DE1521273B2 - Glimmentladungsapparat - Google Patents
GlimmentladungsapparatInfo
- Publication number
- DE1521273B2 DE1521273B2 DE19661521273 DE1521273A DE1521273B2 DE 1521273 B2 DE1521273 B2 DE 1521273B2 DE 19661521273 DE19661521273 DE 19661521273 DE 1521273 A DE1521273 A DE 1521273A DE 1521273 B2 DE1521273 B2 DE 1521273B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- container
- glow discharge
- discharge apparatus
- workpieces
- anode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32018—Glow discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/34—Methods of heating
- C21D1/38—Heating by cathodic discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Discharge Heating (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen elektrischen Glimmentladungsapparat zur Wärmebehandlung von als
Kathode geschalteten Werkstücken unterschiedlicher Größe, Form und Anordnung in einem als Anode
geschalteten Vakuumgefäß, insbesondere zum Glühen und Nitrieren.
Bei der Wärmebehandlung, insbesondere beim Glühen und Nitrieren wird gefordert, daß auf der gesamten
Oberfläche der zu behandelnden Werkstücke die gleiche Temperatur herrscht, um z. B. beim Nitrieren
eine Werkstückoberfläche von einheitlicher Nitriertiefe und -qualität zu erhalten.
Es sind verschiedene Anordnungen bekanntgeworden, bei denen die Werkstücke durch Glimmentladung
behandelt werden, wobei verschiedene Gasarten bei niedrigen Drücken in einer Vakuumkammer
verwendet werden. Die Gasionen, die der elektrischen Potentialdifferenz zwischen Anode und
Kathode ausgesetzt sind, führen bei ihrem Aufprall auf die Werkstücke diesen die beim Abbremsen frei
werdende hohe Energie in Form von Wärme zu. Die an der Werkstückoberfläche erzielbare Höchsttemperatur
ist abhängig von der Größe des beim Abbremsen entstehenden Energieverlustes der Ionen. Zusätzlich
muß aber noch der durch Strahlung von und zu den Werkstücken auftretende Wärmeaustausch berücksichtigt
werden. Bei einem einfachen symmetrisehen Werkstück macht es keine Schwierigkeiten,
eine konstante Temperatur durch eine Glimmentladung zu erreichen, da es in einer symmetrischen
Glimmentladungskammer so angeordnet werden kann, daß es nach allen Richtungen in der gleichen
ίο Weise Strahlung emittiert als auch empfängt.
Es ist auch vorgeschlagen worden, eine größere Anzahl von gleichen und symmetrischen Werkstücken
sternförmig so anzuordnen, daß sie in Hinsicht auf den Strahlungsaustausch mit der Behälterwand
und den anderen Werkstücken an allen Punkten der Werkstückoberfläche den gleichen Bedingungen
unterliegen. Diese Methode ist jedoch sehr beschwerlich und führt dazu, daß der Glimmentladungsapparat
eine unsymmetrische Form annimmt, die nur für die Werkstücke einer gegebenen Form verwendbar
ist.
Es ist ebenfalls bekannt, Strahlungsschutzschinne innerhalb der Vakuumkammern zu verwenden, um
die durch Strahlung verursachte Wärmeübertragung zu kontrollieren oder zu verringern. Die Anordnung
dieser Schirme ist jedoch nicht einfach, da deren Temperaturen von der Emission und Absorption der
Strahlung abhängig ist, die sehr umständlich zu bestimmen sind.
Bisher ist es nicht möglich gewesen, eine größere Anzahl von in Größe, Form und Anordnung unterschiedlichen
Gegenständen zu gleicher Zeit bei konstanter Temperatur in einem elektrischen Glimmentladungsapparat
zu behandeln.
In der USA.-Patentschrift 3190 727 wurde eine Glimmentladungsanordnung zur Nitrierung von
Werkstücken mit komplizierten Formen vorgeschlagen, bei der eine Hauptentladeschaltung außerhalb
des Werkstückbehälters zur Erzeugung der notwendigen Wärme dient. Dies geschieht mit Hilfe einer
Entladung, die sich zeitlich entsprechend dem Verlauf der Spannung einer ersten Wechselspannungsquelle
mit einer oder mehreren Phasen ändert. Der Werkstückbehälter dient dabei als eine Elektrode für
diese Entladungsschaltung und dient auch als eine Elektrode einer zusätzlichen Hilfsentladeschaltung
innerhalb des Werkstückbehälters. Diese verwendet ebenfalls eine Wechselspannungsquelle mit einer oder
mehreren Phasen und eine dritte Elektrode im Inneren des an einem oder beiden Enden offenen zylindrischen Behälters. Lediglich diese zweite Hilfsentladeschaltung
dient zur Erzeugung der für die Nitrierung benötigten Ionen im Inneren des Werkstückbehälters.
Die Kompliziertheit der Anordnung ist vergrößert durch die Verwendung verschiedener Entladestrecken,
und die Anordnung erfordert eine große Sorgfalt bei der Konstruktion und räumlichen Anordnung
der entsprechenden Elektroden, und in diesem Zusammenhang wird in der Patentschrift auch
noch eine Drehung der Elektroden und/oder der Werkstücke vorgeschlagen. Die Intensität, die Richtung
und die räumliche Lage der Entladung zeigt dabei eine zeitliche Änderung, und die Temperatur,
welche von verschiedenen Teilen der Oberfläche des Werkstückes und in verschiedenen Richtungen gesehen
wird, ist nicht gleichmäßig.
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung, einen Glimmentladungsapparat zu schaffen mit einfacher,
3 4
zuverlässiger Schaltung und Anordnung der Elek- buchse 12 wird durch eine Metallhülse 13 mit gleitroden
unter Verwendung einer Gleichspannungs- tendem elektrischem Potential vor der Glimmentquelle
und einer Glimmentladungsstrecke außerhalb ladung geschützt. Neben den als Anode wirkenden
eines Werkstückbehälters. Vakuumgefäß 1 und Gefäßboden 3 wird eine zusätz-
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, 5 liehe zylindrische Hilfsanode 14, die mit Metalleinen
Glimmentladungsapparat zu erhalten, bei dem fußen 15 auf dem Gefäßboden 3 befestigt ist, koneine
gleichförmige Oberflächentemperatur von Werk- zentrisch um den Behälter 18 angeordnet. Der Bestücken
komplizierter Form möglich ist und eine hälter 18, in dessen Wand Öffnungen 20 angeordnet
solche gleichförmige Temperaturverteilung auch er- sind, nimmt die verschieden geformten Werkstücke
reicht werden kann bei der gleichzeitigen Bearbeitung io 15 bis 17 auf und kann mit einem Deckel 19 vervon
Werkstücken mit stark unterschiedlicher Größe schlossen werden. Ein Thermoelement 21 wird zur
und Form. Temperaturmessung in den Behälterraum geführt.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, Die den Behälter 18 und die Werkstücke 15 bis 17
die Beschränkungen zu beseitigen bezüglich der Not- umgebene gebrochene Linie soll die an der Katho-
wendigkeit, die Werkstücke in einer ganz bestimm- 15 denoberfiäche stattfindende Glimmentladung anzei-
ten Art und Weise anzuordnen, um eine gleichför- gen. Diese Linien sind auch in der F i g. 2 angedeutet,
mige Wärmebehandlung zu erhalten. in der außerdem noch mit Ea und Ek die elektrischen
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge- Potentiale von Anode und Kathode und mit T13, T16
löst, daß in. dem Vakuumgefäß ein als Kathode ge- usw. die an den entsprechenden Teilen herrschenden
schalteter verschließbarer Behälter zur Aufnahme der 2° Temperaturen bezeichnet sind.
Werkstücke angeordnet ist und an dem Behälter Öff- In der F i g. 3 ist eine scheibenförmige Hilfsanode
nungen zum Eintritt der Gasionen vorgesehen sind. 28 als »heiße Anode« innerhalb des Behälters 18
In weiterer Ausbildung der Erfindung wird eine angeordnet. Diese Anode 28 ist durch eine elekzylindrische
Hilfsanode konzentrisch um den Behäl- trisch leitende Verbindungsstange 29, die durch eine
ter innerhalb des Vakuumgefäßes, oder eine schei- 25 Öffnung 31 im Deckel 30 des Behälters 18 geführt
benförmige Hilfsanode wird innerhalb des Behälters wird, mit der Kuppel des Vakuumgefäßes 1 verangeordnet.
Vorteilhafterweise werden als Öffnungen bunden.
zum Eintritt der Gasionen Löcher in der Behälter- In der F i g. 4 wird ein der F i g. 1 ähnlicher
wand vorgesehen, deren Durchmesser mindestens Glimmentladungsapparat dargestellt, bei dem ledig-
V100 der Entfernung zwischen dem Loch und der am 3° lieh die zylinderförmige Hilfsanode fehlt. Die Fig. 5
weitesten entfernten Stelle innerhalb des Behälters und 6 zeigen dagegen einen abgeänderten Aufbau
betragen. Als Öffnung kann auch der Spalt zwischen des Behälters 33. Wie aus der Fig. 6 zu ersehen ist,
den überlappenden Enden einer als Spirale ausge- hat die Behälterwand 33 einen spiralförmigen
bildeten Behälterwand oder eine zusätzliche, ver- Grundriß, wobei der Spalt 34 zwischen den beiden
schließbare Öffnung an dem Behälterdeckel vorge- 35 überlappenden Enden als Eintrittsöffnung für die
sehen werden. Gasionen vorgesehen ist. Der Deckel 19 hat eine
Mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung sind dementsprechend abgeänderte Form,
in der Zeichnung dargestellt und werden im folgen- Eine größenveränderliche Öffnung 42 ist in dem
den näher beschrieben. Es zeigt Deckel 41 des Behälters 18 nach F i g. 7 dadurch
F i g. 1 einen Längsschnitt durch den Glimment- 40 geschaffen worden, daß eine Scheibe 43 an einer ver-
ladungsapparat, schiebbaren Stange 44 befestigt ist, die durch eine ab-
Fig. 2 einen horizontalen Querschnitt entspre- gedichtete Führung 46 in der Kuppel des Vakuum-
chend Linie I-I aus F i g. 1, gefäßes 1 hindurchgeführt wird und mit einem außer-
' Fig. 3, 4, 5 und 7 schematische Darstellungen ver- halb angebrachten Handgriff 45 betätigt werden
schiedener anderer Ausführungsbeispiele des erfin- 45 kann,
dungsgemäßen Glimmentladungsapparates, Beim Betrieb des Glimmentladungsapparates nach
F i g. 6 einen Querschnitt entsprechend Linie H-II F i g. 1 werden die zu behandelnden Werkstücke 15
aus F i g. 5, bis 17 wahllos in dem Behälter 18 angeordnet. Nach-
F i g. 8 ein grafisches Bild deS Verlaufs des elek- dem der Behälter 18 mit dem Deckel 19 abgedeckt
trischen Potentials im Raum zwischen Anode und 5° und das Vakuumgefäß 1 und der Gefäßboden 3 mit
Kathode. Hilfe von Schrauben (nicht gezeigt) gasdicht ver-
Die F i g. 1 zeigt das glockenförmige Vakuumge- schlossen worden ist, wird das Vakuumgefäß 1 über
faß 1, das von einem Kühlrohrmantel 2 umgeben ist den Gasanschluß 7 mit einem passenden Gasgemisch
und mit einer Dichtung 4 zwischen dem Vakuum- zum Nitrieren, beispielsweise mit einem Stickstoffgefäß
1 und seinem Boden 3 gegen die Umgebung 55 Wasserstoff-Gemisch, versorgt und von einer
vakuumdicht gehalten wird. Das Vakuumgefäß 1 Vakuumpumpe 6 auf einen Druck von wenigen
und dessen Boden 3 bestehen aus einem leitenden Millimetern Quecksilbersäule gehalten. Nach dem
Material und werden als Anode an den positiven Anlegen einer Spannung wird sich zwischen den als
Pol der regelbaren Spannungsquelle 5 angeschlossen. Anode geschalteten Bauteilen 1, 3, 14 und den als
Eine Vakuumpumpe 6 dient zur Evakuierung der 60 Kathode wirkenden Behälter 18 und Werkstücken 15
Vakuumkammer. In dem Gefäßboden 3 sind neben bis 17 eine Potentialverteilung einstellen, wie sie in
dem Gasanschluß 7 auch eine leitende Durchfüh- der F i g. 8 der Zeichnung dargestellt ist. Während
rung 8 und eine Metallplatte 9 zum Anschluß des sich das Potential in dem größten Teil des Zwischen-
Behälters 18 an den negativen Pol der regelbaren raumes von der Anode zur Kathode nur geringfügig
Spannungsquelle 5 isoliert gegenüber dem Gefäß- 65 ändert, tritt fast der gesamte Potentialabfall nahe der
boden 3 angeordnet. Die Isolierung erfolgt mittels Kathode auf. Aber schon der geringe Potentialabfall
einer Isolierplatte 11, Schrauben 10 aus Isolier- hinter der Anode veranlaßt die Gasionen, durch die
material und einer Isolierbuchse 12. Die Isolier- öffnung 20 in das Innere des Behälters 18 einzutre-
5 5
ten. Wenn die Öffnungen genügend groß gemacht net. Zum Erreichen einer einheitlichen Temperatur
werden, wird die Glimmentladung auch an den Werk- der Werkstücke wird hier vorausgesetzt, daß nach
stücken 15 bis 17 stattfinden, obwohl diese der einer gewissen Anlaufzeit die Hilfsanode 28 durch
Anode nicht direkt gegenüberstehen. Da der die Strahlung auf die Temperatur der Werkstücke 15
Werkstücke 15 bis 17 fassende Behälter 18 genau 5 bis 17 und des Behälters 18 erwärmt worden ist. Eine
der gleichen Glimmentladungsenergie wie die Werk- verschließbare Öffnung 42 nach F i g. 7 wird zusätzstücke
selbst ausgesetzt ist, wird eine einheitliche lieh vorgesehen, um bei Beginn der Wärmebehand-Temperatur
an der Oberfläche erreicht. Die Wärme- lung einen erhöhten Eintritt der Gasionen zu ermögübertragung
durch Konvektion soll dabei vernach- liehen. Nach Abschluß des Anlaufvorganges wird
lässigt werden. Die durch Strahlung verursachte 10 diese Öffnung 42 mit Hilfe des Handgriffes 45 verWärmeübertragung richtet sich nach dem Stefan- schlossen, und die Gasionen treten nur noch durch
Boltzmannschen Gesetz, wonach die zwischen zwei die Öffnungen 20 in das Innere des Behälters 18 ein.
Körpern durch Strahlung ausgetauschte Wärmemenge Die in den F i g. 3 bis 7 abgebildeten Glimmentder
Differenz der vierten Potenzen der absoluten ladungsapparate haben den Nachteil, daß infolge des
Temperaturen proportional ist. Da nun zwischen den 15 Fehlens der zylinderförmigen, als Strahlungsschutz-Werkstücken
15 bis 17 und den sie umgebenden schirm wirkenden Hilfsanode 14 der Behälter 18 Wänden des Behälters 18 kaum Temperaturdifferen- größere Wärmeverluste durch Abstrahlung erleidet
zen auftreten, ist auch der Wärmeaustausch durch und damit die Konstanz der Temperatur nicht in dem
Strahlung innerhalb des Behälters vernachlässigbar Maße gewährleistet ist wie bei dem Apparat nach
klein. Anfängliche Temperaturunterschiede werden 20 den F i g. 1 und 2. Andererseits ist diese Ausführung
ausgeglichen, so daß die Unregelmäßigkeiten in einfacher und weniger aufwendig und reicht im allge-Form,
Größe und Anordnung der Werkstücke meinen aus.
schließlich keinen Einfluß mehr haben. Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile be-
schließlich keinen Einfluß mehr haben. Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile be-
Die Temperatur der Hilfsanode 14 hängt haupt- stehen insbesondere darin, daß die Wärmebehandsächlich
ab vom Wärmegewinn durch Strahlung von 25 lung einer Vielzahl von Werkstücken in einer Glimmden
Außenwänden des Behälters 18, während die entladung durchgeführt werden kann ohne RückTemperatur
des Vakuumgefäßes 1 etwas oberhalb sieht auf Größe, Form und Anordnung der Teile,
der Umgebungstemperatur liegt, verursacht durch Außerdem wird durch den Aufbau des erfindungsge-Strahlung
von der Hilfsanode 14. mäßen Glimmentladungsapparates die Möglichkeit
Die in den F i g. 3 bis 7 dargestellten Glimment- 30 der Werksrückbeschädigung durch Lichtbogen weit-
ladungsapparate arbeiten nach dem gleichen Prinzip, gehend verhindert, da bei der Bildung eines Licht-
wobei allerdings die Hilfsanode 14 wegfällt. In der bogens dieser meistens an dem der Anode direkt
F i g. 3 ist zwar noch eine scheibenförmige Hilfs- gegenüberstehenden Außenmantel des Behälters
anode 28 vorgesehen, diese wirkt aber als »heiße entstehen wird und daher die im Inneren des Behäl-
Anode« und ist innerhalb des Behälters 18 angeord- 35 ters befindlichen Werkstücke unbeeinflußt bleiben.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Elektrischer Glimmentladungsapparat zur Wärmebehandlung von als Kathode geschalteten
Werkstücken unterschiedlicher Größe, Form und Anordnung in einem als Anode geschalteten
Vakuumgefäß, insbesondere zum Glühen und Nitrieren, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Vakuumgefäß (1) ein als Kathode geschalteter
verschließbarer Behälter (18) zur Aufnahme der Werkstücke (15 bis 17) angeordnet ist
und an dem Behälter (18) Öffnungen (20) zum Eintritt der Gasionen vorgesehen sind.
2. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine
zylindrische Hilfsanode (14) konzentrisch um den Behälter (18) innerhalb des Vakuumgefäßes (1)
angeordnet ist.
3. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine
scheibenförmige Hilfsanode (28) innerhalb des Behälters (18) angeordnet ist.
4. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß
als Öffnungen zum Eintritt der Gasionen Löcher (20) in der Behälterwand vorgesehen sind, deren
Durchmesser mindestens Vioo der Entfernung zwischen
dem Loch (20) und der am weitesten entfernten Stelle innerhalb des Behälters (18) betragen.
5/ Elektrischer Glimmentladungsapparat nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,
daß als öffnung der Spalt (34) zwischen den überlappenden Enden einer als Spirale ausgebildeten
Behälterwand vorgesehen wird.
6. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach den Ansprüchen 1, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet,
daß eine verschließbare Öffnung (42) an dem Behälterdeckel (41) und Mittel (43, 44,
45, 46) zum Verschließen der Öffnung (42) vorgesehen sind.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US46653065A | 1965-06-24 | 1965-06-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1521273A1 DE1521273A1 (de) | 1969-08-07 |
| DE1521273B2 true DE1521273B2 (de) | 1972-10-19 |
Family
ID=23852112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19661521273 Pending DE1521273B2 (de) | 1965-06-24 | 1966-06-24 | Glimmentladungsapparat |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3423562A (de) |
| DE (1) | DE1521273B2 (de) |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5405514A (en) * | 1993-07-28 | 1995-04-11 | Gas Research Institute | Atmospheric pressure gas glow discharge |
| US5560890A (en) * | 1993-07-28 | 1996-10-01 | Gas Research Institute | Apparatus for gas glow discharge |
| US20030047146A1 (en) * | 2001-09-10 | 2003-03-13 | Daniel Michael J. | Plasmatron-internal combustion engine system having an independent electrical power source |
| US6959542B2 (en) * | 2002-01-25 | 2005-11-01 | Arvin Technologies, Inc. | Apparatus and method for operating a fuel reformer to regenerate a DPNR device |
| US6976353B2 (en) * | 2002-01-25 | 2005-12-20 | Arvin Technologies, Inc. | Apparatus and method for operating a fuel reformer to provide reformate gas to both a fuel cell and an emission abatement device |
| US7021048B2 (en) * | 2002-01-25 | 2006-04-04 | Arvin Technologies, Inc. | Combination emission abatement assembly and method of operating the same |
| US7014930B2 (en) * | 2002-01-25 | 2006-03-21 | Arvin Technologies, Inc. | Apparatus and method for operating a fuel reformer to generate multiple reformate gases |
| US6651597B2 (en) * | 2002-04-23 | 2003-11-25 | Arvin Technologies, Inc. | Plasmatron having an air jacket and method for operating the same |
| AU2003228608A1 (en) * | 2002-04-24 | 2003-11-10 | Arvin Technologies, Inc. | Apparatus and method for regenerating a particulate filter of an exhaust system of an internal combustion engine |
| US6881386B2 (en) * | 2002-05-30 | 2005-04-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Low current plasmatron fuel converter having enlarged volume discharges |
| US20040020447A1 (en) * | 2002-08-05 | 2004-02-05 | William Taylor | Method and apparatus for advancing air into a fuel reformer by use of an engine vacuum |
| US20040020188A1 (en) * | 2002-08-05 | 2004-02-05 | Kramer Dennis A. | Method and apparatus for generating pressurized air by use of reformate gas from a fuel reformer |
| US20040020191A1 (en) * | 2002-08-05 | 2004-02-05 | Kramer Dennis A. | Method and apparatus for advancing air into a fuel reformer by use of a turbocharger |
| DE10393043T5 (de) * | 2002-08-12 | 2005-08-04 | Arvin Technologies, Inc., Troy | Verfahren und Vorrichtung zum Steuern des Sauerstoff/Kohlenstoff-Verhältnisses eines Kraftstoff-Reformers |
| US20040050345A1 (en) * | 2002-09-17 | 2004-03-18 | Bauer Shawn D. | Fuel reformer control system and method |
| US6758035B2 (en) * | 2002-09-18 | 2004-07-06 | Arvin Technologies, Inc. | Method and apparatus for purging SOX from a NOX trap |
| US20040052693A1 (en) * | 2002-09-18 | 2004-03-18 | Crane Samuel N. | Apparatus and method for removing NOx from the exhaust gas of an internal combustion engine |
| US6702991B1 (en) | 2002-11-12 | 2004-03-09 | Arvin Technologies, Inc. | Apparatus and method for reducing power consumption of a plasma fuel reformer |
| US6715452B1 (en) | 2002-11-13 | 2004-04-06 | Arvin Technologies, Inc. | Method and apparatus for shutting down a fuel reformer |
| US6903259B2 (en) * | 2002-12-06 | 2005-06-07 | Arvin Technologies, Inc. | Thermoelectric device for use with fuel reformer and associated method |
| US6843054B2 (en) * | 2003-01-16 | 2005-01-18 | Arvin Technologies, Inc. | Method and apparatus for removing NOx and soot from engine exhaust gas |
| US20040139730A1 (en) * | 2003-01-16 | 2004-07-22 | William Taylor | Method and apparatus for directing exhaust gas and reductant fluid in an emission abatement system |
| US20040144030A1 (en) * | 2003-01-23 | 2004-07-29 | Smaling Rudolf M. | Torch ignited partial oxidation fuel reformer and method of operating the same |
| US6851398B2 (en) * | 2003-02-13 | 2005-02-08 | Arvin Technologies, Inc. | Method and apparatus for controlling a fuel reformer by use of existing vehicle control signals |
| US7407634B2 (en) * | 2003-04-11 | 2008-08-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Plasmatron fuel converter having decoupled air flow control |
| US20040216378A1 (en) * | 2003-04-29 | 2004-11-04 | Smaling Rudolf M | Plasma fuel reformer having a shaped catalytic substrate positioned in the reaction chamber thereof and method for operating the same |
| US7244281B2 (en) * | 2003-10-24 | 2007-07-17 | Arvin Technologies, Inc. | Method and apparatus for trapping and purging soot from a fuel reformer |
| US7285247B2 (en) * | 2003-10-24 | 2007-10-23 | Arvin Technologies, Inc. | Apparatus and method for operating a fuel reformer so as to purge soot therefrom |
| US7381382B2 (en) * | 2004-03-29 | 2008-06-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Wide dynamic range multistage plasmatron reformer system |
| US7776280B2 (en) * | 2005-05-10 | 2010-08-17 | Emcon Technologies Llc | Method and apparatus for selective catalytic reduction of NOx |
| US7698887B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-04-20 | Emcon Technologies Llc | Method and apparatus for determining local emissions loading of emissions trap |
| US20060283176A1 (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Arvinmeritor Emissions Technologies Gmbh | Method and apparatus for regenerating a NOx trap and a particulate trap |
| US20070033929A1 (en) * | 2005-08-11 | 2007-02-15 | Arvinmeritor Emissions Technologies Gmbh | Apparatus with in situ fuel reformer and associated method |
| US20070095053A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Arvin Technologies, Inc. | Method and apparatus for emissions trap regeneration |
| US20190256973A1 (en) * | 2018-02-21 | 2019-08-22 | Southwest Research Institute | Method and Apparatus for Depositing Diamond-Like Carbon Coatings |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE526527A (de) * | 1953-02-17 | |||
| NL108190C (de) * | 1953-05-28 | |||
| US3228809A (en) * | 1953-12-09 | 1966-01-11 | Berghaus Elektrophysik Anst | Method of regulating an electric glow discharge and discharge vessel therefor |
| CH349284A (de) * | 1955-11-22 | 1960-10-15 | Berghaus Elektrophysik Anst | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche von Körpern |
| US3190772A (en) * | 1960-02-10 | 1965-06-22 | Berghaus Bernhard | Method of hardening work in an electric glow discharge |
| US3218431A (en) * | 1962-12-27 | 1965-11-16 | Gen Electric | Self-focusing electron beam apparatus |
| US3320475A (en) * | 1963-04-30 | 1967-05-16 | Gen Electric | Nonthermionic hollow cathode electron beam apparatus |
-
1965
- 1965-06-24 US US466530A patent/US3423562A/en not_active Expired - Lifetime
-
1966
- 1966-06-24 DE DE19661521273 patent/DE1521273B2/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3423562A (en) | 1969-01-21 |
| DE1521273A1 (de) | 1969-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1521273B2 (de) | Glimmentladungsapparat | |
| DE2106850A1 (de) | Verfahren zur Behandlung von Werk stucken in einer Glimmentladung und Appa ratur zur Durchfuhrung des Verfahrens | |
| DE2552783A1 (de) | Verfahren und anordnung zur erzeugung von ionen | |
| DE202007018327U1 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas | |
| DE1087718B (de) | Verfahren und Vorrichtung fuer das Einfangen von Atomionen zur Zuendung eines Plasmas | |
| DE69207616T2 (de) | Schnelle Atomstrahlquelle | |
| DE2048862C3 (de) | Vorrichtung zur spektralphotometrischen Analyse | |
| DE1953659B2 (de) | Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen | |
| DE1690663C3 (de) | Einrichtung zur elektrischen Glimmnitrierung der Innenflächen von Bohrungen in Werkstücken aus Eisen oder Stahl | |
| DE2037030C1 (de) | Einrichtung zur Trennung von Isotopen durch Zentrifugalkräfte | |
| DE2305359C3 (de) | Vorrichtung zur reaktiven Aufdampfung dünner Schichten auf Unterlagen | |
| DD146307A1 (de) | Einrichtung zur grossflaechigen haftfesten abscheidung,insbesondere von kohlenstoffschichten | |
| CH650104A5 (de) | Mit bombardierung durch elektronen arbeitende ionenquelle. | |
| DE102010032103B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Zünden von Siliziumstäben außerhalb eines CVD-Reaktors | |
| EP0043789A2 (de) | Verfahren zur entladungschemischen Behandlung empfindlicher Werkstücke durch Einsatz der Glimmentladung | |
| DE1232433B (de) | Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefaess hierfuer | |
| DE2536871A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum aetzen mit einem plasma | |
| DE495560C (de) | Elektrische Entladungsroehre | |
| DE725264C (de) | Verfahren zur Herstellung hochemissionsfaehiger aktiver Schichten | |
| DE1539596C (de) | Verfahren zur Erzeugung von Strah lungsenergie hoher Intensität | |
| DE2802258C3 (de) | Glimmentladungsofen | |
| DE749304C (de) | Verfahren zur Durchfuehrung chemischer Reaktionen mittels elektrodenloser Entladungen mit Aussenelektroden | |
| DE1932703C (de) | Plasmareaktor | |
| DE2535816A1 (de) | Entladungslampe zur desaktivierung von mikroorganismen | |
| AT221672B (de) | Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefäß hiefür |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |