DE1521929C

DE1521929C - Vorbehandlung eines Gußeisenproduk tes fur die Galvanisierung

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Publication number: DE1521929C
Application number: DE19661521929
Authority: DE
Inventors: Edward B Hamden Wieczorek Theophil J West Haven Conn Saubestre (V St A)
Original assignee: Pernix Enthone SA
Current assignee: Pernix Enthone SA
Priority date: 1965-03-10
Filing date: 1966-03-10
Publication date: 1973-05-03

Description

ii
CH₃C — R

in der R den Rest CH₃, C₂H₅ oder

CH₂- C(OH)- (CH₃).,

bedeutet und/oder Glykole der allgemeinen Formel R₂-O- (CH₂ — CH₂ — O — )„R_X

in der R₁ H, CO — CH₃, PO(OH)₂ oder SO₂(OH) und R₂ H oder H(CH₂)_m bedeutet, wobei m = 1 bis 4 und η = 1 oder 2 ist in Konzentrationen von 30 bis 150 g/l, vorzugsweise von 60 bis 90 g/l, verwendet werden.

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich eine organische Thioverbindung enthaltende Lösung in einer Menge unter 7,5 g/l verwendet wird.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als organische Thioverbindung NaSCN, C₂H₅-NH-CS-NH-C₂H₅ oder (C₂H₅)₂N — CS — SNa verwendet wird.

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorbehandlung eines in der Oberfläche einzelne kohlenstoffhaltige Teilchen enthaltenden Gußeisenproduktes.

Der allgemeine Ausdruck »Gußeisenprodukt« umschließt Grauguß, Weißguß, Hartguß, schmiedbaren Guß", aufgekohltes und carbonitriertes Eisen. Der Kohlenstoffgehalt von Gußeisen beträgt im allgemeinen 1,5 bis 4,5%. Grauguß ist das am meisten verwendete Gußeisen.

Der Ausdruck »graues« Gußeisen umschließt eine Reihe von eutektischen Legierungen, die eine weite Auswahl von mechanischen Eigenschaften bieten, und wobei die Zusammensetzung und Verarbeitbarkeit so gewählt wird, daß die Matrixstruktur weitgehend Perlit (ein lamellares Gemisch aus Ferrit und Cementit) darstellt mit vielen Graphitflocken, die durch und durch dispergiert sind. Die Anwesenheit dieser Graphitflocken verleiht diesen Legierungen die charakteristische »graue« Bruchfläche. Als Untergruppe können die austenitischen Gußeisen angesehen werden, die genügend Zusatzelemente enthalten, um die eutektoide Umwandlungstemperatur so weit zu erniedrigen, daß bei Raumtemperatur als Matrix Austenit erhalten wird, mit Graphitflocken, die über die Gesamtstruktur dispergiert sind. (Für diesen Zweck wird im allgemeinen Nickel verwendet.) In Weißguß liegt fast der gesamte Kohlenstoff in gebundener Form vor. Die Anwesenheit von Ferrit und freiem Cementit wird nur von sehr geringen Mengen graphitischem Material begleitet. Unter Temperguß ist Weißguß zu verstehen, der hitzebehandelt wurde, um die Hauptmenge an Cementit in Ferrit und freien (oder Temper-) Kohlenstoff zu zersetzen, der üblicherweise in Form von

ίο kugeligen Graphitteilchen vorliegt.

In allen oben beschriebenen Fällen sieht sich der Galvaniseur einem ähnlichen Problem konfrontiert: die zu galvanisierende Oberfläche des Metalls enthält freien Kohlenstoff, im allgemeinen in Form von Graphit. Die Herstellung eines zufriedenstellenden Überzugs auf Gußeisen hängt von einer hohen kathodischen Wasserstoffüberspannung an dem zu galvanisierenden Eisen ab. Der Graphit oder freie Kohlenstoff auf der Oberfläche bietet zwei Probleme: Er führt zu

ao ungelösten Rußflocken an dem zu galvanisierenden

- Teil der Oberfläche bei den konventionellen Reinigungsschritten, die häufig vor dem Galvanisieren angewandt werden, und er erniedrigt merklich die Wasserstoffüberspannung an der Stelle solcher Graphitein-Schließungen. Der letztgenannte Effekt kann sehr nachteilig sein, wenn derartige Gegenstände mit Zink aus Cyanidlösungen galvanisiert werden. In derartigen Lösungen begünstigen die Standardelektrodenpotentiale die kathodische Reduktion von Wasserstoff mehr als von Zink. Der einzige Grund, daß Zink überhaupt aus Cyanidlösungen abgeschieden werden kann, ist ■ darin zu sehen, daß auf den meisten Substraten die Wasserstoffüberspannung groß ist, während die Zinküberspannung vernachlässigbar klein ist, so daß die kathodische Reduktion von Zink bevorzugt ermöglicht wird. Wie jedoch oben bereits erwähnt, erniedrigen Oberflächen, die freien Kohlenstoff, insbesondere in Graphitform, enthalten, stark die Wasserstoffüberspannung, so daß Zink und andere Metalle aus Cyanidelektrolyten auf derartigen Oberflächen sich nicht direkt abscheiden lassen.

Ablagerungen von freiem Kohlenstoff und Graphit treten sehr verbreitet in gewöhnlichem unbehandeltem Gußeisen auf, und in anderen Fällen werden sie durch Hitzebehandlung hervorgerufen, wie z. B. beim Einsetzen zur Verbesserung der Festigkeit und Widerstandsfähigkeit des Produktes. Einzelne Kohlenstoff- und/oder Graphitteilchen auf der Oberfläche, die entweder natürlich vorkommen oder bei der Verarbeitung 4es Eisens durch Aufkohlung oder Carbonitrierung auftreten, erniedrigen auf alle Fälle die Wasserstoffüberspannungswerte so weit, daß die Entwicklung von Wasserstoff und die Bildung einer zusammenhängenden Schicht auf der Eisenoberfläche entweder ernsthaft beeinträchtigt oder vollständig unterbunden wird.

ASTM-Recommended Practice-B 320-60 gibt eine Zusammenfassung des heutigen Wissens über Methoden zur Vorbereitung von schmiedbarem, grauem, kugelförmigem und weißem Eisenguß für die Galvanisierung. Der durch ASTM empfohlene Herstellungszyklus umfaßt vier Grundstufen:

1. Entfernung von ölen, Fetten, restlichen Polier- und Schwabbelverbindungen und Werkstattschmutz durch Reinigung;

2. Entfernung von Oxydfilmen bzw. Zunder und Lockerung von Oberflächenkohlenstoff durch Beizen oder durch Salzbadbehandlung;

3 4

3. Entfernung von eventuellem Oberflächenschmutz, lange genug durchführt, beispielsweise 5 Minuten. Die der durch Stufe (2) verursacht ist; Anwendung eines solchen Materials in der oben be-

4. Aktivierung des Gußstückes für nachfolgendes schriebenen Weise verringert sowohl den Angriff auf Galvanisieren. das Substrat als auch das Auftreten von Kohlenstoff-

5 flocken auf diesem auf ein Minimum. Ganz allgemein

Für gestreckte Teile empfiehlt ASTM den folgenden kann gesagt werden, daß die nach diesem modifizierten

Arbeitsgang: Verfahren behandelten Werkstücke sich glänzender

ι c· „»,^™-_n-„ „ und gleichmäßiger galvanisieren lassen als solche, die

1. hmweicnreinigung, nach der Standard-ASTM-Methode behandelt wurden.

t λ;Α» T?»,^-_m „ ¹⁰ Trotzdem konnte festgestellt werden, daß — selbst

4 S "fen ⁸^⁸' wenn diese verbesserten Methoden angewandt wer-

-■ " g ■ den — in vielen Fällen Substrate von oben beschriebe-

/ ς .., ' nem Typ noch immer zu Abscheidungen minderer

o. ^öP^u'^e.ⁿ' . . Qualität führen, was auf Rußflocken zurückzuführen

8 Smen ^gUng> i5 ist, die nach der Reinigung noch zurückbleiben, und

„' J , ',. ,. /αϊ*· ■ \ · mm · xj or\ daß ^si^{e vor} allem unvollständig galvanisiert werden

_u1. ,j it ι-· Ii ■ Ii i· t. j Zmkcyamdlosungen, was auf das oben g

anschließen soll. Falls eine alkalische oder fru^o !·· ·■ ι r-t. · *

.,.,τ.. j . j „ ., U berspannungsphanomen zuruckzufuhien ist.

cyanidische Losung verwendet werden soll, wird t7-i„u-t,j j ■>. u ^ n.· »* * · ι·

L·* Ve_rfatecLi« wagged, " ^ΚΑ,ΜΐΑ^Α^

^pu ' wurden früher bereits als Vorreinigungsschritt ange-

Die kritische Verfahrensstufe ist die saure Beize. wandt, gefolgt von den üblichen konventionellen

Falls das nachfolgende Galvanisieren unter Bedingun- Methoden zum Präparieren der Eisensubstrate für das

gen durchgeführt werden soll, die genügend hohe 25 nachfolgende Galvanisieren. Solche bekannten Ver-

Wasserstoffüberspannung hervorrufen (meistens saure fahren umfassen das Eintauchen des Eisenartikels in

Lösungen und solche alkalische Lösungen wie Kupfer-, eine saure Lösung, die Phosphate enthält, und der

Cadmium- oder Zinn-), ist üblicherweise ein kurzes Gegenstand wird dann weiterhin in einem alkalischen

Eintauchen (weniger als 15 Sekunden) in eine Lösung Entzunderungsmittel oder in einer Kombination von

von Zimmertemperatur aus 20 Volumprozent HCl 30 alkalischen Elektroreinigern behandelt. Derartige

(37 Gewichtsprozent) oder 5 bis 10 Volumprozent Materialien werden jedoch von der Oberfläche durch

H₂SO₄ (98 Gewichtsprozent) angemessen. Falls die eine Beizbehandlung oder auf eine andere Weise voll-

Abscheidung in einer alkalischen Lösung von nied- ständig entfernt, bevor die übliche Abscheidung auf

riger Wasserstoff Überspannung, wie Zinkcyanid, durch- die filmfreie Oberfläche des Eisens angewandt wird,

geführt werden soll, wird jedoch anodische Behandlung 35 Es ist auch bekannt, vor der galvanischen Behandlung

in Säure zur Entfernung von Oberflächenkohlenstoff von Metallen, insbesondere Eisenmetallen, einen

vorgezogen. Dies wird bewirkt, indem man diesen Teil Phosphatüberzug mit einem Schichtgewicht von 0,2

zur Anode macht in einer Lösung aus 25 bis 35 Volum- bis 10 g/m^a aufzubringen.

prozent Schwefelsäure (98 Gewichtsprozent) für min- Die bekannte Anwendung solcher filmbildender

destens 30 Sekunden und vorzugsweise länger, bei 40 Bäder führte jedoch nicht zu einer zufriedenstellenden

0,108 A/cm². Während der ersten 15 bis 30 Sekunden Galvanisierung bei Oberflächen des Typs, wie sie erfin-

bildet sich ein schwarzer Film aus Kohlenstoffruß, wo- dungsgemäß behandelt werden sollen,

bei der zu behandelnde Teil passiv wird, und die Es wurde nun ein verbessertes Verfahren zur Vorbe-

Sauerstoffentwicklung an diesem Teil entfernt den handlung eines in der Oberfläche einzelne kohlenstoff-

Kohlenstoff durch eine Kombination von Scheuern 45 haltige Teilchen enthaltenden Gußeisenproduktes für

und Oxydation, wobei das Gußstück lelativ sauber die Galvanisierung gefunden und insbesondere zur

zurückbleibt. Selbst dann kann jedoch das Galvani- Vorbereitung solcher Oberflächen für die Galvanisie-

sieren in Zinkbädern vom Cyanidtyp unvollständig rung mit Zink und anderen Metallen aus cyanid-

sein, so daß ASTM eine vorhergehende elektrolytische haltigen Elektrolyten ohne Anwendung vorheriger

Behandlung in sauren Zink-, Cadmiumcyanid- oder 50 elektrolytischer Behandlungsschritte, wie sie durch

alkalischen Zinnbädern empfiehlt. ASTM vorgeschlagen werden. Es wird hierbei mit

Es wurde bereits vorgeschlagen, daß der obige einer einen pH-Wert von etwa 0 bis 3 aufweisenden, Arbeitsgang wesentlich verbessert werden kann, indem eine lösliche Phosphatverbindung sowie ein nichtder von ASTM empfohlene Verfahrensschritt der ionogenes oder kationisches Netzmittel enthaltenden sauren Beize durch die Anwendung typischer alkali- 55 wäßrigen Lösung gearbeitet, wobei nach der Erfindung scher Entzunderungsmittel ersetzt wird. So wurde z. B. die Behandlung zur Bildung eines dünnen Films mit für den Verfahrensschritt 5 des oben beschriebenen einer mindestens ein Keton und/oder Glykol enthalten-Arbeitsganges früher bereits die Verwendung einer den wäßrigen Lösung durchgeführt wird.
Lösung empfohlen, die z. B. etwa 75 g/l eines Eisen- Um die zu galvanisierende Oberfläche wirksam zu chelats wie EDTA (Äthylendiamintetraessigsäure), 60 desoxydieren, sollte die filmbildende Lösung einen Glukonat, Oxalat, Citrat, Heptoglukonat u. dgl., pH-Bereich zwischen 0 und 3, vorzugsweise 0,6 bis 0,8, 164 g/l Ätznatron oder Ätzkali und 120 g/l Natrium- aufweisen. Sie sollte außerdem 15 bis 270 g/l, vor- oder Kaliumcyanid enthält. Es wurde gefunden, daß zugsweise 75 bis 120 g/l, an Phosphationen enthalten, solche Lösungen mit Erfolg bei Zimmertemperatur bis Die einfachste Weise, um sowohl die erforderliche hinauf zu 60° C zur Reinigung der zu galvanisierenden 65 Acidität als auch die erforderliche Menge an Phosphat-Oberfläche verwendet werden können, indem man ionen zu erzielen, besteht in der Verwendung von periodisch wechselnden Strom anlegt, z. B. 5 Sekunden Phosphorsäure in der filmbildenden Lösung. In den anodischen und 9 Sekunden kathodischen, und dies obigen Zahlenangaben entspricht dies der Verwendung

von 18,5 bis 330 g/l, vorzugsweise 90 bis 150 g/l 85gewichtsprozentiger Phosphorsäure, wie sie im Handel erhältlich ist. Wahlweise, doch nicht vorzugsweise kann die erforderliche Acidität auch durch die Verwendung einer anderen Säure als Phosphorsäure (wie z. B. Schwefelsäure) erzielt werden in Kombination mit der Verwendung eines löslichen Phosphatsalzes. Die Salze, die verwendet werden können, sind die ortho-Phosphate, Monohydrogenphosphate und Dihydrogenphosphate von Natrium-, Kalium- und Ammoniumionen. Es liegt außerdem im Rahmen der vorliegenden Erfindung, als Quelle für die erforderlichen Phosphationen freie Säuren und deren Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze anderer Formen von Phosphationen heranzuziehen, wie z. B. Pyrophosphate, Metaphosphate, Hexametaphosphate, Tetraphosphate und Tripolyphosphate. Eine weitere Quelle für das erforderliche Phosphation stellt die Verwendung von organischen Phosphaten dar, die, allgemein gesprochen, Phosphatester sind. Das folgende allgemeine Reaktionsschema zeigt, wie Phosphorsäure leicht mit organischen Basen verestert werden kann:

R-OH+ PO(OH)₃

_> R _ O _ PO(OH)₂ r-Ester

2R —OH+ PO(OH)₃

-> (R — O)₂ — PO(OH) 2°-Ester

3R —OH+ PO(OH)₃

-> (R-O)₃-PO 3°-Ester

worin R einen organischen Rest bedeutet. Die obigen Gleichungen beziehen sich auf die saure Form der Phosphatester, doch sollte für die vorliegende Erfindung im Auge behalten werden, daß stillschweigend ebenso auch auf deren Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze Bezug genommen wird. Dies kann durch die folgenden allgemeinen Formeln ausgedrückt werden:

R — O — PO(OM)₂ für r-Ester
(R — O)₂ — PO(OM) für 2°-Ester

worin MH+-, Na⁺-, K⁺- oder NHi⁺-Ionen bedeuten. Aus Gründen hoher Kosten, Löslichkeit und Viskosität der Lösung sollten, falls organische Phosphate als Phosphationenquelle verwendet werden sollen, diese in Verbindung mit zusätzlichen Mengen an Phosphationen aus anorganischen Phosphaten angewandt werden, falls nicht am unteren Ende des oben aufgeführten Phosphat!onenbeieichs gearbeitet wird.

Für die oben definierten I⁰-, 2°- und 3°-Ester kann R CH₃ oder C₂H₅ bedeuten. Lediglich für 1°-Ester kann R außerdem auch H — (CHOH)₇₁ — CH₂ darstellen, wobei η 1 oder 2 bedeutet.

Außerdem müssen diese filmbildenden Lösungen oberflächenaktive Mittel enthalten. Sie können in einer Menge von 1,1 bis 22,4 g/l, vorzugsweise von 3,0 bis 4,5 g/l, vorliegen. Aus Gründen der Löslichkeit und Verträglichkeit werden kationische oder nichtionische oberflächenaktive Mittel bevorzugt, die erste-■ren vom quaternären Ammonium-Typ, die letzteren vom poly-(oxyäthylenierten) Alkyl-Aryl-Typ.

Bei den nach der Erfindung in der wäßrigen Lösung vorliegenden Ketonen und/oder Glykolen handelt es sich um Ketone der allgemeinen Formel

CH₃ — CO — R ,
in der R CH₃, C₂H₅ oder CH₂ — C(OH) — (CH₃).,, bedeutet, und um Äthylenglykoläther und/oder -ester der allgemeinen Formel

R₂-O- (CH₂ — CH₂ — O)_n — R₁,

in der R₁ = H, CO — CH₃, PO (OH)₂ oder SO₂ (OH); R₂ = H oder H(CH₂)Ot bedeutet und η = 1 oder 2 und m = 1 bis 4 ist. Die Gesamtmenge sollte 30 bis 150 g/l, vorzugsweise 60 bis 90 g/l betragen. Folgende Beispiele seien genannt:

Ketone

Aceton CH₃ — CO — CH₃
Methyl-äthyl-keton

CH₃ — CO — C₂H₅
Diaceton-alkohol

CH₃ — CO — CH₂ — C(OH) — (CH₃)₂

Glykole
Äthylenglykol

HO — CH₂ — CH₂ — OH
Methyl-monoäthylenglykoläther

CH₃ — O — CH₂ — CH₂ — OH
Äthyl-monoäthylenglykoläther

C₂H₅-O-CH₂-CH₂-OH
Propyl-monoäthylenglykoläther

C₃H₇ — O — CH₂ — CH₂ ^- OH
Butyl-monoäthylenglykoläther

C₄H₉ — O — CH₂ — CH₂ — OH
Methyl-diäthylenglykoläther

CH₃ — (O — CH₂ — CH₂), — OH
Äthyl-diäthylenglykoläther

C₂H₅ — (O — CH₂ — CH^)₂ — OH
Propyl-diäthylenglykoläther

C₃H₇ — (O — CH₂ — CH₂)₂ — OH
Butyl-diäthylenglykoläther

C₄H₉ — (O — CH₂ — CH₂)₂ — OH

Zusätzlich zu den obigen Verbindungen müssen auch die entsprechenden Ester jeder Verbindung in Betracht gezogen werden. Als typisches Beispiel soll die Formel für Äthylmonoäthylenglykoläther-phosphat aufgeführt werden:

C₂H₅ — O — CH₂ — CH₂ — O — PO(OH)₂.

Es muß betont werden, daß, falls es sich bei dem bestimmten Glykolätherester um den entsprechenden Phosphatester handelt, ein Teil des erfindungsgemäß erforderlichen Phosphatbedarfs entsprechend bereits gedeckt ist.

Als letzten, gewünschtenfalls verwendeten Zusatz kann die filmbildende Lösung organische Thio-Verbindungen enthalten, die als Eisenkorrosionsinhibitoren in sauren Lösungen wirken. Derartige Materialien können erforderlich sein, wenn die filmbildende Lösung zur Durchführung einer beträchtlichen Zahl von Desoxydationen verwendet wird, was zu ausgedehnten Eintauchzeiten der eisenhaltigen Substrate im Bad führt. Ohne sich darauf einzuschränken wurde gefunden, daß in dieser Hinsicht die folgenden Verbindungen nützlich sind:

NaSCN; (C₂H₅) — NH-CS-NH-(C₂H₅);
(C₂Hj)₂ — N — CS — SNa

Diese Inhibitoren werden im allgemeinen bei Konzentrationen unter 7,5 g/l verwendet.
Die filmbildende Lösung wird im allgemeinen bei Zimmertemperatur angewandt, um einen Angriff auf das eisenhaltige Substrat auf ein Minimum zu reduzieren und ebenso auch deshalb, um die Heizungs-

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kosten minimal zu halten. Gewünschtenfalls können diese Lösungen jedoch bei Temperaturen bis zu etwa 82⁰C angewandt weiden. Die Eintauchzeit bei Zimmertemperatur beträgt im allgemeinen 1 bis 10 Minuten. Es ist jedoch offensichtlich, daß diese Angabe nicht einschränkend wirken soll, da bestimmte Umstände Eintauchzeiten außerhalb dieses angegebenen Bereichs notwendig machen können.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.

Beispiel 1

Tempergußstücke, die vorher hitzebehandelt und abgeschreckt worden waren, wurden in einem Zinkcyanidbad unter Verwendung des folgenden Arbeitsganges galvanisiert:

1. Reinigung in einem alkalischen Entzunderungsbad 5 Minuten bei Zimmertemperatur unter Anwendung periodisch wechselnden Stromflusses (5 Sekunden anodische und 9 Sekunden kathodische Zyklen). Das Bad enthielt

NaOH 157 g/l

Na-gluconat 82 g/l

NaCN.. 120 g/l

2. Spülen mit kaltem Wasser.

3. Eintauchen in die filmbildende Lösung bei Zimmertemperatur 2 Minuten lang. Das Bad enthielt

Glykoläther 60 g/l

PO₄-Ionen 97,5 g/l

poly-(oxyäthyleniertes) Nonyl-

phenol 4,5 g/l

Diäthylthioharnstoff 2,24 g/l

pH (elektrometrisch) 0,7

4. Spülen mit kaltem Wasser.

5. Zinkabscheidung in einem geeigneten klaren Zinkbad vom Cyanid-Typ 10 Minuten bei 1 V.

6. Spülen mit kaltem Wasser.

7. Völliges Eintauchen in ein Chromat-Tauchbad.

8. Spülen mit kaltem Wasser.

9. Trocknen.

Die Eisengußstücke wurden vollständig mit einem gut aussehenden, glänzenden Zinküberzug selbst in den Vertiefungen mit niedrigster Stromdichte versehen.

Der obige Arbeitsgang wurde, genau wie oben beschrieben, wiederholt mit der Ausnahme, daß die Verfahrensstufen 3 und 4 ausgelassen wurden. Die erhaltenen Gegenstände waren in den Vertiefungen mit niedriger Stromdichte überhaupt nicht galvanisiert.

Beispiel 2

Eisenguß aus grauem Gußeisen, der sehr stark oxydiert war, wurde in einem Zinkcyanidbad unter Anwendung des folgenden Arbeitsganges trommelgalvanisiert:

1. Reinigung in einem alkalischen Entzunderungsbad 15 Minuten bei Zimmertemperatur unter Anwendung periodisch wechselnden Stromflusses (5 Sekunden anodische und 8 Sekunden kathodische Zyklen). Das Bad enthielt

NaOH 195 g/l

Na-gluconat 45 g/l

NaCN 120 g/l

25

30

35

40

45

55

60

2. Spülen mit kaltem Wasser.

3. Eintauchen in eine filmbildende Lösung bei Zimmertemperatur 2 Minuten. Das Bad enthielt

Glykoläther 60 g/l

PO₄-Ionen 97,5 g/l

poly-(oxyäthaleniertes Nonyl-

phenol 4,5 g/l

Diäthylthioharnstoff 2,24 g/l

pH (elektrometrisch) 0,7

4. Spülen mit kaltem Wasser.

5. Zink-Trommelgalvanisierung in einem geeigneten klaren Zinkbad vom Cyanid-Typ 1 Stunde bei 7 V.

6. Spülen mit kaltem Wasser.

7. Völliges Eintauchen in ein Chromat-Tauchbad.

8. Spülen mit kaltem Wasser.

9. Heißlufttrocknung.

Die Gußstücke waren vollständig mit einem gleichmäßig glänzenden Zinküberzug versehen, selbst in den Vertiefungen mit den niedrigsten Stromdichten.

Beispiel 3

Carbonitrierte Kraftwagenbolzen, die stark mit Zunder überzogen und verölt waren, wurden in einem Zinkcyanidbad unter Anwendung des folgenden Arbeitsganges trommelgalvanisiert:

1. Trommelreinigung in einem alkalischen Hochleistungs-Einweichreiniger, angewandt bei 79⁰C

6 Minuten zur Entfernung des Öls.

2. Zweifaches Spülen mit kaltem Wasser.

3. Reinigung in einem alkalischen Entzunderungsbad

7 Minuten bei Zimmertemperatur unter Anwendung periodisch wechselnden Stromflusses (5 Sekunden anodische und 8 Sekunden kathodische Zyklen). Das Bad enthielt

NaOH 195 g/l

Na-gluconat 45 g/l

NaCN 120 g/l

4. Zweifaches Spülen mit kaltem Wasser.

5. Eintauchen in eine filmbildende Lösung bei Zimmertemperatur 2 Minuten. Das Bad enthielt

Glykoläther 120 g/l

PO₄-Ionen 195 g/l

poly-(oxyäthyleniertes) Nonyl-

phenol 4,5 g/l

pH (elektrometrisch) 0,4

6. Spülen mit kaltem Wasser.

7. Zink-Trommelgalvanisierung in einem geeigneten klaren Zinkbad vom Cyanid-Typ 40 Minuten bei 7 V.

8. Spülen mit kaltem Wasser.

9. Völliges Eintauchen in Chromat-Tauchbad.

10. Spülen mit kaltem Wasser.

11. Heißlufttrocknung.

Alle Bolzen waren vollständig gleichmäßig glänzend galvanisiert. Wenn derselbe Arbeitsgang, wie oben beschrieben, durchgeführt wurde, die Verfahiensstufen 5 und 6 jedoch weggelassen wurden, waren die resultierenden galvanisierten Gegenstände merklich dunkler und rußfleckiger, und die Vertiefungen mit der niedrigsten Stromdichte waren nicht überzogen.

209 542/490

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Vorbehandlung eines in der Oberfläche einzelne kohlenstoffhaltige Teilchen enthaltenden Gußeisenproduktes für die Galvanisierung mit einer einen pH-Wert von etwa 0 bis 3 aufweisenden, eine lösliche Phosphatverbindung sowie ein nichtionogenes oder kationisches Netzmittel enthaltenden wäßrigen Lösung, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung zur Bildung eines dünnen Films mit einer mindestens ein Keton und/oder Glykol enthaltenden wäßrigen Lösung durchgeführt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Ketone der allgemeinen Formel