DE1521273A1 - Glimmentladungsapparat - Google Patents
GlimmentladungsapparatInfo
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Description
159, Madison Avenue
Docket 17D-1400
(äs wird die Priorität der Anmeldung in USA« Sorial-No» 466 S304
vom 24c Juni 1965 beansprucht)
Die Erfindung betrifft einen elektrischen Gliiwaentladungsappparat
zur Wärmebehandlung von als Katode geschalteten Werkstücken unterschiedlicher GrOUe1 For« und Anordnung in
einem als Anode geschalteten Vakuumgefäß, insbesondere zum Glühen und Nitrieren.
Bei der Wärmebehandlung, insbesondere bei« Glühen und Nitrieron
wird gefordert, daß auf der gesamten Oberfläche der zu behandelnden Werkstücke die gleiche Temperatur herrscht,
uia So B. beim Nitrieren eine Werkstückoberfläche von ein*·
heitlicher Nitriertiefe und -Qualität su erhalten«
909832/0677
2 - Wo 10/034
lis Bind verschiedene Anordnungen bekannt geworden, bei denen
die ttdrkstücke durch Glinmentladung behandelt worden, wobei
verschiedene Gasarten bei niedrigen Drücken in einer Vakuumkammer
verwendet wordenο Öle Gasionen, die der elektrischen
Potentialdiffcrenz zwischen Anode und Kairode ausgesetzt sind,
führen bei ihrem Aufprall auf die Workstücke diesen die bein Abbremsen frei werdende hohe Energie in Form von warme asu» Die
an der Werkstückoberfläche erzielbare Höchsttemperatur ist
abhängig von der Größe des beim Abbremsen entstehenden iSner«
gieverlustes der Ionen, Zusätzlich muß aber noch dor durch
Strahlung von und zu den ierkstticken auftretende Wärmeaustausch
berücksichtigt werden« Bei einem einfachen symmetrischen
Werkstück macht oa kmböcckeine Schwierigkeiten eine
konstante Temperatur durch eine Glimmentladung zu erreichens
da es in ei' symmetrischen Glimmentladungskanuaer so angeordnet
worden kann, daß es nach allen Richtungen in dor gleichen (.eise Strahlung emittiert als auch empfängt ο
Bs ist auch vorgeschlagen worden, eine größere Anzahl von
gleichen und symmetrischen werkstücken sternförmig so anzuordnen,
daß sie in Hinsicht auf den ütrahlungeaustausch mit
der Behälterwand und den anderen «.erkstücken an allen Punkten
der »'.arkstücksoberflache den gleichen Bedingungen unterliegen.
Diese Methode ist jedoch sehr beschwerlich und führt dazu, der Gliminentladungsapparat eine unsymmetrische Form an-
909832/0677 bad or,g,,aL
- 3 - tfe 10/034
ninnt, die nur für die werkstücke einer gegebenen For« verwendbar
ist«
Es iat ebenfalle bekannt, Strahlungaschutzschirtnß innerhalb
der Vakmnakaannorn zu vorwenden, um die durch Strahlung vertirsachte
U'änaoübertragung zu kontrollieren oder nxi verringern,;
Die Anordnung dieser Schirme ist jedoch nicht einfach, da deren Temperaturen von der Emission und Absorption der
Strahlung abhängig ist, die sehr umständlich zu bestimmen
sind«
Bisher ist es nicht iaoglich gewesen, eine größere Anzahl
von in Größe, Fora und Anordnung unterschiedliche Gegenstände! EU gleicher Zeit bei konstanter Temperatur in eine«
elektrischen Glimatentladungsapparat *u behandeln.
lung, bei dar die Temperatur an allen Punkten der Oberflüche
durch Glimmentladung der Körper gleich sein soll,/in einfacher Weise asu ermöglichen
Diese Aufgabe wird erTindungsgeioüä dadurch gelöst, daß in de«
Vakuumgefäß ein als Kawde geschalteter verschließbarer Dehäl·
ter JBur Aufnahme der werkstücke angeordnet ist und an den
Behälter-frfnungen zum Eintritt der Gasionen vorgesehen sind(
909832/0677
- 4 - VVe 10/034
In weiterer Ausbildung der Erfindung wird eine zylindrische
Hilfeanode konzentrisch um den Behälter innerhalb »
des Vakuumgefäßes oder eine scheibenförmige Hilfsanode wird innerhalb des Behälters angeordnete Vorteilhafterweise
werden als Öffnungen zum Eintritt der Gasionen Löcher in der Behälterwand vorgesehent deren Durchmesser
mindestens 1/100 der Entfernung zwischen dem Loch und dor an weitesten entfernten Stelle innerhalb des Behälters
auch
betragen. Als öffnung kann/der Spalt zwischen den Überlappenden
iinden einor als Spirale ausgebildeten Behälterwand
oder eine zusätzliche, verschließbare Öffnung an den
Behälterdeckel vorgesehen werden.
Mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der
Zeichnung dargestellt und worden In folgenden ntihor beschrieben.
lie zeigen
Figur 1 «inen Längsschnitt durch den Glimaentladungsappurat
Figur 2 einen horisontalen Querschnitt entsprechend Linie I-I aus Figur 1
Figuren 3, 4, S und 7 scheiaatieche Darstellungen verschiedener anderer Ausführungsbeispiele des
erfindungegeeäßon Gliouuentladungsapparates
909832/06 7 7 bad
- 5 ~ \¥e 10/034.
Figur 6 einen Querschnitt entsprechend Linie IX-II
aus Figur 5
Figur θ ein grafisches Bild des Verlaufs des elektrischen Potentials im Raum zwischen Anode und Kathode.
einem Kühlrohrmantel 2 umgeben ist und ait einer Dichtung 4 zwi- ™
sehen, dem Vakuumgefäß 1 und seinem Boden 2
gegen die Umgebung vakuumdicht gehalten wird. Das Vakuumgefäß
1 und dessen Boden 3 bestehen aus einem leitenden Material und werden als Anode an den positiven Pol der regelbaren
Spannungsquelle 5 angeschlossenν Sine Vakuumpumpe G
dient zur Evakuierung der Vakuumkammer. In dow Gefäßboden 3
sind neben de« Gasanschluß 7 auch eine leitende Durchführung 8 und eine Metallplatte 9 zu« Anschluß des Behälters 18
an den negativen Pol der regelbaren Spannungsquelle S isoliert
gegenüber dem GefäÜboden 3 angeordnet, Die Isolierung
erfolgt mittels einer Isolierplatte 11, Schrauben 10 aus Isoliermaterial
und einer Isolijrbuchse 12* Dia IaoHörbuchs©
wird durch eine Metallhülse 13 mit gleitendem elektrischen Potential vor der Glimmentladung geschützt. Neben dan als
Anode wirkenden Vakuumgefäß 1 und Gefaßboden 3 wird eine zusätzliche
,zylindrische Hilfsanode 14, die alt Metal
If USe η 15 auf den Gefaßboden 3 befestigt ist« konsten-
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6 - We 10/034
triech u/n den Behälter 18 angeordnet* Dor !!ehalter 18, in
dessen Wand Öffnungen 20 angeordnet sind, niuuat dio verschieden
geformten Werkstücke 15 ,- 17 auf und kann mit einem Deckel 19 verschlossen werden» lain thermoelement 21
ivlrd zur Temperaturmessung in den Uehälterraun
fa
gebrochene Linie soll die an der Katodenoberfläche stattfindende Glimmentladung anzeigen. Diese Linien sind auch
in der Figur 2 angedeutet,, in der außerdem noch »it M&
und EL die elektrischen Potentiale von Anode und Katrode und mit T15, T16 usw« die an den entsprechenden Telten herrschenden
Temperaturen bezeichnet sind.
In der Figur 3 1st eine scheibenförmige Hilfsanode 28 als
"heiße Anode" innerhalb des Behälters 18 angeordnet» Diese
Anode 28 ist durch eine elektrisch leitende Verbindungsatange
29, die durch eine Öffnung 31 im Deckel 30 des Behälters
geführt wird,mit der Kuppel des Vakuumgefäßes 1 verbunden,
In der Figur 4 wird ein der Figur 1 ähnlicher Glimmentladung««
apparat dargestellt, bei dem lediglich die zylinderfüraige
Hilfsanode fehlt. Die Figuren 5 und 6 zeigen dagegen einen abgeänderten AuJ'bau des Behälters 33. Wie aus der Figur 6 zu
ersehen ie* hat die Behälterwand 33 einen spiralförmigen
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- 7 - Wo 10/034
Grundriss, wobei der Spalt 34 zwischen den beiden über»
läppenden Snden als Eintritteöffnung für die Gasionen vorgesehen
ist. Der Deckel 36 hat eine dementsprechend abgeänderte
Pore. *■ "ΐΛί·«
I2ine gröüenveründerlicho öffnung 42 ist in den Deckel 41
des Behälters 18 nach Figur 7 dadurch geschaffen worden, daß eine Scheibe 43 an einer verschiebbaren Stange 44 befestigt
ist, die durch eine abgedichtete Führung 46 in der Kuppel des Vakuuugefäßos 1 bindurchgefUhrt wird und Kit ein««
außerhalb angebrachten Uandgriff /betätigt werden kann.
Bein Betrieb des Glinueontladungsapparates werden die «ujbehandelnden
.verkstüoke 15 - 17 wahllos in den Behälter 18 an- ■· :
geordnet, ^achden der Behälter 18 alt den Deckel 19 abgedeckt
und das Vakuumgefäß 1 und der Gcfußboden 3 «it Hilf«
von Schrauben (nicht gezeigt) gasdicht verschlossen worden (j
ist, wird das Vakuumgefäß 1 Über den Gasanschluß 7 *lt ein·«
passenden Gasgemisch, sun Nitrieren beispielsweise alt eines
Stickstoff-UasserstQffgowisch, versorgt und von einer Vakuuapuape
6 auf einen Druck von wenigen Milliaotern Quecksilber
säule gehaltene Nach den Anlegen einer Spannung wird sich
zwischen den als Anode geschalteten Bauteilen 1, 3, 14 und den als Kaifide wirkenden Behälter 18 und äorlcetücken 15 eine
Potentialverteilung einstollen wlo sie in der Figur 8
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8 - IVe 10/034
der Zeichnung dargestellt ist· Während sich das Potential in dem größten Teil des Zwischenraumes von der Anode st|r
h. schon. ■ ;
tentialabfall naho dar KatJode auf, Abor mtäfc der geringe
Potentialabfall hinter der Anode veranlaßt die Gaslonen durch die öffnung 20 in das Innere des Behälters 18 ein-
>eutreten. Wenn die öffnungen genügend groß gemacht werden,
.■ ■ ■ ^vI'::
wird die Glimmentladung auch an den werkstücken 13 - 17-.; .
stattfinden, obwohl diose der Anode nicht direkt gegenüber·-
stehen. Da der die Vierkstücke 15 - 17 fassende Behälter 18
genau der gleichen Gliiomentladungsenergie wie die uerkstUcke
selbst ausgesetzt ist, wird eine einheitliche Temperatur an
der Oberfläche erreicht, Die iVärmeUbertragung durch Konvektion soll dabei vernachlässigt worden. Die durch Strahlung
verursachte 'tVärmeiibertragung richtet sich nach dem Stefan
vierten. Strahlung ausgetauschte Wärmemenge der Differenz der ^TPoten*·
zen der absoluten Temperatunnpropertional ist. Da nun zwischen
den werkstück η 15-17 und den sie umgebenden Winden des
Behälters 18 kaum Temperaturdifferenzen auftreten, ist auch
der Wärmeaustausch durch Strahlung innerhalb des Behälters vernachlässigbar klein. Anfängliche Temperaturunterschiede
werden' ausgeglichen, so daß die Unregelmäßigkeiten in Form,
Größe und Anordnung dor Werkstücke schließlich keinen BinfluQ
mehr haben,
90 9 832/0677 BÄD 0R1G'NAL
9 - YSe 10/034
Die Temperatur der Hilfsanode 14 hängt hauptsächlich ab
vom »Väraegewinn durch Strahlung von den Außenwänden dee
Behälters 18, während die Temperatur des Vakuumgefäß s 1
etwas oberhalb der Umgebungstemperatur liegt» verursacht
durch Strahlung von der Hilfsanode 14»
Die in den Figuren 3-7 dargestellten Glirataentladungsapparate
arbeiten nach dom gleichen Prinzip, wobei allerdings die Hilfsanode 14 wegfällt ο In der Figur 3 ißt zwar noch
eine scheibenförmig© Hilfsanode 23 vorgesehen, diese wirkt aber als "heißa Anode" und ist innorhalb des Behälters 18
angeordnet., Zum Erreichen einer einheitlichen Temperatur
der Werkstücke wird hier vorausgesetzt, daß nach einer ge*
wiesen Anlaufzeit die Hilfsanode 28 durch Strahlung auf die Temperatur der Werkstücke 15 ~ 17 und des »ehälter8 18 erwärmt
worden ist» Eine verschließbare Öffnung 42 nach Figur 7 wird zusätzlich vorgesehen, üb bei Beginn der Wärmebehandlung
einen erhöhten Eintritt der Gasionen zu ermöglichen,,.
Nach/bschluß des AnlaufVorganges wird diese Öffnung
«ixt Hilfe des Handgriffes 45 verschlossen und die Gasionen
treten nur noch durch die öffnungen 20 in das Innere des Behält ere 13 ein«
Die in den Figuren 3-7 abgebildeten Glinaentladungsappar*·"
te haben den Nachteil, daß infolg· d«e Fehlens der aylinder«
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- 10 - We 10/034
fönaigenals Strahl ungsechutzechirat wirkenden Hilfsanode 14
der Behälter 18 größere Warneverluste durch Abstrahlung erleidet
und damit die Konstanz der Temperatur nicht in dem Maße gewährleistet ist wie bei den Apparat nach den Figuren
1 und 2» Andererseits ist diese Ausführung einfacher
und weniger aufwendig und reicht in allgemeinen aus,
* Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile bestehen insbesondere
darins daß die Wärmebehandlung einer Vielzahl von
Werkstücken in einer Glimmentladung durchgeführt werden kanu
ohne Rückeicht auf Größe, Fora und Anordnung der Teile„ Außerdem
wird durch den Aufbau des erfindungsgentißen Glinuaentla»
dungsapparates die Möglichkeit der il'erkatück^beschädigung durch
Lichtbogen weitgehend verhindert, iia bei der Bildung eines Lichtbogens »^sser meistens an dem der Anode direkt gegen«
Überstehenden Auiienmantel des Behälters entstehen wird und
daher die im Inneren des Behälters befindlichen UerWfrtiicko
unbeeinflußt bleiben..
909832/06 77 ßAD
Claims (9)
1. Elektrischer Glituientladungsapparat zur Wärmobehandlung
▼on als Kavode geschalteten Werkstücken unterechiedlicher
Grotte, Fora und Anordnung in einem ala Anode geschalteten
Vakuumgefäß, insbesondere sum Glühen und Nitrieren, dadurch gekennzeichnet, daß In dea Vakuumgefäll (1) ein als
Katfode geschalteter verschließbarer Behälter (18) zur
Aufnähe» der Werkstücke 15 - 17 angeordnet ist und an
dea Behälter (18) öffnungen (20) zum eintritt der Gasionen vorgesehen sind.
2. elektrischer Gliiaaentladungsapparat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dafi eine zylindrisch· Hilfsanode (14)
konzentrisch ua den Behälter (18) innorhalb des VakmiagefäSes
(1) angeordnet 1st«
909832/0677
Vie 10/034
Zo Elcftri scher GXiuiinontladungaappa^at nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß eine scheibenförmige Hilfsanode
(28) innerhalb des Behälters (18) angeordnet 1st»
4« Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1 und
2, dadurch gekennzeichnet-, daß als öffnungen zum eintritt
der Gasionen Löcher (20) in der Behälterwand vorgesehen sind, deren Durchmesser mindestens 1/100 der Entfernung
zwischen dem Loch (20) und der am weitesten entfernten Stelle innerhalb des Behälters (18) betragene
5ο iSlektrischor Glimiaentladungsapporat nach den Ansprüchen
1 und 2,dadurch gekennzeichnet, daß als öffnung der Spalt
(34) »wischen den überlappenden fänden einer als Spirale
ausgebildeten Behälterwand vorgesehen wird«
6ο iSlektrischer Glinmentladungsapparat nach den Ansprüchen
1, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine verschließbare öffnung (42) an dem Behälterdeekel (41) und Mittel
(43, 44, 45, 46) zum Verschließen der öffnung (42) vorgesehen sind«
9 0 9 8 3 2/067? ßAD ORIGINAL
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US46653065A | 1965-06-24 | 1965-06-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1521273A1 true DE1521273A1 (de) | 1969-08-07 |
DE1521273B2 DE1521273B2 (de) | 1972-10-19 |
Family
ID=23852112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19661521273 Pending DE1521273B2 (de) | 1965-06-24 | 1966-06-24 | Glimmentladungsapparat |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3423562A (de) |
DE (1) | DE1521273B2 (de) |
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1965
- 1965-06-24 US US466530A patent/US3423562A/en not_active Expired - Lifetime
-
1966
- 1966-06-24 DE DE19661521273 patent/DE1521273B2/de active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3423562A (en) | 1969-01-21 |
DE1521273B2 (de) | 1972-10-19 |
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