DE1496923A1

DE1496923A1 - Verfahren zum galvanischen Abscheiden bzw. Niederschlagen einer Dekorationsglanzchromplattierung bzw. eines Dekorationsglanzchromueberzuges

Info

Publication number: DE1496923A1
Application number: DE19661496923
Authority: DE
Inventors: Hyman Chessin; Seyb Jun Edgar J
Original assignee: M&T Chemicals Inc
Current assignee: M&T Chemicals Inc
Priority date: 1965-04-16
Filing date: 1966-04-14
Publication date: 1969-05-22
Also published as: GB1148070A; ES325565A1; BR6678774D0; NL6605110A; CH482839A

Description

PATINTANWHtTI DR.-ING. H. FINOKE DIPL.-INQ. H. BOHR DIPL.-ING, 8. STAEQER

Fernruf) 234»41

• MUNOHIN 6,

14. Apr. Γ9ββ

M 20 685 Case 551

Dr. Expl.

Bead h r ö i b u η g txta Ratent'geouch

der Firma MS»T (SEUICALB IHC, Sew York, N.Y., U. S. A.

betreffend

"Verfahren sum galvanischen Abscheiden besiehungsweise Niederachlagen einer OefcoretionsglanBchromplattierung beziehungsweise eines Dekorationsglanrchrosiüber-

Firioriträten» 16. Apspil 1965 -

Die Erfindung besieht sich auf ein neues Verfahren, aur galvanischen Abscheidung beziehungsweise Niederschlagung von Decorationsglänzchrom. Im besonderen betrifft sie ein Verfahren xur Erzielung von Dekorationaglanachrom im wesentlichen frei von weißen pustel*· artigen Pleckon beziehungsweise Butasen beziehungsweise flockigen Teilen (blotchy patches) in Bädern sum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom mit hoher Bedeckung.

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Wie es dem Fachmann wohlbekannt ist, können verschiedene Grund- beziehungsweise Basismetalle mit Chrom plattiert beziehungsweise überzogen werden. Es wurde festgestellt, daß während des Plat tier ens beziehungsweise Oberziehens mit Chrom die Bedeckung in Bereichen niedriger Stromdichte (typischerweise unterhalb etwa 3 bis 4· A/ctm ) nicht völlig zufriedenstellend sein kann und diese Bereiche können häufig wenig oder überhaupt keine Plattierung beziehungsweise wenig oder überhaupt keinen Überzug erhalten« Frühere Versuche zur Abhilfe gegen diesen Fehler beziehungsweise Mangel umfaßten die Verwendung von Hilfsanoden; zwar kann diese Maßnahme ein wenig Verbesserung ergeben, die Nachteile derselben sind jedoch zahlreich und wohlbekannt. Typischerweise ist die Belastung mit der richtigen Anordnung beziehungsweise Einstellung der erforderlichen Anoden unerwünscht und die Kosten der Wartung beziehungsweise Unterhaltung derselben auf Plattier-j Galvanisier- bszlehungsweise Überziehgestellen sind β ehr hoch.

Andere Verfahren, welche versucht wurden, umfassen die Verwendung von verschiedenen Zusätzen in den Bädern, diese Zusätze vermochten jedoch entweder nicht das erwünschte Ergebnis zu liefern oder steuerten gleichzeitig irgendwelche neue Fehler beziehungsweise Mängel an der Flattierung beziehungsweise am Überzug oder beim Verfahren bei. Derartige Fehler beziehungsweise Mangel umfassen die Erzeugung einer weißlichen pustelartigen beziehungsweise fleckigen Plattierung beziehungsweise eines weißlichen pustelartigen beziehungsweise fleckigen Überzuges (blotchy plate), die beziehungsweise der Passivitätsflecken in Erscheinung treten läßt. Wegen dieser Probleme ist es anerkannt, daß Versuche des Standes der Technik zur

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Erzielung eines Dekorationsglanzchromes mit hoher Bedeckung über der gesamten Oberfläche der Kathode, deren Plattieren beziehungsweise Überziehen erwünscht ist, insbesondere in den Bereichen niedriger Stromdichte, nicht völlig erfolgreich waren.

Ss ist ein Ziel der Erfindung, ein Verfahren, bei welchem mittels Bäder zum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom mit einem hohen Verhältnis von Chrom zu SuIf at ionen in allen Stromdichtebereichen unter Erzielung einer Plattierung beziehungsweise eines Überzuges» welche beziehungsweise welcher frei von pustelartigen Passivitätsflecken ist, zufriedenstellend mit Chrom plattiert beziehungsweise überzogen werden kann, bereitzustellen· Andere Ziele ergeben sich aus der folgenden Beschreibung.

Nach bestimmten Merkmalen umfaßt das erfindungsgemäße Verfahren zum galvanisches Abscheiden beziehungsweise niederschlagen einer Sekorationsglanzchromplattierung beziehungsweise eines Decorationsglanzchromüberzuges auf einer Grundmetall- beziehungsweise Basismetallkathode das Bereitstellen eines Bades zum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom mit einem Gehalt an Chromsäure und Sulfat im Verhältnis von 125 t. 1 bis 550 : 1, das Halten einer Anode im genannten Bad zum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom, das Eintauchen einer Grundmetall- beziehungsweise Basismetallkatliode in das genannte Bad, das Anlegen eines negativen Potentialwer1;ss unterhalb des zur Ermöglichung der galvanischen Abscheidung beziehungsweise Niederschlagung von Chrom in im wesentlichen allen Soi-eichen der genannten Kathode ausreichenden Wertes an die genasm-fco Gmm&metall- beziehungsweise BasiasietalXfcafclic&e

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vor dem. Eintauchen und das Erhöhen des Stromes an der genannten eingetauchten Kathode sum Hervorbringen einer Chromplattierkathodenßtromdichte beziehungsweise einer Ohroinuberziehlpathodenstroindichte, wodurch die genannte Kathode mit Chrom plattiert beziehungsweise übersogen wird.

Daß Bad sum Plattieren beziehungsweise übersiehen mit Chrom, welches bei der Durchführung der Erfindung verwendet werden kann, kann ein© wäßrige Lösung mit einem Gehalt an Chromsäure (CrO₃) in einer Menge von I50 g/l bis 500 g/l, beispielsweise 250 bis 400 g/l_f wie 250 g/l, und Sulfationen (SQ^**²) in einer Menge von 0,4 bis 5i3 g/l« wie 1,2 g/l, welche typischerweise als Natriumsulfat zugesetzt werden, sein. Bei der Durchführung der Erfindung wird das Verhältnis von CrO, : SO^ vorsugsweise auf 125 * 1 "bis 550 : 1, beispielsweise 200 : 1 bis 300 : 1, wie 250 : 1, gehalten.

Es ist ein besonderes Merkmal der Erfindung, daß die neuen Ergebnisse a) in einem wie oben beschriebenen sich nicht selbst regelnden Standardbad oder b) in einem Mischkatalysatorbad oder c) in einem sich selbst regelnden Bad erreicht werden können. Ein typisches Mischkatalysatorbad, welches verwendet werden kann, kann Chromsäure (CrOz) in einer Menge von I50 bis 500 g/l, beispielsweise 250 bis 400 g/l, wi© 250 g/1, Sulfationen (SO^"²) in einer Menge von 0,05 bis 2,0 g/l, wie 0,6 g/l, und Silicofluoridionen (SiFg*"²) in einer Menge von 0,05 bis 2,0 g/l, wie 0,6 g/l, enthalten. Es sei bemerkt, daß das Verhältnis, wie der Begriff ia dieser Anmeldung verwendet

wird, sich auf das Verhältnis ^OrO5 , worin dede der Mengen

² J⁵

SO₄ ² + 909821/0891

MB OHOlNAL

i Li -. >--. Q / "'S

in Grammen ausgedrückt ist, bezieht. Es können auch andere Fluoride einschließlich komplexer Fluoride verwendet werden. Wenn kein Fluorid (other fluoride^ v/ie SiF", zugegen ist, kann das Vsrhält

n±B zn -=—2j₅ tt'eräen. In der Praxis wird das Verhältnis

=-=——-~ -vorzugsweise auf 12? ; 1 bis 550 : 1, ibeispißlsY/ei- ^ + SiF₆"²

se 200 : 1 bis 5^0 : 1_? wie 250 : 1, 6ökälfc^en° %& ö-©^ Beschreibung und in den Ansprüchen iTird das Verhältnis der Einfachheit halber als das Verhältnis von Chromsäure zu Sulfat besaichnet; es ist jedoch darauf hinzuweisen, daß das so bezeichnete Verhältnis als Äquivalent von Sulfat andere anorganisch© Ionen einschließlich FlüoricUoiian, vrie das Silicofluorid- beziehungsweise Fluosilikation, das Fluoboration, das Pluotitanation, uswo, umfassen kann* So usifaßfc die Bsseichnung "Chromsäure zu Sulfat

s SO,."'²}" Ckroasäure su Sulfat + Fluorid, wie Silicofluorid

, wi©

₄ * Fluorid wenn das letztere zugegen ist·

D5.e E:-?findung kann auch bei ©insn sich selbst regelnden Ba&_t beispielsweise des Siilfattyps_s welches Chromsäure in einer Menge von 150 bis 500 ε/1s beispielsweise 250 Ms 400 g/l, wie 25Ο e/l_t VV.6. Stpozrjiuiasulfat in ©iner Menge von 0,6 bis 10 g/l, wie 5 g/l, soxyie ssgebenenfalls eine zusätsliche Strontiumverbindung als Quells? von überschüssigen Strontiumionon, wie Stroutiumbydroxyd _s StroKtiUE. shi^sLa'; _v xlsv:* _t in Mengen _t die 0 bis 12 g Strontiumio-

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(3r )/l_s wie 4,5 S Stronfciumionea (Sr⁺)/!, ergeben, enthalten kann, angewandt worden. Das Verhältnis von CrQ;, s &®ιΐ" wird vorzugsweise auf 125 '> 1 ^is 55° s **» "beispielsweise 200 : 1 Us 300 j 1, wie 250 t 1, gehalten.

Die Anode, welch© im erfin&uagsgemäßen Vorfahren verwendet wer~ den kann, kann ©in Material, welches beim Plattieren beziehungsweise Üfcer sieben mit Chrom üblicherweise verwendet wird, beispielsweise Blei beziehungsweise eine Bleilegierung, sein. Bei Durchführung des erfindungsgeaäßen Verfahrens muß die Mode nicht der Eorm der Kathode entsprechen beziehungsweise aagepaßt sein.

Das örfindui^ssemäße Verfahren kaan zum Plattieren beziehungsweise Uberaiehen eines Grund- besiehu;asßv?öise BasisHetalles mit Chrom aus Bädern sum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom mit eines hohen Yerhältnis von Chromsäure au Sulfat verwendet werdeno Es ist ein besonders Merkmal der Erfindung, daß eine hervorragende Piattierung beziehungsweise edm hervorrägandor Überzug ait Chrom erhalten werden kann, wenn das Grund» beziehungsweise Basismetall ein Metall mit der 'Atoaamxtmet; beziehungsweise Ordnungszahl 2^ bis 301 beispielsweise Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt,, Nickel_t Kupfer beziehungsweise Zink, ist» Auch Mischungen bosiehungsweise Legierungen dieser Metalle, wie Messing* usw., können plattiert beziehungsweise überzogen werden» Das bevorzugte Grund- beziehungsweise Basiemetall ist Nickel, insbesondere aktives Hickel.

Aktives Hlokel ist ein Efödcel, welches für die Abscheidung beziehungsweise Niederschlagung einer klaren besiehungswoise hellen

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Dekorationsglanzchromplattierung. beziehungsweise eines klaren beziehungsweise hellen Dekorationsglanzchromuberzuges auf ihm sehr empfänglich ist und eine Oberfläche , welche frei von Nickelverbindungen, wie dem Oxyd, ist, hat. Typischerweise kann Nickel durch Eintauchen in eine Säure oder durch eine kathodiöche beziehungsweise andere Reduktionsbehandlung vor der Abscheidung beziehungsweise Niederschlagung der Plattierung aus Chrom beziehungsweise des Chromüberzuges auf ihm aktiv gemacht werden« Vorzugsweise wird dies durch Halten des Kickeis als Kathode in einer wäßrigen Elektrolytlösung, insbesondere mit einem ,Gehalt an einer Säure, bewerkstelligt* Die bevorzugten Säuren zur Verwendung entweder bei den elelrfcroIytischen oder bei den nicht-eloktrolytischon Verfahren sind die gewöhnlichen Mineralsäure!, beispielsweise Salzsäure, Schwefdaäure, usw. Wenn die wäßrige Elektrolytlösung nicht .sauer, ist, kann vorzugsweise eine saure Tauchung beziehungsweise eine Tauchung in Säure folgen.

Es wurde erfindungsgeoäß festgestellt, daß wenn an die Grundmetall- beziehungsweise Basismetalllcathbde zur Zeit ihres Eintrittes in das Bad zum Plattieren beziehungsweise überziehen mJ.t Chrom eine niedrige Spannung angelegt wird und nach dem Eintauchen die Spannung zur Erzielung der Chromplattierkathod^strondichte beziehungsweise Chromüberziehkathodenatromdichte, beispielsweise auf 8 bis 60 A/dm², wie 15 A/dm², erhöht wird, alle Bereiche der mit Chrom zu plattierenden beziehungsweise zu überziehenden Kathode sich besondere durch die Abwesenheit von pustelartigsn Passivitätsflecken auszeichnen, ferner können selbst Gegenstände mit tiefen Einschnitten, Vertiefungen beziehungsweise Aussparungen, wie spritzgegoßsene Fahrzeuginstrumentsnbrettdakorationsschilder auf der Grundlage von mit

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Kupfer und Nickel plattiertem beziehungsweise überzogenem Zink (copper and nickel-plat ed .sine based die cast automotive dashboard, trim), in Bereichen hoher und niedriger Stromdichte mit Bädern mit einem hohen Verhältnis von Chromsäure zu. Sulfat ohne Verwendung einer Anpassungsanode (conforming anode) unter Erzielung einer glänzenden gleichmäßigen Plattierung beziehungsweise eines glänzenden gleich mäBigen Überaus es ganz plattiert beziehungsweise überzogen werden, wenn das erfindungsgemäße Verfahren verwendet wird«

Sie. Bäder zum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom können andere Zusätze, wie Carbonsäuren, die nicht substituiert sein können oder Substituenten, beispielsweise Halogene, aufweisen können, welche die Erhöhung der Bedeckung der Kathode und die Streuung beziehungsweise Streufähigkeit (throwing power) in einem noch größeren Ausmaß, als ea normalerweise durch Verwendung dee erfIadungsgemäßen Verfahrens erhalten wird, fördern können, enthalten·

Typische als Zusätze verwendbare Carbonsäuren umfassen aliphatische.Monocarbonsäuren, wie Essigsäure, Propionsäure, Butter*· säure, Valeriansaure (pentanoic acid), Isobuttersäure, Cyclohexanmonocarbonsäure, 2-Chlorpropionsäure, 5-Brompropionsäure; 3-Jodproplonsäure, 2-Chlorbuttersäure, Chlörpivalinsäure, 2-Chlorvalerlansäure (2-chloropentanoic acid), 2,2-Dichlorpropionsäure, 2,2,3-Trichlorpropionsäure und Pentafluorpropionsäure, aliphatische Polycarbonsäuren, wie Malonsäure, Fumarsäure, Bernsteinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure, Pimelinsäure, Chlormalonsäure, 2-Chlorbernsteinsäure, 2-Brombernsteinsäure, 2-Chloradipinsäure, 2,2-Dichlorbernsteinsäure, 2,2-Bichloradip:lnsäure, Tetrachlorbemstein-

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säure« 2,5-Dibroffib ernste insäur β, 3,3~Dijodbernsteinsäure und j 5,4-DicUloradipinsätire, aromatische Monocarbonsäuren, wi© p-Sulfo~ benzoesäure, 3-Chior-4~sul£obenzoesäure, 3~Brom«-4~sulfobensoesäure, 3,5-Diehlor-A-sulf obeazoesäure' und 3 »6-Dibrom-4-sulf obenzoesäiare _t sowie arosatiec&c Polycarbonsäuren, wie Phthalsäure, Terephthalsäure, ^-Chlorpiii&alsäure, 3-BrciaterepIithalßäure, 3,4-Dichlorphthalsäure, 3,4-Bibroaphthalsäure und 4,5-Dicnlo^phthalsäure· Gafbonsäurezusätse können wimechcnsw&rterweise in Bädern zum Plattieren beziehungsweise überziehen mit Chrom in Mengen von 0,5 g/l bis zur Sättigung, vor-Eugsweise von 5 δ/1 bis zur Sättigung, insbesondere von 15 bis 100 g/l, ganz besonders von 25 bis *K> g/1« zugegen sein.

Die Spannung, welche an der Kathode angelegt wird, kann vor dem. Eintritt der Kathode in die Losung eum Plattieren besiehungswexse Überziehen, typischerwei^e mehrere Sslcunden vor dem Eintritt, be» ziQhungsweise gleichseitig mit dem Eintritt in die Lösung zum Plattieren beziehungsweise Überziehen angelegt werden· So fließt zu jeder Seit, wenn die Kathode in das Bad eingetaucht ist, Strom hindurch» Die an die Kathode angelegte niedere Spannung erzeugt, wenn sie in das Bad eintritt, einen Strom und eine Stromdichte unterhalb des zum Flattieren beziehungsweise überziehen von im wesentlichen allen Bereichen ö.ev Kathode ausreichenden Standes« Die gelieferte Spannung kam ausreichen, um beim Eintauchen der Kathode eine Strom» dichte von. vorzugsweise weniger als ^j der Chromplattierkathodenstromdichte beziehungsweise Chromüberziehkathodenstroadichte zu ergeben _o Die vor dem Eintauchen angewandte Spannung Vann beispielsweise 1 bis 4- V₉ wie 2,5 bis 3 V*, betragen. Die Chromplattierkathodenstromdicb.tc besichungswoise Chromlberziehkathodenstrojaäichte kann

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O "bio 60 A/usr^ wie 15 A/dm , betragen, Zu dieser

«sit kann in dea Bereichen hoher Stromdichte etwas Plattieren besiehungsv7el3e übersiehen eintreten« Sobald dor Strom «nd damit die StroEdichte asi der Sathode srhöht wird, vergrößert si»sh der plattierte besielitsiigsvreise übers ogosie Bereich der Sathode, bis alle er-wÜE3Cii1;en KathoaenbssTeiehe einschließlich der Bereiche niedriger Stromdichte gXoic'aEäßig plattiert besiohuiisssjQise überzogen sind. Die in dieser Weise erss-ttgte Plattierung beziehungsweise der in dieser Weis© erseugtö überzug zeichnet sich durch die Abwesenheit von pustelartigen Passivitätsflecken au£_o

Der Änfangs3tro2E kana allmählich oder stufenweise auf den ?/ort, bei welchen alle erwünschten Eathcdcaibereiche plattiert beziehimgsweise übsraosen. werden, srhöht werdcaio Wenn die ^thoie in die Lösung sum Plattieren bssiahunssweisa überziehen eintritt, kann 3ie Qija® Spannitnst die eine Stromdichte von etwa O₅OI bis 1,0 ä/uet liefert^ aufweisea«, Dissa Stromdichte kann denn allmäälich auf einen Wert, bei welchen alle ns2mensv;ertcn KathodeBbereiche plattiert be~ ziehungswsise überzogen werden, bei£?pielsweise aiii 15 A/dm², erhöht Worden« Die alloähliche Ss-höhung (Lbh Stromes kann während eines Zeiteaumes von aindestema 2 Sekun&an erfolgen und kann sogar länger als 60 Sekunden dauern, obwohl ein 2ieitraun von 5 Sekunden, insbesondere von 10 bis 50 Selnm&en, bevorsugt ist.

Nach bestimmten anderen. Merkmalen der 22fc£LnöU2g kann die baim Eintri-tt der Kathode in das Bad zum Plattieren besiehimgsweise Übersiehea vorliegende Anf angsstrosMchte, beispj.elsweisp. t.twa 0 _s01 bis 1₁0 A/dia""*, Torsugcweise 0_t1 A/äsi , während eines kuraea Sei braunes,

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beispielsweise 5 bis 10 Sekunden, vorzugsweise 5 bis 10 Sekunden, während dessen öle Oberfläche der Kathode in aktivem Zustand gehalten wird, aufrechterhalten werden» Der Strom (und die entsprechende Stromdichte) ^™ dann stufenweise auf einen Wert von ^g bis ^ , vorzugeweise 4 » cLer zum Plattieren beziehungsweise überziehen im wöchentlichen aller Bareiche der Kathode erforderlichen Stromdichte, beispielsweise auf 1,5 bis 12 A/dm², erhöht werden und 2 bis 60 Sekunden, vorzugsweise 5 bis 60 Sekunden, insbesondere 10 bis 30 Sekunden, während welcher Zeit die Oberfläche der Kathode in den Bereichen hoher Stromdichte fortschreitend plattiert beziehungsweise überzogen werden kann, auf diesem Wert gehalten werden. Der Strom kann dann auf den vollen HiederschlagungEsre?$ (strike value}, beispielsweise auf 15 A/dar» bei welcher Stromdichte alle erwünschten Kathodenbereiche plattiert beziehungsweise überzogen werden können, erhöht werden«

Während der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird das Bad sum Flattieren beziehungsweise Überziehen mit Chro.m vorzugsweise auf 30 bis 60°C, beispielsweise» auf 55 bis 50⁰C, gehalten· Das Flattieren, besiehungsweise Überziehen kann unter Luftrührung beziehungsweise mechanischer Rührung während einer zur Erzielung der erwünschten Dicke ausreichenden 2ieit durchgeführt werden, für Dekorationsplattierungen beziehungsweise -überzüge wird jedoch eine zufriedenstellende 'Flattierung beziehungsweise ein zufriedenstellender Überzug ia allgemeinen 1 bis 10 Zlinuten nach dem Eintritt der "heißen" (Spannung aufweisenden) Kathode in die Lösung zum Plattieren beziehungsweise Überziehen erhalten; typischerweise können etwa 5 Minuten genügen.

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Die Erfindung wird an Hand der folgenden nicht als Beschränkung auf auf assenden Beispiele näher erläutert. In diesen wurde Chrom auf einer um mehrere Winkel von 90° gebogenen mit nickel plattierten beziehungsweise mit Nickel überzogenen Messingplatte beziehungsweise »tafel abgeschieden beziehungsweise.niedergeschlagen*

Beispiel 1

Bs wurden 1 000 Teile eines wäßrigen Bades ßum Plattieren beziehungsweise Überstehen mit Chrom nit einem Gehalt an 575 Teilen Chromsäure und 1_t8 Teilen Sulfationon hergestellt und eine Bleianode wurde in dieses eingetaucht. J>ae Bad wurde auf einer Temperatur von 38°C gehalten· Es wurde eine Vorgabespannung (preset voltage) von 2,7 V an eine um Winkel von 90° gebogene mit Nickel plattierte beziehungsweise überzogene Uessingplattenkathode angelegt. Die Kathode wurde dann in das Bad sum Flattieren beziehungsweise überziehen eingebracht» wodurch sich eine Anfangsstromdichte von 0,1 A/dm ergab. Die Stromdichte wurde dann während eines Zeitraumes von 15 Sekunden allmählich auf einen Wert von 15 A/dm erhöht*.Das Plattieren beziehungsweise Überziehen wurde dann insgesamt 5 Minuten fortgesetzt. Die erhaltene Plattierung mit Chrom beziehungsweise der erhaltene Chromüberzug zeichnete sich durch eine hohe Bedeckung der Kathode und das Freisein von pustelartigen Passivitätsflecken beziehungsweise -bereichen aus. ·

Beispiel 2

Als Kontrollvex'sueh wurde «iedarvm. das die Anode des Beispieles 1 aufweisend© Bad hergestellt und auf 38°0 gehalten» Ss wurde oi-

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no um Winkel von 90° gebogene mit Nickel plattierte beziehungsweise überzogene Messingkathode in das Bad eingeführt, jedoch ohne Strom. 2 Sekunden nach der Einführung der Kathode in das Bad wurde insgesamt 5 Minuten eine Stromdichte von 15 A/dm zwischen den Elektroden angewandt. Die erhaltene Plattierung mit Chrom beziehungsweise der erhaltene Chromüberzug hatte pustelartige Passivitätsberaiche, welche ihr beziehungsweise sein Aussehen ganz unannehmbar machten.

Beispiel 3

Sa wurden 1 000 Teile eines wäßrigen Bades zum Plattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom mit einem Gehalt an 250 Teilen Chromsäure, 1,0 Teilen Sulfationen und 30 Teilen Bernsteinsäure hergestellt und eine Bleianode wurde in dieses eingetaucht. Das Bad wurde auf einer Temperatur von 49°C gehalten. Es wurde eine Vorgabespaimung von 2,8 7 an eine um Winkel von 90° gebogene mit Nickel plattierte beziehungsweise überzogene Messingplattenkathode angelegt» Dici Platte wurde dann in das Bad zum Plattieren beziehungswei·* se Überziehen eingebracht, wodurch sich eine Anfangsstromdiohte von 0,2 A/dm** ergab» Die Stromdichte wurde dann während eines Zeitraumes von 5 Sekunden allmählich auf einen Wert von 30 A/dm* erhöht. Das Plattieren beziehungsweise überziehen wurde dann insgesamt 2 Minuten fortgesetztο Die erhaltene Plattierung mit Chrom beziehungsweise der erhaltene Chromüberzug zeichnete sich durch eine hohe Bedeckung der Kathode und das Freisein von puetelartigen Passivitätsflecken t-03iehungswei3ö -bereichen aus.

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Beispiel ^

Es wurden 1 OQO Teilo eines wäfti?igen Bades zum Plattieren be-2&ehungi3v?eise Überziehen alt Chrom Mt einem Gehalt an 300 Seilen Chromsäure, 8 Teilen Strontiumsulfat, 4 Seilen Strontitaachromat und 1 Teil Hatriumsilieo£luor:ld besiehmigsweise IJatriumfluosiliicat hergestellt land eine Bleianocle wurde in dieses eingetaucht» Das Bad wrdo auf oiaer lemporatus? von 33°C gehalten· Es wurde eine um Winkel von 90° gebogene nit lllokel plattierte beziehungsweise überzogene Messingplattsnkatho&e durch den Draht awiscaen der Kathode, und einer Stromquelle an einen Widerstand von 50-Λ angeschlossen» Es vnirde eine Vorgabeapannung (preset voltage) von 4-,O V an die Kathode angelegt, welche dann in dan Bad zum Plattieren beziehungsweiße Überziehen eingebracht wurde, wodurch sich eine Anfangsstroiadicht© von weniges als 0,05 A/dia ■ eingab- ITach 10 Sekunden wurde der Widerstand von 50Λ alt einem Schal tor kursgeachlossen ₉ so daß die Stromdichte au^ M- A/um e3?höht wurd«. Nach 2 8e3cunden bei dieser Btromdichte wurde der Widerstand noch einmal kurzgeschlossen„ so daß die Stromdichto auf 12 A/dm erhöht wurde. Das Flattieren beziehungsweise überziehen wurde dann insgosant 1 Minute fortgesetzte Die er* haltene Plattierung mit Chrom beziehungsweise der erhaltene Chromüberzug zeichnete sich drusch eine hohe Bedeckung der Kathode und das Freisein von pustelartigeu Passivitatsfleclcen beziehungsweise «*bereichen aus.

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lee 5. verwendende Verfahrensweise wiederholt, wobei jedoch der Anschluß besiehungsweise die Anschaltung einer um einen Winkel von 90° gebogenen mit Nickel plattierten beziehungsweise überzogenen Heesingkathode an den Wideretand urvollst&ndig war und die Kathode bei ihrem Eintritt in daß Bad keine aufgedrückte beziehungsweise angelegte Spannung hatte« Räch 10 Sekunden langest Eintauchen der Kathode wurde eine Stromdichte von 12 A/dm zwischen den Elektroden während insgesamt 1 Minute angewandt« Die erhaltene Plattierung mit Chrom beziehungsweise der erhaltene Chromüberzug hatte pustelartige Paesivitä^eflecken beziehungsweise -bereiehe.

Es sind verschiedene Abwandlungen der Erfindung möglich.

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Claims

Patentansprüche

Verfahren zum galvanischen Abscheiden beziehungsweise Niederschlagen einer Dekorationsglanachromplattierung beziehungsweise eines Dekorationsglanzchroinnberzugee auf einer Grund-EiBtall- beziehungsweise Basismetallkafchode, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Bad sum Flattieren beziehungsweise überziehen mit Chrom mit einem OeMIt an Chromsäure und Sulfat im Verhältnis von 125 J 1 blei 550 : A bereitstellt« eine Anode im Bad zürn Flattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom hältV eine Grundmetall- hesieürangsweise Basismetallkathode in das Bad eintaucht t an die Gruia&metall- beziehungsweise Basis·» aetallkathode vor dem Eintauchen ein negatives Potential unter· halb des zur Ermöglichung der galvanischen Abscheidung beziehungsweise Niederschlagung von Chrom in im wesentlichen allen Bereichen der Kathode ausreichenden Wertes anlegt und den Strom an der eingetauchten Kathode auf eine Chromplattier kathodenstromdichte beziehungsweise eine Chromüborzieh-

• v kathodenstromdichte erhöht·

2.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Bad zum Flattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom ein solches mit einem Gehalt an einer Carbonsäure, vorzugsweise Bernsteinsäure, verwendet.

Vorfahren nach Anspruch 1 oder 2', dadurch gekennsselehnet, daß man als Grundmetall- beziehungsweise Basismetallkathode Nickel verwendet.

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Vorfahren nach Anspruch 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß man an die Grundmetall- beziehungsweise Basisiaetallkathode bei ihrem Eintritt in das Bad zum Flattieren beziehungsweise Überziehen mit Chrom eine solche Spannung, die eine dichte γόη etwa 0,01 bis 1,0 A/dm , vorzugsweise von 0,1 bis

1,0 A/dm , ergibt, anlegt.

5») Verfahren nach Anspruch 1 bi3 4, dadurch gekennzeichnet, daß man die Erhöhung dar Stromdichte während eines Seitraumes von mindestens 2 Sekunden, vorzugsweise von 15 bis 60 Sekunden, vom Wert zur Zeit des Eintauchens auf die Stromdichte, welche alle Bereiche der zu plattierenden beziehungsweise zu übersiehenden. Grundmetali- beziehungsweise Basismetallkathode plattiert beziehungsweise überzieht, durchführt»

6») Verfahren nach Anspruch 1 bißt 5» dadurch gekennzeichnet, daß man die Erhöhung dsr Stromdichte allmählich durchführt·

7c) Verfahren nach Anspruch 1 bis? 5, dadurch gekennzeichnet, daß man die Erhöhung der Stromdichte stufenweise durchführt, wobei man zuerst die Stromdichte vom Wert zur Zeit des Eintauchens der Grundmetall- beziehungsweise Basismetallkathode während ihres Eintrittes in das Bad zum Plattieren ■beziehungsweise Überziehen mit Chrom auf einen Wert von ^ bis ^ , vorzugsweise 4 , der Ohromplattierkathodenstromdichte beziehungsweise Chromütorziehkathodenstromdichte erhöht, die genannte Stromdichte 2 bis 60 Sekunden, vorzugswei-

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se 10 bis 50 Sekunden, aufrechterhält und dann die Stromdichte auf die Chromplattierkathodenstromdichte beziehungsweise Chroiaüberziehkathodenst^omdichte erhöht.

8.) Verfahren nach Anspruch 1 bi3 5 oder 7» dadurch gekennzeichnet, daß man den während des Eintauchens der Grundmetall- beslehungsv/eise Basismatallkatiioae angelegten negativen Potenialwert vor der Erhöhung der Stromdichte 5 bis 10 Sekunden lang aufrechterhält.

PATENTANWÄLTE

DIt-ING H. FINCK DIPL.-ING. K W3W DIPL-INQ S.STAE·»

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