DE1278124B - Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl.

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DE1278124B
DE1278124B DE1965L0051536 DEL0051536A DE1278124B DE 1278124 B DE1278124 B DE 1278124B DE 1965L0051536 DE1965L0051536 DE 1965L0051536 DE L0051536 A DEL0051536 A DE L0051536A DE 1278124 B DE1278124 B DE 1278124B
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DE
Germany
Prior art keywords
layer
chrome
chromium
graduations
reflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE1965L0051536
Other languages
English (en)
Inventor
Dipl-Phys Guenther Meinecke
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Original Assignee
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Ernst Leitz Wetzlar GmbH filed Critical Ernst Leitz Wetzlar GmbH
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Publication of DE1278124B publication Critical patent/DE1278124B/de
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25HWORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H7/00Marking-out or setting-out work
    • B25H7/02Plates having a flat surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25HWORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H7/00Marking-out or setting-out work
    • B25H7/04Devices, e.g. scribers, for marking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Meßmarken, Gittern u. dgl. Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Meßmarken, Gittern u. dgl. auf fotomechanischem Weg nach Patentanmeldung L 51193 IX b / 42d (deutsche Auslegeschrift 1262 027).
  • In der Patentanmeldung L 51193 IX b / 42 d (deutsche Auslegeschrift 1262 027) ist ein derartiges Verfahren beschrieben, das durch folgende Schritte gekennzeichnet ist:
    1. Aufbringen einer Chromschicht auf einen als
    Trägerkörper der Teilungen, Meßmarken u. dgl.
    vorgesehenen Grundkörper;
    2. überziehen der Chromschicht mit einer licht-
    empfindlichen Schicht;
    3. die von einem Original erzielte Kontaktkopie
    entwickeln und den nicht belichteten Teil der
    Schicht entfernen, dann
    4. die freigelegte Chromoberfläche aktivieren und
    anschließend diese frei liegende Chromschicht
    ablösen und
    5. die restlichen Teile der lichtempfindlichen
    Schicht entfernen.
    Die Aktivierung der Chromschicht erfolgt danach vorzugsweise auf elektrochemischem Weg. Das Aufbringen der Schichten kann auf chemischem Weg oder durch Aufdampfen im Vakuum erfolgen.
  • Da das relativ hohe Reflexionsvermögen der Chromschicht, insbesondere bei einer Auflichtbeleuchtung der Teilungen, Meßmarken u. dgl., in vielen Fällen stört, wird in an sich schon lange bekannter Weise vorzugsweise durch Aufbringen von Interferenzschichten die Reflexion weitgehend unterdrückt. Das ist beispielsweise durch Aufbringen einer Titandioxidschicht möglich, deren Dicke aus den Fresnelschen Gleichungen herzuleiten ist. Da das Aufbringen dieser zusätzlichen Schicht das Ätzen der Chromschicht nach dem oben beschriebenen Verfahren praktisch unmöglich macht, weil die Titandioxidschicht chemisch nahezu unangreifbar ist, kann das Aufbringen der Titandioxidschicht erst nach Fertigstellung der Teilung nach dem oben beschriebenen Verfahren erfolgen. Das bedeutet aber gleichzeitig, daß die Titandioxidschicht sich auch auf den von der Chromschicht nicht bedeckten Teilen des Trägers niederschlägt, was dann wiederum zu einer meist unerwünschten Erhöhung der Reflexion des Trägers führt.
  • Diese Nachteile werden erfindungsgemäß dadurch vermieden, daß nach dem Aufbringen der Chromschicht auf den Träger auf die Chromschicht eine etwa 100 bis 200 A dicke Zwischenschicht aus einer Substanz, die zusammen mit einem Ätzmittel eine Aktivierung der Chromschicht ermöglicht, und anschließend eine reflexmindernde Mischschicht aus mindestens zwei Substanzen, von denen mindestens eine durch das Ätzmittel für das Chrom angreifbar ist, aufgebracht werden. Beispielsweise kann dafür eine reflexmindernde Schicht aus Titandioxid und Zinkoxid verwendet werden, deren Brechungsindex auf die Reflexion der Chromschicht so eingestellt werden kann, daß eine möglichst hohe Reflexionsminderung erzielt wird. Bekanntlich soll dazu der reflexmindernden Schicht gleich der Wurzel aus dem Brechungsindex der Unterlage sein.
  • Es hat sich als besonders zweckmäßig herausgestellt, die einzelnen Schichten unmittelbar nacheinander im Hochvakuum aufzudampfen. Wenn die Aufdampfung in einer sauerstofffreien Atmosphäre erfolgt, kann sogar auf das Aufdampfen der Zwischenschicht verzichtet werden, da durch die reflexmindernde Schicht eine Passivierung der Chromschicht, die ja nur eine Oxydation der Chromoberfläche darstellt, verhindert wird. Es ist dann nur die reflexmindernde Mischschicht erforderlich, deren durch das Ätzmittel für das Chrom angreifbarer Bestandteil durch das Ätzmittel herausgelöst wird, so daß das Ätzmittel an die Chromschicht gelangen kann.
  • Selbstverständlich sind zwischen dem Aufdampfen der vorgenannten Schichten und dem Ätzen die unter den Ziffern 2 und 3 genannten Verfahrensschritte nach der Patentanmeldung L 51193 IX b / 42 d (deutsche Auslegeschrift 1262 027) durchzuführen. Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Teilungen, Meßmarken u. dgl. haben den Vorteil, daß sie sowohl im Durchlicht wie im Auflicht benutzt werden können, wobei in jedem Fall die Teilungen als dunkle Markierungen auf hellem Untergrund erscheinen. Zusätzlich erfolgt durch die reflexmindernde Schicht noch ein Schutz der eigentlichen Teilung.

Claims (4)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Meßmarken, Gittern u. dgl., bei dem 1. eine Chromschicht auf einen als Trägerkörper der Teilungen, Meßmarken u. dgl. vorgesehenen Grundkörper aufgebracht, 2. die Chromschicht mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogen, 3. die von einem Original erzielte Kontaktkopie entwickelt und der nicht belichtete Teil der Schicht entfernt, dann 4. die freigelegte Chromoberfläche aktiviert und anschließend diese frei liegende Chromschicht abgelöst und 5. die restlichen Teile der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden, nachPatentanmeldung L 51193 IXb/42 d (deutsche Auslegeschrift 1262 027), d a d u r c h g e k e n nz e i c h n e t, daß nach dem Aufbringen der Chromschicht auf den Träger auf die Chromschicht eine etwa 100 bis 200 A dicke Zwischenschicht aus einer Substanz, die zusammen mit einem Ätzmittel eine Aktivierung der Chromschicht ermöglicht, und anschließend eine reflexmindernde Mischschicht aus mindestens zwei Substanzen, von denen mindestens eine durch das Ätzmittel für das Chrom angreifbar ist, aufgebracht werden.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten unmittelbar nacheinander im Vakuum aufgedampft werden.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten im Hochvakuum in einer sauerstofffreien Atmosphäre aufgedampft werden.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß unmittelbar auf die Chromschicht die. reflexmindernde Mischschicht aus mindestens zwei Substanzen, von denen mindestens eine durch das Atzmittel für das Chrom angreifbar ist, aufgedampft wird.
DE1965L0051536 1965-09-02 1965-09-02 Verfahren zur Herstellung von Teilungen, Messmarken, Gittern u. dgl. Pending DE1278124B (de)

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DE1278124B true DE1278124B (de) 1968-09-19

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3105934A1 (de) * 1980-02-22 1982-01-07 Kabushiki Kaisha Mitutoyo Seisakusho, Tokyo Metallskala und verfahren zu ihrer herstellung

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3105934A1 (de) * 1980-02-22 1982-01-07 Kabushiki Kaisha Mitutoyo Seisakusho, Tokyo Metallskala und verfahren zu ihrer herstellung

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