DE1214085B - Verfahren zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien - Google Patents
Verfahren zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit photopolymerisierbarer AufzeichnungsmaterialienInfo
- Publication number
- DE1214085B DE1214085B DEP28422A DEP0028422A DE1214085B DE 1214085 B DE1214085 B DE 1214085B DE P28422 A DEP28422 A DE P28422A DE P0028422 A DEP0028422 A DE P0028422A DE 1214085 B DE1214085 B DE 1214085B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- photopolymerizable
- radiation
- sensitivity
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
- C08F291/18—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to irradiated or oxidised macromolecules
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
G03c
Deutsche KL: 57 b-10
Nummer: 1214 085
Aktenzeichen: P 28422IX a/57 b
Anmeldetag: 14. Dezember 1961
Auslegetag: 7. April 1966
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Wiederherstellung der photographischen Empfindlichkeit
photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien, deren Empfindlichkeit durch Absorption von
molekularem Sauerstoff nachgelassen hat.
Aus den USA.-Patentschriften 2 760 863,2 791504,
2927 022, 2 927 023 und 2 923 673 sind photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien bekannt, die
aus einem Schichtträger und einer festen, photopolymerisierbaren Schicht bestehen, wobei die photopolymerisierbare
Schicht a) ein Bindemittel, b) eine additionspolymerisierbare Verbindung mit mindestens
einer endständigen äthylenisch ungesättigten Gruppe, c) einen durch Strahlung aktivierbaren Additionspolymerisationskatalysator
und gegebenenfalls d) einen Initiator enthält. Die Geschwindigkeit der Photopolymerisation solcher Aufzeichnungsmaterialien
in einer 0,075 bis 6,55 mm dicken Schicht wird, wie sich herausgestellt hat, durch absorbierten molekularen
Sauerstoff stark verzögert. Trotz dieser durch Sauerstoff bedingten Polymerisationsverzögerung erhält
man zufriedenstellende Druckformen, wenn man die photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterialien
mit größeren Mengen aktinischer Strahlung bestrahlt. Wenn die photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterialien jedoch dicker als 250 mm sind und die in
der photopolymerisierbaren Schicht anwesende Sauerstoffmenge den Sättigungspunkt erreicht, verursacht
die größere Menge aktinischer Strahlung, die zur Photopolymerisation des am Schichtträger anliegenden
Teils der photopolymerisierbaren Schicht erforderlich ist, eine Überpolymerisation an der Oberfläche.
Als Folge davon werden z. B. Bilder erhalten, die verstopfte Buchstaben, insbesondere das »o«
oder »e«, haben.
In der belgischen Patentschrift 586 714 wird ein Verfahren zur Wiederherstellung der ursprünglichen
Empfindlichkeit photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien beschrieben. Bei diesem Verfahren
werden die absorbierten Sauerstoff enthaltenden photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterialien
längere Zeit in einer Atmosphäre gehalten, deren Sauerstoffpartialdruck zwischen 0,5 und
40 mm Hg beträgt.
Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines in kurzer Zeit durchführbaren Verfahrens zur Erhöhung
der photographischen Empfindlichkeit photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien, deren Empfindlichkeit
durch Absorption von molekularem Sauerstoff nachgelassen hat und die aus einem Schichtträger und einer festen, photopolymerisierbaren
Schicht bestehen, wobei die photopolymerisier-
Verfahren zur Wiederherstellung der
Empfindlichkeit photopolymerisierbarer
Aufzeichnungsmaterialien
Empfindlichkeit photopolymerisierbarer
Aufzeichnungsmaterialien
Anmelder:
E. I. du Pont de Nemours and Company,
Wilmington, Del. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. E. Prinz und Dr. rer. nat. G. Hauser,
Patentanwälte,
München-Pasing, Ernsbergerstr, 19
Als Erfinder benannt:
Glen Anthony Thommes,
Red Bank, N. J. (V. St. A.)
Glen Anthony Thommes,
Red Bank, N. J. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 13. Januar 1961 (82 413)
bare Schicht a) ein Bindemittel, b) eine additionspolymerisierbare
Verbindung mit mindestens einer endständigen äthylenisch ungesättigten Gruppe, c)
einen durch Strahlung aktivierbaren Additionspolymerisationskatalysator und gegebenenfalls d) einen
Initiator enthält.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren, bei dem das Aufzeichnungsmaterial mit 70 bis 98%
der Strahlungsmenge einer aktinischen Strahlung belichtet wird, die bei gleichmäßigem Auftreffen zur
Einleitung einer Photopolymerisation notwendig wäre.
Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren, bei dem zwischen Schichtträger und
photopolymerisierbarer Schicht des Aufzeichnungsmaterials eine Phenanthrenchinon oder Uranylnitrat
enthaltende Zwischenschicht angeordnet und dieses Aufzeichnungsmaterial mit 70 bis 98% der Strahlungsmenge
einer aktinischen Strahlung belichtet wird, die bei gleichmäßigem Auftreffen zur Einleitung
einer Photopolymerisation notwendig wäre.
Wenn das Aufzeichnungsmaterial dann sofort bildweise belichtet wird und die unbelichteten Bildteile
entfernt werden, wie dies z. B. in der USA.-Patent-
609 557/291
3 4
schrift 2 760 863 beschrieben ist, so stellt man fest, . In der Praxis soll die Wellenlänge der verwende-
daß das Aufzeichnungsmaterial im wesentlichen wie- ten Strahlung so sein, daß nur 10 bis 70 %>
der ein-
der die vor Absorption von Sauerstoff vorhandene fallenden Strahlung von der Schicht absorbiert wer-
anfängliche Empfindlichkeit aufweist. den. Das kann dadurch erzielt werden, daß man eine
Die Empfindlichkeit eines photopolymerisierbaren 5 Strahlungsquelle wählt, die Strahlung einer geeigne-Aufzeichnungsmaterials
mit einem transparenten ten spektralen Zusammensetzung aussendet, oder in-Schichtträger,
z. B. aus Kunststoff, kann durch Be- dem man Filter verwendet, welche einen Teil der
lichtung durch den Schichtträger hindurch in Luft Strahlung am oberen oder unteren Ende des Spektralwiederhergestellt
werden. bereichs, in welchem die photopolymerisierbare
Die Empfindlichkeit eines Aufzeichnungsmaterials, io Schicht eine starke Absorption zeigt, absorbieren. Obdas
Phenanthrenchinon oder Uranylnitrat in einer wohl man die Empfindlichkeit einer Schicht mit einer
Zwischenschicht unterhalb der photopolymerisier- Strahlung, von welcher nur weniger als 10% absorbaren
Schicht in Berührung mit derselben enthält, biert wird, wiederherstellen kann, wird dabei doch
kann in kürzerer Zeit wiederhergestellt werden, da die erforderliche Zeit unverhältnismäßig lang. Bevorman
intensivere Strahlungsquellen verwenden kann 15 zugt verwendet man daher Strahlung einer solchen
als bei einer gleich dicken photopolymerisierbaren Wellenlänge, daß 20 bis 45% der einfallenden Strah-Schicht,
die. jedoch kein Phenanthrenchinon oder lung von der Schicht absorbiert werden.
Uranylnitrat enthält. Man nimmt an, daß Phenan- Die Empfindlichkeit eines photopolymerisierbaren threnchinon oder Uranylnitrat bei Belichtung als Aufzeichnungsmaterials kann unter vermindertem Sauerstoffalle wirkt, welche rasch Sauerstoff aus dem 20 Sauerstoffpartialdruck, d. h. unter Vakuum, wiederunteren Teil der photopolymerisierbaren Schicht hergestellt werden.
Uranylnitrat enthält. Man nimmt an, daß Phenan- Die Empfindlichkeit eines photopolymerisierbaren threnchinon oder Uranylnitrat bei Belichtung als Aufzeichnungsmaterials kann unter vermindertem Sauerstoffalle wirkt, welche rasch Sauerstoff aus dem 20 Sauerstoffpartialdruck, d. h. unter Vakuum, wiederunteren Teil der photopolymerisierbaren Schicht hergestellt werden.
entfernt. Phenanthrenchinon bzw. Uranylnitrat sind Eine vorzeitige Polymerisation ist auf das Fehlen
in Mengen von mindestens 0,1 Gewichtsprozent, be- des die Polymerisation verhindernden Sauerstoffs
zogen auf das Gewicht der photopolymerisierbaren zurückzuführen, welcher von der Schicht während
Schicht, bis zu ihrer Löslichkeitsgrenze in der Zwi- 25 der Wiederherstellung der Empfindlichkeit absorbiert
schenschicht brauchbar. Ausgezeichnete Ergebnisse wird. Belichtet man z. B. eine photopolymerisierbare
erzielt man bei 0,5 Gewichtsprozent Phenanthren- Schicht mit aktinischem Licht einer bestimmten
chinon und 2,0 Gewichtsprozent Uranylnitrat, be- Wellenlänge, so werden nur 20 % der Strahlung beim
zogen auf das Gewicht der trockenen photopolymeri- Durchgang durch die Schicht absorbiert. Die wieder-
sierbaren Schicht. 30 hergestellte Empfindlichkeit an der Unterseite der
Zwei Faktoren, welche für die vorliegende Erfin- Schicht ist dann um 20% niedriger als an der Oberdung
von Bedeutung sind, sind die Dicke der photo- seite, da der Sauerstoffverbrauch proportional der
polymerisierbaren Schicht und die Art der zur Wie- Strahlungsintensität ist. Wenn daher die Schichtoberderherstellung
der Empfindlichkeit (Vorbelichtung) fläche zu 99% von Sauerstoff befreit ist, ist es die
verwendeten aktinischen Strahlungsquelle. Wichtig 35 Unterseite zu 79%. Ein solches Sauerstoffniveau ist
ist, daß kein Teil der photopolymerisierbaren Schicht normalerweise ausreichend. In der Praxis erfolgt die
während der Vorbelichtung polymerisiert, da man Wiederherstellung der Empfindlichkeit nicht in vollsonst
schlechte Druckformen erhält. Zur Verhinde- ständiger Abwesenheit von Sauerstoff, sondern höchrung
einer vorzeitigen Photopolymerisation können stens unter vermindertem Sauerstoffpartialdruck.
die Intensität der aktinischen Strahlung und deren 40 Daher wird an der Schichtoberfläche immer etwas
Wellenlänge so gewählt werden, daß im wesentlichen Sauerstoff aus der Umgebung nachgeliefert werden,
der gesamte Luftsauerstoff vor Eintritt einer Poly- so daß der Unterschied der Empfindlichkeit zwischen
merisation entfernt ist. Dies wird am besten dadurch der Oberseite und der Unterseite der Schicht in der
erreicht, daß man eine Strahlung mit einer Wellen- Regel etwas weniger als 20% beträgt. Die zulässige
länge verwendet, die von der photopolymerisierbaren 45 Menge an absorbierter aktinischer Strahlung variiert
Schicht nicht stark absorbiert wird, auf den Initiator natürlich je nach der jeweils verwendeten photo-(z.
B. Phenanthrenchinon oder Uranylnitrat) jedoch polymerisierbaren Schicht und der Schichtdicke,
so wirkt, daß der auf ihm absorbierte, die Polymeri- Für die Erfindung geeignete aktinische Strahlungssation hemmende Sauerstoff schneller verbraucht quellen sind unter anderem Kohlebögen, Queckwird, als er durch Diffusion durch die der Luft aus- 50 silberdampflampen, Fluoreszenzlampen mit oder gesetzte Oberfläche der Schicht wieder nachgeliefert ohne ultraviolette Strahlung aussendenden Leuchtwerden kann. Die unteren Lagen der polymerisier- stoff, Argonglühlampen, elektronische Blitzlichter sobaren Schicht empfangen dann einen verhältnismäßig wie photographische Flutlichtlampen. Die Strahlungshohen Prozentsatz der einfallenden Strahlung, da die· quellen können aus verschiedenen Abständen von Strahlung von der Schicht selbst nicht stark absor-' 55 der photopolymerisierbaren Schicht zur Anwendung biert wird. Daher schreitet die Wiederherstellung der kommenj im allgemeinen in einem Abstand von 1,5 Empfindlichkeit sowohl in den unteren als auch in bis 25 cm und mehr, vorzugsweise von 5 bis 10 cm. den oberen Lagen der Schicht, wenn auch mit etwas Abstände bis zu 1 m sind bei der Verwendung intenunterschiedlicher Geschwindigkeit, fort. Eine gleich- siverer Strahlungsquellen vorzuziehen, da bei den mäßigere Empfindlichkeit erzielt man, wenn die von 60 größeren Abständen von der photopolymerisierbaren ■der. Schicht absorbierte Strahlungsmenge abnimmt; Schicht die Strahlungsquelle weniger intensiv wirkt, das Verfahren ist jedoch entsprechend langsamer. Die Strahlung bestimmter aktinischer Wellenlängen Eine Grenze ist erreicht, wenn die Absorption der nicht durchlassende Filter können ebenfalls zwischen Strahlung durch die photopolymerisierbare Schicht der Strahlungsquelle und der photopolymerisierbaren so langsam erfolgt, daß der Sauerstoffverbrauch 65 Schicht angeordnet werden; es sind dies z. B. Corgleich oder geringer wird als die Sauerstoffnachliefe- ning 3-75 oder 3-73, Filter, welche die Intensität rung durch Diffusion durch die der Luft ausgesetzte herabsetzen und bestimmte Wellenlängen aus der Oberfläche. Strahlung herausfiltern. Die Herabsetzung der Strah-
so wirkt, daß der auf ihm absorbierte, die Polymeri- Für die Erfindung geeignete aktinische Strahlungssation hemmende Sauerstoff schneller verbraucht quellen sind unter anderem Kohlebögen, Queckwird, als er durch Diffusion durch die der Luft aus- 50 silberdampflampen, Fluoreszenzlampen mit oder gesetzte Oberfläche der Schicht wieder nachgeliefert ohne ultraviolette Strahlung aussendenden Leuchtwerden kann. Die unteren Lagen der polymerisier- stoff, Argonglühlampen, elektronische Blitzlichter sobaren Schicht empfangen dann einen verhältnismäßig wie photographische Flutlichtlampen. Die Strahlungshohen Prozentsatz der einfallenden Strahlung, da die· quellen können aus verschiedenen Abständen von Strahlung von der Schicht selbst nicht stark absor-' 55 der photopolymerisierbaren Schicht zur Anwendung biert wird. Daher schreitet die Wiederherstellung der kommenj im allgemeinen in einem Abstand von 1,5 Empfindlichkeit sowohl in den unteren als auch in bis 25 cm und mehr, vorzugsweise von 5 bis 10 cm. den oberen Lagen der Schicht, wenn auch mit etwas Abstände bis zu 1 m sind bei der Verwendung intenunterschiedlicher Geschwindigkeit, fort. Eine gleich- siverer Strahlungsquellen vorzuziehen, da bei den mäßigere Empfindlichkeit erzielt man, wenn die von 60 größeren Abständen von der photopolymerisierbaren ■der. Schicht absorbierte Strahlungsmenge abnimmt; Schicht die Strahlungsquelle weniger intensiv wirkt, das Verfahren ist jedoch entsprechend langsamer. Die Strahlung bestimmter aktinischer Wellenlängen Eine Grenze ist erreicht, wenn die Absorption der nicht durchlassende Filter können ebenfalls zwischen Strahlung durch die photopolymerisierbare Schicht der Strahlungsquelle und der photopolymerisierbaren so langsam erfolgt, daß der Sauerstoffverbrauch 65 Schicht angeordnet werden; es sind dies z. B. Corgleich oder geringer wird als die Sauerstoffnachliefe- ning 3-75 oder 3-73, Filter, welche die Intensität rung durch Diffusion durch die der Luft ausgesetzte herabsetzen und bestimmte Wellenlängen aus der Oberfläche. Strahlung herausfiltern. Die Herabsetzung der Strah-
5 6
lungsmenge ist insbesondere dann wichtig, wenn die Stoffnachlieferung durch Diffusion von der Ober-Empfindlichkeit
des Aufzeichnungsmaterials unter fläche gleich oder größer als der Sauerstoffverbrauch
vermindertem Druck wiederhergestellt wird. Eine für ist, so daß die Empfindlichkeit nicht wiederhergestellt
eine bestimmte Schichtdicke geeignete Strahlungs-. werden kann,
quelle eignet sich auch für dünnere Schichten; das 5 Es sei bemerkt, daß die Empfindlichkeit selbst
Umgekehrte ist jedoch nicht der Fall. einer vollständig nach dem erfindungsgemäßen Ver-
Zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit einer fahren vorbelichteten Schicht direkt an der Oberphotopolymerisierbaren
Schicht kann man intermit- fläche bis herab zu einer Tiefe von etwa 0,75 bis
tierend belichten. So erfolgt beispielsweise die Be- lmm geringer ist als im Rest der Schicht. Das ist
lichtung mit einer lSOO-Watt-Hocndruckquecksilber- io darauf zurückzuführen, daß die Sauerstoffdiffusion
bogenlampe, welche mit gleichmäßiger Geschwindig- in diese Lagen an der Oberfläche sehr rasch erfolgt
keit vor und zurück über die photopolymerisierbare und die Empfindlichkeit innerhalb von Sekunden her-Schicht
geführt wird. Eine Arbeitsbewegung dauert absetzt. Das hat jedoch keinen Einfluß auf die Qua-20
Sekunden und bei jedem Durchgang empfängt lität des Aufzeichnungsmaterials, da während der
jeder Quadratzentimeter der photopolymerisierbaren 15 bildmäßigen Belichtung unter Vakuum dieser Sauer-Schicht
0,27 Watt Strahlung während 0,7 Sekunden. stoff sehr rasch wieder verbraucht wird. Die gerin-Die
gesamte Belichtung besteht daher aus einer An- gere Empfindlichkeit ist vielmehr zur Herstellung
zahl 0,7 Sekunden langer Belichtungen, die jeweils einer gerasterten Druckform günstig. Sie verhindert
von einer 20 Sekunden langen Dunkelperiode gefolgt eine »Verstopfung« der kleinen Vertiefungen nach
sind. Diese intermittierende Belichtung besitzt den ao dem Aufbelichten des Rasters, was leicht dann auf-Vorteil,
daß man eine gleichmäßigere Empfindlich- tritt, wenn die Empfindlichkeit der Schicht auch an
keit als bei einer kontinuierlichen Belichtung erzielt. der Oberfläche vollständig wiederhergestellt ist.
Vor der Belichtung ist die photopolymerisierbare Ein Test zur Bestimmung des für die Wiederher-Schicht gleichmäßig mit Sauerstoff gesättigt. Wäh- stellung der Empfindlichkeit in Luft geeigneten Berend der ersten 0,7 Sekunden langen Belichtungs- 25 lichtungsgrades unter Verwendung einer photopolyperiode stellt sich in der Schicht ein Sauerstoffgefälle merisierbaren Schicht bestimmter Dicke geht wie ein. In der oberen Lage der Schicht wird der Sauer- folgt vor sich:
Vor der Belichtung ist die photopolymerisierbare Ein Test zur Bestimmung des für die Wiederher-Schicht gleichmäßig mit Sauerstoff gesättigt. Wäh- stellung der Empfindlichkeit in Luft geeigneten Berend der ersten 0,7 Sekunden langen Belichtungs- 25 lichtungsgrades unter Verwendung einer photopolyperiode stellt sich in der Schicht ein Sauerstoffgefälle merisierbaren Schicht bestimmter Dicke geht wie ein. In der oberen Lage der Schicht wird der Sauer- folgt vor sich:
stoff rascher verbraucht als in den unteren Lagen, 1. Ein Teststreifen eines luftgesättigten photoda
die Intensität der Strahlung in den oberen Lagen polymerisierbaren Aufzeichnungsmaterials mit einer
stärker ist. Direkt an der Oberfläche der Schicht 30 festen photopolymerisierbaren Schicht mit einer
schreitet indessen der Sauerstoffverbrauch langsamer Stärke von 1,5mm wird stufenweise, z.B. in Abfort,
als Sauerstoff von der umgebenden Luft nach- schnitten von 1,25 cm, belichtet, wobei die Belichgeliefert
wird. Nach einer Belichtung stellt sich da- tung arithmetisch fortschreitend zunimmt Die unher
in einer etwas unterhalb der Oberfläche liegen- polymerisierten Bildteile des Teststreifens werden mit
den Lage der Schicht ein Sauerstoffminimum ein. 35 einem geeigneten Lösungsmittel herausgewaschen,
Während der 20 Sekunden langen Dunkelperiode und die Stelle, an welcher die erste feststellbare
diffundiert Sauerstoff von den Stellen höherer Kon- Polymerisation eingetreten ist, d. h., wo die Auszentration
zu den Stellen niedrigerer Konzentration, waschung unvollständig ist, wird vermerkt,
d. h. von der Oberfläche und von der untersten Lage 2. Ein keilförmiges photopolymerisierbares Aufder Schicht an die Lage der geringsten Konzentra- 40 Zeichnungsmaterial der gleichen Zusammensetzung tion. Als Ergebnis dieser Diffusion wird das Sauer- wie das bei Test 1 verwendete, z. B. ein 5 cm breites Stoffminimum nach der Oberfläche der Schicht zu und 15 cm langes, mit einem Dickebereich bis zu verlagert. Während der zweiten Belichtungsperiode 1,5 mm, das auf einem umgekehrten, gleichen Keil tritt eine weitere Abnahme des Sauerstoffgehalts ein, ruht, damit man eine ebene Oberfläche erzielt, wird und während der folgenden Dunkelperiode wird das 45 mit der gleichen Lichtquelle, wie sie für 1 verwendet Sauerstoffminimum wieder nach der .Schichtober- wurde, in Luft während mindestens 7O°/o und vorfläche zu verlagert. Die Empfindlichkeit der Schicht zugsweise 80 bis 98 % der Zeit, die zur Verursachung ist dann vollständig wiederhergestellt, wenn der einer feststellbaren Polymerisation erforderlich war, Sauerstoffgehalt in der Lage der geringsten Sauer- vorbelichtet. Die vorbelichtete photopolymerisierbare Stoffkonzentration sich einem Wert annähert, bei 50 Schicht wird dann in einen Vakuumkopierrahmen gewelchem die Polymerisation einsetzt. bracht und ein kombiniertes photographisches Strich-
d. h. von der Oberfläche und von der untersten Lage 2. Ein keilförmiges photopolymerisierbares Aufder Schicht an die Lage der geringsten Konzentra- 40 Zeichnungsmaterial der gleichen Zusammensetzung tion. Als Ergebnis dieser Diffusion wird das Sauer- wie das bei Test 1 verwendete, z. B. ein 5 cm breites Stoffminimum nach der Oberfläche der Schicht zu und 15 cm langes, mit einem Dickebereich bis zu verlagert. Während der zweiten Belichtungsperiode 1,5 mm, das auf einem umgekehrten, gleichen Keil tritt eine weitere Abnahme des Sauerstoffgehalts ein, ruht, damit man eine ebene Oberfläche erzielt, wird und während der folgenden Dunkelperiode wird das 45 mit der gleichen Lichtquelle, wie sie für 1 verwendet Sauerstoffminimum wieder nach der .Schichtober- wurde, in Luft während mindestens 7O°/o und vorfläche zu verlagert. Die Empfindlichkeit der Schicht zugsweise 80 bis 98 % der Zeit, die zur Verursachung ist dann vollständig wiederhergestellt, wenn der einer feststellbaren Polymerisation erforderlich war, Sauerstoffgehalt in der Lage der geringsten Sauer- vorbelichtet. Die vorbelichtete photopolymerisierbare Stoffkonzentration sich einem Wert annähert, bei 50 Schicht wird dann in einen Vakuumkopierrahmen gewelchem die Polymerisation einsetzt. bracht und ein kombiniertes photographisches Strich-
Die Wiederherstellung der Empfindlichkeit kann und Rasternegativ aufgelegt. Dann wendet man ein
auch mit einer kontinuierlichen Belichtung erzielt. Vakuum an und belichtet die photopolymerisierbare
werden. In diesem Fall ist ebenfalls die Verwendung Schicht so lange, bis gerade noch keine Überpolyeines
geeigneten Filters zu bevorzugen. Eine gleich- 55 merisation der Oberfläche und eine dadurch hervormäßige
Empfindlichkeit erhält man bei einer konti- gerufene »Verstopfung« kleiner Aussparungen in
nuierlichen Belichtung schwieriger, da der Aus- Buchstaben oder Rasterschattenpunkten auftritt. Die
gleich des Sauerstoffgehalts stattfinden kann, wie dies unbelichteten Bildteile werden mit einem geeigneten
während der Dunkelperiode der intermittierenden Lösungsmittel ausgewaschen. Das Aufzeichnungs-Belichtung
der Fall ist. Die Intensität der verwende- 60 material wird dann geprüft, und die maximale Dicke,
ten Strahlung muß daher in der Regel bei einer kon- an welcher keine Unterhöhlungen der Reliefbilder
tinuierlichen Belichtung niedriger sein, so daß die auftreten, ist die maximale Dicke der Schicht, die
oberen Lagen der Schicht keine Sauerstoffkonzen- mit der angewendeten Strahlungsquelle vorbelichtet
tration Null erreichen und zu polymerisieren begin- werden kann. Weniger intensive Strahlungsquellen
nen, bevor die Empfindlichkeit in den unteren Lagen 65 können zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit
wiederhergestellt ist. Selbstverständlich muß eine des beschriebenen Aufzeichnungsmaterials verwendet
gewisse Mindeststrahlungsintensität aufrechterhalten werden, erfordern aber natürlich längere Zeiten,
werden, weil unterhalb dieses Minimums die Sauer- Ähnliche Teste können in gleicherweise mit anderen
Strahlungsquellen und anderen photopolymerisier- merisation eingetreten (unvollständigeAuswaschung),
baren Schichten auf gleiche Weise durchgeführt Zur Bestimmung der Dicke der photopolymerisierwerden.
baren Schicht, welche mit der vorstehend beschrie-
Ein dem beschriebenen Test ähnlicher kann zur benen Strahlungsquelle vorbelichtet wurde, wurde
Bestimmung der Vorbelichtung einer photopolyme- 5 ein keilförmiges, 5 cm breites und 15 cm langes
risierbaren Schicht unter vermindertem Druck oder photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial mit
zur Bestimmung der Vorbelichtung bei bedeckter einer Dicke bis zu 1,5 τητη^ das auf einem umgekehrphotopolymerisierbarer
Schicht zur Verhinderung ten Keil zur Erzielung einer ebenen Oberfläche aufder Absorption von Luftsauerstoff dienen. lag, 8,4 Sekunden (12 Übergänge) in Luft mit der
Nach der Vorbelichtung belichtet man zweck- io hin- und hergehenden, vorstehend beschriebenen
mäßig die Aufzeichnungsmaterialien bildmäßig ohne 1800-Watt-Strahlungsquelle belichtet. Auf die photojeden
Zeitverlust, so daß man ein Bild mit bester polymerisierbare Schicht legte man dann ein kombi-Qualität
erhält. Man kann jedoch auch noch zu- niertes photographisches Strich- und Rasternegativ,
friedenstellende Bilder erhalten, wenn das Aufzeich- wobei die Rasterstelle einen 120-Zeilen-Raster
nungsmaterial 1 Stunde oder etwas länger in Luft 15 (Durchmesser der Spitzenlichtpunkte 0,05 mm) entgelagert
wurde. 0,25 mm dicke oder dickere photo- hielt, und brachte das Ganze in einen Vakuumkopierpolymerisierbare
Schichten erfordern in der Regel rahmen. Man legte ein solches Vakuum an, daß das
nach Sättigung mit Luft eine Wiederherstellung der Negativ mit der photopolymerisierbaren Schicht in
Empfindlichkeit. Bei Schichten, die dünner sind als Kontakt gehalten wurde, und verhinderte einen Luft-0,25
mm, verbessert die Vorbelichtung die Empfind- 20 zutritt zu der Oberfläche der photopolymerisierbaren
lichkeit, ist jedoch zur Erzielung zufriedenstellender Schicht. Die Schicht wurde dann mit der vorste-Bilder
nicht unbedingt nötig. hend beschriebenen 1800-Watt-Strahlungsquelle mit
Das erfindungsgemäße Verfahren ergibt photo- 0,27 Watt/cm2 insgesamt 14 Sekunden belichtet. Die
polymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien mit maxi- unbelichteten Bildteile wurden durch Aufsprühen
maler photographischer Empfindlichkeit und gleich- 25 einer 0,04normalen NaOH-Lösung ausgewaschen
zeitig einen maximalen Schutz gegen eine Wärme- und die erhaltenen Bilder untersucht. Gute Reliefpolymerisation,
die in Abwesenheit von Sauerstoff bilder ohne Unterhöhlungen wurden bis zu einer
langsam eintritt. Bei richtiger Vorbelichtung erhält 0,76 mm dicken photopolymerisierbaren Schicht erman
Aufzeichnungsmaterialien mit gleichmäßiger halten. Bei dickeren Schichten trat eine beträchtliche
photographischer Empfindlichkeit, welche in hoch- 30 Unterhöhlung auf, d.h. die Basis des Reliefbildes
wertige Druckformen übergeführt werden können. war weggewaschen. Diese Unterhöhlungen waren bei
Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Ver- Dicken über 0,84 mm ausgeprägt,
fahrens liegt in seiner Einfachheit und Zuverlässig- Ein gleiches keilförmiges photopolymerisierbares
fahrens liegt in seiner Einfachheit und Zuverlässig- Ein gleiches keilförmiges photopolymerisierbares
keit. Aufzeichnungsmaterial wurde in gleicher Weise bild-
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. 35 mäßig belichtet, ohne daß jedoch eine Vorbelichtung
voranging. Beim Auswaschen bemerkte man schon Beispiel 1 bei einer Dicke von 0,25 mm starke Unterhöhlungen.
Ein photopolymerisierbares Aufzeichnungsmate- . .
rials wurde hergestellt, indem man eine mit einem 40 Beispiel 2
Klebemittel überzogene 0,4 mm dicke Aluminiumfolie mit einer 1,5 mm dicken Schicht der folgenden Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch als Zusammensetzung überzog: 680 g Celluloseacetat- Strahlungsquelle eine weiße 40-Watt-Fluoreszenzsaures Succifiat, 320 g Triäthylenglykoldiacrylat, lampe verwendet wurde. Die photopolymerisierbare 0,32 g Anthrachinon und 0,32 g p-Methoxyphenol.· 45 Schicht des 2,5 · 30-cm-Abschnitts befand sich 7,5 cm Das Aufzeichnungsmaterial besaß eine Gesamtdicke von der Lichtquelle entfernt. Man verwendete kein von 1,9 mm und ist im Beispiel 3 der belgischen Filter. Der photopolymerisierbare Abschnitt wurde Patentschrift 580 820 beschrieben. Sie wurde 24 Stun- stufenweise belichtet, jede Stufe betrug 1,7 cm nach den in Luft gelagert, worauf man einen Abschnitt jeweils 3,3 Minuten. Die erste feststellbare Polymevon 2,5 · 30 cm herausschnitt. Dieser Abschnitt wurde 50 risation wurde nach 60 Minuten bemerkt. Ein photoauf eine wassergekühlte Aluminiumplatte (25° C) polymerisierbarer Keil, ähnlich dem im Beispiel 1 beunter eine ISOO-Watt-Hochdruckquecksilberbogen- schriebenen, wurde mit der vorstehend beschriebenen lampe gelegt, die in einem Abstand von 6,35 cm von Fluoreszenzlampe während 53 Minuten vorbelichtet, der photopolymerisierbaren Schicht vor und zurück Der vorbelichtete Keil, über dem man ein Rasterüber die Schicht wanderte; zwischen der Schichtober- 55 negativ angeordnet hatte, kam in einen Vafläche und der Strahlungsquelle wurde ein Filter an- küumkopierrahmen und wurde mit der im Beigebracht, welches kein Licht mit Wellenlängen unter spiel 1 beschriebenen 1800-Watt-Strahlungsquelle 3700 bis 3800 A durchtreten läßt, wobei die Schicht- mit 0,27 Watt/cm2 während 14 Sekunden (gesamte oberfläche leicht der Luft zugänglich blieb. Der Ab- Belichtung) belichtet. Nach Entfernung der unbeschnitt wurde stufenweise belichtet, wobei jede 60 lichteten Bildteile wie im Beispiel 1 beobachtete man 1,27 cm lange Stufe 0,7 Sekunden länger als die vor- bis zu einer Dicke von 1,35 mm keine Unterhöhlung hergehende Stufe in 20 Sekunden langen Intervallen der Reliefbilder. Ein wie im Beispiel 1 hergestellter belichtet wurde. Nach einer Gesamtbelichtung von photopolymerisierbarer Keil, der jedoch, nicht vor-16,8 Sekunden (24 Übergänge der Strahlungsquelle) belichtet wurde, wurde durch das Rasternegativ mit wurde die Strahlungsquelle abgeschaltet und der Ab- 65 0,27 Watt/cm2 während 14 Sekunden mit der schnitt etwa 7 Minuten mit einer 0,04normalen wäß- 1800-Watt-Strahlungsquelle wie im Beispiel 1 berigen NaOH-Lösung besprüht. Nach 10,5 Sekunden lichtet. Nach Entfernung der unbelichteten Bildteile Gesamtbestrahlung (15 Übergänge) war eine Poly- wie im Beispiel 1 bemerkte man bei Dicken über
rials wurde hergestellt, indem man eine mit einem 40 Beispiel 2
Klebemittel überzogene 0,4 mm dicke Aluminiumfolie mit einer 1,5 mm dicken Schicht der folgenden Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch als Zusammensetzung überzog: 680 g Celluloseacetat- Strahlungsquelle eine weiße 40-Watt-Fluoreszenzsaures Succifiat, 320 g Triäthylenglykoldiacrylat, lampe verwendet wurde. Die photopolymerisierbare 0,32 g Anthrachinon und 0,32 g p-Methoxyphenol.· 45 Schicht des 2,5 · 30-cm-Abschnitts befand sich 7,5 cm Das Aufzeichnungsmaterial besaß eine Gesamtdicke von der Lichtquelle entfernt. Man verwendete kein von 1,9 mm und ist im Beispiel 3 der belgischen Filter. Der photopolymerisierbare Abschnitt wurde Patentschrift 580 820 beschrieben. Sie wurde 24 Stun- stufenweise belichtet, jede Stufe betrug 1,7 cm nach den in Luft gelagert, worauf man einen Abschnitt jeweils 3,3 Minuten. Die erste feststellbare Polymevon 2,5 · 30 cm herausschnitt. Dieser Abschnitt wurde 50 risation wurde nach 60 Minuten bemerkt. Ein photoauf eine wassergekühlte Aluminiumplatte (25° C) polymerisierbarer Keil, ähnlich dem im Beispiel 1 beunter eine ISOO-Watt-Hochdruckquecksilberbogen- schriebenen, wurde mit der vorstehend beschriebenen lampe gelegt, die in einem Abstand von 6,35 cm von Fluoreszenzlampe während 53 Minuten vorbelichtet, der photopolymerisierbaren Schicht vor und zurück Der vorbelichtete Keil, über dem man ein Rasterüber die Schicht wanderte; zwischen der Schichtober- 55 negativ angeordnet hatte, kam in einen Vafläche und der Strahlungsquelle wurde ein Filter an- küumkopierrahmen und wurde mit der im Beigebracht, welches kein Licht mit Wellenlängen unter spiel 1 beschriebenen 1800-Watt-Strahlungsquelle 3700 bis 3800 A durchtreten läßt, wobei die Schicht- mit 0,27 Watt/cm2 während 14 Sekunden (gesamte oberfläche leicht der Luft zugänglich blieb. Der Ab- Belichtung) belichtet. Nach Entfernung der unbeschnitt wurde stufenweise belichtet, wobei jede 60 lichteten Bildteile wie im Beispiel 1 beobachtete man 1,27 cm lange Stufe 0,7 Sekunden länger als die vor- bis zu einer Dicke von 1,35 mm keine Unterhöhlung hergehende Stufe in 20 Sekunden langen Intervallen der Reliefbilder. Ein wie im Beispiel 1 hergestellter belichtet wurde. Nach einer Gesamtbelichtung von photopolymerisierbarer Keil, der jedoch, nicht vor-16,8 Sekunden (24 Übergänge der Strahlungsquelle) belichtet wurde, wurde durch das Rasternegativ mit wurde die Strahlungsquelle abgeschaltet und der Ab- 65 0,27 Watt/cm2 während 14 Sekunden mit der schnitt etwa 7 Minuten mit einer 0,04normalen wäß- 1800-Watt-Strahlungsquelle wie im Beispiel 1 berigen NaOH-Lösung besprüht. Nach 10,5 Sekunden lichtet. Nach Entfernung der unbelichteten Bildteile Gesamtbestrahlung (15 Übergänge) war eine Poly- wie im Beispiel 1 bemerkte man bei Dicken über
ίο
0,25 mm eine Unterhöhlung der Reliefbilder. Dieses Beispiel zeigt, daß eine 1,35 mm dicke vorbelichtete
photopolymerisierbare Schicht in der gleichen Zeit belichtet werden kann, wie sie zur Belichtung einer
0,25 mm dicken, nicht vorbelichteten Schicht erforderlich ist.
Aus 57 g Celluloseacetat (Acetylsubstitutionsgrad 1,85), 23 g Bernsteinsäureanhydrid und 40 g Triäthylenglykoldiacrylat
mit einem Gehalt von jeweils 0,1 Gewichtsprozent Anthrachinon und p-Methoxyphenol
wurde auf die im Beispiel 1 der USA.-Patentschrift 2 923 673 beschriebene Weise eine photopolymerisierbare
Mischung hergestellt. Diese wurde durch Pressen bei 140° C unter einem Druck von
21 kg/cm2 zu einer klaren, durchscheinenden, festen,
0,76 mm dicken Schicht geformt.
Eine 0,30 mm dicke Stahlfolie wurde mit einem Klebstoff aus einer 37°/oigen Feststoffmischung in
Methyläthylketon überzogen, wobei die Feststoffe aus a) 100 g eines gemischten Polyesters, hergestellt
aus überschüssigem Äthylenglykol, Dimethylhexahydroterephthalat, Dimethylsebacat und Dimethylterephthalat
in einem Molverhältnis der letzteren drei Reaktionsteilnehmer von 8 :1:1, b) 30 g Triäthylenglykoldiacrylat
mit 0,1 Gewichtsprozent p-Methoxyphenol und c) 3 g Benzoylperoxyd bestanden. Der
Klebstoff enthielt auch noch 0,6 g Phenanthrenchinon, das gründlich mit der Klebstofflösung vermischt
wurde. Die photopolymerisierbare Schicht wurde auf die trockene, mit dem Klebstoff überzogene
Stahlfolie gelegt und 3 Minuten in einer Presse bei 150° C behandelt. Die erhaltene photopolymerisierbare
Platte kam nach 24stündiger Lagerung in Luft auf eine wassergekühlte Aluminiumplatte (25° C) unter eine 1800-Watt-Hochdruckquecksilberbogenlampe,
die von der photopolymerisierbaren Schicht einen Abstand von 6,25 cm hatte. Zwischen der Platte und der Strahlungsquelle ordnet
man ein Filter an, so daß die Atmosphäre leichten Zutritt zu der photopolymerisierbaren Schicht hatte,
und belichtete 7 Sekunden vor (insgesamt). Nach der Vorbelichtung wurde mit der vorstehend beschriebenen
1800-Watt-Strahlungsquelle (ohne das Filter) so belichtet, daß auf die photopolymerisierbare Schicht
0,27 Watt aktinische Strahlung pro Quadratzentimeter während 18,2 Sekunden (insgesamt) auftrafen. Die
unbelichteten Bildteile wurden durch Sprühwaschung mit einer 0,04normalen wäßrigen Natriumhydroxyd- so
lösung entfernt. Die Bildqualität war zufriedenstellend, man bemerkte keine Unterhöhlungen.
Verwendet man in den vorstehenden Beispielen die in den USA.-Patentschriften 2 927 022 und
2 791 504 beschriebenen festen, photopolymerisierbaren Schichten, so erzielt man ähnliche Ergebnisse.
Claims (6)
1. Verfahren zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit
photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien, deren Empfindlichkeit durch Absorption von molekularem Sauerstoff nachgelassen
hat und die aus einem Schichtträger und einer festen, photopolymerisierbaren Schicht bestehen,
wobei die photopolymerisierbare Schicht a) ein Bindemittel, b) eine additionspolymerisierbare
Verbindung mit mindestens einer endständigen äthylenisch ungesättigten Gruppe, c) einen
durch Strahlung aktivierbaren Additionspolymerisationskatalysator und gegebenenfalls d)
einen Initiator enthält, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufzeichnungsmaterial mit
70 bis 98% der Strahlungsmenge einer aktinischen Strahlung belichtet wird, die bei gleichmäßigem
Auftreffen zur Einleitung einer Photopolymerisation notwendig wäre.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung der Schicht
unter freiem Zugang der Atmosphäre erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1,' dadurch gekennzeichnet,
daß die Belichtung durch den transparenten Schichtträger hindurch erfolgt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine aktinische Strahlung mit
einer solchen Wellenlänge verwendet wird, daß nur 10 bis 70% der Strahlung von der photopolymerisierbaren
Schicht absorbiert werden.
5. Verfahren zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien,
deren Empfindlichkeit durch Absorption von molekularem Sauerstoff nachgelassen hat und die einen Schichtträger und eine feste,
photopolymerisierbare Schicht enthalten, wobei die photopolymerisierbare Schicht a) ein Bindemittel,
b) eine additionspolymerisierbare Verbindung mit mindestens einer endständigen, äthylenisch
ungesättigten Gruppe und c) einen durch Strahlung aktivierbaren Additionspolymerisationskatalysator
enthält, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Schichtträger und photopolymerisierbarer
Schicht eine Phenanthrenchinon oder Uranylnitrat enthaltende Zwischenschicht angeordnet
und dieses Aufzeichnungsmaterial mit 70 bis 98% der Strahlungsmenge einer aktinischen
Strahlung belichtet wird, die bei gleichmäßigem Auftreffen zur Einleitung einer Photopolymerisation
notwendig wäre.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Phenanthrenchinon bzw.
Uranylnitrat in einer Menge von mindestens 0,1 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gewicht
der photopolymerisierbaren Schicht, verwendet wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US82413A US3144331A (en) | 1961-01-13 | 1961-01-13 | Process for conditioning photopolymerizable elements |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1214085B true DE1214085B (de) | 1966-04-07 |
Family
ID=22171053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP28422A Pending DE1214085B (de) | 1961-01-13 | 1961-12-14 | Verfahren zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3144331A (de) |
BE (1) | BE611541A (de) |
DE (1) | DE1214085B (de) |
FR (1) | FR1317386A (de) |
GB (1) | GB931368A (de) |
NL (1) | NL273451A (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5124559A (en) * | 1990-04-05 | 1992-06-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | Aftertreatment apparatus for printing plates |
US5359201A (en) * | 1992-08-05 | 1994-10-25 | Hoechst Aktiengesellschaft | Aftertreatment apparatus for imagewise exposed printing plates |
US5455416A (en) * | 1992-08-05 | 1995-10-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Preexposure device for printing forms to be imagewise exposed |
US5504515A (en) * | 1992-08-05 | 1996-04-02 | Hoechst Aktiengesellschaft | Laser exposure apparatus for printing forms to be imagewise exposed |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3287130A (en) * | 1964-08-25 | 1966-11-22 | Rauland Corp | Process of cathode-ray tube screening comprising a backward exposure step |
US3380825A (en) * | 1964-11-27 | 1968-04-30 | Du Pont | Process for producing images |
US3547633A (en) * | 1966-10-03 | 1970-12-15 | Hughes Aircraft Co | Photochemical polymer intensification process |
US3549366A (en) * | 1967-02-16 | 1970-12-22 | Hughes Aircraft Co | Ultraviolet hardening of photosensitized polyacrylamide and products |
US3727233A (en) * | 1969-11-06 | 1973-04-10 | Gijutsuin K Int Trade Ind | Method of recording an electronic image |
CA1099435A (en) * | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US4323636A (en) * | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US3859091A (en) * | 1971-09-08 | 1975-01-07 | Grace W R & Co | Preparation of printing or pattern plates |
US3784378A (en) * | 1971-10-18 | 1974-01-08 | Du Pont | Double-exposure method for producing reverse images in photopolymers |
US3787211A (en) * | 1971-12-10 | 1974-01-22 | Basf Ag | Makeready foil for relief printing |
US4207112A (en) * | 1974-01-29 | 1980-06-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat developable light-sensitive materials |
US3953621A (en) * | 1974-03-21 | 1976-04-27 | Gte Sylvania Incorporated | Process of forming cathode ray tube screens |
NL7908327A (nl) * | 1979-11-14 | 1981-06-16 | Stork Screens Bv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een gedessineerde drukwals. |
US4291118A (en) * | 1979-12-26 | 1981-09-22 | W. R. Grace & Co. | Relief imaging liquids |
US4308337A (en) * | 1980-03-10 | 1981-12-29 | Rca Corporation | Uniform light exposure of positive photoresist for replicating spiral groove in plastic substrate |
US4576892A (en) * | 1980-07-28 | 1986-03-18 | Polychrome Corporation | Photosensitive materials |
US4423135A (en) * | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
US4482624A (en) * | 1983-02-15 | 1984-11-13 | The Mead Corporation | Photosensitive material employing encapsulated radiation sensitive composition and process for improving sensitivity by sequestering oxygen |
US4528261A (en) * | 1983-03-28 | 1985-07-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Prelamination, imagewise exposure of photohardenable layer in process for sensitizing, registering and exposing circuit boards |
DE3510219A1 (de) * | 1985-03-21 | 1986-09-25 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung eines photopolymerisierbaren aufzeichnungsmaterials |
US4931380A (en) * | 1985-07-18 | 1990-06-05 | Microsi, Inc. | Pre-exposure method for increased sensitivity in high contrast resist development of positive working diazo ketone photoresist |
US4716097A (en) * | 1986-02-03 | 1987-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Increased photopolymer photospeed employing yellow light preexposure |
WO1997043696A1 (en) * | 1996-05-16 | 1997-11-20 | Napp Systems, Inc. | Methods to increase the exposure sensitivity of photopolymerizable matrices and apparatus useful therefor |
US6903809B2 (en) * | 2003-05-29 | 2005-06-07 | Perkinelmer, Inc. | Integrated, in-line bumping and exposure system |
US7470386B2 (en) * | 2004-04-26 | 2008-12-30 | Sipix Imaging, Inc. | Roll-to-roll embossing tools and processes |
US7632625B2 (en) * | 2004-05-25 | 2009-12-15 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
US8236479B2 (en) * | 2008-01-23 | 2012-08-07 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a pattern on a substrate |
US8241835B2 (en) | 2008-01-30 | 2012-08-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Device and method for preparing relief printing form |
US20090191482A1 (en) * | 2008-01-30 | 2009-07-30 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Device and method for preparing relief printing form |
WO2011002967A1 (en) | 2009-07-02 | 2011-01-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a material onto a substrate |
US9069252B2 (en) | 2011-08-26 | 2015-06-30 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
US9097974B2 (en) | 2012-08-23 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL87862C (de) * | 1951-08-20 | |||
US2703756A (en) * | 1951-12-12 | 1955-03-08 | Gen Aniline & Film Corp | Vesicular prints and process of making same |
GB860165A (en) * | 1956-11-28 | 1961-02-01 | Polaroid Corp | Improvements relating to photographic methods and apparatus |
US2964401A (en) * | 1957-02-18 | 1960-12-13 | Du Pont | Photopolymerizable elements and processes |
-
0
- NL NL273451D patent/NL273451A/xx unknown
- BE BE611541D patent/BE611541A/xx unknown
-
1961
- 1961-01-13 US US82413A patent/US3144331A/en not_active Expired - Lifetime
- 1961-11-29 GB GB42777/61A patent/GB931368A/en not_active Expired
- 1961-12-14 DE DEP28422A patent/DE1214085B/de active Pending
-
1962
- 1962-01-10 FR FR844422A patent/FR1317386A/fr not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5124559A (en) * | 1990-04-05 | 1992-06-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | Aftertreatment apparatus for printing plates |
US5359201A (en) * | 1992-08-05 | 1994-10-25 | Hoechst Aktiengesellschaft | Aftertreatment apparatus for imagewise exposed printing plates |
US5455416A (en) * | 1992-08-05 | 1995-10-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Preexposure device for printing forms to be imagewise exposed |
US5504515A (en) * | 1992-08-05 | 1996-04-02 | Hoechst Aktiengesellschaft | Laser exposure apparatus for printing forms to be imagewise exposed |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB931368A (en) | 1963-07-17 |
FR1317386A (fr) | 1963-02-08 |
NL273451A (de) | |
BE611541A (de) | |
US3144331A (en) | 1964-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1214085B (de) | Verfahren zur Wiederherstellung der Empfindlichkeit photopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien | |
DE1906668C3 (de) | Fotografisches Aufzeichnungsmaterial für Bildreproduktionen und Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Reproduktionsverfahren | |
DE1140080B (de) | Platte zur Erzeugung von Reliefdruckformen durch Photopolymerisation | |
DE2055157C3 (de) | Fotopolymerisierbares Gemisch | |
DE1225048B (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Herstellen von Bildern | |
DE2243182B2 (de) | Fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE1138320B (de) | Platte zur Herstellung von Reliefformen fuer Druckzwecke durch Photopolymerisation | |
DE2127767B2 (de) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial und verfahren zu dessen herstellung | |
CH504022A (de) | Lichtempfindliches Material | |
DE2039861B2 (de) | Photopolymerisierbare kopiermasse | |
DE2821053B2 (de) | Lichthärtbares Aufzeichnungsmaterial u. damit durchführbares Bildaufzeichnungsverfahren | |
DE1122373B (de) | Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von Reliefdruckformen | |
DE2725730A1 (de) | Photomaterial | |
DE3236143C2 (de) | ||
DE1172956B (de) | Fotografisches Vervielfaeltigungsverfahren und -geraet | |
DE2125457A1 (de) | Photopolymerisierbare Kunststoffmasse | |
DE1797308C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
EP0002805A1 (de) | Photopolymerisierbare Überzugs- und Aufzeichnungsmaterialien, wie Photolackübertragungsfolien und Photoresistmaterialien, enthaltend einen Photoinitiator und eine organische Halogenverbindung | |
EP0021429A2 (de) | Photopolymerisierbares Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern | |
DE2830143A1 (de) | Photopolymerisierbare massen, ihre verwendung in materialien und verfahren zur erzeugung von polymerbildern | |
DE2501046C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefs und Tiefdruckformen | |
DE1720226A1 (de) | Verfahren zur Photopolymerisation aethylenisch ungesaettigter Monomerer | |
EP0384366B1 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement | |
DE1282447B (de) | Feste, fotopolymerisierbare Schicht zur Erzeugung von Bildern oder Druckplatten | |
DE2710417B2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Erzeugung von positiven oder negativen Bildern |