DE1521273B2 - Glimmentladungsapparat - Google Patents

Glimmentladungsapparat

Info

Publication number
DE1521273B2
DE1521273B2 DE19661521273 DE1521273A DE1521273B2 DE 1521273 B2 DE1521273 B2 DE 1521273B2 DE 19661521273 DE19661521273 DE 19661521273 DE 1521273 A DE1521273 A DE 1521273A DE 1521273 B2 DE1521273 B2 DE 1521273B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
container
glow discharge
discharge apparatus
workpieces
anode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19661521273
Other languages
English (en)
Other versions
DE1521273A1 (de
Inventor
Claude Kitchener Mar blehead Martin Stuart Waldo Salem Mass Jones (V St A )
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of DE1521273A1 publication Critical patent/DE1521273A1/de
Publication of DE1521273B2 publication Critical patent/DE1521273B2/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32018Glow discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/34Methods of heating
    • C21D1/38Heating by cathodic discharges
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/36Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Discharge Heating (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen elektrischen Glimmentladungsapparat zur Wärmebehandlung von als Kathode geschalteten Werkstücken unterschiedlicher Größe, Form und Anordnung in einem als Anode geschalteten Vakuumgefäß, insbesondere zum Glühen und Nitrieren.
Bei der Wärmebehandlung, insbesondere beim Glühen und Nitrieren wird gefordert, daß auf der gesamten Oberfläche der zu behandelnden Werkstücke die gleiche Temperatur herrscht, um z. B. beim Nitrieren eine Werkstückoberfläche von einheitlicher Nitriertiefe und -qualität zu erhalten.
Es sind verschiedene Anordnungen bekanntgeworden, bei denen die Werkstücke durch Glimmentladung behandelt werden, wobei verschiedene Gasarten bei niedrigen Drücken in einer Vakuumkammer verwendet werden. Die Gasionen, die der elektrischen Potentialdifferenz zwischen Anode und Kathode ausgesetzt sind, führen bei ihrem Aufprall auf die Werkstücke diesen die beim Abbremsen frei werdende hohe Energie in Form von Wärme zu. Die an der Werkstückoberfläche erzielbare Höchsttemperatur ist abhängig von der Größe des beim Abbremsen entstehenden Energieverlustes der Ionen. Zusätzlich muß aber noch der durch Strahlung von und zu den Werkstücken auftretende Wärmeaustausch berücksichtigt werden. Bei einem einfachen symmetrisehen Werkstück macht es keine Schwierigkeiten, eine konstante Temperatur durch eine Glimmentladung zu erreichen, da es in einer symmetrischen Glimmentladungskammer so angeordnet werden kann, daß es nach allen Richtungen in der gleichen
ίο Weise Strahlung emittiert als auch empfängt.
Es ist auch vorgeschlagen worden, eine größere Anzahl von gleichen und symmetrischen Werkstücken sternförmig so anzuordnen, daß sie in Hinsicht auf den Strahlungsaustausch mit der Behälterwand und den anderen Werkstücken an allen Punkten der Werkstückoberfläche den gleichen Bedingungen unterliegen. Diese Methode ist jedoch sehr beschwerlich und führt dazu, daß der Glimmentladungsapparat eine unsymmetrische Form annimmt, die nur für die Werkstücke einer gegebenen Form verwendbar ist.
Es ist ebenfalls bekannt, Strahlungsschutzschinne innerhalb der Vakuumkammern zu verwenden, um die durch Strahlung verursachte Wärmeübertragung zu kontrollieren oder zu verringern. Die Anordnung dieser Schirme ist jedoch nicht einfach, da deren Temperaturen von der Emission und Absorption der Strahlung abhängig ist, die sehr umständlich zu bestimmen sind.
Bisher ist es nicht möglich gewesen, eine größere Anzahl von in Größe, Form und Anordnung unterschiedlichen Gegenständen zu gleicher Zeit bei konstanter Temperatur in einem elektrischen Glimmentladungsapparat zu behandeln.
In der USA.-Patentschrift 3190 727 wurde eine Glimmentladungsanordnung zur Nitrierung von Werkstücken mit komplizierten Formen vorgeschlagen, bei der eine Hauptentladeschaltung außerhalb des Werkstückbehälters zur Erzeugung der notwendigen Wärme dient. Dies geschieht mit Hilfe einer Entladung, die sich zeitlich entsprechend dem Verlauf der Spannung einer ersten Wechselspannungsquelle mit einer oder mehreren Phasen ändert. Der Werkstückbehälter dient dabei als eine Elektrode für diese Entladungsschaltung und dient auch als eine Elektrode einer zusätzlichen Hilfsentladeschaltung innerhalb des Werkstückbehälters. Diese verwendet ebenfalls eine Wechselspannungsquelle mit einer oder mehreren Phasen und eine dritte Elektrode im Inneren des an einem oder beiden Enden offenen zylindrischen Behälters. Lediglich diese zweite Hilfsentladeschaltung dient zur Erzeugung der für die Nitrierung benötigten Ionen im Inneren des Werkstückbehälters. Die Kompliziertheit der Anordnung ist vergrößert durch die Verwendung verschiedener Entladestrecken, und die Anordnung erfordert eine große Sorgfalt bei der Konstruktion und räumlichen Anordnung der entsprechenden Elektroden, und in diesem Zusammenhang wird in der Patentschrift auch noch eine Drehung der Elektroden und/oder der Werkstücke vorgeschlagen. Die Intensität, die Richtung und die räumliche Lage der Entladung zeigt dabei eine zeitliche Änderung, und die Temperatur, welche von verschiedenen Teilen der Oberfläche des Werkstückes und in verschiedenen Richtungen gesehen wird, ist nicht gleichmäßig.
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung, einen Glimmentladungsapparat zu schaffen mit einfacher,
3 4
zuverlässiger Schaltung und Anordnung der Elek- buchse 12 wird durch eine Metallhülse 13 mit gleitroden unter Verwendung einer Gleichspannungs- tendem elektrischem Potential vor der Glimmentquelle und einer Glimmentladungsstrecke außerhalb ladung geschützt. Neben den als Anode wirkenden eines Werkstückbehälters. Vakuumgefäß 1 und Gefäßboden 3 wird eine zusätz-
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, 5 liehe zylindrische Hilfsanode 14, die mit Metalleinen Glimmentladungsapparat zu erhalten, bei dem fußen 15 auf dem Gefäßboden 3 befestigt ist, koneine gleichförmige Oberflächentemperatur von Werk- zentrisch um den Behälter 18 angeordnet. Der Bestücken komplizierter Form möglich ist und eine hälter 18, in dessen Wand Öffnungen 20 angeordnet solche gleichförmige Temperaturverteilung auch er- sind, nimmt die verschieden geformten Werkstücke reicht werden kann bei der gleichzeitigen Bearbeitung io 15 bis 17 auf und kann mit einem Deckel 19 vervon Werkstücken mit stark unterschiedlicher Größe schlossen werden. Ein Thermoelement 21 wird zur und Form. Temperaturmessung in den Behälterraum geführt.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, Die den Behälter 18 und die Werkstücke 15 bis 17
die Beschränkungen zu beseitigen bezüglich der Not- umgebene gebrochene Linie soll die an der Katho-
wendigkeit, die Werkstücke in einer ganz bestimm- 15 denoberfiäche stattfindende Glimmentladung anzei-
ten Art und Weise anzuordnen, um eine gleichför- gen. Diese Linien sind auch in der F i g. 2 angedeutet,
mige Wärmebehandlung zu erhalten. in der außerdem noch mit Ea und Ek die elektrischen
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge- Potentiale von Anode und Kathode und mit T13, T16
löst, daß in. dem Vakuumgefäß ein als Kathode ge- usw. die an den entsprechenden Teilen herrschenden
schalteter verschließbarer Behälter zur Aufnahme der 2° Temperaturen bezeichnet sind.
Werkstücke angeordnet ist und an dem Behälter Öff- In der F i g. 3 ist eine scheibenförmige Hilfsanode
nungen zum Eintritt der Gasionen vorgesehen sind. 28 als »heiße Anode« innerhalb des Behälters 18
In weiterer Ausbildung der Erfindung wird eine angeordnet. Diese Anode 28 ist durch eine elekzylindrische Hilfsanode konzentrisch um den Behäl- trisch leitende Verbindungsstange 29, die durch eine ter innerhalb des Vakuumgefäßes, oder eine schei- 25 Öffnung 31 im Deckel 30 des Behälters 18 geführt benförmige Hilfsanode wird innerhalb des Behälters wird, mit der Kuppel des Vakuumgefäßes 1 verangeordnet. Vorteilhafterweise werden als Öffnungen bunden.
zum Eintritt der Gasionen Löcher in der Behälter- In der F i g. 4 wird ein der F i g. 1 ähnlicher
wand vorgesehen, deren Durchmesser mindestens Glimmentladungsapparat dargestellt, bei dem ledig-
V100 der Entfernung zwischen dem Loch und der am 3° lieh die zylinderförmige Hilfsanode fehlt. Die Fig. 5
weitesten entfernten Stelle innerhalb des Behälters und 6 zeigen dagegen einen abgeänderten Aufbau
betragen. Als Öffnung kann auch der Spalt zwischen des Behälters 33. Wie aus der Fig. 6 zu ersehen ist,
den überlappenden Enden einer als Spirale ausge- hat die Behälterwand 33 einen spiralförmigen
bildeten Behälterwand oder eine zusätzliche, ver- Grundriß, wobei der Spalt 34 zwischen den beiden
schließbare Öffnung an dem Behälterdeckel vorge- 35 überlappenden Enden als Eintrittsöffnung für die
sehen werden. Gasionen vorgesehen ist. Der Deckel 19 hat eine
Mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung sind dementsprechend abgeänderte Form,
in der Zeichnung dargestellt und werden im folgen- Eine größenveränderliche Öffnung 42 ist in dem
den näher beschrieben. Es zeigt Deckel 41 des Behälters 18 nach F i g. 7 dadurch
F i g. 1 einen Längsschnitt durch den Glimment- 40 geschaffen worden, daß eine Scheibe 43 an einer ver-
ladungsapparat, schiebbaren Stange 44 befestigt ist, die durch eine ab-
Fig. 2 einen horizontalen Querschnitt entspre- gedichtete Führung 46 in der Kuppel des Vakuum-
chend Linie I-I aus F i g. 1, gefäßes 1 hindurchgeführt wird und mit einem außer-
' Fig. 3, 4, 5 und 7 schematische Darstellungen ver- halb angebrachten Handgriff 45 betätigt werden schiedener anderer Ausführungsbeispiele des erfin- 45 kann,
dungsgemäßen Glimmentladungsapparates, Beim Betrieb des Glimmentladungsapparates nach
F i g. 6 einen Querschnitt entsprechend Linie H-II F i g. 1 werden die zu behandelnden Werkstücke 15
aus F i g. 5, bis 17 wahllos in dem Behälter 18 angeordnet. Nach-
F i g. 8 ein grafisches Bild deS Verlaufs des elek- dem der Behälter 18 mit dem Deckel 19 abgedeckt trischen Potentials im Raum zwischen Anode und 5° und das Vakuumgefäß 1 und der Gefäßboden 3 mit
Kathode. Hilfe von Schrauben (nicht gezeigt) gasdicht ver-
Die F i g. 1 zeigt das glockenförmige Vakuumge- schlossen worden ist, wird das Vakuumgefäß 1 über
faß 1, das von einem Kühlrohrmantel 2 umgeben ist den Gasanschluß 7 mit einem passenden Gasgemisch
und mit einer Dichtung 4 zwischen dem Vakuum- zum Nitrieren, beispielsweise mit einem Stickstoffgefäß 1 und seinem Boden 3 gegen die Umgebung 55 Wasserstoff-Gemisch, versorgt und von einer
vakuumdicht gehalten wird. Das Vakuumgefäß 1 Vakuumpumpe 6 auf einen Druck von wenigen
und dessen Boden 3 bestehen aus einem leitenden Millimetern Quecksilbersäule gehalten. Nach dem
Material und werden als Anode an den positiven Anlegen einer Spannung wird sich zwischen den als
Pol der regelbaren Spannungsquelle 5 angeschlossen. Anode geschalteten Bauteilen 1, 3, 14 und den als Eine Vakuumpumpe 6 dient zur Evakuierung der 60 Kathode wirkenden Behälter 18 und Werkstücken 15
Vakuumkammer. In dem Gefäßboden 3 sind neben bis 17 eine Potentialverteilung einstellen, wie sie in
dem Gasanschluß 7 auch eine leitende Durchfüh- der F i g. 8 der Zeichnung dargestellt ist. Während
rung 8 und eine Metallplatte 9 zum Anschluß des sich das Potential in dem größten Teil des Zwischen-
Behälters 18 an den negativen Pol der regelbaren raumes von der Anode zur Kathode nur geringfügig Spannungsquelle 5 isoliert gegenüber dem Gefäß- 65 ändert, tritt fast der gesamte Potentialabfall nahe der
boden 3 angeordnet. Die Isolierung erfolgt mittels Kathode auf. Aber schon der geringe Potentialabfall
einer Isolierplatte 11, Schrauben 10 aus Isolier- hinter der Anode veranlaßt die Gasionen, durch die
material und einer Isolierbuchse 12. Die Isolier- öffnung 20 in das Innere des Behälters 18 einzutre-
5 5
ten. Wenn die Öffnungen genügend groß gemacht net. Zum Erreichen einer einheitlichen Temperatur werden, wird die Glimmentladung auch an den Werk- der Werkstücke wird hier vorausgesetzt, daß nach stücken 15 bis 17 stattfinden, obwohl diese der einer gewissen Anlaufzeit die Hilfsanode 28 durch Anode nicht direkt gegenüberstehen. Da der die Strahlung auf die Temperatur der Werkstücke 15 Werkstücke 15 bis 17 fassende Behälter 18 genau 5 bis 17 und des Behälters 18 erwärmt worden ist. Eine der gleichen Glimmentladungsenergie wie die Werk- verschließbare Öffnung 42 nach F i g. 7 wird zusätzstücke selbst ausgesetzt ist, wird eine einheitliche lieh vorgesehen, um bei Beginn der Wärmebehand-Temperatur an der Oberfläche erreicht. Die Wärme- lung einen erhöhten Eintritt der Gasionen zu ermögübertragung durch Konvektion soll dabei vernach- liehen. Nach Abschluß des Anlaufvorganges wird lässigt werden. Die durch Strahlung verursachte 10 diese Öffnung 42 mit Hilfe des Handgriffes 45 verWärmeübertragung richtet sich nach dem Stefan- schlossen, und die Gasionen treten nur noch durch Boltzmannschen Gesetz, wonach die zwischen zwei die Öffnungen 20 in das Innere des Behälters 18 ein. Körpern durch Strahlung ausgetauschte Wärmemenge Die in den F i g. 3 bis 7 abgebildeten Glimmentder Differenz der vierten Potenzen der absoluten ladungsapparate haben den Nachteil, daß infolge des Temperaturen proportional ist. Da nun zwischen den 15 Fehlens der zylinderförmigen, als Strahlungsschutz-Werkstücken 15 bis 17 und den sie umgebenden schirm wirkenden Hilfsanode 14 der Behälter 18 Wänden des Behälters 18 kaum Temperaturdifferen- größere Wärmeverluste durch Abstrahlung erleidet zen auftreten, ist auch der Wärmeaustausch durch und damit die Konstanz der Temperatur nicht in dem Strahlung innerhalb des Behälters vernachlässigbar Maße gewährleistet ist wie bei dem Apparat nach klein. Anfängliche Temperaturunterschiede werden 20 den F i g. 1 und 2. Andererseits ist diese Ausführung ausgeglichen, so daß die Unregelmäßigkeiten in einfacher und weniger aufwendig und reicht im allge-Form, Größe und Anordnung der Werkstücke meinen aus.
schließlich keinen Einfluß mehr haben. Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile be-
Die Temperatur der Hilfsanode 14 hängt haupt- stehen insbesondere darin, daß die Wärmebehandsächlich ab vom Wärmegewinn durch Strahlung von 25 lung einer Vielzahl von Werkstücken in einer Glimmden Außenwänden des Behälters 18, während die entladung durchgeführt werden kann ohne RückTemperatur des Vakuumgefäßes 1 etwas oberhalb sieht auf Größe, Form und Anordnung der Teile, der Umgebungstemperatur liegt, verursacht durch Außerdem wird durch den Aufbau des erfindungsge-Strahlung von der Hilfsanode 14. mäßen Glimmentladungsapparates die Möglichkeit
Die in den F i g. 3 bis 7 dargestellten Glimment- 30 der Werksrückbeschädigung durch Lichtbogen weit-
ladungsapparate arbeiten nach dem gleichen Prinzip, gehend verhindert, da bei der Bildung eines Licht-
wobei allerdings die Hilfsanode 14 wegfällt. In der bogens dieser meistens an dem der Anode direkt
F i g. 3 ist zwar noch eine scheibenförmige Hilfs- gegenüberstehenden Außenmantel des Behälters
anode 28 vorgesehen, diese wirkt aber als »heiße entstehen wird und daher die im Inneren des Behäl-
Anode« und ist innerhalb des Behälters 18 angeord- 35 ters befindlichen Werkstücke unbeeinflußt bleiben.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (6)

Patentansprüche:
1. Elektrischer Glimmentladungsapparat zur Wärmebehandlung von als Kathode geschalteten Werkstücken unterschiedlicher Größe, Form und Anordnung in einem als Anode geschalteten Vakuumgefäß, insbesondere zum Glühen und Nitrieren, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Vakuumgefäß (1) ein als Kathode geschalteter verschließbarer Behälter (18) zur Aufnahme der Werkstücke (15 bis 17) angeordnet ist und an dem Behälter (18) Öffnungen (20) zum Eintritt der Gasionen vorgesehen sind.
2. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine zylindrische Hilfsanode (14) konzentrisch um den Behälter (18) innerhalb des Vakuumgefäßes (1) angeordnet ist.
3. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine scheibenförmige Hilfsanode (28) innerhalb des Behälters (18) angeordnet ist.
4. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Öffnungen zum Eintritt der Gasionen Löcher (20) in der Behälterwand vorgesehen sind, deren Durchmesser mindestens Vioo der Entfernung zwischen dem Loch (20) und der am weitesten entfernten Stelle innerhalb des Behälters (18) betragen.
5/ Elektrischer Glimmentladungsapparat nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als öffnung der Spalt (34) zwischen den überlappenden Enden einer als Spirale ausgebildeten Behälterwand vorgesehen wird.
6. Elektrischer Glimmentladungsapparat nach den Ansprüchen 1, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine verschließbare Öffnung (42) an dem Behälterdeckel (41) und Mittel (43, 44, 45, 46) zum Verschließen der Öffnung (42) vorgesehen sind.
DE19661521273 1965-06-24 1966-06-24 Glimmentladungsapparat Pending DE1521273B2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US46653065A 1965-06-24 1965-06-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1521273A1 DE1521273A1 (de) 1969-08-07
DE1521273B2 true DE1521273B2 (de) 1972-10-19

Family

ID=23852112

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19661521273 Pending DE1521273B2 (de) 1965-06-24 1966-06-24 Glimmentladungsapparat

Country Status (2)

Country Link
US (1) US3423562A (de)
DE (1) DE1521273B2 (de)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5405514A (en) * 1993-07-28 1995-04-11 Gas Research Institute Atmospheric pressure gas glow discharge
US5560890A (en) * 1993-07-28 1996-10-01 Gas Research Institute Apparatus for gas glow discharge
US20030047146A1 (en) * 2001-09-10 2003-03-13 Daniel Michael J. Plasmatron-internal combustion engine system having an independent electrical power source
US6959542B2 (en) * 2002-01-25 2005-11-01 Arvin Technologies, Inc. Apparatus and method for operating a fuel reformer to regenerate a DPNR device
US6976353B2 (en) * 2002-01-25 2005-12-20 Arvin Technologies, Inc. Apparatus and method for operating a fuel reformer to provide reformate gas to both a fuel cell and an emission abatement device
US7021048B2 (en) * 2002-01-25 2006-04-04 Arvin Technologies, Inc. Combination emission abatement assembly and method of operating the same
US7014930B2 (en) * 2002-01-25 2006-03-21 Arvin Technologies, Inc. Apparatus and method for operating a fuel reformer to generate multiple reformate gases
US6651597B2 (en) * 2002-04-23 2003-11-25 Arvin Technologies, Inc. Plasmatron having an air jacket and method for operating the same
AU2003228608A1 (en) * 2002-04-24 2003-11-10 Arvin Technologies, Inc. Apparatus and method for regenerating a particulate filter of an exhaust system of an internal combustion engine
US6881386B2 (en) * 2002-05-30 2005-04-19 Massachusetts Institute Of Technology Low current plasmatron fuel converter having enlarged volume discharges
US20040020447A1 (en) * 2002-08-05 2004-02-05 William Taylor Method and apparatus for advancing air into a fuel reformer by use of an engine vacuum
US20040020188A1 (en) * 2002-08-05 2004-02-05 Kramer Dennis A. Method and apparatus for generating pressurized air by use of reformate gas from a fuel reformer
US20040020191A1 (en) * 2002-08-05 2004-02-05 Kramer Dennis A. Method and apparatus for advancing air into a fuel reformer by use of a turbocharger
DE10393043T5 (de) * 2002-08-12 2005-08-04 Arvin Technologies, Inc., Troy Verfahren und Vorrichtung zum Steuern des Sauerstoff/Kohlenstoff-Verhältnisses eines Kraftstoff-Reformers
US20040050345A1 (en) * 2002-09-17 2004-03-18 Bauer Shawn D. Fuel reformer control system and method
US6758035B2 (en) * 2002-09-18 2004-07-06 Arvin Technologies, Inc. Method and apparatus for purging SOX from a NOX trap
US20040052693A1 (en) * 2002-09-18 2004-03-18 Crane Samuel N. Apparatus and method for removing NOx from the exhaust gas of an internal combustion engine
US6702991B1 (en) 2002-11-12 2004-03-09 Arvin Technologies, Inc. Apparatus and method for reducing power consumption of a plasma fuel reformer
US6715452B1 (en) 2002-11-13 2004-04-06 Arvin Technologies, Inc. Method and apparatus for shutting down a fuel reformer
US6903259B2 (en) * 2002-12-06 2005-06-07 Arvin Technologies, Inc. Thermoelectric device for use with fuel reformer and associated method
US6843054B2 (en) * 2003-01-16 2005-01-18 Arvin Technologies, Inc. Method and apparatus for removing NOx and soot from engine exhaust gas
US20040139730A1 (en) * 2003-01-16 2004-07-22 William Taylor Method and apparatus for directing exhaust gas and reductant fluid in an emission abatement system
US20040144030A1 (en) * 2003-01-23 2004-07-29 Smaling Rudolf M. Torch ignited partial oxidation fuel reformer and method of operating the same
US6851398B2 (en) * 2003-02-13 2005-02-08 Arvin Technologies, Inc. Method and apparatus for controlling a fuel reformer by use of existing vehicle control signals
US7407634B2 (en) * 2003-04-11 2008-08-05 Massachusetts Institute Of Technology Plasmatron fuel converter having decoupled air flow control
US20040216378A1 (en) * 2003-04-29 2004-11-04 Smaling Rudolf M Plasma fuel reformer having a shaped catalytic substrate positioned in the reaction chamber thereof and method for operating the same
US7244281B2 (en) * 2003-10-24 2007-07-17 Arvin Technologies, Inc. Method and apparatus for trapping and purging soot from a fuel reformer
US7285247B2 (en) * 2003-10-24 2007-10-23 Arvin Technologies, Inc. Apparatus and method for operating a fuel reformer so as to purge soot therefrom
US7381382B2 (en) * 2004-03-29 2008-06-03 Massachusetts Institute Of Technology Wide dynamic range multistage plasmatron reformer system
US7776280B2 (en) * 2005-05-10 2010-08-17 Emcon Technologies Llc Method and apparatus for selective catalytic reduction of NOx
US7698887B2 (en) * 2005-06-17 2010-04-20 Emcon Technologies Llc Method and apparatus for determining local emissions loading of emissions trap
US20060283176A1 (en) * 2005-06-17 2006-12-21 Arvinmeritor Emissions Technologies Gmbh Method and apparatus for regenerating a NOx trap and a particulate trap
US20070033929A1 (en) * 2005-08-11 2007-02-15 Arvinmeritor Emissions Technologies Gmbh Apparatus with in situ fuel reformer and associated method
US20070095053A1 (en) * 2005-10-31 2007-05-03 Arvin Technologies, Inc. Method and apparatus for emissions trap regeneration
US20190256973A1 (en) * 2018-02-21 2019-08-22 Southwest Research Institute Method and Apparatus for Depositing Diamond-Like Carbon Coatings

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE526527A (de) * 1953-02-17
NL108190C (de) * 1953-05-28
US3228809A (en) * 1953-12-09 1966-01-11 Berghaus Elektrophysik Anst Method of regulating an electric glow discharge and discharge vessel therefor
CH349284A (de) * 1955-11-22 1960-10-15 Berghaus Elektrophysik Anst Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche von Körpern
US3190772A (en) * 1960-02-10 1965-06-22 Berghaus Bernhard Method of hardening work in an electric glow discharge
US3218431A (en) * 1962-12-27 1965-11-16 Gen Electric Self-focusing electron beam apparatus
US3320475A (en) * 1963-04-30 1967-05-16 Gen Electric Nonthermionic hollow cathode electron beam apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US3423562A (en) 1969-01-21
DE1521273A1 (de) 1969-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1521273B2 (de) Glimmentladungsapparat
DE2106850A1 (de) Verfahren zur Behandlung von Werk stucken in einer Glimmentladung und Appa ratur zur Durchfuhrung des Verfahrens
DE2552783A1 (de) Verfahren und anordnung zur erzeugung von ionen
DE202007018327U1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas
DE1087718B (de) Verfahren und Vorrichtung fuer das Einfangen von Atomionen zur Zuendung eines Plasmas
DE69207616T2 (de) Schnelle Atomstrahlquelle
DE2048862C3 (de) Vorrichtung zur spektralphotometrischen Analyse
DE1953659B2 (de) Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen
DE1690663C3 (de) Einrichtung zur elektrischen Glimmnitrierung der Innenflächen von Bohrungen in Werkstücken aus Eisen oder Stahl
DE2037030C1 (de) Einrichtung zur Trennung von Isotopen durch Zentrifugalkräfte
DE2305359C3 (de) Vorrichtung zur reaktiven Aufdampfung dünner Schichten auf Unterlagen
DD146307A1 (de) Einrichtung zur grossflaechigen haftfesten abscheidung,insbesondere von kohlenstoffschichten
CH650104A5 (de) Mit bombardierung durch elektronen arbeitende ionenquelle.
DE102010032103B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Zünden von Siliziumstäben außerhalb eines CVD-Reaktors
EP0043789A2 (de) Verfahren zur entladungschemischen Behandlung empfindlicher Werkstücke durch Einsatz der Glimmentladung
DE1232433B (de) Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefaess hierfuer
DE2536871A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum aetzen mit einem plasma
DE495560C (de) Elektrische Entladungsroehre
DE725264C (de) Verfahren zur Herstellung hochemissionsfaehiger aktiver Schichten
DE1539596C (de) Verfahren zur Erzeugung von Strah lungsenergie hoher Intensität
DE2802258C3 (de) Glimmentladungsofen
DE749304C (de) Verfahren zur Durchfuehrung chemischer Reaktionen mittels elektrodenloser Entladungen mit Aussenelektroden
DE1932703C (de) Plasmareaktor
DE2535816A1 (de) Entladungslampe zur desaktivierung von mikroorganismen
AT221672B (de) Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefäß hiefür

Legal Events

Date Code Title Description
SH Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971