung wird bei scheint völlig aus Bleioxid zu bestehen. Die Probe D
120° C 20 Minuten in einem Platintiegel getrocknet. wird 2 Stunden auf 425° C erhitzt und dann auf
Der Tiegel wird dann etwa 15 Minuten in einem 25 Raumtemperatur abgekiih.lt, Diese Probe besteht aus'
Ofen bei 900° C gehalten. Die Schmelze wird dann einem geringen Teil kristallisierten Bleioxids innerin
destilliertes Wasser gegossen und bei 100° C ge- halb des glasartigen Bindemittels. Die Pro.be E wird
trocknet. Das so erhaltene Produkt wird dann noch- 3 Stunden auf 425° C erhitzt und dann au! Zimmermals
geschmolzen, auf eine auf 200° C vorerhitzte temperatur abgekühlt. Diese Probe enthält einen
Stahlplatte gegossen und nach und nach auf Zimmer- 3° höheren Anteil kristallisierten Bleioxids als Dispertemperatur
abgekühlt. Die Probe ist vollständig sion in dem Glasbindemittel. Die Probe F wird
amorph. Sie wird dann 5 Stunden auf 450° C erhitzt 4 Stunden auf 425° C erhitzt und dann auf Raumund
wiederum auf Zimmertemperatur abgekühlt. Die temperatur abgekühlt. Bei einer Prüfung stellt sich
Prüfung zeigt eine im glasartigen Bindemittel gleich- heraus, daß das gesamte Bleioxid innerhalb des glasmäßig
dispergierte kristalline Phase. Diese kristalline 35 artigen Bindemittels kristallisiert ist.
Phase scheint völlig aus Bleioxid zu bestehen. Diese Wie aus der Behandlung der vorstehenden Proben Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den zu ersehen ist, kann eine kristalline Bleioxidphase in Punkt 18 gekennzeichnet. dem glasartigen Bindemittel durch mindestens zwei-. · 1 τι· stündige Erhitzung auf mindestens 425° C erhalten ' Beispiel 11 40 werden. Zur optimalen Rekristallisation des Blei-
Phase scheint völlig aus Bleioxid zu bestehen. Diese Wie aus der Behandlung der vorstehenden Proben Zusammensetzung ist in der Zeichnung durch den zu ersehen ist, kann eine kristalline Bleioxidphase in Punkt 18 gekennzeichnet. dem glasartigen Bindemittel durch mindestens zwei-. · 1 τι· stündige Erhitzung auf mindestens 425° C erhalten ' Beispiel 11 40 werden. Zur optimalen Rekristallisation des Blei-
Der Versuch gemäß Beispiel I wird wiederholt oxids innerhalb des Glasbindemittels sollte die Hitze-
mit einer Mischung, die aus 87 Teilen PbO (70 Mol- behandlung mindestens 4 Stunden lang bei einer
prozent), 7 Teilen SiO2 (20 Molprozent) und 6 Teilen Temperatur von mindestens 425° C durchgeführt
Al2O3 (10 Molprozent) besteht. Dieses Material ist werden.
nach der ersten Verfestigung vollständig glasig und 45 BeispielV
nach der zweiten Hitzebehandlung kristallisiert die
nach der zweiten Hitzebehandlung kristallisiert die
Bleioxidphase als eine gleichmäßige Dispersion feiner 83 Teile (65 Molprozent) pulverisiertes PbO wer-
Kristalle aus. Diese Zusammensetzung ist in der den in Aceton mit 9 Teilen (15 Molprozent) pulveri-
Zeichnung durch den Punkt 19 gekennzeichnet. siertem GeO2 und 8 Teilen (20 Molprozent) pulveri-
· 1 m 5° siertem B2O3 m einem Tonmörser gemischt. Die
Beispiel m Mischung wird 30 Minuten bei 100° C in einem
Der Versuch gemäß Beispiel I wird wiederholt mit Platintiegel getrocknet. Der Tiegel wird dann 15 Mieiner
Mischung, die aus 86 Teilen PbO (67 Molpro- nuten in einem Ofen bei 900° C gehalten. Die
zent), 7 Teilen SiO2 (20 Molprozent) und 7 Teilen Schmelze wird dann in destilliertes Wasser gegossen,
Al2O3 (13 Molprozent) besteht. Nach der ersten Ver- 55 bei 100° C getrocknet und nochmals geschmolzen,
festigung ist dieses Material völlig glasig. Nach der Die Schmelze wird auf eine auf 200° C erhitzte Stahlzweiten
Hitzebehandlung fällt das Bleioxid als eine platte gegossen. Die Probe ist nun glasig. Sie wird
gleichmäßige Dispersion kleiner Kristalle in der ge- 5 Stunden auf 500° C erhitzt und dann langsam auf
samten Glasphase aus. Diese Zusammensetzung ist Zimmertemperatur abgekühlt. Die Prüfung zeigt eine
in der Zeichnung durch den Punkt 20 gekenn- 6o kristalline Phase, die gleichmäßig im gesamten glaszeichnet,
artigen Bindemittel dispergiert ist. Die kristalline B e i s ο i e 1 IV Phase scheint völlig aus Bleioxid zu bestehen.
87 Teile (69 Molprozent) pulverisiertes PbO wer- Beispiel VI
den in Aceton mit 6 Teilen (10 Molprozent) pulveri- 65 84 Teile (67 Molprozent) pulverisiertes PbO wer-
siertem AL1O3 und 7 Teilen (21 Molprozent) SiO2 in den in Aceton mit 11 Teilen (18 Molprozent) pulve-
einem Tonmörser gemischt. Die Mischung wird bei risiertem GeO2 und 5 Teilen (14 Molprozent) B2O3
HO0C 30 Minuten in einem Platintiegel getrocknet. in einem Tonmörser gemischt. Die Mischung wird
20 Minuten bei 120° C in einem Platintiegel getrocknet.
Der Tiegel wird dann 20 Minuten in einem Ofen bei 950° C gehalten. Die Schmelze wird in
destilliertes Wasser gegossen, bei 100° C getrocknet und nochmals geschmolzen. Die Schmelze wird dann
auf ein auf 250° C vorerhitztes Stahlblech gegossen. Es ergibt sich eine völlig glasige Probe. Sie wird dann
4 Stunden auf 450° C erhitzt und nochmals auf Raumtemperatur abgekühlt. Die Prüfung zeigt eine
in dem Glasbindemittel gleichmäßig dispergierte kristalline Phase, die vollständig als Bleioxid zu bestehen
scheint.
86 Teile (65 Molprozent) pulverisiertes PbO werden in Aceton mit 8 Teilen (20 Molprozent) B2O3
und 6 Teilen SiO2 (15 Molprozent) gemischt. Die Mischung wird 20 Minuten bei 110° C in einem
Platintiegel getrocknet. Dann wird der Tiegel in einem Ofen 15 Minuten bei 850° C gehalten. Die so
Schmelze wird in destilliertes Wasser gegossen und s bei 100° C getrocknet. Dann wird die Probe nochmals
geschmolzen und auf eine auf 200° C vorerhitzte Stahlplatte gegossen. Die Probe ist gleichmäßig
amorph. Sie wird anschließend 8 Stunden auf 480° C erhitzt und dann auf Zimmertemperatur abgekühlt.
Die Prüfung zeigt in dem glasartigen Bindemittel eine kristalline Phase, die Bleioxid zu sein
scheint.
Beispiel VIII
88 Teile (67 Molprozent) PbO werden in Aceton mit 6 Teilen (14 Molprozent) B2O3 und 6 Teilen SiO2
(19 Molprozent) gemischt. Die Mischung wird 30 Minuten bei 100° C in einem Platintiegel getrocknet.
Der Tiegel wird 15 Minuten in einem Ofen bei 850° C gehalten. Die Schmelze wird dann in destilliertes
Wasser gegossen, bei 100° C getrocknet und nochmals geschmolzen. Die Schmelze wird anschließend
auf ein auf 200° C vorerhitztes Stahlblech gegössen.
Die Probe ist vollständig glasig. Sie wird dann nochmals 6 Stunden auf 500° C erhitzt und auf
Zimmertemperatur abgekühlt. Die Prüfung zeigt eine ' in dem glasartigen Bindemittel gleichmäßig dispergierte
kristalline Phase, die völlig aus Bleioxid zu bestehen scheint.
Eine Mischung aus 50 Molprozent Zinkoxid und 50 Molprozent Germaniumoxid wird in ein dicht
verschließbares Rohr eingebracht und auf 1500° C erhitzt, worauf sie abgeschreckt wird. Die gesamte
Probe ist glasig. Sie wird dann 12 Stunden auf 500° C erhitzt. Die Prüfung der Probe zeigt eine
gleichmäßige kristalline Phase, die im glasartigen Bindemittel gleichmäßig dispergiert ist. Die kristalline
Phase scheint hauptsächlich aus Zinkoxid zu bestehen.
60
Eine Mischung aus 60 Molprozent HgO und 40 Molprozent P2O5 wird in ein dicht verschließbares
Rohr eingebracht und durch Erhitzen auf 600° C geschmolzen. Sie wird abgeschreckt, und es ergibt sich
ein amorpher Feststoff. Die Probe wird dann 72 Stunden erhitzt. Nach Abkühlung auf Zimmertemperatur
ergibt sich eine gleichmäßige kristalline Phase, die in dem glasartigen Bindemittel dispergiert ist. Die kristalline
Phase scheint hauptsächlich aus abgeschiedenem HgO zu bestehen.
Die in den vorstehenden Beispielen beschriebenen erfindungsgemäß hergestellten Photoleiterschichten
eignen sich vorzüglich für elektrophotographische Platten in elektrophotographischen Abbildungsverfahren.
Sie sind gleichfalls für elektroradiographische Abbildungsverfahren verwendbar.
Die folgenden Beispiele erläutern die Anwendung der erfindungsgemäß hergestellten Platten in elektrophotographischen
Verfahren. Teile und Prozente beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben.
Anwendungsbeispiel A
Auf einen Aluminiumträger wird eine Schicht des im Beispiel I hergestellten Produkts in einer Stärke
von 500 Mikron unter Verwendung einer Mischung von Silberpuder in einem klebenden Trägerstoff, aufgebracht.
Die Platte wird, wie in der US-PS 27 77 957 beschrieben, mittels einer Korona-Entladung im
Dunkeln auf eine negative Spannung von 2000 Volt aufgeladen. Ein Schwarz-Weiß-Diapositiv wird in
einem Abstand von etwa 1 mm von der Oberfläche der Platte angeordnet. Dia Platte wird durch das
Diapositiv hindurch mit einer 100-Watt-Lampe belichtet. Die Lampe wird in einem Abstand von
2,5 cm von der Platte angeordnet. Die Belichtung wird 60 Sekunden durchgeführt. Das Bild wird, wie
in der US-PS 26 18 551 beschrieben, durch Kaskadieren elektroskopischer Entwicklerteilchen über die
Plattenoberfläche entwickelt. Dabei ergibt sich auf der Platte ein dem Diapositiv entsprechendes Pulverbild.
Dieses wird, wie in der US-PS 25 67 047 beschrieben, auf ein gewöhnliches Papierblatt übertragen.
Das Papierblatt wird dann bis zum Schmelzpunkt der elektroskopischen Entwicklerteilchen erhitzt
und abgekühlt. Es ergibt sich ein dauerhaftes Bild guter Qualität, das dem Originalbild entspricht.
Die Platte wird dann wiederholt in dem vorstehend beschriebenen Verfahren verwendet.
Anwendungsbeispiel B
Auf einen Aluminiumträger wird eine Schicht des im Beispiel III hergestellten Produkts mit einer Stärke
von 600 Mikron unter Verwendung einer Mischung von Silberpuder in einem klebenden Trägerstoff aufgebracht.
Die Platte wird dann wie im Anwendungsbeispiel A aufgeladen und belichtet. Das erhaltene
elektrostatische latente Bild wird durch Kaskadieren von elektroskopischen Entwicklerteilchen entwickelt.
Die Platte wird erhitzt bis die Teilchen schmelzen, dann wird sie auf Zimmertemperatur abgekühlt. Es
ergibt sich ein dem Originalbild entsprechendes Positivbild.
Anwendungsbeispiel C
Eine 400 Mikron starke Schicht des im Beispiel IX hergestellten Produkts wird, wie in der US-PS
28 85 556 beschrieben, mittels zweier Korona-Entladungseinrichtungen gleichzeitig auf beiden Seiten
aufgeladen. Die aufgeladene Platte wird dann mit einem Licht-Schatten-Bild unter Verwendung eines
Diapositivs belichtet. Die Belichtung wird mit einer 2,5 cm von der Platte entfernten 100-Watt-Lampe
durchgeführt. Die Belichtungszeit beträgt 70 Sekunden. Das Bild wird wie im Anwendungsbeispiel A
entwickelt, auf ein Papierblatt übertragen und fixiert. Das erhaltene Bild entspricht dem Originalbild und
hat eine gute Qualität.
Ferner können durch Zugabe weiterer Stoffe die Eigenschaften der erfindungsgemäß hergestellten
Platten an vorgegebene Bedingungen angepaßt, verbessert oder anderweitig abgewandelt werden. Beispielsweise
kann durch die spektrale Empfindlichkeit verändernde Zusätze das spektrale Ansprechvermögen
der Platten modifiziert werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung einer elektro- element, z. B. Papier, übertragen und darauf fixiert
photographischen Platte, bei dem eine Mischung 5 werden. Das vorstehende Verfahren ist ferner in den
aus PbO, ZnO, BaO, TiO.,, CdO, Bi2Ox, Ga2O, US-PS 23 57 809, 28 91011 und 30 79 342 beschrie-In2O3,
SnO2, Sb2O3, TeO2,"Cu2O, HgO und/oder ben.
As2O3 als Photoleiter, SiO2, B"2O3, P2O5, Sb2O3, Eine zur Verwendung in der Elektrophotographie
Geb., und/oder V2O5 als glasartiges Bindemittel geeignete Photoleiterschicht muß in der Lage sein,
und "gegebenenfalls Al2O3, MgO, Li2O, Na2O, 10 bei Dunkelheit eine elektrostatische Ladung zu spei-KoO,
CaO und/oder SrO als Zusatz über den ehern und bei Belichtung diese Ladung auf eine leit-Schmelzpunkt
ihrer Bestandteile erhitzt sowie ab- . fähige Unterlage abzuleiten. Bekanntlich werden die
gekühlt und zu einer Platte verarbeitet wird, verschiedensten Photoleiter zur Herstellung elektrodadurch
gekennzeichnet, daß die Mi- photographischer Platten verwendet. Geeignete schung nach dem Erhitzen abgeschreckt, an- 15 Photoleiter, wie Anthracen, Schwefel, Selen oder
schließend wieder erhitzt und nach diesem zwei- deren Mischungen, sind in der US-PS 22 97 691 beten
Erhitzen langsam abgekühlt wird und daß schrieben. Die Empfindlichkeit dieser Stoffe ist im
eine solche Mischung verwendet wird, die beim allgemeinen auf den blauen oder nahen ultravioletten
Abschrecken amorph bleibt und beim langsamen Spektralbereich begrenzt, und mit Ausnahme von
Abkühlen teilweise kristallin wird. 20 Selen sind sie nur gering lichtempfindlich. Aus diesem
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- Grunde wurde Selen der kommerziell am meisten
kennzeichnet, daß eine Mischung mit wenigstens verwendete Stoff zur Herstellung elektrophotogra- *
50 Gewichtsprozent Photoleiter verwendet wird. phischer Platten. Der Anwendung von glasförmigem
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch Selen, das in vieler Hinsicht günstig ist, sind jedoch
gekennzeichnet, daß eine Mischung mit 65 bis 25 dadurch Grenzen gesetzt, daß seine Spektralempfind-75
Gewichtsprozent PbO verwendet wird. lichkeit auf den ultravioletten, blauen und grünen
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- Bereich des Spektrums begrenzt ist und die Herstelkennzeichnet,
daß das zweite Erhitzen 4 Stunden lung von derartigen Selenplatten kostspielige und
lang auf wenigstens 400° C erfolgt. komplizierte Verfahren, z. B. Vakuumauf dampf ung,
30 erfordert. Ferner sind glasförmige Selenschichten nur metastabil; sie rekristallisieren schnell bei Tempera-
türen, die nur geringfügig über den üblichen Betriebstemperaturen
elektrophotographischer Kopiermaschinen liegen, in eine unwirksame kristalline Form.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Her- 35 Ferner erfordern Selenplatten die Verwendung einer
stellung einer elektrophotographischen Platte, bei besonderen leitfähigen Trägerschicht, vorzugsweise
dem eine Mischung aus PbO, ZnO, BaO, TiO2, CdO, zusammen mit einer zusätzlichen Sperrschicht, die
Bi2O3, Ga2O, In2O3, SnO2, Sb2O3, TeO2, Cu2O, HgO vor dem Aufbringen der photoleitfähigen Selenschicht
und/oder As2O3 als Photoleiter, SiO2, B2O3, P2O5, auf den Träger aufgebracht wird. Wegen dieser
Sb2O3, GeO2 und/oder V2O5 als glasartiges Binde- 40 Schwierigkeiten wurden bereits zahlreiche Versuche
mittel und gegebenenfalls Al2O3, MgO, Li2O, Na2O. durchgeführt, um Selen durch andere Photoleiter zu
K2O, CaO und/oder SrO als Zusatz über den ersetzen.
Schmelzpunkt ihrer Bestandteile erhitzt sowie abge- Es ist bekannt, daß zur Herstellung von Bindekühlt
und zu einer Platte verarbeitet wird. Die Platte mittelplatten eine Vielzahl organischer, polycyclischer
enthält einen kristallisierten Anteil des Photoleiters 45 photoleitfähiger Farbstoffe zusammen mit geeigneten
in einem amorphen glasartigen Bindemittel. Harzen verwendet werden können. Diese Platten
Bekanntlich können Bilder auf der Oberfläche be- haben im allgemeinen nicht die für die üblichen elekstimmter
photoleitfähiger Isolierstoffe durch elektro- trophotographischen Kopiereinrichtungeri erforderstatische
Vorgänge erzeugt und entwickelt werden. liehe Empfindlichkeit.: Ferner haben sie nur einen
Das grundlegende elektrophotographische Verfahren, so geringen Widerstand gegenüber Abnutzung und
wie es in der US-PS 22 97 691 beschrieben ist, be- zeigen keine stabilen Betriebseigenschaften, insbesteht
darin, daß eine Phötoleiterschicht gleichmäßig sondere bei erhöhten Temperaturen,
aufgeladen und dann mit einem Licht-Schatten-Bild Bei einem anderen Plattentyp werden zur Herbelichtet wird, wodurch die Ladung in den belieb.- stellung von Photöleiterschichten eigenphotoleitfähige teten Flächenteilen ausgeglichen wird. Das auf der 55 Polymere verwendet, und zwar häufig in Kombina-Schicht gebildete elektrostatische latente Bild ent- tion mit sensitivierenden Farbstoffen oder Lewisspricht in seiher Konfiguration dem Licht-Schatten- säuren. Nachteilig sind die hohen Herstellungskosten, Bild. Ferner kann ein latentes elektrostatisches Bild die Sprödigkeit der Platten und die schlechte Hafauf der Schicht durch Aufladen in bildmäßiger Ver- tung auf den Trägern. Eine Anzahl der genannten teilung erzeugt werden. Dieses Bild wird durch Auf- 60 Photoleiterschichten wird bei Hitzeeinwirkung verbringen eines elektroskopischeri Entwicklerpulvers formt, wodurch sie für automatische elektrophotoaüf der belichteten Schicht sichtbar gemacht. Das graphische Geräte ungeeignet sind, da in diesen oft Entwicklerpulver wird normalerweise von den noch leistungsstarke Lampen und Hitzefixiereinrichtuhgen geladenen Flächenteilen der Schicht angezogen, wo- verwendet werden, die eine Erhitzung der Platte verdurch ein dem latenten elektrostatischen Bild ent- 65 Ursachen.
aufgeladen und dann mit einem Licht-Schatten-Bild Bei einem anderen Plattentyp werden zur Herbelichtet wird, wodurch die Ladung in den belieb.- stellung von Photöleiterschichten eigenphotoleitfähige teten Flächenteilen ausgeglichen wird. Das auf der 55 Polymere verwendet, und zwar häufig in Kombina-Schicht gebildete elektrostatische latente Bild ent- tion mit sensitivierenden Farbstoffen oder Lewisspricht in seiher Konfiguration dem Licht-Schatten- säuren. Nachteilig sind die hohen Herstellungskosten, Bild. Ferner kann ein latentes elektrostatisches Bild die Sprödigkeit der Platten und die schlechte Hafauf der Schicht durch Aufladen in bildmäßiger Ver- tung auf den Trägern. Eine Anzahl der genannten teilung erzeugt werden. Dieses Bild wird durch Auf- 60 Photoleiterschichten wird bei Hitzeeinwirkung verbringen eines elektroskopischeri Entwicklerpulvers formt, wodurch sie für automatische elektrophotoaüf der belichteten Schicht sichtbar gemacht. Das graphische Geräte ungeeignet sind, da in diesen oft Entwicklerpulver wird normalerweise von den noch leistungsstarke Lampen und Hitzefixiereinrichtuhgen geladenen Flächenteilen der Schicht angezogen, wo- verwendet werden, die eine Erhitzung der Platte verdurch ein dem latenten elektrostatischen Bild ent- 65 Ursachen.
sprechendes Pulverbild entsteht. Ist der Bildträger Es ist bereits bekannt, für die Photoleiterschichten
relativ billig, wie z.B. Papier, so kann das Pulver- elektrophotographischer Platten verschiedene Zweibild
direkt auf ihm fixiert werden. Dies kann z. B. komponentensysteme zu verwenden. Diese bestehen
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US53909766 | 1966-03-31 | ||
DER0045647 | 1967-03-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1522728C3 true DE1522728C3 (de) | 1977-03-24 |
Family
ID=
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