DE1522567A1

DE1522567A1 - Verfahren zum Erzeugen elektrostatischer Bilder sowie hierfuer zu verwendende elektrofotografische Platten

Info

Publication number: DE1522567A1
Application number: DE1966C0039575
Authority: DE
Inventors: Giichi Marushima; Shinkichi Takahashi; Hiroshi Tanaka; Umi Tosakqa
Original assignee: Canon Camera Co Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1965-07-12
Filing date: 1966-07-11
Publication date: 1969-09-18
Also published as: DE1797579C3; DE1522567B2; DE1797579B2; DE1797579A1; DE1797598A1; DE1522567C3

Description

Verfahren.zum Erzeugen.elektrostatischer Bilder sowie hierfür zu verwendende elektrofotografische Platten Die Erfindung bezieht sich auf einen elektrografischen Prozeß, Insbesondere auf ein Verfahren zum Erzeugen elektrostatischer Bilder sowie auf hierfür zu verwendende elektrofotografische Platten.
Zu den einschlägigen elektrofotografischen Prozessen gehören das sogenannte Eleetro-Fax-System, das sogenannte Xerox-Sjrstem und das sogenannte Persistent-Internal-Polarization -(PIP)-System. Bei den beiden erstgenannten Systemen werden elektrostatische Bilder entsprechend dem sogenannten Carlson-Prozeß (US-Patent 2 297 691) erzeugt; hierbei enthält die fotoempfindliche Platte eine fotoleitende Schicht aus beispielsweise Zinkoxyd ( im Elektro-Fax-System) oder aus amprphem Selen (im Xerox-System), wobei diese fotoleitende Schicht auf einer Grundplatte aufgebracht ist. Die fotoleitende Schicht wird gleichförmig durch eine Y Corona-Entladung aufgeladen und anschließend mit dem zu kopierenden Bild belichtet. Hierbei verschwindet die an den belichteten Teilen haftende Ladung, so daß auf der fotoleitenden Schicht ein elektrostatisches Bild entsprechend dem Hell-Dunkel-Muster des Originals erzeugt wird.
Das elektrostatische Bild wird dann durch einen elektroskopischen Puder (nachstehend als "Töner") bezeichnet, zur Sichtbarkeit entwickelt. Anschließend wird im Falle des Elektro-Fac-Systems das sichtbare Bild fixiert, 'während im Falle des Xerox-Systern dan sichtbare Bild auf eine Unterlage, z.B. ein Papier, übertragen wird und dort zum Erhalt den #lektrofotografischen Bilds fixiert wird. Auf der anderen Seite ist beim-PIP-Syotem eine fotoernpfindliehe Platte vorgesehen, deren leitende Basis, eine Mischung aus Phosporen (phoopher) und Kunstharz, zwischen zwei Elektroden gepackt ist. Eine -an die beiden Elektroden angelegte Spannung erzeugt eine dauernde innere Ladungspolarisation in der fotol eitenden Schicht. Anschließend wird hierauf das zu kopierende Bild projiziert wodurch das elektrostatische Bild mit Hilfe der dauernden inneren Ladungspolarisation entsprechend dem Hell-Dunkel-Muster den Originals erzeugt wird. Durch anschließende Entwicklungs- und Fixierprozesse werden das elektrofotografische Bild erhalten.
Bei den vorstehend erwähnten bekannten Verfahren Ist es notwendig, die Aufladung direkt an der fotoleitenden Schicht zu erzeugen, die die fotoleitende Schicht bildenden Substanzen müssen deshalb hohen spezifischen Widerstand besitzen. Solche Substanzen notwendigerweise hohen spezifischen Widerstands, die außerdem in der Lage sind, elektrostatische Ladungen aufnehmen zu können, sind begrenzt auf beispielsweise ZnO + Kunstharz, ZnCdS + Kunstharz, nichtkristallines Selen und dergleichen. Aus diesem Grunde ist die Empfindlichkeit offensichtlich niedrig, so ist die beim Elektro-Fax- System erreichbare Empfindlichkeit kleiner als ASA 5, und zwar auch dann, wenn es mit Hilfe von Pudern sensibilisiert wird, während bei Xerox- und beim PIP-System die Empfindlichkeit maximal ASA 10 ist. Ferner werden bei wiederholtem Gebrauch der lichtempfindlichen Platten die Oberflächen derseleben leicht zerstört oder beschädigt, die Qualität des Bildes verschlechtert sich daher wegen der allgemeinen Empfindlichkeit des fottbleitenden Materials. Die lichtempfindlichen Platten können daher nicht wiederholt verwendet werden.
In der US-Patentschrift 3 124 456 ist die Verwendung einer lichtempfindlichen Platte beschrieben, deren fotoleitende Schicht, CdS oder CdSe in Kunstharzbinder auf der fotoleitenden Basis haftet. Eine isolierende durchscheinende (translucent) Schicht ist auf der fotoleitenden Schicht aufgebracht. Die Belichtung mit dem Original-bild und die Aufladung erfolgt gleichzeitig von der durchscheinenden Isolierschicht her, wodurch das elektrostatische Bild auf der Isolierschicht erzeugt wird, und zwar unter Ausnutzung des Unterschieds der aufgebauten Ladungen entsprechend dem Unterschied der Zeitkonstanten, welcher durch den Unterschied der Widerstandswerte der fotoleitenden Schicht an den hellen und dunklen Teilen des Originals hervorgerufen wird. Zum Erhalt eines guten elektrostatischen Bilds ist es aber bei diesem Verfahren eine notwendige Forderung, daß die spezifische Kapazität der durchscheinenden Isolierschicht größer sein muß als die der fotoleitenden Schicht. Aus praktischen Gründen ist daher die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht auf 2 - 6/u beschränkt.
Wie nachstehend noch im einzelnen erläutert wird, sind bei einer derartig dünnen Isolierschicht Spannungsdurchbrüche häufig, so daß ein wiederholter Gebrauch über lange Zeiträume hinweg nicht erwartet werden kann. Darüberhinaus nimmt bei einer derartigen Methode, bei der das elektrostatische Bild in Abhängigkeit von der Änderung der Impedanz der fotoleitenden Schicht erzeugt wird, der Kontrast, ebenso die Bildqualität, ab, wenn die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht vergrößert wird.
Nach der US-Patentschrift 3 041 167 wird eine fotoempfindliche Platte verwendet, bei der auf der fotoleitenden Basis die fotoleitenden Schicht vorgesehen ist, wobei die letztere durch einen Überzug geschützt ist. Dieser Überzug ist ausreichend dünn im Vergleich zur fotoleitenden Schicht. Wenn das elektrostatische Bild unter Verwendung einer solchen lichtempfindlichen Platte mit Hilfe des Carlson-Prozesses erzeugt wird, ist es notwendig, den Kopierzyklus zu wiederholen, und züi diesem Zweck wird vor dem Aufbringen einer Sensibilisier-Ladung eine Aufladung mit entgegengesetztem Vorzeichen gegen-über der Sensibilisier-Ladung durchgeführt; und nach dem Aufladen erfolgt eine Belichtung auf der ganzen Oberfläche, anschließend folgt die Sensibilisieraufladung und schIießlich die Exposition. Entsprechend dieser Methode kann eine Be.,.#tändigkeit der fotoempfindlichen Platte erwartet werden, der erhältliche elektrostatische Kontrast liegt aber nur bei maximal 300 - 50 0 Volt, ein Wert der allenfalls an denjenigen heranImmmt, wie dieser durch eine fotoempfindliche Platte ohne Überzugsachicht erhältlich ist.. Nach dem Verfahren dieser Patentschrift wird nach der Sensibilisieraufladung mit dem zu kopierenden Original belicht, so daß in den belichteten Teilen von der leitenden Basis her Ladungsträger injiziert werden, die das äußere Feld schwächen, und der sich hierbei einstellende Kontrast ergibt sich aus der Differenz der spezifischen Kapazitäten zwischen den belichteten und den nichtbelichteten Gebieten.
Entsprechend der Erfindung wird eine Primärladung auf der durchscheinenden Isolierschicht erzeugt, wobei unter Verwendung den Feld derselben eine festeingefangene Ladungsschicht zwischen der durchscheinenden Isolierschicht und der fotoleitenden Schicht sowie benachbart zur letzteren Erzeugt wird; Sekundäraufladung und Belichtung werden gleichzeitig zur Ausnutzung des äußeren Feld der eingefangenen Ladungeschicht durchgeführt, anschließend findet eine gleichförmige Belichtung der ganzen Fläche der durchscheinenden leolierschicht statt, so daß es möglich ist, die durchscheinende Isolierschicht 10 - 15 /U dick zu machen, und daß die Schicht durch die Verbindung des Isolierfilms gebildet werden kann, und zwar unabhängig vom Auftragverfahren für das Kunstharz, was bedeutet, daß die fotoempfindliche Platte ausreichend geschützt werden kann. Mit der Verwendung einer fotoleitenden Schicht, deren Dicke vergleichbar mit der Dicke der durchscheinenden Isollerschicht oder größer als dieselbe ist, ist es möglich, einen elektrostatischen Kontrast von 1000 - 1500 Volt zu erhalten. Erfindungsziel ist es, die im vorstehenden geschilderten Nachteile des Stands der Technik zu überwinden und eine fotoempfindliche Platte hoher Empfindlichkeit zu schaffen, mit der hoher Kontrast erhältlich isi und die sich zu wiederholtem Gebrauch während langer Zeiträume eignet,' sowie einen elektrofotografischen Prozeß zur Verfügung zu stellen, bei dem diese Platte mit ausgezeichneten Ergebnissen Verwendung findet.
Ein weiteres Erfindungeziel ist es, einen Prozeß zum Erzeugen eines elektrostatischen Bilds bereitzustellen, bei dem eine fotoempfindliche Platte verwendet wird, die ihrerseits auf einer leitenden oder isolierenden Basis die fotoleitende Schicht und über der letzteren die durchscheinende Isolierschicht trägt, bei dem ferner die durchscheinende Isollerschicht positiv oder negativ mit Hilfe von Elektroden oder einer Coronaentladung aufgeladen wird, bei dem ferner eine Oberflächenpotentialdifferenz, die entsprechend dem Hell-Dunkel-Muster den Originals auf der durchscheinenden Isolierschicht erzeugt worden ist, mit Hilfe einer Corenaentladung gebildet wird, deren Vorzeichen dem ider Primärladung entgegengesetzt ist, wobei die Coronaentladung gleichzeitig mit dem Belichten durch das Original erfolgt, und bei dem schließlich die Oberflächenpotentialdifferenz umgekehrt sowie die Differenz derselben erhöht wird durch gleichförmiges Bestrahlen der ganzen Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht mit Licht, um hierdurch ein elektrostatisches Bild zu erhalten, das den hohen Kontrast des Originals besitzt.
Ein weiteres Erfindungsziel ist es, bei dem elektrofotografischen Prozeß das erhaltene elektrostatische Bild mit Hilfe des Entwicklers sichtbar zu machen, das sichtbar gemachte Bild auf ein Trägermaterial zu Übertragen und zu fixieren, so daß ein elektrofotografisches Bild des Originals erhalten wird, und nach dem Übertragen des Bilds die Oberfläche der Isolierschicht zu reinigen, um den wiederholten Gebrauch der fotoempfindlichen Platte zu ermöglichen.
Ein weiteres Erfindungsziel ist es, eine fotoernpfindliche Platte für die Elektrofotografie bereitzustellen, bei der die durchscheinende Isolierschicht über der fotoleitenden Schicht gelegen ist, wobei die letztere die leitende oder isolierende Basis bedeckt, wobei ferner die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht so ausgewählt ist, daß die fotoernpfindliche Platte bei Verwendung im Verfahren nach der Erfindung zu einem hochkontrastreichen elektrostatischen Bild führt und eine lange Lebensdauer bei wiederholtem Gebrauch der Platte sichergestellt ist. Ein weiteres Erfindungsziel ist es, eine billige hochempfindliche fotoempfindliche Platte bereitzustellen, bei der die fotoleitende Schicht der Platte aus zwei fotoleitenden Schichten besteht, wobei diejenige fotoleitende Schicht, welche an die -durchscheinende Isolierschicht angrenzt, aus einer Mischung feiner fotoleiter-Partikel in einem Binder aufgebaut ist, während die andere fotoleitende Schicht aus einer Mischung gröberer (erude) Fotoleiter-Partikel in Binder. zusammengesetzt ist.
Ein weiteres Erfindungsziel ist es, eine fotoempfindliche Platte zur Verfügung zu stellen, bei der die durchscheinende Isolierschicht als eine isolierende Schicht ausgebildet ist, deren Transparenz nicht für eine Beaufschlagung der fotoleitenden Schicht ausreicht, und bei der die leitende oder isolierende Basis aus durchscheinender Substanz hergestellt ist, sowie ein Verfahren zum Erzeugen eines elektrostatischen Bilds des Originals auf der Isolierschicht bereitzustellen, und zwar durch Belichten mit dem Original von der durchscheinenden Basis her und durch gleichzeitiges Anlegen einer Coronaentladung an die Isolierschicht.
Im folgenden ist die Erfindung anhand der Zeichnung beschrieben; es zeigen: Fig. 1 den grundsätzlichen Aufbau einer elektrofotografischen Platte zur Verwendung im Verfahren nach der Erfindung, Fig. 2, 3 u. 4 den Prozeß zum Erzeugen eines elektro-,statischen Bild auf der Platte nach Fig. 1; in verschiedenen Statlien; Fig. 5- ein Diagramm zur Darstellung des elektrostatischen Ladungsmusters auf der fotoempfindlichen Platte nach der Erfindung; Fig. 6 das sichtbare Bild, wie es entsprechend der Erfindung erhalten wird; Fig. 7 die Methode, wie die äußere Spannung an die fotor empfindliche Platte der Erfindung angelegt wird; Fig. 8 bis 11 die Diagramme zur Darstellung des Ladungszustands der fotoempfindlichen Platte und zur Darstellung des Prozesses zur Erzeugung eines elektrostatischen Bilds auf der Platte; Fig. 12 ein Diagramm zur Darstellung, daß ein sichtbares Bild mit Hilfe eines Töners erhältlich ist.-Fig. 13 die Zustände der jeweiligen Prozesse der Erfindung; Fig. 14 bis 18 die Prozesse zur Bildherstellung entsprechend der Erfindung;,-Fig. 19 u. 20 ein Ausführungsbeispiel einer elektrofotografischen Vorrichtung zur Durchführung der Erfindung; Fig. 21 und 22 eine Ausführungsform bei der ein.Doppel-Corona-Ladungserzeuger verwendet wird; Fig. 23 eine weitere Ausführungsform bei der ein Aufladepotential an die durchscheinende Elekirode der fotoempfindlichen Schicht gegi#ben wird; Fig. 24 bis 28 verschiedene Ausführungsförmen der fotoempfindlichen Platte nach der Erfindung; Fig. 29 u. 30 Diägramme zur Darstellung einer Kopiervorrichtung, die entsprechend den Erfindungsprinzipien aufgebaut ist,-Fig. 31 u. 32 Diagramme zur Darstellung der Wirkungsweise der Vorrichtung nach den Figuren 29 und 30.
Figur 1 zeigt den grundsätzlichen Aufbau der elektrofotögrafischen Platte A, die im erfindungsgemäßen Verfahren zum Erzeugen eines elektrostatischen Bilds verwendet wird. 1 ist die Basis, 2 die fotoleitende Schicht, die unter Verwendung eines Rakels oder dergleichen oder durch Aufsprühen auf der Basis 1 aufgebracht ist, wobei, falls erforderlich, ein kleiner Binderzusatz, hauptsächlich ein Harzbinder oder dergleichen beigegeben werden kann, und damit das Haftvermögen gegenüber den anderen Schichten zu verbessern. 3 ist die durchscheinende Isolierschicht, die dicht aufliegend auf der fotoleitenden Schicht 2 aufgebracht ist. Daher besteht die elektrofotografische Platte A im wesentlichen aus der Basis 1, der fotoleitenden Schicht 2 und der Isollerschicht 3. Es sei bemerkt, daß "durchscheinend" im Zusammenhang mit der aktivierenddn Strahlung zu verstehen ist und auch transparent, halbtransparent usw. umfassen soll.
Die Basis 1 kann aus leitendem oder aus isolierendem Material bestehen. Wird eine leitende Basis verwendet, z. j3. Metalle wie Zinn, Kupfer, Aluminium oder ein feuchtes Papier, insbesondere ein mit Aluminium beschichtetes Papier, so erhält man einfache und wirtschaftliche Verhältnisse, insbesohdere dann, wenn die Basis auf eine Trommel aulkewickelt ist. Im Falle einer isolierenden Basis kann, wie nachstehend noch erläutert wird, das gleiche Material wie für die durchscheinende Isolierschicht 3 verwendet werden, es ist jedoch nicht notwendig, hierzu das gleiche Material zu'verwenden, vielmehr können auch übliche isolierende Materialien verwendet werden. Ferner ist es möglich, die gleiche Wirkung insbesondere hinsichtlich des Halo-Schutzes durch Einfärben der Isolierschicht hervorzubringen.
Hinsichtlich des Materials, aus dem die fotoleitende Schicht 2 aufgebaut ist, sei bemerkt, daß jedes der anorganische und organischen fotoleitenden Materialien verwendet werden kann. Als Beispiele für anorganische fotoleitende Materialien seien CdS (Cadmiumsulfid), CdSe (Cadmiumselenid), Zn0 (Zinkoxid), metallisches Se &Selen), ZnS (Zinksuldid), Se (Selen), TiO 2 Titandioxid), SeTe (S.elentellurid), Pb0, Bleioxid) und S (Schwefely genannt, und als Beispiele für die organischen Fotoleiter seien Anthrazen und Carbazol genannt. Die vorstehend erwähnten Materialien können zur direkten Beschichtung der Basis verwendet werden, oder als Mischung mit einem Binder aufgetragen werden, wobei auch zwei oder mehr verschiedene fotoleitende Substanzen zusammengemischt verwendet werden können. Unter den vorstehend erwähnten fotoleitenden Materialien sind die hochempfindlichen Fotoleiter, wie CdS, CdSe, metallisches Se und dergl., insbesondere für die Zwecke der Erfindung geeignet, und werden solche Materialien benutzt, so kann die Empfindlichkeit über ASA 100 erhöht werden.
Eine fotoleitende Schicht, die durch einen kleinen Zusatz von ZnS zur Hauptkomponente CdS erhalten wird, ist hochempfindlich, und es ist möglüch, ein elektrostatisches Bild hohen Kontrast zu erhalten. Es ist bekannt, daß beim PIP-System für die fotoleitende Schicht eine Mischung von CdS und ZnS verwendet wird, hierbei ist aber das Verhältnis von CdS zu ZnS so eingestellt, daß es zwischen 4:6 und 3:7 liegt, und zwar im Hinblick auf eine Erhöhung der Charakteristiken der dauernden inneren Polariäation und des Unterschieds zwischen der Fotopolarisation und der Dunkelpolarisation. Gemäß der Erfindung liegt jedoch das Verhältnis von CdS zu ZnS vorzugsweise zwischen 50:1 und 1:1., die hohe Empfindlichkeit von CdS kann daher weitgehend ausgenutzt werden.
Ferner wird bei erfindungsgemäßem Prozeß, wie diesnoch erläutert werden wird, das elektrostatische Bild auf der Oberfläche der isolierenden Schicht dadurch erzeugt, daß von der dauernd eingefangenen Ladung auf der fotoleitenden Schicht der fotoempfindlichen Platte, bei der die isolierende Schicht auf der fotoleitenden Schicht sitzt, Gebrauch gemacht wird. Deshalb ist es entsprechend der Erfindung möglich, auch metallisches Selen zu verwenden, das ein fotoleitendes Material niedrigen spezifischen Widerstands ist, deshalb bisher auch bei.den üblichen Methoden nicht verwendet werden konnte, weil bei diesen die übliche fotoleitende Schicht selbst die Ladung "bindentl muß. Gleichfalls ist es entsprechend der Erfindung möglich, die bekannten fotoleitenden Materialien allgemein selbst dann zu benutzen, wenn Fotoleiter hoher Empfindlichkeit im Einzelfall nicht vorgesehen sind.

in

Bei den fotoleitenden Papieren mit inem Kunsthart dispergiertem

Zinkoxid, die für das Elektro-Fax-System vorgesehen sind, ist es notwendig, daß diese Papiere weiß sind, weil sie als das'Kopierpapier selbst benutzt werden. Daher ist es unmöglich, zu viel Farbstoffe im Hinblick auf ausreichende Erhöhung der Empfindlichkeit zuzusetzen. Da jedoch entsprechend der Erfindung die fotoempfindliche Platte selbst nicht als das Kopierpapier verwendet wird, sondern das elektrostatische Bild auf einen anderen Träger übertragen wird, und deshalb die fotoempfindliche Platte nicht weiß sein muß, ist es möglich, wesentlich größere Farbzusätze im Vergleich zu den bekannten Verfahren zu verwenden. Deshalb ist es entsprechend der Erfindung möglich, hochempfindliche Zinkoxid-Photoleiterschichten zu verwenden, deren Empfindlichkeit mehreremale größer ist als die der üblichen fotoleitenden Schichten. Ebenfalls können ausgezeichnete Ergebnisse dann erhalten werden, wenn mit Lithium dotiertet5 Zinkoxid für die fotoleitende Schicht beim Verfahren der Erfindung verwendet wird.
Als Material für die Isoliersi#,hicht 3 kann jedes Material verwendet werden, das die folgenden drei Bedingungen erfüllt, nämlich hohe Abriebfestigkeit, hoher spezifischer Widerstand, so daß eine elektrostatische Auflaflung aufrechterhalten werden kann, und durchscheinend für die Aktivierstrahlung. Filme aus Fluorharz., Polyearbonat-Harz, Polyäthylen-Harz, Celluloseacetat-Harz, Polyester-Harz oder dergleichen können verwendet werden, insbesondere eignet sich Fluor-Harz für die Zwecke der Erfindung, weil es leicht zu reinigen ist, und weil die fotoempfindliche Platte nach einem Reinigungsprozeß, der sich an den Entwicklungs. und Übertragungsprozeß anschließt, erneut verwendet wird (siehe oben).
Es sei nun der Prozeß zum Erzeugen eines elektrostatischen Bilds auf der durchscheinenden Isol ierschicht 3 der fotoempfindlichen Platte A beschrieben.
Hierbei wird angenommen, daß die Basis der fotoempfindlichen Platte aus leitendem Material besteht.
Zunächst wird die Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 der fotoempfindlichen Platte A in einen dunklen oder einen hellen Teil mit definiertem Vorzeichen aufgeladen, z. B. positiv aufgeladen, und zwar mit Hilfe der üblichen Auflademittel, z. B. einer Corona-Entladevorrichtung, oder einer Rollenelektrode (ni cht dargestellt), die an eine Quelle 4 hoher Spannung angeschlossen ist (Fig. 2).
Wird wie vorstehend angenommen, die Oberfläche der Isolierschicht 3 positiv aufgeladen, so wirkt die Isolierschicht 3 als Kondensator., es baut sich daher eine Ladung entgegengesetzten Vorzeichens zwischen der Schicht 3 und der Schicht 2 in Nachbarschaft zur letzteren auf. Diese Ladung kann entweder durch freie Ladungsträger der fotoleitenden Schicht 2 erzeugt sein, oder durch Ladungsträger, die von der leitenden Basis 1 injiziert worden sind, oder durch Ladungsträger beiderlei Herkunft.
Die angesammelten Ladungsträger werden vom Binder oder vom Einfangniveau des die fotoleitende Schicht bildenden Fotoleiters eingefangen. Diese Ladung entspricht der Ladung des entgegengesetzten Vorzeichens auf der Oberfläche der Isolierschicht 3.
Im oben erwähnten Zustand braucht nicht befürchtet zu werden, daß über längere Zeiträume hinweg diese Ladung in einem nichtbelichteten oder dunklen Gebiet wieder versxhwindet, ebenso auch nicht in einem -exponierten oder hellen Gebiet. Auch wenn die Ladung auf der Oberfläche ded Isolierschicht in einem nichtexponiertem Gebiet entladen wird, bleibt die innere Ladung vorhanden. Anschließend (Fig. 3) wird ein Lichtbild (mit Hilfe einer aktivierenden Strahlung) des Originalbilds 8 mit exponierten Gebieten 6 und nichtexponierten Gebieten Tauf die durchscheinende,Isolierschicht 3 mit Hilfe einer entsprechenden Optik im Auflicht oder Durchlicht projiziert; gleichzeitig wird die entgegeniesetzte Polarität gegenüber der Ladungspolarität, d.h. eine negative Coronaentladüng, auf die Isolierschicht 3 projiziert, und zwar mit Hilfe einer Coronaentladevorrichtung 10, die an eine Quelle hoher Spannung 9 angeschlossen ist.
Das Ladungsvorzeichen beim vorstehend erwähnten Aufladeprozeß ist durch die Eigenschaften des Fotoleiters bestimmt. Mit anderen Worten, ist der Fotoleiter der fotoleitenden Schicht hauptsächlich n-leitend, z. B. mit Kupfer dotiertes Cadmiumsulfid oder Zinkoxid, so ist die Primäraufladung vorzugsweise positiv und die Sekundäraufladung negativ. Ist andererseits die fotoleitende Schicht in der Hauptsache aus p-leitendem Material aufgebaut, so hat die Primärladung vorzugsweise negatives Vorzeichen und die Sekundärladung positives Vorzeichen. Dies ist jedoch keine notwendige Bedingung, man erhält auch mit gegenüber dem vorstehenden vertauschten Vorzeichen ein elektrostatisches Bild, dessen Kontrast aber etwas vermindert ist.
Zum Durchführen der Seku ndäraufladung gleichzeitig mit der Belichtung der Isolierschicht 3 der fotoempfindlichen Platte durch das Originalbild wird vorgezogen, das Originalbild auf die fotoempfindliche Platte unter Verwendung einer Coronaentladevorrichtung zu projizieren, deren Schutzplattenaufbau im oberen Teil durchscheinend ist, oder eine optisch offene Vorrichtung zu verwenden, bei der keine obere Schutzplatte vorgesehen ist. So ist in Figur 3 als Beispiel eine Coronaentladungsvorrichtung 10 dargestellt, bei der der obere Teiä der Plattenelektrode optisch offen ist. Während des Aufladens der Oberfläche der Isolierschicht mit Hilfe dieser Coronaentladungsvorrichtung wird die letztere bewegt, während das Bild des Originals gleichzeitig auf die Isolierschicht durch die Coronaentladungsvorrichtung hindurch aufgestrahlt wird. Alternativ hierzu können auch das Originalbild 8 und die Platte A bewwgt werden, wobei dann die Coronaentladungsvorrichtung feststeht.
Jedoch unabhängig hiervon ist es vorzuziehen, daß das effektive Expositions- oder Durchstrahlgebiet der Coronaentladungsvorrichtung einen Belichtungsschlitz für das Originalbild definiert.
Wie oben erwähnt, werden die Aufstrahrung des Originalbilds und die Sekundäraufladung gleichzeitig ausgeführt. Die positive'Ladung, die auf der durchscheinenden Isolierschicht 3 durch die Primäraufladung am exponierten Gebiet 6 des-Originals aufgebracht worden ist, wird durch die negative Ladung, die durch die Sekundäraufladung verursacht wird, neutralisiert und wird darüberhinaus in der Polarität der Sekundäraufladung aufgeladen. In diesem Fall reduziert die. fotoleithnde Schicht 2 den spQzifischen Widerstand wegen des Lichteinfalls und wird leitend, und die negative Ladung, die sich in der fotoleitenden Schicht 2 in der Nachbarschaft der durchscheinenden Isolierschicht 3 bei der Primäraufladung angesammelt hat, wird frei und wird durch das durch die Sekundäraufladung erzeugte elektrische Feld entladen; und die positive Ladung wird durch die auf der durchscheinenden Isolierschicht 3 haftende negative Ladung induziert. Im nichtexponierten Gebiet wird die positive Ladung, die auf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 durch die Primäraufladung gebildet worden ist, teilweise neutralisiert durch die negative Ladung des entgegengesetzten Vorzeichens, die durch die Sekundäraufladung erzeugt worden ist; aber selbst wenn sie ganz neutralisiert ist, ist der Aufladungsgrad in dem durch die Sekundäraufladung bestimmten Vorzeichen klein. Dies zeigt, daß die Wirkung des äußeren Felds das durch die dauernd eingefangenen Träger verursacht wird, groß ist.
Wie vorstehend erwähnt, ist für den Fall, daß die Sekundäraufladung zusammen mit der Bestrahlung durch das Originalbild ausgeführt wird, die Ladung des Vorzeichens der Sekundäraufladung, wie dieselbe auf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 aufgebracht wird, im exponierten Gebiet des Originalbilds größer als im nichtexponierten Gebiet, aber, wie vorstehend erwähnt, wird im exponier- -ten Gebiet des Originalbilds eine positive Ladung innerhalb der fotoleitenden Schicht 2 induziert, und deshalb wirkt das Ladungsfeld auf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 ziemlich stark in dieser Richtung, und die Feldstärke, die von der Ladung auf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 außen erzeugt, wird vergleichsweise geschwächt. Andererseits wird im nichtexponierten Gebiet des Originalbilds die Ladung des gleichen Vorzeichens wie die Ladung auf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 durch die Sekundäraufladung induziert, und deshalb wird das Ladungsfeld verstärkt, um als Ergebnis hiervon dahingehend nach außen zu wirken, daß das Feld der nach außen wirkenden Ladung im nichtexponierten Gebiet des Originalbilds größer wird als im exponierten Gebiet. Mit anderen Worten, das Oberflächenpotential der durchscheinenden Isolierschicht 3 im nichtexponierten Gebiet wird höher als das im exponierten Gebiet. Als nächstes wird Licht auf die gesamte»Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 aufgestrahlt, wobei das vorstehend erwähnte elektrostatische Bild erzeugt wird; hierbei wird im exponierten Gebiet des Originalbilds nicht so viel Ladung des Zustands der fotoempfindlichen Platte nicht beobachtet, und das Oberflächenpotential der durchscheinenden Isolierschicht 3 wird etwa konstant gehalten. Jedoch wurde im nichtexponierten Teil des Originalbilds im vorausgegangenen Schritt keine Belichtung durchgeführt, deshalb die fotoleitende Schicht hier hohen spezifischen Widerstand zeigte, im vorliegenden Schritt aber wird der Wert des spezifischen Widerstands wegen der durchgeführten Belichtung abrupt erniedrigt und die fotoleitende Schicht 2 wird leitend. Deshalb wird die vorher im Inneren eingefangene #LadÜng über die leitende Basis 1 entladen, und außerdem wird in der fotoleitenden Schicht 2 eine positive Ladung durch die negative Ladung auf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3 induziert mit dem Ergebnis, daß das Oberflächenpotential der durchscheinenden Isolierschicht 3 aprupt erniedrigt wird, und das Feld der Ladung, das durch die negative, auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 sitzende Aufladung erzeugt wird, wirkt vergleichsweise stark in Richtung der positiven Ladung, und das äußere Feld der Oberflächenladnng wird bemerkenswert klein. Ist andererseits das von der eingefangenen Ladung erzeugte äußere Feld vergleichsweise stark, so ist das äußere Feld auf der Oberfläche im Zustand der Sekundäraufladung negativ, selbst wenn die Ladung der ersten positiven Aufladung nicht vollständig neutralisiert worden ist. In diesem FaH.wird, wenn die gesamte Oberfläche mit Licht bestrahlt wird, das innere eingefangene Feld freigegeben, um das positive Potential auf der Oberfläche zu erzeugen, und es wird ein hoher elektrostatischer Kontrast, der sich aus positiven und negativen Komponenten zusammensetzt, erhalten. Das elektrostatische Muster der fotoempfindlichen Platte A, wie es bei diesem Verfahrenssehritt erhalten wird, ist in Fig. 4 dargestellt. Die Änderung des Zustands des auf der Isolierschicht erzeugten elektrostatischen Bilds wird durch die relative Änderung des Betrags der Primäraufladung und der Sekundäraufladung erzeugt. Figur 5 zeigt das Elektrostatische Ladungsmuster der fotoempfindliehen Platte und den Zustand des Oberflächenpotentials der durchscheinenden Schicht in den jeweiligen Kombinationen. Die Diagramme la, lb und lc sind entsprechend der Ladungsmenge dargestellt, die zu der Zeit hervorgebracht wird, wenn die Primäraufladung der fotoempfindlichen Platte durchgeführt wird; hierbei zeigt das Diagramm la , daß die Ladung vergleichsweise klein ist, und das Diagramm lb zeigt einen mittleren Ladungsgrad, und schließlich zeigt das Diagramm le einen wesentlich größeren Ladungsgrad, wobei alle die Diagramme das Ladungsmuster nach der Primäraufladung zeigen. Die Diagramme 2al, 2b1 und 2el und 2a2 , 2b2 und 2e2 der Figur 5 geben die Ladungsmenge der Sekundäraufladung,v#ieder, wobei die Diagramme 2al, 2b1 und 2cl den Fall darstellen, wenn die Ladungsmenge vergleichsweise kleiner und die Diagramme 2a2, 2b2 und 2c2 den Fall darstellen, wenn die Aufladung vergleichsweise größer ist; sie zeigen jeweils das Ladungsmuster der fotoempfindlichen Platte.
Die Diagramme 4al, 4a2, 4b1, 4b2, 4c1 und 4c2 zeigen je den Zustand des Oberflächenpotentials der Isolierschicht in den jeweiligen Verfahrensschritten und entsprecheno den Diagrammen al, a2, bli b2, cl bzw. c2. Die folgende detaillierte Erläuterung gilt für den Fall, daß die Primäraufladung positiv is.t.
Wird eine positive Coronaentladung vergleichsweise geringer Größer der Isolierschicht zugäft'ihrt (la), so wird die positive Ladung auf der Oberfläche der Isolierschicht festgehalten. Zur gleichen Zeit wird an der Grenzfläche zwischen Isolierschicht und fotoleitender Schicht innerhalb der fotoleitenden Schicht etwa der gleiche Ladungsbetrag, aber entgegengesetzten Vorzeichens, angesammelt und eingefangen. Dann wird hierauf das Originalbild aufgestrahlt, wobei gleichzeitig eine Aufladung im entgegengesetzten Vorzeichen mit Hilfe einer negativen Coronaentladung durchgeführt wird. In diesem Fall, wenn die Aufladung vergleichsweise schwach ausgeführt wird, wird die Oberflächenladung der fotoempfindlichen Platte an den nichtexponierten oder dunklen Gebieten neutralisiert, aber die auf der fotoempfindlichen Schicht angesammelte Ladung bleibt im eingefangenen Zustand, weil die fotoleitende Schicht nichtleitend ist, und gleichzeitig wird auf der leitenden Basis eine Ladung entgegengesetzten Vorzeichens gegenüber der eingefangenen Ladung induziert. Andererseits wird im exponierten oder hellen Gebiet des Originalbilds die fotileitende Schicht leitend, die Ladung der Ober-. fläche der Isolierschicht und die Ladung auf der fotoleitenden Schicht werden daher je in ihrem Vorzeichen vertauscht. Als nächstes wird die Ladung innerhalb der fotoleitenden Schivht des nichtexponierten Gebiet mit der Ladung der fotoleitenden Basis neutralisiert, weil die fotoieitende Schicht durch die Belichtung der gesamten Oberfläche leitend wird. Die Ladung innerhalb der fotoleitenden Schicht im exponierten Gebiet bleibt aber wegen der Oberflächenladung auf der Isolierschicht vorhanden, demzufolge wird in den exponierten oder hellen Gebieten nichts geändert (3a1). Das Diagramm 4al in Fig. 5 zeigt das resultierende Oberflächenpotential der Isolierschicht entsprechend den vorstehenden Prozessen. Auf der X-Achse ist dabei die Zeit aufgetragen und auf der-Y-Achse das Oberflächenpotential. Ferner steht P für den Primäraufladungsprozeß, S für den Sekundäraufladungsprozeß und die gleie hzeitig hiermit erfolgende Aufstrahlung des Originalbilds, E steht für die gleichmäßige Belichtung der gesamten fotoempfindlichen Platte und S.C für den Kontrast des schließlich auf der Oberfläche der Isolierschicht erzeugten elektrostatischen Bilds. Für den Fall, daß die Isolieroberfläche anfänglich in positiver Richtung aufgeladen wird, baut sich ein positives Oberflächenpotential auf, wie dies bei P dargestellt ist. Die Aufladung in dieser Richtung 14 hört dann auf. Gleichzeitig hiermit oder nach einer entsprechenden Zeit werden die negative Coronaentladung und die Aufstrahlung des driginalbülds durchgeführt, wie dies bei S dargestellt ist. Hierbei baut sich ein negativ gehendes Potential auf, wie dies durch die gestrichelte Linie in exponierten Gebieten des Originalbildes dargestellt ist, während im nichtexponierten Gebiet sich das negative Potential einer Zeitkonstanten aufbaut, die kleiner ist als die des exponierten Gebiets, wie dies durch die ausgezogene Linie dargestellt ist, weil im nichtexponierten Gebiet die eingefangene Ladung durch die Belichtung freigesetzt wird, wobei gleichzeitig eine schnelle Neutralisation der negativen Lad-4ng durch die positive Ladung stattfindet. Mit anderen Worten, die fotoleitende Schicht ist als leitend zu betrachten und die Zeitkonstante ist als durch den Kondensator der isolierenden Schicht bestimmt zu betrachten, Andererseits neutralisiert im nichtexponierten, also im dunklen Gebiet, die negative Coronaentladung das positive Oberflächenpotential, wobei aber die innere eingefangene negative Ladung erhalten bleibt. Deshalb arbeitet ein Feld mit Hilfe der inneren eingefangenen negativen Ladung nach außen. Für den Fall, daß ein Teil der Oberfläche negativ wird, wirkt das Gesämtfeld der Oberflächenladung und der inneren Ladung als äußeres Feld. Durch die Bestrahlung der gesamten Oberfläche der fotoempfindliehen Platte erfährt das exponierte Gebiet keine Potentialänderung, aber die innere eingefangene Ladung im nichtexponierten Gebiet wird freigesetzt und es findeteine abrupte Dämpfung des Potentials an dieser Stelle statt mit der Folge, daß ein bemerkenswerter elektrostatischer Kontrast zwischen dem exponierten und nichtexponierten Gebiet erzeugt wird. Dies ist bei E dargestellt. Im Falle des Diagramm's bl, cl und c2, der nachstehend beschrieben wird,"wird die durch die Primäraufladung erzeugte positive Aufladung durch die negative Coronaentladung neutralisiert, abe!- wenn sie bis zu einem Grad neutralisiert ist, zeigt sich, daß es schwierig ist, die Neutralisation weiter zu treiben und zwar wegen der Wirkung des äuß eren Felds, das durch die größere eingefangene innere Ladung erzeugt wird. Dies wird als ein Hauptgrund dafür betrachtet, warum ein latentes Bild mit hohem Kontrast entsprechend der Erfindung erhalten wird.
Als nächstes wird der Fall betrachtet, in dem die Sekundäraufladung vergleichsweise stärker durchgeführt wird, wie dies im Diagramm 2a2 dargestellt ist. Hierbei wird imnichtexponierten Gebiet die Ladung der Primäraufladung mit der Ladung der Sekundäraufladung kompensiert, weil aber die negative Aufladung groß ist, findet eine Überkompensation statt und es verbleibt eine resultierende #negative Ladung. Im exponierten Gebiet findet eine Umwandlung des Ladungsvorzeichens statt, außerdem wird die Aufladung selbst viel größer. Im Ergebnis wird das elektrostatische Bild als ein Muster erzeugt, das durch die Dichte der negafiven Ladung gegeben -ist.
Das Diagramm 4a2 zeigt den Zustand des Obeeflächenpotentials für diesen Fall.
In der gleichen Weise wird, wenn die Primäraufladung mäßig erfolgt und die Sekundäraufladung hiergegen kleiner die Ladung der Primäraufladung im nichtexponierten Teil noch beibehalten, wie dies in den Diagrammen lb-2b1-3b1-4b1 dargestellt ist. Deshalb erhält man für das elektrqstatische Feld als ganzes ein Muster, bei dem positive und negative Ladungen koexistieren. Für den Fall, daß die Sekündärentladung hiergejen stärker ausgeführt wird, wie dies in den Diagrammen lb-2b2-3b2-4b2 dargestellt isti? so erhält mabi ein elektrostatisches Muster, das durch die Ladungsdichte der gleichen Polarität wie im Falle des Diagramms 4a2 zusammengesetzt ist.
Die Diagramme lc-2c1-3c1-4el zeigen den Fall, bei dem die Primäraufladung stärker ausgeführt wird und die Sekundäraufladung schwächer. Die Diagramme le-2c2-3c2-4c2 zei#en den Fall, in dem die Sekundäraufladung stärker ausgeführt wird. In diesen Fällen setzt sich das elektrostatische Bild aus Ladungen unterschiedlichen Vorzeichens zusammen und wird auf die gleiche Weise erhalten.
Aus den obigen Erläuterungen ist ersichtlich, daß ein um so größerer elektrostatischer Kontrast erhalten wird, je größer die Primäraufladung und die Sekundäraufladung sind.
Jedoch wird, obgleich ri--ht dargestellt, wenn die Sekundäraufladung weiter erhöht wird, der Kontrast wiederum kleiner. Der Grund hierfür ist gegenwärtig nicht erklärbar, es wird hierbei aber angenommen, daß die Entleerung der eingefangenen inneren Entladung durch das Aufladungsfeld und das Coronapotential der Sekundäraufladung beschleunigt wird mit dem Ergebnis, daß die sekundäre Coronaaufladung auch am n'ichtexponierten Gebiet auftritt, und zwar in einer Größe., die durch die Größe der eingefangenen inneren Ladung bestimmt ist.
Die Erzeugung eines elektrostatischen Bilds nach der Erfindung umfaßt also, wie oben erwähnt, daß die Oberfläche der Isolierschicht aufgeladen wird, wobei das Gleichgewicht mit der auf der fotoleitenden Schicht auf der Rückseite derselben induzierten Ladung beibehalten wird, und daß mit Hilfe der gegenseitigen Wirkungen dieser Ladungen die Oberflächenpotentialdifferenz auf der Oberfläche der Isolierschicht erzeugt wird, und daß ferner das elekträstatische Bild entsprechend dem Hell-Dunkel-Muster des Originalbilds durch Belichten der gesamten Oberfläche erzeugt wird, so daß das elektrostatische Bild einen größeren Oberflächenpotentialunterschied und ein stärkeres äußeres Feld im Vergleich zu dem elektrostatischen Bild besitzt., wie dieses durch die üblichen Methoden erzeugt wird, und schließlich die Empfindlichkeit bemerkenäwert erhöl#t ist.
Das elektrostatische Bild, das auf die vorstehende Weise erzeugt worden ist, wird durch Entwickeln, Übertragen usw. weiterbehandeli, wonach die fotoempfindliche Platte gereinigt wird und erneut benutzt werden kann. Das elektrostatische Bild, das entsprechend der vorstehend beschriebenen Methode erhalten worden ist, wird mit einem Entwickler entwickelt, der in der in der Hauptsache aus geladenen Farbpartikeln besteht, und zwar mit Hilfe einer Kathodenentwicklung, einer Magnetbürstenentwicklung odereiner Puderaufstäubeentwicklung- oder durch andere übliche Entwicklungsmethoden, wonach sich das sichtbare Bild ergibt (Fig. 6). Das auf der Oberfläche der Isolierschicht erzeugte elektrostatische Bild hat hohen elektrostatischen Kontrast im Vergleich zum üblichen Carlson-Prozeß, und soll es entsprechend der Kaskadenmethode entwickelt werden, so ist es vorzuziehen, besonders schwere Trägermaterialien zu verwenden, z. B. diejenigen, die in der gleichlaufenden japanischen Patentanmeldung 42 138/1965 beschrieben ist. Hierbei wird der Träger durch Beschichten der Oberfläche von metallischen oder nichtmetallischen Partikeln, deren Gewicht oberhalb 0, 3 mg liegf, mit einem Kunstharz erhalten, dem ein Ladungssteuerungsagenz gleichförmig beigemischt ist.
Soll andererseits die Magnetbürstenentwicklungsmethode Verwendung finden, so können ausgezeichnete Ergebnisse erhalten werden, wenn die Eisenfüllung mit Kunstharz beschichtet ist, um z u verhindern, daß die Oberflächenladung der hochisolierenden Schicht durch den Träger entladen wird.
Jedoch unabhängig von der speziell gewählten Entwicklungsmethode kann das elektrostatische Bild auf der Oberfläche der Isolierschicht in der oben beschriebenen Weise erzeugt werden, und es ist möglich, die Bildung positiver oder negativer elektrostatischer Muster zu erhalten, wobei gleichzeitig das elektrostatische Bild bemerkenswert hohen Kontrast besitzt und deshalb das sichtbare Bild mit einer bemerkenswert hohen Dichte erhalten werden kann. Wird eine flüssige Entwicklungsmethode angewandt, so empfehlen sich halogenierte. Kohlenwasserstoffe (z. B. Freon oder dergl.), Dimethylpolysiloxan (Silikonöl) oder ähnliche Öle mit hochisolierenden Eigenschaften als Dispersionsmittel für Pigmente oder Farbstoffe.
Das auf der Oberfläche der Isolierschicht erzeugte sichtbare Bild wird auf das Trägermaterial 13 (Fig. 7), z. B. ein Papier, mit Hilfe einer Übertragungsmethode übertragen, beider ohne Zuführen eines elektrischen Felds von außen durch Sati enauflegen des Übertragungsblattes, das eine größere elektrostatische Kapazität als das fotoleitende Material der fotoempfindlichen Platte besitzt, auf die Oberfläche derselben das Bild übertragen wird, wie dies in der gl(#ichlaufenden japanischen Patentanmeldung 42 139/1965 beschrieben ist, oder es wird nach der in der US-Patentschrift 263 751 (Copley) gearbeitet, nach der eine äußere Spannung 12, z. B. eine Coronaentladung oder eine Vorspannung oder dergl. angelegt wird. Schließlich wird das übertragene Bild fixiert, und zwar durch Einwirkung von Wärmestrahlen (Infrarotstrahlung), um das elektrostatische Bild zu erhalten. Nach Beendigung des Übertragungsprozesses wird die fotoempfindliehe Platte gereinigt, und zwar mit Hilfe einer üblichen Reinigungsmethode, z. B. mit Bürstenoder dergl. oder mit Hilfe der in der gleichlaufenden japanischen Patentanmeldiang 62 246/1965 beschriebenen Methode, nach der die Platte mit einem elastischen Körper direkt abgerieben wird und die auf der Oberfläche der fotoempfindlichen Platte verbliebenen aufgeladenen Partikel entfernt werden.
In diesem Zusammenhang sei bemerkt, daß eine voherige Entladung der auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 noch sitzenden Bildpartikeln den Reinigungseffekt erhöht. Zu diesem Zweck wird auf der Oberfläche der Isolierschicht eine Wechselstromentladung ausgeführt, damit die Ladung, die zur Bildung des elektrostatischen Bilds geführt hat, verschwindet, wonach die Reinigung beispielsweide mit Hilfe von Haarbürsten bei ausgezeichnetem Ergebnis durchgeführt wird. In diesem Fall ist es möglich, den Reinigungseffekt durch Anlegen eines Haarbürstenpotentials noch weiter zu erhöhen, wobei dieses Potential ein entgegengesetztes Vorzeichen gegenüber dem Vorzeichen der Ladung der Farbpartikel besitzt.
In diesem Fall ist es auch möglich die Primäraufladung zu beseitigen.
Die Reinigungswirkung hängt von der Eigenschaft des Materials der Isolierschicht ab, insbesondere von den adhesiven Eigenschaften, und die oben erwähnten Harze sind sämtlich für die Zwecke der Erfindung geeignet. Unter allen diesen Harzen hat jedoch ein Fluor-Harzfilm ausgezeichnete nicht-adhesive Eigenschaften. Es 0 fördert daher die Entfernung der geladenen Farbpartikeln beim Reinigen, der Reinigungseffekt. ist beachtlich und in dieser Hinsicht ist dieses Material das geeignetste.
Als nächstes soll die Erzeugung des elektrostatischen Bilds auf der durchscheinenden Isolierschicht einer fotoempfindlichen Platte beschrieben werden, deren Basis aus isolierendem Material aufgebaut ist.
In den Figuren 8 - 11 ist der Aufladungszustand der fotoempfindlichen'Platte sowie der Prozeß zum Erzeugen eines elektrostatisehen Bilds auf der durchscheinenden Isolierschicht 3 der Platte dargestellt. Das in Figur 10 dargestellte elektrostatische Bild ist auf der durchscheinenden Isolierschicht mit Hilfe des Primäraufladungsprozesses (Fig. 8) erzeugt, sowie mit Hilfe des Prozesses (Fig. 9), in dessen Verlauf die Sekundäraufladung lausammen mit der Aufstrahlung des Originalbilds durchgeführt wird, wonach die Oberfläche der isolierenden Schicht zur schließlichen Erzeugung des elektrostatischen Bild bestrahlt wird (Fig. 11). Zunächst sei bemerkt,. daß auf eine isolierende Schicht 31 der fotoempfindlichen A' die fotoleitende Schicht 2 aufgebracht ist, auf der Wiederum die durchscheinende Isolierschicht 3 aufgebracht ist. Coronaentladungen unterschiedlichen Vorzeichens werden mit Hilfe der Coronaentladungsvorrichtungen 15 und 16, die an eine Nochspantiungsquelle 14 angeschlossen sind, erzeugt, so daß die Oberfläche der beiden isolierenden Schichten 3 und 31 unter untersühiedlichem Vorzeichen aufgeladen werden. In diesem-Fall wird zur Erhöhung der polarisierenden Ladung sowie, -um der #Hysteresie des fotbleitenden Mate rials Rechnung zu tragen, die gesamte Oberfläche der fotoempfindlichen Platte mit Hilfe einer Wolframlichtquelle 17 oder dergleichen bestrahlt.
Bei der Primäraufladung kann anstelle der Beaufschl agung der isolierenden Schicht 31 mit einer Coranaentladung die fotoempfindliehe Platte auf eine geerdete leitende Grundplatte 18 (Fig, 9) auf-' gebracht sein, wobei diese Grundplatte 18, obgleich es nicht dargestellt ist, an eine Gleichspannungsquelk gelegt werden, deren Vorzeichen dem der Coronaentladungsvorrichtuni 15 entgegengesetzt ist.
Der einfacheren Erläuterung halber sei angenommen, daß die Primäraufladung im positiven Sinne erfolgen soll und die Sekundäraufladung im negativen Sinne. Selbstverständlich kann, wenn die beiden Oberflächen der fotoleitenden Schicht je mit einer isolierenden Schicht abgedeckt sind, das Vorzeichen der Aufladung unabhängig von den Eigenschaften des fotoleitenden Materials und lediglich nach konstruktiven Zweclunäßigkeitsgründen gewählt werden. Nach Durchführung der Primäraufladung erhält man eine dauernde Polarisation innerhalb der fotoleitenden Schicht 2 der fotoempfindlichen Platte (Fig. 8).
Aus Figur 9 Ist ersichtlich, daß duf der Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht 3, die durch die Primäraufladung positiv aufgeladen ist, das Originalbild aufgestrahlt wird, wobei gleichzeitig die Sekundäraufladung (eine negative Aufladung) durchgeführt wird. Hierbei wird durch den optisch offenen oberen Teil der Coronaentladevorrichtung hindurch belichtet. Letztere liegt an einer Quelle 19 hoher Spannung.
In Figur 9 ist eine Ausführungsförm dargestellt, bei der die Isolierschicht 31 auf einer geerdeten leitenden Grundplatte angeordnet ist. Wie vorstehend erwähnt, wird, wenn die Sekundäraufladung - gleichzeitig mit der Aufstrahlung des Originalbilds durchgeführt wird, die Ladung der inneren Polarisation im exponierten Gebiet des Originalbilds freigesetzt (Fig. 10); und die positive Ladung auf der Oberfläche der isolierenden Schicht, die von der Prirnäraufladung herrührt, wird durch die negative Ladung der Sekundäraufladung neutralisiert, wobei zugleich eine Aufladung in der durch die Sekundäraufladung bestimmten Polarität (negativ) erfolgt. In diesem Fall wird die polarisierte Ladung durch die Strahlung des Originalbilds freigesetzt und es ergibt sich gleichzeitig die entgegengesetzte Polarisation wegen des durch die Sekundäraufladung erzeugten elektrischen Felds. Im nichtexponierten, dunklen Gebiet b des Originalbilds wird die Ladung der inneren Polarisation nicht ausreichend freigesetzt, deshalb ist, selbst wenn die positive Ladung auf der Obei-fläche der Isolierschicht neutralisiert ist, der Aufladungsgrad im negativen Sinne durch die Sekundäraufladung klein.
Dieser Umstand zeigt, daß das Einfangniveau insbesondere des fotoleitenden Materials vorhanden ist, und daß die Ladung den entgegengesetzten Vorzeichens im Vergleich zu dem der Primäraufladung durch dieses Einfangniveah eingefangen wird, oder -das elektrische Feld, das durch diese Aufladung verursacht wird, beeinflußt die Oberfläche derselben durch Festlegen des Felde im Harz.
Als nächstes wird die durchscheinende Isolierschicht mit Aktivierstrahlung bestrahlt, wobei das elektrostatische Bild erzeugt wird. Hierbei wird ir-i nichtexponierten Gebiet b der Figur 10 die unbe-Wegliche PolarIsierladung beweglich, die Polarisation verschwindet daher, und in Abhängigkeit vom Zustand der Ladung ist es möglich, ein positives elektrisches Feld auf der Oberfläche derselben zu erhalten.
Mit Hilfe des vorstehend erwähnten Prozesses kann ein elektrostatisches Bild mit hohem Kontrast auf der Isolierschicht 3 erzeugt werden.
Das elektrostatische Bild, das wie vorstehend gebildet worden ist, wird in ein elektrofotografisches Bild umgesetzt, und zwar mit Hilfe der Prozesses des Entwickelns, Übertragens und Fixierens; und zur gleichen Zeit ist es möglich, die fotoempfindliche Platte immer wieder nach einem Reinigungsprozeß am Schluß des Übertragungsprozesses zu verwenden.
Wird dais vorstehend erwähnte elektrostatische Bild durch Verwendung eines Täners sichtbar gemacht, der positiv aufgeladen ist (Fig. 12),g so ist es möglich, ein Bild vom Negativen zum Positiven zu erhalten, während, wenn ein negativ geladener Töner verwendet wird, ein Bild vom Positiven zum Positiven erhalten werden kann. Andererneits ergibt sich aus den vorstehenden Erläuterungen, daß entsprechend der Erfindung der Unterschied des Ladungszustands der durch die Sekundäraufladung erzeugt ist, erhalten werden kann, in dem von der Differenz des elektrischen Felds der inneren Fotopolarisationsladung Gebrauch gemacht wird; und durch Gebrauchmacher von der Fotoleitfähigkeit ist es möglich, mit Hilfe deselhen Entwicklern Bilder sowohl vom negativen ins Posistive als auch vom Positiven ins Positive zu erhalten, und zwar lediglich durch Ändern der Ladungsvorzeichen von Primär- und Sekundäraufladung.
Die Erfindung unterscheidet sich in dieser Hinsicht von der üblichen Elektro äptografie wesentlich, da dort das Vorzeichen der Ladung in Abhängigkeit vom Leitungstypus des Fotoleiters gewählt wird. Ferner kann das positive Bild auf einer Oberfläche und das negative Bild auf der anderen Oberfläche erhalten werden, wenn von einer fotoleitenden Schicht ausgegangen wird, die beidseitig mit einer isolierenden Schicht versehen ist und wenn hierbei beide Seiten einer Coronaentladung ausgesetzt werden.
Ferner ist es möglich, wenn die fotoempfindliche Platte durch Belegen beider Seiten der fotoleitenden Sphi#ht 2 mit h6chisolierenden Schichten 3 und 31 aufgebaut wird, eine flexible foto.-empfindliche Platte zu erhalten, die in Gurtform eingesetzt werden kann, Weiterhin kann, wenn beide Seiten mit hochisolierenden feuchtigkeitsdichten Schichten abgesperrt sind, erreicht werden, daß jegliche Beschädigung des fotoleitenden Materials durch Feuchtigkeitsabsorption vermieden wird. Dies hat bemerkenswerte Wirkungen auf die weitere Erhöhung der Empfindlichkeit der fotoempfindlichen Platte.
Hinsichtlich der Verfahren und Vorrichtungen zum Ausführen der Entwicklung, des Übertragungsprozesses und des Reinigungsprozesses usw. gilt das gleiche wie es im Zusammenhang für eine fotoempfindliche Platte mit leitender Basis beschrieben worden ist. Beim Verfahren zum Herstellen des vorstehend erwähnten elektrostatischen Bilds beeinflußt die Dicke der durchschdnenden Isolier -schicht 3, auf der das elektrostatische Bild der fotoempfindlichen Platte erzeugt wird, zusammen mit der fotoleitenden Schicht die Qualität des elektrostatischen Bilds, und zwar insbesondere die Empfindlichkeit und den Kontrast. Gleichzeitig wird dies ein wesentlicher Faktor, der die Beständigkeit der fotoernpfindlichen Platte beeinflußt, . und es ist notwendig, eine Dicke für die durchscheinende Isolierschicht zuhaben, die, wie Versuche ergeben haben, zwisehen 10 - 50 /u liegt, um die fotoempfindliche Platte über lange Zeititäume hinweg immer wieder verwenden zu können und um hierbei ausgezeichnete elektrostatische Bilder erhalten zu können. Ist die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht bemerkenswert dünn und kleiner als 10 /11, so treten verschiedene Nachteile bei der Herstellung der Isolierschicht und beim Verfahren zum Erzeugen des elektrostatischen Bilds auf.
Ist nämlich die Isolierschicht sehr dünn, so können leicht Löcher oder Unebenheiten in der Schicht entstehen und es ist sehr schwierig, eine Isolierschicht hoher Qualität zu erhalten.
Ferner werden beim Bildentwicklungsprozeß oder beim Bildübertragungsprozeß konkav und konvex gewölbte Teile auf der Oberfläche der Isolierschicht durch den Träger erzeugt, wenn also die Isolierschicht sehr dünn ist, kann der dielektrische Durchbruchswert an konkav gekrümmten Teilen der Oberfläche der Isolierschicht durch das Anlegen hoher elektrischer Felder bei Aufladungsprozeß erreicht werden und gleichzeitig können leicht Löcher und ein beschleunigter dielektrischer Durchbruch als Folge der Entstehung von Hohlräumen. Sind in der Isolierschicht Löcher vorhanden, so wird an den Lochteilen während des Sekundäraufladungsprozensen eine Entladung erzeugt, und es entsteht eine Corona der entgegengesetzten Polarität gegenüber der Ladungspolarität, und jie Nachbarschaft der Löcher werden im entgegengesetzten Sinn aufgeladen, wodurc# ein ungünstig verschleiertes Bild entsteht, Allgemein gesprochen -wird die Oberfläche der Isolierschicht durch die Coronaentladung beim Auhadeprozeß ausgebrannt, und es tritt der sogenannte Coronaschaden auf. Im -Hinblick hierauf wird dieser Schaden, wenn die Isolierschicht sehr dünn ist, beschleunigt, und zwar im umgekehrten Verhältnis zur Schichtdicke wegen des angelegten hohen elektrischen Felds. Als Folge hiervon kann die fotoempfindliche Platte nicht über lange Zeiträume hinweg immer wieder benutzt werden.
Wie vorstehend erwähnt, treten, wenn die durchscheinende Isolierschicht sehr dünn ist, solche unvorteilhafte Phänomene, wie verschleierte Bilder, beschleunigtes Auftreten von Coronaschäden, die durch dielektrische Durchbrüche oder kleine Löcher entstehen, auf.
Um eine für Langzeitgebrauch geeignete fotoempfindliche Platte zu erhalten und um ausgezeichnete Bilder bei Vermeidung der vorstehend genannten Nachteile erzeugen zu können, sollte, wie experimentell gefunden wurde. die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht größer als 1Q p sein. Zur Lösung der vorstehenden Probleme sollte die Dicke der durchscheinende n Schicht vorzugsweise größer sein, wird sie aber zu groß, so tritt wiederum eine Verschleierung des elektrostatisehen Bilds auf, außerdem wird der Kontrast des Bilds nachteilig beeinflußt, es ergeben sich also wiederum ungünstige Ergebnisse. Ist nämlich die durchscheinende Isolierschicht zu dick, so ist die Ausdehnung des Felds über der Oberfläche der Isolierschicht beachtlich, und zwar wegen der in der fotoleitenden Schicht eingefangenen Ladung. Dies ist die Ursache für eine Bildverschleierung.
Da ferner bei zu dicker Isolierschicht wenig Ladung in der fotoleitenden Schicht während der Primäraufladung eingefangen wird, und da das hierdurch erzeugte äußere Bild auf der Oberfläche der Isolierschicht schwach, wird der Anteil der Ladung durch die Sekundäraufladung auf der Oberfläche der Isolierschicht größer als beim nichtexponierten Gebiet des Originalbi-Ids, wenn die Sekundäraufladung, deren Vorzeichen entgegengesetzt dem der Primärladung ist, gleichzeitig oder kurz nach der Aufstrahlung des Originalbilds durchgeführt wird,- als Folge hiervon wird der Kontrast des elektrostatischen Bilds verschlechtert, weil die Oberpotentialdifferenz gegenüber dem exponierten Teil des flächen Originalbilds abnimmt. Ferner nimmt, wenn die gesamte Oberfläche der Isolierschicht nach diesen Prozeß gleichförmig beleuchtet wird, das äußere Feld nicht so stark zu, weil die Ladung der Sekundäraufladung auf der Oberfläche der Isoliberschicht gebunden worden ist, und zwar selbst dann, wenn die Ladung, die an der fotoleitenden Schicht im nichtexponierten Gebiet den Originalbilds eingefangen ist, verschwindet. Deshalb ist die Oberflächenpoteatialdifferenz gegen-über dem exponierten Gebiet des Originalbilds nicht so groß und es ist unmöglich, eihe Zunahme des Kontrast im latenten elektrostatischen M d zu erwarten, Deshalb existiert eine obere Grenze für die Dicke der durchscheinenden isolierenden Schicht, damit ein klares elektrostatisches Bild Kontrast erhalten wird.
Bei den der Erfindung vorausgegangenen Versuchen wurde die Beziehung zwischen der Dicke der Isolierschicht und dem Kontragt des elektrostatischen Bilds bestimmt, wobei die Dicke der durchscheinenden Isollerschicht geändert worden ist, und en wurde dabei gefunden, daß klare elektrostatische Bilder mit hohem Kontrast dann erhalten werden, wenn die Dicke der durchscheinenden -u Isolierschicht nicht größer als 50 / war-.
Wird die fotoleitende Schicht der Platte aus einer Mischung von hochfotoleitende -, Cadmiumsulfid- Substanz (CdS) uder Cadmiumselen (CdSe) und Vinyl-Kunstharz als Bindemittel in einem Gewichtsverhältnis von 1:2 bis 1:10 hergestellt, so ist eine solche fotoleitende Schicht in der Lage, hochempfindlich und hochkDntrantreich sein zu können. Die Beziehung zwischen der Dicke iter durchscheinenden Schicht und dem Kontrast der elektrostatischen Bilds an den exponierten Gebieten des Originalbilds ist in Fig, 13 dargestellt. Wird die Coronaentladung positiver Polarität oder das positive Potential an die durchscheinende Isolierschicht 3 der fotoernpfindliehen Platte gegeben, so erhöht sich das Oberflächenpotential der durchscheinenden Isolierschicht 3 mit der Zeit und die speziellen Eigenschaften können durch die Kurve a in Figur 13 wiedergegeben werden.
Nach Vervollständigung der Primärauflage hat sich das Oberflächenpotential der isolierenden Schicht 3 etwas verringert, wie dies durch die Kurve b in Figur 13 dargestellt ist. Wird nun aber die Coronaentladung negativer Polarität (also eine gegenüber der Primäraufladung entgegengesetzten Vorzeichens) zusammen mit der Aufstrahlung des Originalbilds durchgeführt, so folgt (-las Oberflächenpotential der Isolierschicht 3 am exponierten Ciebiet des Originalbilds der Kennlinie V L* und am nichtexponierten Gebiet des Originalbilds der Kenrlinie V D (Figi, 13). Wird dann die ganze Oberfläche der Isolierschicht belichtet, so gellen V D Lind V L in die Kurvenzweige V DL und V LL über, wobei V LL größer ist als V DL" Es ergibt sich also das umgekehrte Verhältnis im Vergleich zum oben erwähnten Prozeß und die Differenz hierzwisehen ist vergrößert. Daher wird auf der Oberfläche der Isolierschicht 3 ein elektrostatisches Bild erzeugt, dessen Kontrast durch die Oberflächenpotentialdifferenz V LL-V DL gegeben ist. V D und V L der Fig. 13 zeigen die Kennlinien, für den Fall, daß die durchscheinende Isolierschicht 50 P dick ist, Diese Kennlinien können entsprechend der Dicke der durchscheinenden Isolierschicht geändert werden. Wird das Sekui)däraufladungspotential konstant gehalten, so ist eine Tendenz vorhanden, daß bei dicker we.-dender durchscheinender isolierender Schicht das Obefflächenpotential zunimmt. Wird jedoch die durchscheinende Isolierschicht zu dick, so wird die Differenz zwischen dem Oberflächenpotenti al- V D am nichtexponierten Gebiet und dem Oberilächenpoteiit--1-al V L k]Leiner, und der Köntrast des elektrostatischen Bilds verschd#3chl:ert sic11.
Die haben ergellen, -j.Dicken der diirchscheinenden unterhalb 530 ;v Kontrast erhalten Jiff ferenz 1- - LL _V DL (.3t#ebi.et uni Gebiet zu dem Zeitpunkt, wenn die Gesamtbelicht-ung durchgeführt wird, stark "ron der Dicke der durchscheinenden Isolierschicht 3 beeinflußt. Diese Differenz nimmt zu mit abnehmer Dicke der durchsc.Iheinenden Isolierschicht (Fig. 3).
Für einen ausgezeichneten Kontrast int es notwendig, eine Oberflächenpotentialdifferenz oberhalb 500 Volt zu haben. Ist aber die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht grOßer als 50 P, so ist es unmöglich, diese Bedirigung einzuhalten, Is.t1 andererseits'die Dicke der durchscheinenden Isolierschicht 3 kleiner als 50 so wird die Oberflächenpotentialdifferenz größer als 500 V., und eskann ein elektrostatisches Bild mit hohem Kontrast erzeugt werden.
In den vorstehend erwähnten Versuchen ist außerdem auch die Dicke der fotoleitenden Schicht geändert worden. Hierbei hat sich ergeben, daß gute Ergebnisse dann erhalten werden, wenn die Dicke der fotoleitenden Schicht zwischen 60 und 200 p liegt.
Bei den vorstehend erwähnten Versuchen wurde die Sekundäraufladung gleichzeitig mit der Aufstrablung des Originalbilds durchgeführt, - es wurde aber auch dann das praktisch gleiche Ergebnis erhalten, wenn die Sekundäraufladung nach der Aufstrahlung des Originalbilde durchgeführt wurde.
Im nachstehenden sind weitere Ausführungsformen der fotoempfindliehen Platten gemäß der Erfindung Leschrieben. Bei der fotbempfindlichen Platte, bei der die fotoleitende Schicht 2 auf beiden Seiten mit einer Isolierschicht 3 bzw. 31 (Fig. 8) belegt ist, wurde die Dicke der Isolierschicht 31 auf 10-50ti eingestellt. Außerdem war in diesem Fall die fotoleitende Substanz die gleiche wie bei der fotoleitenden Platte A' in Fig. 8.
Besteht die Isolierschicht 81 aus der gleichen Substanz wie die durchscheinende Isolierschivht 3, so ist es möglich, beide Seiten der fotoempfindlichen Platte als bilderzeugende Oberflächen zu verwenden. Deshalb ist es hier ein Vorteil, daß die Lebensdauer der fotoempfindlichen Platte einfach dadurch erhöht werden kann, in dem beide Oberflächen alternierend benutzt werden. Die Einrichtung zum Erzeugen des elektrostatischen Bi-Ids auf dieser fotoempfindlichen Platte kann die gleiche sein, wie die im Falle der Platte A' der Fig. 8 vwrwendete.
Als nächstes soll eine weitere Methode zum Erzeugen elektrostatischer Bilder und fotoernpfindlicher Platten beschrieben werden, wobei diese Methode erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß die ganzen Prozesse zur Bilderzeugung an einem hellen Ort ausgeführt werden können, und zwar durch eine Farbbehandlung der Isolierschicht in einem solchen Ausmaß" daß dieselbe im gesamten Wellenlängenbereich der Lichtempfindlichkeit der fotoleitenden Schicht den Lichtdurchtritt verhindert.
In Figur 14 ist B die fotoempfindliche Platte, sie ist aus einer fotoleitenden Belegung 2b und der Isolierschicht 3b'aufgebaut.
4b ist ein transparenter Träger für die fotoempfindliche Platte B, wobei auf der der fotoleitenden Schicht 2b zugewandten Seite des Trägers eine leitende Belegung als Elektrode 4 ib aufgebracht ist. Die fotoleitende Schicht 2b kann unter Verwendung üblicher lichtempfindl icher Halbleitermaterialien, Z'. B. Anthrazen, S, Se, Zn0, ZnS, CdS, PbI 2 und dergleichen hergestellt werden, wobei das Halbleitermaterial in einen dispergieragens dispergiert wird und diese Läsung auf die leitende Basis in irgendeiner Weise aufgebracht wird, was beispielsweise durch Beschichten, durch Aufdampfen im Vakuum, durch Sublimation, durch Aufschmelzen und dergleichen.
Die Isolierschicht 3b kann entsprechend dem fotoleitenden Material der fotoleitenden Schicht 2b bestimmt werden. Handelt es sich um Fotoleiter, deren Empfindlichkeit im sichtbaren Berelob liegt, zum Beispiel Cadmiumsulfid, so wird schwarz eingefärbtes Polyäthylenterephthalat (Handelsmarke: Mylar), das für sichtbares Licht undurchlässig ist, verwendet.
Der Prozeß zum Erzeugen des Bilds wird nachstehend ziiJliatit-1 der Figuren 14-18 beschrieben. Die fotoempfindliche PL.fLi# li t auf dem Träger 4b, und die Primäraufladung wird mit flilf-- der Aufladevorrichtung 5b von der Seite der Isolierschicht 4b aLu# durchgeführt. Hierbei kann entweder eine Coronaentladung oder i-iiie Kontaktelektrode verwendet werden. Das Vorz6ichen der Aufladung ist in diesem Fall vorteilhafterweise positiv, wenn der Fotoleiter der Schicht 2b n-leitend ist und dementsprechend vorteilhafterweise negativ bei p-leitenden Fotoleiter. Die Entfernung von Restladung eines früheren elektrostatischen latenten Bilds erfolgt durch die -se Primärauflad-ung, gleichzeitig wird der Kontrast des elektrostatischen latenten Bilds beträchtlich verbessert.
Anschließend wird die. Sekundäraufladung mit gegenüber der Primäraufladung entgegengesetztem Vorzeichen durchgeführt, wobei gleichzeitig das Originalbild 6b von der anderen Seite her auf die fotoleitende Schicht 2b aufgestrahlt wird (Fig. 15)*. Danach findet die Gesamtbelichtung mit Hilfe der Lampe 7b statt, um dadurch das elektrostatische latente Bild auf der Isolierschicht 3b zu erzeugen (Fig. 16#.
Anschließend wird mit üblichen Methoden das Bild auf der Oberfläche der Isolierschicht sichtbar gemacht und auf ein Trägermaterial 8b übertragen (Fig. 18), wonach die fotoempfindliche Platte B gereinigt und zur nächsten Bilderzeugung bereitgestellt wird. Dann wird das auf das Trägermateriat 8b übertragene Bild fixiert und als gewöhnliche Kopie verwendet. 9b ist ein Entwickler (Fig. 17), 10b ist die Einrichtung zum Erzeugen einer hohen Spannung; und wird 10b an die Coronaerzeugung##,ipule W angeschlossen, wäht-end Hochspannung E an die transparentem Elektrode 4b gegeben wird, so erhält man einfach zu handhabende Verhältnisse.
Figuren 19 und 20 zeigen eine Ausführungsform, einer elektrofotografischen Vorrichtung, bei der die Erfindungsprinzipien zur Anwendung gelangen. Das Bild des Originals 12b wird auf eine - Glasplatte llb aufgelegt und durch eine Lampe 13b beleuchtet. Das Bild wird auf die fotoempfindliche Platte B als positives Bild projiziert und zwar mit Hilfe des optischen Reflexionssystems 18b, das die Spiegel 14b; 15b, 16b sowie eine Linse 17b enthält. Das optische System 18b wird von rechts nach links mit konstanter Geschwindigkeit mit Hilfe eines reversiblen Motors M, einer Transportkette, 20b einer Führungsschiene 19b bewegt. Es pröjiziert daher die gesamte Ausdehnung des Originalbilds 12b nacheinander auf die fotoempfindliche Platte B. Eine Lampe 21b, die für die Gesamtbelichtung vorgesehen ist, ist gleichfalls am optischen System 18b angeordnet.
Ein Auflader"23b enthält als Einheit Coronaentladungsglieder 23ab und 23bb für die Primär- und Sekundäraufladung. Der Auflader 23b ist für eine Bewegung nach rechts und links auf zwei Schienen 22b des Rahmens 26b parallel zur fotoempfundlichen Platte B ausgelegt. Ein am Auflader befestigter Ma#net. 24b sowie ein am System 18b angeordneter Magnet 25b bilden eine Magnetkupplung. Der Auflader 23b wird daher vom angetriebenen optischen System 18b in der gleichen Richtung mitgenommen.
Das elektrostatische latente Bild wird auf der fotoempfindlichen Platte B entsprechend dem Bild des Originals 12b im Wege einer zeitlichen Abtastung mit Hilfe des optischen Systems 18b erzeugt, wobei diese Abtastung in Richtung des in Figur 19 Pfeiles erfolgt. Hieran schließen sich die jeweiligen Operationen der Bildentwicklung, der Übertragung des entwickelten Bilds und der Reinigung an, und zwar erfolgt dies von außen her.
Entsprechend der Erfindung wird die Isolierschicht der fotoempfindlichen Platte., die die fotoleitende Schicht abdeckt, im Empfindlichkeitswellenlängenbereich des Fotoleiters undurchlässig gemacht, es kann deshalb der gesamte Bilderzeugungsprozeß immer an einem hellen Ort stattfinden. Deshalb sind keine Beschränkungen hinsichtlich der Vereinfachung der Vorrichtung und des Aüfstellungsorts gegeben. Man erhält daher ein bemerkenswert wirksames und bequem handiuhabendes elektrofotografische Einrichtung.
Die obigen Erläuterungen haben sich auf den Fall bezogen, bei der die fotoleitende Schicht 3b der fotoempfindlichen Platte B mit einer lichtundurchlässigen Isolierschicht 3b belegt ist. In Figur 21 ist jedoch die Möglichkeit dargestellt, das elektrostatische latente Bild durch den gleichen Prozeß wie vorstehend erwähnt, erzeugen zu können, wenn eine fotoempfindliche Platte BI verwendet wird, bei der auf beiden Seiten der fotoleitenden Schicht 2b je eine Isolierschicht3 1 b und 3 2 b vorgesehen ist, wobei eine dieser Isolierschichten, z. B. die Schicht 3 1 b. undurchsichtig gemacht wird, und zwar handelt es sich um diejenige Isolierschicht, auf der das Bild erzeugt wird..Die andere Isolierschicht,(3 2 b) wird dann durchscheinend gemacht und die Aufstrahlung des Originals erfolgt von dieser Seite aus. Die Aufladung der fotoempfindlichen Platte BI erfolgt wirksamer bei Verwendung des Doppelcoronaentladungssystem s 5 1 B und 5 2 B (Fig. 21 u. 22). Sie kann aber auch auf der Elektrode 4'b erzeugt*werden, die für einen ausreichenden Lichtdurchtritt im Empfindlichkeitswellenlängenbereich der fotoleitenden Schicht 2 ausgelegt ist, wobei dann die Aufstrahlung des Bilds von der Seite der durchscheinenden Isolierschicht- 3 b, also von unten her, 2 erfolgt. Es ist gleichfalls möglich, die Aufladung mit Hilfe einer Coronaentladung oder einer Kontaktelektrode durchzuführen.
Es ist auch möglich, eine wirksamere Aufladung durch Anlegen eines Aufladepotentials E, dessen Vorzeichen dem der Coronaentladung entgegengesetzt ist, an die durchscheinende Elektrode 41b zu erhalten (Fig. 23).
Wird eine hohe Spannung an die durchscheinende Elektrode 4'b gegeben, so reicht es aus, wenn die Coronaerzeugungsspule W an Erde liegt.
Im folgenden wird die fotoempfindliche Platte, die mit Vorteil beim Verfahren der Erfindung verwenddt'wird, im einzelnen beschrieben. Erfindungsgemäß ist tlie fotoleitende Schicht aus zwei oder drei Schichten aufgebaut. Liegt der Fall vor, daß die fotoempfindliche Platte auf einer Seite eine durchscheinende Isolierschicht trägt, auf welche Licht aufgestrahtlt wird., so werden zwei "otoleitende Schichten verwendet, wobei die zur durchscheinenden Isolierschicht benachbarte fotoleitende Schicht unter Verwendung feiner Fotoleiter-Partikel auf-gebaut ist (feinkörnige fotoleitende Schicht) während die zum Träger benachbarte fotoleitende Schicht aus gröberen Fotoleiter-Partikeln aufgebaut ist. Ist die fotoempfindliche Plat-te auf beiden Seiten je mit einer durchscheinenden Isolierschicht versehen, so werden drei fotoleitende Schichten verwendet, von denen die beiden äußeren, je an eine durchscheinende Isolierschicht angrenzenden fotoleitenden Schichten feinkörnig sind, während die zwischen den beiden äußeren fotoleitenden Schichten liegende mittlere fotoleitende

grob-

Schicht Y4jmörnig ist. Hierdurch werden in jedem Fall ausge-

zeiegnete Ergebnisse erhalten.
Mit anderen Worten ist immier diejenige fotoleitende Schicht der fotoempfindlichen Platte feinkörnig, welche auf der Seite liegt, wo Licht aufgestrahlt wird. Es ist deshalb möglich, Bilder mit hoher Auflösung zu erhalten. Da andererseits noch die grobkörnige fotoleitende Schicht vorgesehen ist, und da eine grobkörnige fotoleitende Schicht allgemein hoch empfindlich ist, wird die Empfindlichkeit der fotoempfindlichen Platte hoch, und im.Ergebnis ist es möglich, eine Fotoplatte hoher Empfindlichkeit und hohen Auflösungsvern,lögens zu arhalten. Hinsichtlich der vorstehend erwähnten fotoempfindlichen Platten sei noch erwähnt, daß es hiervon zwei Arten gibt, nämlich einmal eine fotoempfindliche Platte, bei der die Fotoleiter-Substanzen der beiden fotileitenden Schichten je aus unterschiedlichen Materialien aufgebaut sind und zum andern die fotoempfindliche Platte, bei der die Fotoleitersubstanz für beide fotoleitende Schichten aus demselben Material besteht.
In Fig. 26 steht lg für die durchscheinende Isolierschicht, 2g und 3g für die fotoleitenden Schichten, wobei die Schicht 2g Ebtoleitersubstanz feinerer Körnung als die Schicht 3g enthält, während 4g die leitende Basid ist.
In Figur 27 ist ein 1h die durchscheinende Isolierschicht, 2h und 3h fotoleitende Schichten, wobei 2h feinkörniger als 3h ist, während 4h eine isolierende Basis ist.
In Fig. 28 ist li die durchscheinende Schicht. 2i, 4i und 3i sind je fotoleitende Schichten, wobei 21 und 4i feinkörniger sind als 3i. 5i ist wiederum eine durchscheinende Isolierschicht der gleichen oder unterschiedlichen Art wie die Schicht li.
Zunächst sei der Fall erläutert, bei denen die beiden fotoleitenden Schichten je aus unterschiedlichen Materialien aufgebaut sind. Sind die fotoleitenden Schichten 2 und 3 aus unterschiedlichen Materialien aufgebaut, und wird gleichzeitig für das grobkörnige Material ein Fotoleiter Uherer Empfindlichkeit als für das feinkörnige Material verwendet, so kann ein ausgezeichnetes Ergebnis erhalten werden. Für den feinkörnigen Fotoleiter kann beispielsweise Zinkoxid oder Zinksulfid, ferner Cadmiumoxid-Selen-Verbindungen, verwendet werden, und zwar mit einem mittleren Korndurchmesser kleiner als einige Mikron. Besonders gute Ergebnisse werden erwartet, wenn Zinkoxid verwendet wird. Es ist sehr leicht, Zinkoxid zu erhalten, dessen.Korngröße kleiner als ein Mikron ist. Außerdem ist Zinkoxid sehr wirtschaftlich, und es ist möglich, die Empfindlichkeit sehr einfach mit Hilfe von Farbstoffen zu erhöhen. Ferner ist es möglich, im Falle von Cadmiumsulfid-Partikeln ausgezeichnete Ergebnisse zu erhalten, insbesondere dann, wenn für die zugeordnete grobkörnige fot(bleitende Schicht mit Kupfer oder dergleichen aktiviertes Kaliumselenid verwendet wird. Diese Verbindungen sind sehr leicht erhältlich, wobei die Potoleitfähigkeit bemerkenswert hoch liegt. Hinsichtlich der Basis 4 trifft das obengesagte in gleicherweise zu, und zwar unabhängig davon, ob hierfür ein Leiter, z. B. ein Metall, oder eine isolierende Schicht verwendet wird. Inbeiden Fällen -erhält man ein ausgetzeichnetes Ergebnis.
Ein besonders gutes Ergebnis erhält man, man wenn Cadmiumsulfid für die Schicht 3 und Zinkoxid für die Schicht 2 verwendet wird, wobei die Dicke der Zinkoxid haltigen Schicht zwischen 5 und 20 liegt und die der Cadmiumsulfid haltigen Schicht zwischen 10 und 100 Mikron. Als nächstes sei der Fall betrachtet, wenn ein Fotoleiter derselben Art verwendet wird, d. h. daß beispielsweise in Figur 26 die Schichten 2g und 3g aus einem Material der gleichen Art hergestellt sind" wobei aber die Schicht 2g feinkörniger ist als die Schicht 3g. Die meisten Fotoleiter fallen bei der Herstellung in unterschiedlichen Korngrößen an, und wird nur nach entsprechendem Aussieben das feine Korn verwendet, so wird das Auflösungsvermögen zwar verbessert, aber die Empfindlichkeit nimmt allgemein ab, und noch grobe Partikel sind nutzlos, was offensichtlich nicht wirtschaftlich ist. Hieraus ergibt sich, daß durch Anwendung der vorstehend erläuterten Methode es möglich ist, auf wirtschaftliche Weise fotoempfindliche Platten hoher Empfindlichkeit und mit hohem Auflösevermögen herzustellen. Hierfür kommen vor allem Zinkoxid, Cadmiumsulfid, Cadmiumselenid und dergl. in Frage.
Für die Ausführungsformen nach den Figuren 27 und 28 7,#as oben gesagte gleichfalls. Nachstehend sind einige geführt. Beispiel 1: Mit Kupfer aktivierte Cadmiumsulfid-Kristalle der Korngrößt, 5-30p wurden durch Sieben in zwei Bestandteile getrennt., we#Lie, die Korngröße des einen unterhalb und die des anderen oberhalb 12 p lagen. Die groben Partikel (größer als 12 p) wurden in Nitrozellulose sorgfältig dispergiert, und diese Dispersion wurde auf eine Aluminiumplatte etwa 70 `u stark aufgetragen. Auf diese Beschichtung wurde eine Dispersion des anderen Bestandteils (Korngröße unterhalb 12f) in Nitrozellulose etwa 30ju stark aufgetragen. Schließlich wurdd auf das ganze eine 12 ju starke Polyesterschicht aufgebracht. Die so erhaltene fotoernpfindliche Platte entsprach den in Figur 26 dargestellten Ausführungsbeispiel. Die Oberfläche dieser fotoempfindlie);en Platte (a:uf der Seite der durchscheinenden Isollerschicht lg) wurde einer Coronaentladung von + 5kV im hellen ausgesetzt. Anschließend wurde sie im dunkeln einei# Coronaentladung von - 5 kV ausgesetzt und zwar zusammen mit der Aufstrahlung des Bilds. Nach der anschließenden Gesamtbelichtung der Oberfläche wurde das positive Bild des Originals erhalten, und zwar nach Durchführen der Entwie)äung mit Hilfe eines Töners negativer Polarität und mit Hilfe der Magnetbürste-a-Methode.
Als rächstes wurde in der genau der gleichen Weise eine weitere fot,ci( inplindliche Platte hergestellt, aber dikf#besinal mit ungesiehlem aktiviertem Cadmiumsulfid der Ko..--zr#iße 5-30p, Auflerdem wurde eine weitere fotoempfindliche Plarte Iiergestellt, wobei ausschließlich feinkörniges Cadmiumsukfig (I-CDrngröße kleiner als 12 p ) verwendet wurde. Mit Hilfe dieser beiden Platten wurden positive Bilder in der gleichen Weise erzeugt. Ein Vergleich dieser Bilder mit dem Bild der zuerst erwähnten Platte ergab, daß das Bild der Platte mit den ungesiebten Partikeln nicht sonderlich gut war, während kein Unterschied zwischen den positiven Bildern festzustellen war, die von der Platte mit der grobkörnigen und der feunkörnigen Schicht erhalten wurde, bzw. von der Platte, deren fotoleitende Schicht ausschließlich unter Verwendung von feinen Partikeln unterhalb 12ju aufgebaut war.
-Beispiel 2: Bei diesem Beispiel wurde entsprechend der Ausführungsform nach Fig. 27 anstelle der Aluminiumplatte in Beispiel 1 ein 12 p dicker Polyesterfi-Im verwe-.det. Im übrifren waren die Bedingungen die gleichen wie in Beispiel 1, und es wurden auch die gleichen Ergebnisse beobachtet.
Beisj?iel 3: Entsprechend Figur 28 wurde eine erste Platte in der Weise hergestellt, daß 2i und 4i fotoernpfindliche Filme waren, die aus Polyesterfilmen einer Dicke von etwa 20 p präpariert wurde, 3i war ein fotoempfindlicher Film, der aus einem etwa 60 `u starken Polyesterfilm präpariert war und die fotoleitenden Schichten li und 5i waren fotoempfindliche Filme, die unter Verwendung von Polyesterfilm von 12 `u präpariert wurden. Eine zweile Platte wurde in der Weise hergestellt, daß zwischen den Schichten li und 5i eine etwa 100p etarke fotoempfindliche, Schicht aufgebaut wurde, die ausschließlich unter Verwendung van Cadmiumsulfid einer Korn größe unterhalb 12 präpariert wurde. Eine dritte fotoempfindliche Platte wurde schließlieh in der Weise hergestellt, daß der foJoempfindliche Film etwa 100p stark atIgetragen wurde, und zwar unter Verwendung einer Korngröße oberhalb 12,p. Die Vergleichsverauche dieser drei fotoernpfindlichen Platten fanden in der gleichen Weine wie in Beispiel 1 statt, und es wurde gefunden, daß im Falle der Verwendung von Cadmiumsulfid oberhalb 12 das Auflösungsvermögen schlecht war, während in den beiden anderen Fällen das Auflösevermögen ausgezeichnet war.
Beispiel 4: Cadmiumsulfid 20 g, Vinylehlorid-Vinylazetat-Kopolyrnerisat, 50g Firnis (init 20% Kunstharzanteil) und 56 g Verdünner wurden in einem Mischer gemischt, und die erhaltene Mischung wurde auf eine Aluminiumplatte aufgetragen, und zwar derart, daß sich nach dem Trocknen eine Dicke zwischen 50 und 100 /U ergab.
Ferner wurden 50g Zinkoxid, 50g Silikonkunstharzfirnii3 (50% Kunstharzanteil), 15 cem Rose-Bengale-Äthanol (0, 1%ige Lösüng) und * 100 cem Verdünner in einer Keramikkugelmühle 2 Stunden lang vermahlen, wobei eine streichfähige Flüssigkeit erhalten wurde. Die derart präparierte Lösung wurde auf den Cadmiumsulfid-FJ-Irn aufgesprüht-, und zwar in einer Stärke, die nach dem Trocknen zu einer Filmdicke von einigen Mikron führte. Anschließend wurde das ganze getrocknet. Schließlich wurde ein Polyäthylenterephtalat-Film (Handelsmarke Mylar) einer Dicke von 12 auf die Zinkoxidochicht unter Verwendung eines E2ebstoffs aufgebracht.
6kV Spannung wurde an der Seite der beweglichen Elektrode im hellen angelegt. Zwischen der Elektrode und der Aluminiumplatte' wurde eine Coronaentladung durchgeführt, um eine positive Auf-Iadung zu erhalten. Anschließend wurde im dunkeln ein Mikrofilm etwa 8x mit Hilfe eines Vergrößerungsapparats, der mit einer 150 W Wolframlampe betrieben wurde, vergrößert, und das Bild wurde auf die fotoempfindliche Platte mit einer F: 5,6-Vergrößerungelinse projiziert. Die Belichtung fand dabei durch die'bewegliche Elektrode hindurch statt, wobei zugleich eine Coronaentladung von 6kV durchgeführt wurde. Die Belichtung und Aufladung erfolgte im Durchschnitt 2 Sekunden lang für jede Zone der fotoempfindlichen Platte. Nach Ausführen der Belichtung der gesamten Platte,. die etwa 2 Sekunden lang mit Hilfe einer 50 cm von der Platte entfernten 100 W Wolfrarnlampe durchgeführt wurde, und nach der Entwicklung mit Hilfe eines Töners negativer elektrostatischer Aufladung sowie naeb eines Kaskadenentwicklung unter Verwendung von Glaskugeln als Träger wurde eine klare positive Vergrößerung des Mikrofilm-Originals erhalten.
Als nächstes seien Beispiele für die erf-indungsüemäße Erzeugung der elektrostatischen Bilder beschrieben. » t i EP LEI hlOg Elarwak auf Akrylbasis wurde zu 90g Cadmiumzullid, das mit Kupfer aktiviert war, zugegeben. Die Vermischung wurde noch etwa Verdünnerl bis zur -Streichfähigkeit beigegeben. Das ganze wurde auf eine 1 inm Aluminiumplatte aÜfgesprüht. Zur Fertigstellung der Platte wurde dann noch ein 15 p starkür Fuorkunstharzfilm auf die fotoleitende Schicht aufgeklebt. Die Platte wurde dann auf der Fluorkunstharzseite einer Coronaentladung von +6kV ausgesetzt, um eine positive Aufladung gleichförmig aufzubringen. Anschließend wurde das Originalbild aufgestrahlt, und zwar uhter Verwendung einer etwa 10 Lux hellen Wolfrarnlampe während etwa 0, 1-0, 3 Sekunden. Gleichzeitig hier-knit wurde die Platte einer negativen Coronaentladung von -6kV ausgesetzt, wodurch das elektrostatische Bild auf dem Fluorkunstharzfilm erzeugt wurde. Danach wurde die gesamte Oberfläche des Filme etwa 1-2 Sekunden lang gleichförmig belichtet, und zwar mit Hilfe einer 10 Watt Wolframlampe, um das elektrostatische Bild entsprewhend dem Hen-Dunkel-Muster des Originalbilde zu erzeugen. Schließlich wurde das elektrostatische Igild mit Hilt der Magnetbürstenmethode entwickelt. Hierbei ergab sich ein Sichtbares Bild hoher Bilddichte und bemerkenseert guter-Qualität, das frei von Verschleierung war, Bei e.Le#l II:_ lOg Klarwachs auf wurde zu 100 g Cadmiumsullid, das Y#.pfer aktiviert z-Igegeben. Diese Mischung wurde noch mit etwa Verdünner bis zur Streichfähigkeits vermischt. Anschließend wurde die Mischung gleichmäßig auf einen Poly-&Lthylentherephthalat-Film (Mylar) aufgesprüht, der 12 p stark war. Nach der Trocknung wurde ein'weiterer Polyäthylentherephtalat-Film der StILrke vonetwa 12ju auf die Cadmiumsulfidobet-fläche aufgeldebt" um die fotoernpfindliche Platte fertigzustellen.
Als nächsten wurde die Platte einer Doppeleoronaentladung ausgesetzt, und zwar mit +6kV auf der einen Seite und -6kV auf der anderen Seite, Anschließend wurde das Originalbild etwa 1/2 Sekunde lang mit Hilfe einer 10 'Lux Wolframlampe aufgestrahlt, wobei gleichzeitig die Sekundaraufladung durchgeführt wurde, und zwar durch Umpolen der oben erwähnten beiden Coronaentladungen. Die Platte wurde dann ins helle gebracht und mit Hilfe der Kaskadenmethode entwickelt. Man erhielt ein ausgezeichnetes Bild, und zwar auf der einen Seite ein Positivbild und auf der anderen Seite ein Negativbild. »rjapiql Ein 12/u starker Polyäthylentherephtalatfilm (Mylar) wurde auf eine mit Papier hinterlegte Aluminiumfolie aufgeklebt. Eine Mischung, bestehend aus Cadmiumsulfid, ZinksuRfid, Vinylazetat und VeiMünner in einem Mischungsverhältnis von 10:2:1:1, wurde hierauf etwa 100 p stark aufgetragen. Anschließend wurde hierauf zur Vertigstenung der fotoempfindlichen Platte ein 12 /' starker Polyäthylenterephthalatfilm aufgeklebt. Die Elektrode Iag an + 1000 V Gleichspannung und befand sich dicht benachbart der Oberfläche des Polyäthylenterephthalatfilms, der einer Bestrahlung mit 50 Lux ausgesetzt war. Anschließend wurde die Platte einer Coronaentladung von -6kV Gleichspannung ausgesetzt, und zwar gleichzeitig mit der Aufstrahlung des Bilds. Hierdurch ergab sich ein elektrostatisches Bild mit hohem Kontrast.
2eitp.L#l LV#-. - Zinkoxid, Silikonkunstharz und Toluol wurden im Gewichtsverhältnis von 2:1:3 in einer Kugelmühle drei Stunden lang vermahlen. Dieser Mischung wurde eine alkoholische Lösung von 0, 15 Rose Bengale in einer Menge zugegeben, so daß 0, 05 Gewichtsprozent Rose Bengale, bezogen auf Zinkoxid, in der Mischung vorhanden wär. Diese Mischung wurde dann auf eine Aluminiumplatte so stark aufgetragen, daß sich nach dem Trocknen der Mischung eine Schichtdtcke von 60 p ergab. Schließlich wurde noch ein 25 starker Polyesterfilm mit Hilfe von Epoxykunstharz aufgeklebt. Die auf diese Weise hergestellte fotoempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 zur Erzeugung des elektrostatischen latenten Bilds behandelt. In diesem Falle war es notwendig, die Belichtung mit 100 Lux pro Sekunde vorzunehmen.
20 Gewichtsprozent Styrolbutadien-Copolymer (wie dies beispielsweise unter der Handelsbezeichnung Pliolite-C. P. R. der Firma American GoodYear Chemical Co. hergestellt wird), 10 Gewichtsprozent chlorierter.Gummi und 70 Teile Xylol wurde zusammen mit 100 Teilen Zinkoxid (American Zinc Co.) in einer Kugelmühle 4 Stunden. lang gemischt. Anschließend wurde eine alkoholische Lösung vono 0, 1 Gewichtsteilen Bromphenol-Blau, 0, 1 Gewichtsteile Rose Bengale, 0, 1 Gewichtsteile Fluoroseein auf 100 Gewichtsteile Zinkoxid beigegeben. Die ganze Mischung wurde sorgfältig durchgerührt und anschließend auf einen 25 p starken Polyesterfilm so stark aufgetragen, daß sich nach dem Trocknen eine Schichtdicke von 50 p ergab. Anschließend wurde ein leitender Anstrich aufgebracht. Die so hergestellte Fotoempfindliche Platte wurde entsprechend Beispiel I zur Herstellung des elektrostatischen Bilds und des sichtbaren Bilds behandelt.
In Figur 29 ist eine Ausführungsform einer Kopiervorrichtung dargestellt, die nach dem erfindungsg emäßen Prozeß arbeitet. 12t ist'eine Trommel, auf deren Umfang eine fotoempfindliche Platte At aufgebracht ist. Die fotoempfindliche Platte besteht von innen nach außen aus einer leitenden Basis lt, dem fotoleitenden Film 2t und dem Isolierfilm 3t. Die Trommel wird in der ih Figur 29 angegebenen Pfeilrichtung gedreht.
Die fotoerapfindliche Platte At erhält die Primäraufladung durch die Coronaentladungsvorrichtung 4t. Das Originalbild wird mit Hilfe einer Litze 13t durch den Sekundärauflader 8t hindurch auf den Isolierfilm St projiziert. Gleichzeitig hiermit erhält der Isolierfilm 3t seine Sekundäraufladung durch die Coronaentladungsvorrichtnng 8t, und zwar unter entgegengesetztem Vorzeichen gegenüber der Primäraufladung. Hierbei bildet sich das elektrostatische Bild auf der Oberfläche des Isolierfilme 3t. Das effektive Belichtungsgebiet der Coronaentladungvorrichtung 8t definiert einen Belichtungsschlitz für die Platte. Anschließend wird die gesamte Fläche des Isolierfilms 3t gleichförmig durch die Wolframlampe 23t belichtet, um das elektrostatische Bild entsprechend dem Hell-Dunkel-Muster des Originals zu erzeugen. 14t ist der Entwickler. Hierbei wird das elektrostatische Bild mit Hilfe einer Magnetbürste 15t entwickelt, die in der Hauptsache geladene Farbpartikel aufstäubt, wodurch ein sichtbares Puderbild entsteht. Anschließend wird dieses sichtbare Puderbild auf einem Träger llt übertragen. Dieser Träger llt steht in Oberflächenkontakt mit dem Puderbild und wird zusammen mit diesem bewegt. 16t ist die Zuführrolle für den Träger 14t.- Zur erleichterten Übertragung des Puderbilds auf den Träger llt ist bei lüt eine Coronaentladungsvorr richtung vorgesehen, die eine Coronaentladung des enttgegengesetzten gegenüber den geladenen Partikeln erzeugt. Anschließend läuft das Trägermaterial llt längs des Umfangs einer Heizt-rommel als Fixiereinrichtung, in der eine Infrarotlampe-17t angeordnet ist. Schließlich kann das fixierte elektrofotografische Kopierbild am Empfänger 191%. abgenommen werden. Nach Aer Übertragung den Puderbilds von der Platte auf den T räger llt wird das auf der fotoempfindlichen Platte At verbliebene elektrostatische Bild mit Hilfe einer Wechselstromcoronaentladung bei 20t entfernt. Anschließend'Iäuft die Platte zu einer Reinig>qngsstation 25t, in der sie vom restlichen Puderbild befreit wird. I-Iie/tzu ist eine Drehbürste 22t mit feinem Haar oder dergleichen vorgesehen, die die Oberfläche der fotoempfindlichen Platte abbürstet. Die fotoempfindliche Platte ist daher fUr eine weitere Aufnahme vorbereitet.
Wie insoweit erläutert worden ist, wird entsprechend der Erfindung eine Voraufladung der Oberfläche des Isolierfilms der fotoempfindlichen Platte durchgeführt, wobei diese im Prinzip aus drei Schichten besteht, nämlich aus einer leitenden Basis, des darübergeschichteten fotoleitenden Films und des hierauf aufgebrachten durchscheinenden Isolierfilms. Anschließend wird eine Coronaendladung mit gegenüber der Voraufladung entgegengesetztem Vgrzeichen aufgestrahlt, und zwar gleichzeitig mit der Aufstrahlung des Originalbilds, wobei die Gleichgewichtsbeziehung mit der innerhalb des fotoleitenden Films auf dem Isollerfilm induzierten elektrischen Aufladung beibehalten wird und das elektrostatische Bild auf der Oberfläche des Isolierfilms durch die Wechselwirkung dieser beiden Vorgänge erzeugt wird, wonach dann die Gesamtoberfläche des Isolierfilms gleichförmig belichtet wird, so daß ein elektrostatisches Bild mit großem Oberflächenpotentialunterschied . und starkem äußeren Ladungsfeld erhalten wird. Hierbei ist die Empfindlichkeit beträchtlich erhöht. Das elektrostatische Bild auf dem Isolierfilm wird dann entwickelt und übertragen, worauf sich die Reinigung der fotoempfindlichen Platte anschlief4t. Da als Material für den Isolierfilm ein hochabriebfestes Material hohen spezifischen Widerstand ausgewählt ist, besteht keine Gefahr einer Beschädigung oder Verschlechterung sowohl des Isolierfilms als auch der darunterliegenden fotoleitenden Schicht. Folglich ist es möglich, die fotoempfindliche Platte über lange Zeiträume hinweg immer wieder zu benutzen.
In Figur 30 ist eine Ausführungsform einer Kopiervorrichtung dargestellt die sich gleichfalls zur Durchführung der erfindungsgemäßen' Methode eignet. Figuren 31 und 32 sind Prinzipdarstenungen zur Erläuterung der Wirkungsweise.. Die fotoempfindlidhe Platte ls liegt hier in Form eines endkbsen Gurts vor und ist auf Rollen 2s und 3s, die bei 5s bzw. 4s gelagert sind, geführt.
2s ist die Antriebsrolle die sich in der dargestellten Pfeilrichtung dreht. Mit Hilfe einer Doppeleoronaentladungsvorrichtung 7s und 8s' wird eine Ladung vorbestimmten Vorzeichens auf die fotoempfindliche Platte ls aufgebracht. Gleichzeitig wird durch die Coronaentladevorrichtung 8s hindurch die Platte mit Hilfe einer Lampe 9s belichtet. Dies dient dazu, die Träger in der fotoleitenden Schicht freizusetzen, so daß eine saubere Polarisation erhalten wird (vergl. auch Fig. 8). Erreicht die fotoempfindliche Platte ls die Belichtungsstellung 43a, so wird die Ahtriebsrolle 2s angehalten, und die fotoempfindliehe Platte ls bleibt stehen.
Als nächstes wird das Bild eines Films 44s der auf Spulen 40s mit Drehachsen 39s geführit ist, sowie oberhalb einer Projektionslinse Ls gelegen ist, mit Hilfe der Lampe 41s auf die fotoleitende Platte abgebildet, und zwar über zwei Reflexionsspiegel 37s und 36s.
Hierbei wird das elektrostatische latente Bild auf der fotoempfindliehen Platte ls dadurch erzeugt, daß die Coronaentladungsvorrichtung 8s unter gleichförmiger Geschwindigkeit über die fotoempfindliehe Platte -hinweggezogen wird. Als Antriebsmechanismus hierfür ist ein Gurt 16s vorgesehen, der auf eine bei 15s gelagerte Trommel 149 in der dargestellten Pfeilrichtung aufgewickelt wird.
Zu diesem Zeitpunkt wird die Coronaentladungsverrichtung 8s mit umgekehrtem Vorzeichen gegenüber vorher betrieben, und zwar erfolgt dies durch eine (nicht dargestellte) Nockensteuerung- an der Aufwickeltrommel 14s.
Nach Beendigung des Durchlaufs der Coronaentladevorrichtung 8s wird dieselbe wiederum in die Ausgangsstellung zurückgezogen, und zwar mit Hilfe der Aufwickeltrommel 10s, die bei lls gelagert ist, so- daß die Coronaentladevorrichtung 8s zur Vorbereitung des nächsten Prozesses wieder zur Verfügung steht. Nach Beendigung dieses Vorgangs wird die Antriebsrolle 29 wieder eingeschaltet. Hierdurch wird die fotoempfindliche Platte la im ganzen belichtet durch eine Lampe 179, wodurch ein elektrostatisches Bild mit hoheni Kontrast erzeugt wird. An'schließend wird die Oberfläche mit Hilfe einer magnetischen Bürste 449 gebürstet. Dieses Bürste sitzt in der Entwicklungsstation 20s, in der eine magnetische Rolle 18s und ein Entwickler-Behälter 19s vorgesehen sind. Hierdurch wird das sichtbare Puderbild erzeugt.
Als nächstes wird das Puderbild der fotoempfindlichen Platte la in Kontakt mit einem Kopierpapier oder einem anderen Trägermaterial 25s gebracht, das von einem bei 24s gelagerten Vorratsbehälter 23s abgezogen wird. An der Übertragungsstelle ist eine Andrückrolle 21s vorgesehen, die bei 22s gelagert ist. Die Übertragung des Bilds auf den Träger 25s erfolgt mit Hilfe einer Vorspannung oder mit Hilfe von Druck.
Anschließend läuft der das übertragene Bild besitzende Träger an einer Fixierstation 26s vorbei, die aus -einer Infrarotlampe 27s und einem Reflektor 28s aufgebaut ist. Dort wird das Pulverbild vollständig fixiert, und zwar durch Anschr.nelzen an den- Träger. Die Kopie 25s wird dann an einer Auslaßöffnung 31s des Gehäuses 35s mit Hilfe der bei 29s gelagerten Rollen 30s ausgetragen. Andererseits wird die fotoempfindliche Platte ls selbst zu einer IR.einigungsstation 32s bewegt. Hierbei ist eine Reinigungsplatte 33s vorgesehen, die aus elastischem Material, z. B. Gummi, besteht und die Oberfläche der fotoempfindlichen Platte abreibt. Hierdurch wird das auf der Oberfläche der fotoempfindlichen Platte verbliebe, ne Pulverbild entfernt, so daß dieselbe für die nächste Aufnahme vorbereitet ist. 34s ist ein Sammelbehälter für die bei 33s anfallenden Tönärreste.
139 ist eine Umlenkrone, die bei 12s gelagert ist. 38s ist die Lichtabschirmung für das Projektionssystem. 6sist eine Erdungsplatte aus leitendem Material, die zugleich als ebene Führungsfläche für die fotoempfindliche Platte ls in der Belichtungsstation 43s dient.
Wie imvorstehenden erläutert worden ist, weist die lichtempfindliche Platte gemäß der Erfindung auf beiden Seiten Isolierschichten mit hohem spezifischen Widerstand auf. Es ist daher gemäß der Erfindung möglich, eine hochflexible fotoempfindliche Platte herzustellen, die In Form eines endlosen Gurts eingesetzt werden kann. Da beide Seiten der fotoleitenden Schicht mit hochisolierenden, feuchtigkeitsdichten Schichten belegt sind, wird jegliche Verschlechterung der fotoleitenden Schicht durch Feuchtigkeitsabsorption vermieden. Die Handhabung dieser Platte ist sehr einfach, weil das elektrostatische Bild auf einer Isolierschicht hoher mechanischer Festigkeit erzeugt wird und die Entwicklung im henenstattfinden kann, wobei gleichzeitig die Platte immer wieder bei hoher Lebensdauer verwendet werden kann. Sind ferner die Isolierschichten auf beiden Seiten des fotoleitenden Materials gleichförmig ausgebildet, so ist es möglich, auch beide Seiten als das elektrostatische Bild erzeugende Flächen zu benutzen', wodurch die Lebensdauer der fotaempfindlichen Platte erhöht wird.
Ferner wird entsprechend der Erfindung mit Hilfe der Primäraufladung das Hysteresisverhalten eliminiert, wobei gleichzeitig innerhalb des fotoleitenden Materials eine Ladungspolarisation erzeugt wird. Weiterhin wird das elektrostatische Bild durch die Wirkung der Ladungspolarisation mit Hilfe der Sekundäraufladung und der gleichzeitig hiermit erfolgenden Aufstrahlung des Originalbilds erzeugt. Neshalb ist es möglich, große äußere Felder und damit ein hochkontrastreiches elektrostatisches Bild zu einhalten, und außerdem ist es auch möglich, wahlweise ein elektrostatisches Positiv-Positiv-Bild oder ein Negativ-Positiv-Bild zu erzeugen. Ferner kann durch durch entsprechende Einstellung der Sekundäraufladung die Empfindlichkeit sehr leicht elektrostatisch eingestellt werden.

Claims

2atentansprüche Verfahren zum Erzeugen eines elektrostatischen Bilde in der Blektrofotografiep gekennzeichnet durch Aufbringen einer praktisch gleichförmigen Frimäraufladung auf eine durchscheindende Isolierschicht einer fotoempfindlichen Platteg wobei diese Isolierschicht eine futoleitende Schicht abdecktg durch Aufstrahlen des Or-Jgi-.,.albilde zuonmmen mit einer Gleichstromkoronaentladung des entgegeagesetzten Vorzeicheie wie die Primäraufladung auf aie voraufgeladene durchscheinende Isolierscilicht zur Bildung eine-" Oberfläe-,ienpotentialdifferenz entsprechend dem Hell-eDunkel-Nunter den Originalbildag und durch Belichten der ganzen Oberfläche der durchscheinenden Isolierschicht zur Umkehrung der Oberflächenpotentialdifferenzp um dadurch ein elektrostatischeo Bild des Originalbilde mit hohen Kontrast zu erzeugdn.
2. Verfahren nach Anspruch 19 dadurch gekennzeichnet# daß das elektrostatioche Bild auf einer auf der fotoleitenden Schicht gelegenen durchscheinenden Isolierschicht erzeugt wird9 deren Dicke - zwischEn 10 Mikron und 50 Mikron liegt, 3. Verfahren nach Anspruch 19 dadurch gdkennzeichnett daß die Primäraufladung posit#.ves Vorzeich:Dn hat# wenn die fotoleitende Schicht aus einem n-leitenden Potoleiter auf,--ebaut istp und ein negatives Vorzeichen beai-uztg wenn die fotoleitende Schichtaus einem p-leitenden Fotoleiter aufgebaut ist. 4. Verfahren nach Anspruch 19 dadurch gekennzeichnet, daß das elektrostatische Bild auf einer fotoempfindliehen Platte erzeugt wird, bei der die mit der cürchscheinenden Isolierschicht abgedeckt@ fotoleitende Schicht auf einer leitenden Basis aufgebracht ist* 5. Verfahren nach "Anspruch 19 dadurch gekennzeichnet, daß das elek-trostatische Bild auf einer fotoempfindlid»ii Platte erzeugt wird# deren mit der durchscheinenden Iaolierschicht abgedeckte fotoleitünde Schicht a#f einer isolierenden Basis aufgebracht is#. 6* Verfahren nach Analzuch 19 dadurch gekennzeiohnetg daß das Originalbild auf die durchscheinende Isolierachicht der fotompfindlichen Platte unter Verwendung einer Gleichatrom-Koronaentladungsvorrichtugg aufgea-t#.ahlt wird. 7. Verfahren naeli Anspruch 19 dadurch gekeanze ionnetg daß eine fotoampfindliche Plat to verwendet wirdp bei der die von der durchaoheineriden abgedeckte fotoleitende Schicht auf einer durchscheinenden Basis aufgebracht ist$ und daß das Originalbild auf die durchsch inende Basis aufgestrahlt wird und gleichzeitig dIe durchscheinende Isolierschicht mit Hilfe einer Gleichetromkoronaentladung zur Bildung einen elektrost,-itiscrien Bilde auf der durchsc#einenden Isolierschioht auf geladen wird. 8. Verfahren nach Anspruch lg dadurch geker.tizeichnet,9 daß eine Koronaentladungsvorrichtung verwend-et viirdg deren effektive Expositionaf1L-&che einen Beliciat«tÄ-n-4%schlitz dafiniertg durch den das Originalbild auf die durchscheinende Isolierochicht der fotoempfindlichen Platte aufgestrahlt wird* 99 Verfahren nach Anspruch 29 dadurch gekennzeichnetg daß für die fotoleitende Schicht eine Mischung aus Kadmiumoulfid mit einem Binder verwendet wird* 10. Verfahren nach Analruch 29 dadurch gekennzeichnnti daß für die fototleitende Sdücht eine Mischung aus Zinkoxyd mit einem Binder ve.--#wendc-,t wird. 119 Verfahren nach Anapruch 2t dadurch gekeanzei6hnetg daß für die durchscheinende Isoliersellicht Pluor-Kunstharz verwendet #&d. 12. Verfahren nach Anspruch 49 dadurch gekennzeichnety daß eine fotoempfind'LJebt Platte ve.rwendet wirdg bei der die zwiochen der durchscheinenden Isolierschietit WK der leitenden Basis gelegene fotoleitende Schicht aus zwei dünnen Schichten aufgebaut ist# wobei die zur durchscheit.anden Isolierschicht benachbarte dünne Schicht aus feinkörnigen 7otoleiterpartikeln und Binder aufgebaut ist und die andere dW.ne Schicht aus zröber körnigen Potoleite2partikeln und Binderg und daß das elektrostatische Bild auf der durchscheinenden isolierechicht erzeugt wird* 13» Verfahren nach Ann-.ruch 59 dadurch gekeanzeichnotg daß eine fotoempfindliche Platte verwendet wirdp bei der die zwischen der durchscheinenden Isolierechicht und einer iaolierendea Basis gelegene fotoleitende Schicht aus zwei dünnen Schichten aufgebaut int» wobei die zur durchscheinenden Isolierqohicht benachbarte dünne Schiobt auefeinkörnigen 7otoleiterpartikeln und Binder aufgebaut ist und die andere dünne Schicht aus gröberkörnigen 7otoleiterpartikeln und Binderg und daß das elektrontatische Bild auf der durchscheinenden Isolierschicht erzeugt wird* 14, Verfahrei nach Anspruch 5, bei dem eine fotoempfindliebb Platte verwendet wirdv deren zwischen der durchsäieinen-# den Isolierschicht und einer isolierenden Basis gelee--,ene fotoleitende Sebicht aus did dünnen f(,toleitendda Schichten aufgebaut ist» wobei die beiden äußeren je aus feinUrnigen YotoleitexPartikeln und Binder aufgebaut sind ucd die-mittlere aus gröberkörnigen 7otoleiterpartikeln utd Binderg und daß das elektrontatisohe Bild auf der durchscheinendEn Izolierochicht erzeugt wird* 15. Verfahren nach Anspruch 7 9 bei dem eine fotoempfindlJohe Platte verweudet wird» deren durchscheinedb- Isolie#2-schicht so behandelt ist# daß sie opak ie& 9 -nd daß das elektroetatioche Bij-d auf dieser durchscheinenden Isolierec..,#icht- erzeugIld wird. 16. Verfahren nach Lne-rue.,1-i 7, dadurch gekennzeichnetg daß eine fotoeii,f-#ndliche Pla4W-Ü## verwendet wird# deren durchscheinende so behandelt istg daß selbe die/opak ist una deren durchscheinende Basis aus

einer durchscheinenden Isolie--schicht und einer durchscheinenden Eröktrodenschicht aufgebaut ist» wobei die letzbre der fotoleitenden Schicht zugewanat ist, und daß das elektrostatische Bild auf der durchscheinenden Inolierschicht erzeugt wird, 17. Verfahren nach Anspruch 129 dadurch gekennzeichaatg daß die feinkörnigen und die gröbel,körnigen Potoleiterpartikel je aus dem gleichen Haterial bestehen. 18* Verfahren nach Anspruch 129 dadur#ch gekeanzeiohnetp daß die feink-,rmigen und gröberkörnigen Potoleiter,#ar-I tikel je aus unterschiedlichen Materialien bestehen. 19* VerfaJren nach Änspruch 129 dadurch gekeanzeichr£bv daß die zur durchscheinenden Isolierschicht benachbarte dünne fotoleitende Schioht ajay einer Mischung von Ziakoxyd und Binder zusairmengesetzt istg daß die Diake der dünnen ßchicht zwischen 5 und 20 Mikron liegtp daß die der leitenden Baie zi#gewandte dünne fotoleitende Schicht aus Kadmiumsulfid und Biadar zufiamm--#ngesetzt ist sowie zwischen 10 und 100 Nikron dick ist uüd das ein elektrootatischeo Bild auf £er durchscheinenden Isolierschicht erze,-,gt wird. 20. Verfahren nach Anapruch 139 dadurch gekennzeichrietg daß die feinkörnigen utü gröbe körnigen Potl-.,L-eite--#partikeije aus dem gleichen Material bestehen* 2le Verfahren nach Anspruch 139 dadurch gekennzeichnetg daß die feinkörnigen und gröberkörmigen 7otoleiterpartikel je aus untersuhiedlichen Matexialien bestehen* 22. Verfahren nach Anapruoh 139 dadurch ge.konameiohnetg daß die zur durchecheihenden Isolieraohicht benachbarte dünne fotoleitende Schicht a a Ziakoxyd und Binder zusammengesetzt ist sowie 5 bis 20 Mikron Dick istg daß die zur isolierenden Baeis benachbarte dünne fotoleitende Schicht aus Kadmiumsulfid und Binder zusamengesetzt ist 9 sowie 10 bis 100 Mikron dick ist# una daß ein elektrostatisenes Bild auf der durchschei#-,enden Isolierschicht erzeugt wird* 23. Verfahren nach Anspruch 229 dadurch gekeanzeichnetg daß die isolierende Basis durch eine durchscheinende Isolierschicht gebildet ist* 24o Verfahren zum Lrzeugen einen elektro-fotografißehen Bildag gekennzeichnet durch Aufbringen einer praktisch gleichförmigeh Priaäraufladung auf eine durchscheinende Isolierechicht einer fotoempfindlichen Platte# wobei die durchecheinende leolierechicht auf einer fotoleitenden Schicht gelegen ist, durch Aufstrahlen eines Origi.nalbiids auf die #roraufgeladene durchscheinende Isolierschioht zusammen mit einer Gleic'hatromkoronaentladung des ent,#,#"*egm geset--ten Vorzeichens gegenüber der ]?rimäratfladung zur Erzeugung e-':.ner Oberflächen!-potentialdifferenz entsprechend dem Hell-Dunkei-liuster des Originalbildei durch Belichten der gesamten ObeiN-fläohe der durchscheinenden Iaolierschicht zur Umkehrung der Oberflächenpotentialdiffereung um hierdurch ein elektrontatiochea'Bild des Originalbilde mit hoherä Kontraut zu erzeugen# durch Sichtbarmachen des elektrostatiaohen Bilden mit Hilfe einen Batwicklerag durch Übertrqgen des alohtbargemachten Bilde 'auf ein Trägerblatt und durch 7ixieren den Bilde mit Hilfe von Wärmeeinwirkungl sowie durch nach dem Übertragen des Bilde erfolgenden Reinigen der Oberfläche de r durchscheinenden Inoliersohicht zur Bnt:ternung des restlichen Entwicklerag um dadurch einen -iiede'rholten Gebrauch der fotoompfindliehen Platte zu ermöglichen* 25s Blektroto'tografinohe Platte# dadurch gekeanzeichmte daß eine Basis vorgeeehea intg auf der eine fotoleitende 3chieht aufgebraeht int@ und daß eine 10 - 50 Ilikron stark* durchscheinende Isolierechicht aui der fotoleitenden Behioht aufgebraeht ißt* 26, 7,atte nach AnaPruah 259 daäuroh gekonniaiohnetg daß din fotoleitende ßchicht &an einer Micchung von Radmiumaulfid mit einem Binder aufgebaut ist# wobei der Biader ein Zunotharx iotp deneen epeEifisaher Wideretad oberhalb 10 12 CWOlt liegt 27# Platte nach Anspruch 259 dadurch gekennzeichnttne daß die fotoleitende Schicht aus einer Mischung von Ziakoxyd und einem Minder aufgebaut iat» und daß der Binder ein K)&tu tharz :Lot# deseen epe zifiaoher Wideretand oberhalb 10 12 0 W cm liegt* 289 ..Platte nadh Aaexuch 259 dadurch gekennzeichnet# daß die durchscheinende Ieolierschicht aus Pluor-Kunatharz besteht., 29o Platte nach Anspruch 259 dadurch gekeanzeionnet@ daß die Basis eine leolieraohioht ist# die den 10 bis 50 Mtkron stark ist* 30o Blektrofotografische Platteg gekennzeichnet durch eine durchscheinende Basis# durch eine auf der Basis vorge-. nahene fotoleitende Bahieht sowie durch eine Isolierschioht auf der fotoleitenden Schicht@ die no behandelt ist 9 daß sie opak ist* 319 Platte nach Anspruch 30# dadurch gekennzeichnet# daß dii durchscheinende Basis eine durchscheinende Inoliersohiaht ist* 32. Platte nach Anspruch 30p dadurch gekeaueiohaotg daß die durchscheinende Basis aus eiar durchscheinenden leolierschicht und einer durchscheinenden Zlektrode aufgebaut ist# und daß die Blekttodenoberfläohe der fotoleiteriden Schicht beaaolibart ist* 33. Blektrofotc«rafioche Plattet dadurch gekeanzeichnets daß eine Basis vorgeeebon iatg ferner eine hierauf aufgebadte fotoleitende Echiahtg die in der Hauptsache aus einer Mischung von a-leitenden und p-leitenden Potoleitern aufgebaut ist# sowie eine auf der 7otoleiterschicht. aufgebrachten Inolierechicht$ auf der das elektrottatincbe Bild erzeuit wird« 349 Blektrofotografieche Platteg dadurch geken.-zeichnat» daß eine Basis vorgesehen ist@ ferner eine fotoleitende Bodeht aul der Basis# sowie eine durchscheinende Isolierschloht auf der fotoleitenden Sohichtg und daß die fotoleitende Schicht aus zwei dünnen Schichten aufgebaut ist» von denen die zur durchscheinendene Isolierschioht benachbarteg aus feinkörnigen 7otoleiterpartikeln und einem Binder zuaa=engeaetztag und die andere dünne 3chioht aus gröberkörnigen 7otoleiterpartikeln und einem Binder. 35* Platte nadh Anspruch 349 dadurch &ekennzeichntg daß für die feinkörnigen und die gröberkörnigen Fotoleiterpartikel je unterschiedliche 7otoleitermaterialien vorgeaehen,aind und daß das gröberltörnige Potoleitemäaterial höhere 9 Jimpfindlichkeit besitzt# als das feinkbrnJge Potoleitermaterialo 36* Platte nach Änolwudfh 349 dadurch gelm nuaeichmtg daß tUr die feinkö.-nigen und gröberkörr.-gen 7otoleiterpartikel je die gleide Potoleilormäterial vorgesehen ist. 37. Platte naah Aneprimh 349 dadurch gekerizizeiohnetg daß dia Daaia eine Xanlierechicht auiweiBte 38. )?latte nach Änepruch 359 bei der der feinkörnige ?otn-. leiter Zinkoxyd isti daß aie Dicke der Ziakoxyd und Binder enthaltenden dünnen Schicheu- z-,visj,Lidn 5 Irlikron und 20 Mikron 1:iagt, daß fUr die grobkörnigen 2otolei#t-.erpartikel Kadmiumealfid vorgesehen ist, und daß die Dicke der Kadmiumsulfid und Binder enthaltend= dünnan 5--hicht zwiechen 10 und 100 Mikron liegt* 399 Elektrofotografische Plattep dadurdb gekennzeichnet, daß eine Basis vorgesehen ist, die eine durchneneinende Isoliersohioht aufweist» daß eine fotoleitende ScAicht, die aus drei dünnen fotoleitenden Schichien zusamme#ngesetzt ialg auf der Basis vorgesehen istg daß auf der fotoleitenden Schicht eine durchscheinende Isolierochicht vorigena.hen intu und daß die beiden äuberon dünnen fotoleitenden Schichten aus feiakörnigen PolD-leiterpartikeln und Binder aufgebaut eindj währead die mittlere dünne fotoleitende Uchicht au% gröberkörnigen 7otoleiterpartikeln und Binder aufgebaut ist.