DE1278124B - Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl.Info
- Publication number
- DE1278124B DE1278124B DE1965L0051536 DEL0051536A DE1278124B DE 1278124 B DE1278124 B DE 1278124B DE 1965L0051536 DE1965L0051536 DE 1965L0051536 DE L0051536 A DEL0051536 A DE L0051536A DE 1278124 B DE1278124 B DE 1278124B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- chrome
- chromium
- graduations
- reflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25H—WORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
- B25H7/00—Marking-out or setting-out work
- B25H7/02—Plates having a flat surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25H—WORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
- B25H7/00—Marking-out or setting-out work
- B25H7/04—Devices, e.g. scribers, for marking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Meßmarken, Gittern u. dgl. Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Meßmarken, Gittern u. dgl. auf fotomechanischem Weg nach Patentanmeldung L 51193 IX b / 42d (deutsche Auslegeschrift 1262 027).
- In der Patentanmeldung L 51193 IX b / 42 d (deutsche Auslegeschrift 1262 027) ist ein derartiges Verfahren beschrieben, das durch folgende Schritte gekennzeichnet ist:
Die Aktivierung der Chromschicht erfolgt danach vorzugsweise auf elektrochemischem Weg. Das Aufbringen der Schichten kann auf chemischem Weg oder durch Aufdampfen im Vakuum erfolgen.1. Aufbringen einer Chromschicht auf einen als Trägerkörper der Teilungen, Meßmarken u. dgl. vorgesehenen Grundkörper; 2. überziehen der Chromschicht mit einer licht- empfindlichen Schicht; 3. die von einem Original erzielte Kontaktkopie entwickeln und den nicht belichteten Teil der Schicht entfernen, dann 4. die freigelegte Chromoberfläche aktivieren und anschließend diese frei liegende Chromschicht ablösen und 5. die restlichen Teile der lichtempfindlichen Schicht entfernen. - Da das relativ hohe Reflexionsvermögen der Chromschicht, insbesondere bei einer Auflichtbeleuchtung der Teilungen, Meßmarken u. dgl., in vielen Fällen stört, wird in an sich schon lange bekannter Weise vorzugsweise durch Aufbringen von Interferenzschichten die Reflexion weitgehend unterdrückt. Das ist beispielsweise durch Aufbringen einer Titandioxidschicht möglich, deren Dicke aus den Fresnelschen Gleichungen herzuleiten ist. Da das Aufbringen dieser zusätzlichen Schicht das Ätzen der Chromschicht nach dem oben beschriebenen Verfahren praktisch unmöglich macht, weil die Titandioxidschicht chemisch nahezu unangreifbar ist, kann das Aufbringen der Titandioxidschicht erst nach Fertigstellung der Teilung nach dem oben beschriebenen Verfahren erfolgen. Das bedeutet aber gleichzeitig, daß die Titandioxidschicht sich auch auf den von der Chromschicht nicht bedeckten Teilen des Trägers niederschlägt, was dann wiederum zu einer meist unerwünschten Erhöhung der Reflexion des Trägers führt.
- Diese Nachteile werden erfindungsgemäß dadurch vermieden, daß nach dem Aufbringen der Chromschicht auf den Träger auf die Chromschicht eine etwa 100 bis 200 A dicke Zwischenschicht aus einer Substanz, die zusammen mit einem Ätzmittel eine Aktivierung der Chromschicht ermöglicht, und anschließend eine reflexmindernde Mischschicht aus mindestens zwei Substanzen, von denen mindestens eine durch das Ätzmittel für das Chrom angreifbar ist, aufgebracht werden. Beispielsweise kann dafür eine reflexmindernde Schicht aus Titandioxid und Zinkoxid verwendet werden, deren Brechungsindex auf die Reflexion der Chromschicht so eingestellt werden kann, daß eine möglichst hohe Reflexionsminderung erzielt wird. Bekanntlich soll dazu der reflexmindernden Schicht gleich der Wurzel aus dem Brechungsindex der Unterlage sein.
- Es hat sich als besonders zweckmäßig herausgestellt, die einzelnen Schichten unmittelbar nacheinander im Hochvakuum aufzudampfen. Wenn die Aufdampfung in einer sauerstofffreien Atmosphäre erfolgt, kann sogar auf das Aufdampfen der Zwischenschicht verzichtet werden, da durch die reflexmindernde Schicht eine Passivierung der Chromschicht, die ja nur eine Oxydation der Chromoberfläche darstellt, verhindert wird. Es ist dann nur die reflexmindernde Mischschicht erforderlich, deren durch das Ätzmittel für das Chrom angreifbarer Bestandteil durch das Ätzmittel herausgelöst wird, so daß das Ätzmittel an die Chromschicht gelangen kann.
- Selbstverständlich sind zwischen dem Aufdampfen der vorgenannten Schichten und dem Ätzen die unter den Ziffern 2 und 3 genannten Verfahrensschritte nach der Patentanmeldung L 51193 IX b / 42 d (deutsche Auslegeschrift 1262 027) durchzuführen. Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Teilungen, Meßmarken u. dgl. haben den Vorteil, daß sie sowohl im Durchlicht wie im Auflicht benutzt werden können, wobei in jedem Fall die Teilungen als dunkle Markierungen auf hellem Untergrund erscheinen. Zusätzlich erfolgt durch die reflexmindernde Schicht noch ein Schutz der eigentlichen Teilung.
Claims (4)
- Patentansprüche: 1. Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Meßmarken, Gittern u. dgl., bei dem 1. eine Chromschicht auf einen als Trägerkörper der Teilungen, Meßmarken u. dgl. vorgesehenen Grundkörper aufgebracht, 2. die Chromschicht mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogen, 3. die von einem Original erzielte Kontaktkopie entwickelt und der nicht belichtete Teil der Schicht entfernt, dann 4. die freigelegte Chromoberfläche aktiviert und anschließend diese frei liegende Chromschicht abgelöst und 5. die restlichen Teile der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden, nachPatentanmeldung L 51193 IXb/42 d (deutsche Auslegeschrift 1262 027), d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß nach dem Aufbringen der Chromschicht auf den Träger auf die Chromschicht eine etwa 100 bis 200 A dicke Zwischenschicht aus einer Substanz, die zusammen mit einem Ätzmittel eine Aktivierung der Chromschicht ermöglicht, und anschließend eine reflexmindernde Mischschicht aus mindestens zwei Substanzen, von denen mindestens eine durch das Ätzmittel für das Chrom angreifbar ist, aufgebracht werden.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten unmittelbar nacheinander im Vakuum aufgedampft werden.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten im Hochvakuum in einer sauerstofffreien Atmosphäre aufgedampft werden.
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß unmittelbar auf die Chromschicht die. reflexmindernde Mischschicht aus mindestens zwei Substanzen, von denen mindestens eine durch das Atzmittel für das Chrom angreifbar ist, aufgedampft wird.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1965L0051536 DE1278124B (de) | 1965-09-02 | 1965-09-02 | Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1965L0051536 DE1278124B (de) | 1965-09-02 | 1965-09-02 | Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1278124B true DE1278124B (de) | 1968-09-19 |
Family
ID=7274110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1965L0051536 Pending DE1278124B (de) | 1965-09-02 | 1965-09-02 | Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1278124B (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3105934A1 (de) * | 1980-02-22 | 1982-01-07 | Kabushiki Kaisha Mitutoyo Seisakusho, Tokyo | Metallskala und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1965
- 1965-09-02 DE DE1965L0051536 patent/DE1278124B/de active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3105934A1 (de) * | 1980-02-22 | 1982-01-07 | Kabushiki Kaisha Mitutoyo Seisakusho, Tokyo | Metallskala und verfahren zu ihrer herstellung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0002795B1 (de) | Verfahren zum Erzeugen von Masken für lithographische Prozesse unter Verwendung von Photolack | |
| DE2518451C2 (de) | Aufzeichnungsmaterial zur Erzeugung von Metallbildern | |
| EP0000702B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer fliessbeständigen Resistmaske aus strahlungsempfindlichem Resistmaterial | |
| DE1597803B2 (de) | Photomaske zum belichten ausgewaehlter teile einer licht empfindlichen schicht | |
| DE1447916B2 (de) | Verfahren zur herstellung einer feuchtigkeitsfesten, lichtempfindlichen flachdruckplatte | |
| CH619303A5 (de) | ||
| EP0146834A2 (de) | Entwickler für Positiv-Fotoresists | |
| EP0022279B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines optisch transparenten und elektrisch leitfähigen Filmmusters | |
| DE1597756A1 (de) | Maske zum Herstellen einer Maskierung durch Belichten und Herstellungsverfahren | |
| DE1622333A1 (de) | Herstellungsverfahren fuer eine Maske zum Herstellen einer Maskierung | |
| DE10134501A1 (de) | Verfahren zum Bilden von Mikromustern eines Halbleiterbauelementes | |
| DE3428565A1 (de) | Antireflexionsueberzug fuer optische lithographie | |
| DE2016056A1 (de) | Gefärbte transparente Photomaske | |
| DE3105934A1 (de) | Metallskala und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE1923645A1 (de) | Beschichtungsverfahren fuer optische Linsen u.dgl. | |
| DE1278124B (de) | Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. | |
| DE2335072B2 (de) | ||
| DE2358864A1 (de) | Lichtabdeckelement mit niedrigem reflexionsvermoegen und in gewuenschter form des lichtabdeckteils sowie verfahren zu seiner erzeugung | |
| EP0388484B1 (de) | Hochauflösender Photoresist | |
| DE69131732T2 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines Musters | |
| EP0195315A2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Photoresist-Strukturen | |
| DE1920932C3 (de) | Photolack fur die Halbleitermaskierung | |
| EP0226741A2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines positiv arbeitenden Photoresists | |
| DE2855723C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Negativmusters einer Vorlage aus einem Positivlack | |
| DE2930416C2 (de) | Fotoschablone und Verfahren zu deren Herstellung |