DE1521110A1 - Verfahren zur Herstellung elektrisch- und waermeleitender Verbindungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung elektrisch- und waermeleitender VerbindungenInfo
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Description
Verfahren zur Herstellung elektrisch- und wärmeleitender Verbindungen.
Die Erfindung betrifft die Herstellung einer elektrisch- und wärmeleitenden Verbindung zwischen einem elektrisch
leitenden Metall und einem von diesem Metall verschiedenen Material.
In der Halbleitertechnik sowie in der Supraleitertechnik ist die Herstellung elektrischer Verbindungen mit einem
möglichst geringen Widerstand wünschenswert. Beispielsweise ist es in der Supraleitertechnik bei einer supraleitenden
Spule oft notwendig, eine elektrische Verbindung zwischen einem elektrischleitenden Metall, das normalleitend ist,
und einem verschiedenen Material, das supraleitend ist,
908112/OB79
BAD
1521ΊΊΟ
herzustellen. Supraleitende Spulen werden gewöhnlich in einer Umgebung von niedriger Temperatur, beispielsweise in einem
Bad aus flüssigem Helium, aufgehängt, welches die Temperatur der Spule auf einen niedrigeren Wert als die kritische oder
Sprungtemperatur des verwendeten supraleitenden Materials herabsetzt. Da innerhalb eines normalleitenden Metalls beim
HindurchfHessen eines Stroms Wärme erzeugt wird, ist es wünschenswert,
daß der Widerstand eines solchen normalleitenden Metalls einschließlich eines Kontaktwiderstandes zwischen dem
normalleitenden Metall und dem supraleitenden Material so gering als möglich ist, um die in der Niedertemperaturumgebung erzeugte
Wärmemenge so gering als möglich zu halten.
Elektrische Verbindungen, welche beim Löten (d.h. bei Verwendung von Indium- oder Zinn-Basis-Loten) erhalten werden,
sind in der Supraleitertechnik im allgemeinen nicht zufriedenstellend,
da eine halbleitende Verbindung entsteht, die einen unerwünscht hohen Widerstand hat, d.h. einen Widerstand,
der höher als der des normalleitenden Metalls ist. Ferner wird durch die Temperaturen, die zum Hartlöten und Schweissen u.dgl.
erforderlich sind, die Supraleitfähigkeit des supraleitenden Materials gewöhnlich zerstört oder zumindest nachteilig beeinflußt
.
Die erwähnten bekannten Verfahren zur Herstellung von Verbindung-
909882/0679
BAD ORIG'NAL
en sind natürlich in gleicher Weise ungeeignet in der Halbleitertechnik,
da auch in diesem Falle die Bildung einer Verbindung von hohem Widerstand und die Aufhebung gewünschter Eigenschaften des Materials, mit dem das Metall verbunden werden soll,
vermieden werden muß*
Zur Beseitigung der Nachteile der bekannten Verfahren zur Herstellung einer elektrisch- und wärmeleitenden Verbindung
zwischen einem ersten elektrischleitenden Metall und einem zweiten Material wird erfindungsgemäß auf das zweite Material
mit gleichmässigem, haftendem und kontinuierlichem innigem
Kontakt ein Metall von einer hohen elektrischen Leitfähigkeit und Wärmeleitfähigkeit aufgebracht, das erste Metall und das
aufgebrachte Metall unter Druck ständig in gleichmässigem und kontinuierlichem innigem Kontakt gehalten und dann das
erste Metall, das aufgebrachte Metall und das zweite Material bei einer Temperatur und während eines Zeitraumes wärmebehandelt,
der ausreicht, eine Diffusion des aufgebrachten Metalls und des ersten Metalls zu bewirken, jedoch nicht ausreicht,
eine Diffusion des aufgebrachten Metalls in das zweite Material zu bewirken.
Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese nachfolgend in der Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen näher beschrieben
und zwar zeigen:
909882/0679
Pig. 1 eine schaubildliche Ansicht eines supraleitenden Drahtes, der von einem Mantel bzw. überzug aus einem
elektrischleitenden normalen Metall umgeben ist, das auf das supraleitende Material aufgebracht worden ist;
Fig. 2 eine Schnittansicht eines Drahtes nach Pig, I, der
sich in Nuten in einem elektrischleitenden normalen Metall befindet;
Fig. 3 eine Schnittansicht von erfindungsgemässen Verbindungen
bei welchen das Grundmetall nach Fig. 2 zur Druckausübung zwischen diesem und dem mit einem überzug versehenen
supraleitenden Draht verformt worden ist und
Fig. 4 eine Schnittansicht einer Halbleitervorrichtung mit
erfindungsgemäß hergestellten Verbindungen.
In Fig. 1 ist ein supraleitendes Material Io dargestellt,das
mit einem überzug aus einem normalleitenden Material 11 versehen ist. Es kann jedes supraleitende Material, wie Molybdän-Rhenium,
Wismut-Blei, die Verbindungen Nb,Sn und V,Ga, Legierungen von Niob, mit Zirkon und Legierungen von Niob
und Titan, mit einem normalleitenden Material, wie Aluminium,
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BAD ORIGINAL
• Cadmium, Kupfer, Gold, Silber, Platin und Rhodium, überzogen
werden« Es ist jedoch wichtig, daß das normalleitende Material auf das supraleitende Material beispielsweise durch Elektroplattieren
oder Aufdampfen aufgebracht wird, wodurch ein gleichmässiger Niederschlag erzielt wird, der auf dem supraleitenden
Material haftet und sich mit diesem in kontinuierlichem innigem Kontakt befindet. Ferner hält der überzug auf
dem Supraleiter diesen rein und verhindert einen atmosphärischen Angriff. Das Haften des aufplattierten Überzugs ist
eine Maßnahme der Reinhaltung dee Supraleiters. Das supraleitende Material, das gegenwärtig am leichtesten als Draht
ernältlich ist, kann in sehr einfacher Weise durch herkömmliche Elektroplattierungsverfahren mit dem normalleitenden
Material überzogen werden. Bei diesen Verfahren wird der Draht in einer Plattierungslösung, welche das gewünschte Kation
enthält, kathodisch gemacht. Vorzugsweise wird eine inerte Anode, beispielsweise aus Platin, verwendet, obwohl, wenn
Rührorgane vorgesehen werden, eine aus dem gewünschten Metall gebildete Anode benutzt werden kann. Die unter anderem bekannten
Cyanid-Elektroplattierungsbäder, welche das gewünschte Metall enthalten, können verwendet werden. Geeignete Konzentrations-
und Plattierungsbedingungen sind an sich bekannt .Ferner sind die Bedingungen und das Verfahren zum
Aufdampfen eines normalleitenden Materials auf ein supraleitendes Material bekannt·
909892/0679
Nachdem das supraleitende Material, z.B. der in Pig. I gezeigte
Draht, mit einem überzug aus normalleitendem Material versehen worden ist, können ein oder mehrere solche mit einem
Überzug versehene Drähte in Nuten 13 in einer Oberfläche 12 des elektrischleitenden Grundmetalls 1*1 eingelegt werden.
Die sich berührenden Teile der mit einem überzug versehenen Drähte und das Grundmaterial müssen natürlich rein sein,
wenn die überzogenen Drähte in die Nuten eingelegt oder im
Grundmaterial eingebettet werden. Obwohl gegebenenfalls besondere Maßnahmen zum Entfernen der Oxydation getroffen werden
können, braucht für zufriedenstellende Ergebnisse die Reinigungsbehandlung nur in einer Entfettung der überzogenen
Drähte und des Grundmaterials bestehen. Obwohl das Grundmaterial 14 vorzugsweise das gleiche ist, das zum überziehen
des supraleitenden Drahtes verwendet wird, braucht es nicht unbedingt das gleixhe zu sein, so lange das auf das supraleitende
Material Io aufgebrachte Metall 11 und das Grundmetall Ik keine halbleitenden Verbindungen bilden, wenn sie
einer Wärmebehandlung unterzogen werden, was beträchtliche nachteilige Einflüsse auf den spezifischen Oberflächenwiderstand
und/oder die Strombelastbarkeit des supraleitenden Materials zur Folge haben würde. Mit anderen Worten, es sind
aus wirtschaftlichen Erwägungen Aluminium und Kupfer die zweckmässigsten normalleitenden Metalle zur Herstellung von
Leitern und es ist offensichtlich einfacher und billiger, das
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gleiche Metall für das niedergeschlagene Metall und für das
Grundmetall zu verwenden. Die Wahl des besonderen normalleitenden Metalls bzw. der besonderen normalleitenden Metalle
ist nicht kritisch, so lange das aufgebrachte Metall nicht mit dem supraleitenden Material chemisch reagiert und im
wesentlichen nicht in der Lage ist, mit dem Grundmetall bei Temperaturen, die niedriger als etwa die Glühtemperaturen
dieser Metalle sind, eine metallische Verbindung mit einem hohen spezifischen Widerstand zu bilden,
Obwohl die Temperatur und die Zeit zur Wärmebehandlung der auf dem Markt erhältlichen supraleitenden Materialien zur
Erhöhung ihrer Strombelastbarkeit an sich bekannt sind, läßt sich die optimale Temperatur und Zeit für die Wärmebehandlung
eines besonderen supraleitenden Materials zur Erhöhung seiner Strombelastbarkeit leicht und rasch empirisch ermitteln.
Wenn beispielsweise Niob-25 X-Zirkon-Drähte auf eine Temperatur von etwa 6000G während etwa einer halben Stunde wärmebehandelt
werden, läßt sich feststellen, daß die Strombelastbarkeit dieser Drähte von etwa 5o Ampere auf etwa Io5 Ampere
in einem Magnetfeld von etwa 5o Kilogauß erhöht wird. Andererseits
ist es möglich, die Wärmebehandlungstemperatur auf beispielsweise etwa 4oo C herabzusetzen, wenn die Zeit für
die Wärmebehandlung beispielsweise auf etwa 1 Stunde verlängert
wird.
3 zeigt die Drähte in Fig. 2 sicher im Grundmaterial ein-909882/0679
gebettet. Dies kann am zweckmässigsten durch Kaltbearbeitung,
z.B. durch Pressen oder Walzen des Grundmetalls, in der Weise geschehen, daß dieses ausreichend verformt wird, so daß ständig
ein Druck auf den supraleitenden Draht ausgeübt wird, und dadurch ein gleichmässiger und kontinuierlicher inniger Kontakt
zwischen dem Grundmetall und dem metallischen überzug auf den supraleitenden Drähten erzielt wird. Nachdem die
aneinander anliegenden Flächen des Grundmetalls und des auf den supraleitenden Draht aufgebrachten Metalls in innigen
Druckkontakt gebracht worden sind, werden sie einer Wärmebehandlung unterzogen, die unter Vakuum oder in einer inerten
Atmosphäre durchgeführt wird. Eine Wärmebehandlung bzw. ein Glühen bei übermässig hohen Temperaturen während übermässlg
langer Zeiten muß vermieden werden, um die Supraleitungseigenschaften
des Drahtes nicht zu zerstören. Die Wärmebehandlung geschieht am vorteilhaftesten unter Vakuum oder in
einer inertenAtmosphäre bei einer Temperatur und während eines Zeitraums, die ausreichen, eine gegenseitige Diffusion des
auf das supraleitende Material aufgebrachten Metalls mit dem Grundmetall zu ermöglichen, jedoch nicht ausreicht, eine
Diffusion des aufgebrachten Materials in das supraleitende Material herbeizuführen. Innerhalb der vorgenannten Grenzen
werden die Temperatur und die Zeit der Wärmebehandlung so gewählt, daß die größtmögliche Strombelastbarkeit im supraleitenden
Draht erhalten wird.
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Niob-25 ί-Zirkon, ein Supraleiter, der gegenwärtig gewöhnlich
zur Herstellung von supraleitenden Spulen verwendet wird, ist im Handel als Draht mit einer Kupferplattierung von etwa
o,o25 mm (ο,οοΐ Ή) Dicke bei einem Drahtdurchmesser von etwa
o,25 mm (ο,οΐο ") erhältlich. Diese Art Supraleiter kann wärmebehandelt
werden und die maximalen,Strombelastbarkeitswerte werden erzielt, wenn der Supraleiter bei etwa 5600C während
etwa ^5 Minuten wärmebehandelt wird. Bei etwa 5600C findet
bei Kupfer eine ziemlich rasche wechselseitige Diffusion statt.
In einem Falle wurde erfindungsgemäß ein solcher herkömmlicher kupferplattierter Nb-25 % Zr Draht zusammen mit herkömmlichen
Kupferdrähten in ein Kupferrohr mit einem Innendurchmesser von 3,175 mm (1/8 ") eingesetzt und das Ganze in einem Gesenk gepreßt·
Sodann wurde dieser zusammengesetzte Leiter in einen Vakuumofen gebracht und auf 5600C während einer Stunde erhitzt.
Vor dem Glühen betrug der spezifische Oberflächenwiderstand des zusammengesetzten Leiters 6,5 x lo" Ohm je QuadratZentimeter·
Nach dem Glühen war der spezifische Oberflächenwiderstand auf ο,οΐο χ lo" Ohm je QuadratZentimeter herabgesetzt,
während die Strombelastbarkeit des Supraleiters auf etwa 48 Kilogauß annähernd verdoppelt wurde·
In einem anderen Falle wurden herkömmliche kupferplattierte
Nb-25 % Zr Drähte in Nuten in einem flachen Kupferstreifen
909882/0879
-lo-
eingebettet. Der flache Kupferstrelfen hatte Maße von 12,7
mm χ I,ol6 mm (o,5o " χ o,o4o ") und war mit Nuten von
o,38l mm χ o,5o8 mm (o,ol5 w χ o,o2o ") versehen. Die Suoraleiterdrähte
wurden in die Nuten durch Pressen des zusammengesetzten Leiters in einer Presse eingebettet. Vor dem Glühen
bei etwa 56o°C während etwa einer Stunde betrug der spezifische Oberflächenwiderstand 1,95 χ Io Ohm je Quadratzentimeter.
Nach dem Glühen war der spezifische Oberflächenwiderstand auf o,ol2 χ Io Ohm je QuadratZentimeter herabgesetzt
und die Strombelastbarkeit des Supraleiters ebenfalls annähernd verdoppelt.
Bei wieder einem weiteren Beispiel, das zur Verwendung für grosse Supraleiterlängen geeignet ist, wurden kupferplattierte
Nb-25 % Zr Drähte in einem genuteten flachen Kupferstreifen im wesentlichen von der unmittelbar vorangehend beschriebenen
Art eingebettet. In diesem Falle wurden jedoch zum Einbetten der Drähte in den Nuten im Kupferstreifen Walzen verwendet.
Der zusammengesetzte Leiter wurde ebenfalls bei etwa 56o°C während einer Stunde geglüht. Vor dem Glühen betrug der spezifische
Oberflächenwiderstand 12,4 χ Io Ohm je Quadratzentimeter.
Nach dem Glühen war der spezifische Oberflächenwiderstand auf o,oo7 x Io Ohm je QuadratZentimeter herabgesetzt·
909882/0679
■tj.< ■■'■!
gleichen Glühbehandlung und unter Verwendung von Aluminium als Leitergrundmaterial und eines kupferplattierten Nb - 25 %
Zr Drahtes Ergebnisse erzielt, welche zwar nicht ebenso gut, wie vorangehend beschrieben, jedoch zufriedenstellend waren.
Dies dürfte dem Umstand zuzuschreiben sein, daß ein teilweises Verschmelzen der Kupfer-Aluminium-Grenzfläche infolge der Bildung
eines Eutektikums bei etwa 52Jo0C stattfand. Vor dem
Glühen betrug der spezifische Oberflächenwiderstand 16,9 x lo~ Ohm je QuadratZentimeter, während nach dem Glühen der
spezifische Oberflächenwiderstand auf o,o51 x lo" Ohm je
Quadratzentimeter herabgesetzt war.
Fig. 4 zeigt in stark vergrössertem Maßstab eine erfindungsgemässe
Halbleitervorrichtung 2o. Wie gezeigt, ist ein geeignetes elektrisch leitendes Material 21, beispielsweise Kupfer,
durch Elektroplattieren auf die eine Fläche des Halbleitermaterials 22 aufgebracht. Das Grundmaterial 23» das in diesem
Falle ein elektrischer Leiter ist und ebenfalls aus Kupfer besteht, wird unter Druck und in innigem Kontakt mit dem
aufgebrachten Material 21 durch eine becher- bzw. schalenförmige elektrisch nichtleitende Basis gehalten. Die Inneren
Abmessungen der Basis reichen aus,, kontinuierlich einen Druck
zwischen dem Grundmaterial 23 und dem aufgebrachten Material 21 zu erhalten. Nach dem Zusammenbau wird die Halbleitervorrichtung
einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur und während
909882/0679
15211143
eines Zeitraums unterzogen, die ausreichen, eine wechselseitige Diffusion des aufgebrachten Materials mit dem Grundmetall
zu ermöglichen, jedoch nicht ausreichend ist, um die Eigenschaften des Halbleiters nachteilig zu beeinflussen.
Patentansprüche:
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Claims (11)
1. Verfahren zur Herstellung einer elektrischleitenden und wärmeleitenden Verbindung zwischen einem ersten elektrischleitenden Metall und einem zweiten Material, dadurch gekennzeichnet,
daß auf das zweite Material in gleichmässigem, haftendem und kontinuierlichem innigem Kontakt ein
Metall mit einer hohen elektrischen Leitfähigkeit und Wärmeleitfähigkeit aufgebracht wird, das erste Metall
und das aufgebrachte Metall in gleichmässigem und kontinuierlichem
innigem Kontakt ständig unter Druck gehalten werden und dann das erste Metall, das aufgebrachte Metall
und das zweite Material bei einer Temperatur und während eines Zeitraums wärmebehandelt werden, die ausreichen,
eine Diffusion des aufgebrachten Metalls und des ersten Metalls herbeizuführen, jedoch nicht ausreichen, eine Diffusion
des aufgebrachten Metalls in das zweite Material zu bewirken.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung in einer inerten Umgebung oder unter
einem Vakuum von mindestens Io mm Hg durchgeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
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1521 Γι ü
daß als aufgebrachtes Metall ein Metall verwendet wird, das im wesentlichen das gleiche wie das erste Metall
ist, und der Kontakt des ersten Metalls und des aufgebrachten
Metalls unter Druck ständig über mindestens efriem
größten Teil der freiliegenden Fläche des aufgebrachten Metalls aufrechterhalten wird.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß als aufgebrachtes Metall ein Metall verwendet
wird, das praktisch keine metallische Verbindung bilden kanrj die einen hohen spezifischen elektrischen Widerstand
und spezifischen Wärmewiderstand mit dem ersten Metall hat.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1-4, dadurch gekennzeichnet,
daß als erstes Metall ein normalleitendes Metall verwendet wird und als zweites Material ein supraleitendes
Material mit einem über etwa 8oo C liegenden Schmelzpunkt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung bei einer Temperatur und während eines
Zeitraums durchgeführt wird, der nicht ausreicht, die Kurzproben-Strombelastbarkeit des supraleitenden Materials
wesentlich herabzusetzen.
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7. Verfahren nach den Ansprüchen 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß das aufgebrachte Metall durch Elektroplattieren
oder Aufdampfen niedergeschlagen wird.
8. Verfahren nach den Ansprüchen 1-7, dadurch gekennzeichnet, daß der Kontakt des ersten Metalls und des aufgebrachten
Metalls dadurch aufrecht erhalten wird, daß das mit einem Überzug versehene zweite Material im ersten Metall
zumindest im wesentlichen eingebettet wird.
9. Verfahren nach den Ansprüchen 1-8, dadurch gekennzeichnet, daß Kupfer als erstes Metall und als aufgebrachtes
Metall verwendet wird und als zweites Material ein supraleitendes Material mit Niob verwendet wird, wobei die
Wärmebehandlung zwischen 4oo°C und 6oo C während eines
Zeitraums von 1/2 Stunde bis 1 Stunde durchgeführt wird.
10, Verfahren nach den Ansprüchen 1-9, dadurch gekennzeichnet,
daß das erste Metall und das mit einem Überzug versehene zweite Material vor der Herstellung des Kontakts
zwischen dem ersten Metall und dem aufgebrachten Metall entfettet werden.
11. Zusammengesetzter Leiter, gekennzeichnet durch ein erstes elektrischleitendes Metall mit einer elektrischleitenden
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und wärmeleitenden Verbindung zu einem zweiten Material, welche Verbindung nach dem Verfahren gemäß den Ansprüchen
1-9 hergestellt worden ist.
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US3538593A (en) * | 1965-12-13 | 1970-11-10 | North American Rockwell | Method of making composite structure |
US3419952A (en) * | 1966-09-12 | 1969-01-07 | Gen Electric | Method for making composite material |
GB1162549A (en) * | 1966-12-02 | 1969-08-27 | Imp Metal Ind Kynoch Ltd | Improvements in Superconductors. |
FR1513586A (fr) * | 1967-01-06 | 1968-02-16 | Comp Generale Electricite | Conducteur supraconducteur à haute résistance mécanique |
US3443021A (en) * | 1967-04-28 | 1969-05-06 | Rca Corp | Superconducting ribbon |
GB1206472A (en) * | 1967-05-23 | 1970-09-23 | British Insulated Callenders | Improvements in electric conductors and electric power cables incorporating them |
US3427391A (en) * | 1967-09-20 | 1969-02-11 | Avco Corp | Composite superconductive conductor |
GB1210192A (en) * | 1968-02-07 | 1970-10-28 | Gulf General Atomic Inc | Apparatus for power transmission |
BE755631A (fr) * | 1969-09-02 | 1971-03-02 | Imp Metal Ind Kynoch Ltd | Perfectionnements aux conducteurs electriques |
US3710000A (en) * | 1970-05-13 | 1973-01-09 | Air Reduction | Hybrid superconducting material |
US3886650A (en) * | 1974-03-28 | 1975-06-03 | Amp Inc | Method and apparatus for precrimping solder rings on electrical terminal posts |
US3990864A (en) * | 1975-06-10 | 1976-11-09 | Rozmus John J | Method of making electrical contacts |
DE2650540C3 (de) * | 1976-11-04 | 1981-05-27 | Klöckner-Humboldt-Deutz AG, 5000 Köln | Starkfeld-Trommelmagnetscheider |
GB2015909B (en) * | 1978-03-03 | 1982-12-01 | Charmilles Sa Ateliers | Electrode for spark erosion machining |
JPS59132511A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-07-30 | 住友電気工業株式会社 | Al安定化超電導々体の製造方法 |
KR900008073B1 (ko) * | 1985-12-07 | 1990-10-31 | 스미도모덴기고오교오 가부시기가이샤 | 코일 및 그 제조방법 |
US4947464A (en) * | 1985-12-07 | 1990-08-07 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Heating coil assembly for an electromagnetic induction cooking assembly |
JP2567912B2 (ja) * | 1987-05-13 | 1996-12-25 | 住友電気工業株式会社 | 超電導線、超電導コイルおよびそれらの製造方法 |
US4894556A (en) * | 1987-06-15 | 1990-01-16 | General Dynamics Corporation, Convair Division | Hybrid pulse power transformer |
US5189260A (en) * | 1991-02-06 | 1993-02-23 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Strain tolerant microfilamentary superconducting wire |
US5620798A (en) * | 1995-05-17 | 1997-04-15 | The Babcock & Wilcox Company | Aluminum stabilized superconductor supported by aluminum alloy sheath |
JP2891970B2 (ja) * | 1997-10-17 | 1999-05-17 | 株式会社青山製作所 | ワイヤかしめシャフトの加工方法 |
JP4719897B2 (ja) * | 2005-03-03 | 2011-07-06 | 国立大学法人 千葉大学 | 金属コアを有する圧電ファイバが埋設された機能性複合材料 |
US20110162206A1 (en) * | 2010-01-07 | 2011-07-07 | Shyh-Ming Chen | Method for connecting heat-dissipating fin and heat pipe |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2837818A (en) * | 1954-07-06 | 1958-06-10 | Storchheim Samuel | Method of solid state welding |
US2875312A (en) * | 1956-09-27 | 1959-02-24 | Thermel Inc | Heating assembly and method of production thereof |
US3247473A (en) * | 1959-11-09 | 1966-04-19 | Corning Glass Works | Cold diffusion bond between acoustic delay line and back electrode or acoustic absorber |
US3110796A (en) * | 1960-07-15 | 1963-11-12 | Gen Motors Corp | Cooking unit |
US3107422A (en) * | 1961-05-16 | 1963-10-22 | Bendix Corp | Rhodium diffusion process for bonding and sealing of metallic parts |
US3366728A (en) * | 1962-09-10 | 1968-01-30 | Ibm | Superconductor wires |
US3200368A (en) * | 1963-04-05 | 1965-08-10 | Avco Corp | Superconductive connector |
US3251128A (en) * | 1963-06-18 | 1966-05-17 | Allis Chalmers Mfg Co | Method of applying a low resistance contact to a bus |
US3256598A (en) * | 1963-07-25 | 1966-06-21 | Martin Marietta Corp | Diffusion bonding |
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