DE1122373B - Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von Reliefdruckformen - Google Patents
Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von ReliefdruckformenInfo
- Publication number
- DE1122373B DE1122373B DEP23908A DE1122373DA DE1122373B DE 1122373 B DE1122373 B DE 1122373B DE P23908 A DEP23908 A DE P23908A DE 1122373D A DE1122373D A DE 1122373DA DE 1122373 B DE1122373 B DE 1122373B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- layers
- polymeric
- binder
- plate according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0955—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
- C08F291/18—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to irradiated or oxidised macromolecules
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F1/00—Springs
- F16F1/02—Springs made of steel or other material having low internal friction; Wound, torsion, leaf, cup, ring or the like springs, the material of the spring not being relevant
- F16F1/04—Wound springs
- F16F1/06—Wound springs with turns lying in cylindrical surfaces
Description
Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von Raster- und Strich-Reliefdruckformen sind in der
deutschen Patentschrift 1 031 130 beschrieben und auch bereits in der älteren Patentanmeldung P 10709
IV a/57 d (deutsche Auslegeschrift 1 093 209) vorgeschlagen. Durch Änderung der Richtung der Lichtstrahlen
bei der Belichtung können Reliefelemente erhalten werden, die an ihrer Basis breiter sind als an der
Oberfläche. In der britischen Patentschrift 834 733 sind lichtempfindliche Platten vorgeschlagen, welche
in dem tieferen Schichtbereich der polymerisierbaren Schicht eine größere Initiatorkonzentration aufweisen,
während gemäß der britischen Patentschrift 841 455 solche Platten eine größere Menge eines thermischen
Additionspolymerisationsinhibitors in dem oberen Schichtbereich der photopolymerisierbaren Schicht
besitzen. Werden diese Platten mit gewöhnlichen Lichtquellen benutzt, so verjüngen sich nach Entwicklung
der Reliefs die einzelnen Reliefelemente nach oben, so daß die Basis oder Sohle des Reliefs
breiter ist als die Oberfläche.
Obwohl die in den britischen Patentschriften 834 733 und 841 455 vorgeschlagenen Platten Vorteile aufweisen,
zeigt sich doch nach einer bestimmten Lagerzeit eine Wanderung des Photoinitiators und/oder
-inhibitors, und das Konzentrationsgefälle ändert sich. Dadurch ergibt sich eventuell eine gleichmäßigere
Konzentration an diesen Zusatzstoffen innerhalb der gesamten Schicht, und die erwünschte Verbreiterung
der Basis wird nicht oder nur in geringem Maße erreicht.
Zweck der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung verbesserter lichtempfindlicher Platten zur Herstellung
von Reliefdruckformen zur Erzeugung von Rasterund Strichbildern, wobei die Reliefs aus zwei übereinander
angeordneten Kegelstümpfen bestehen, bei welchen die Basiswinkel des obersten Kegelstumpfes
um 5 bis 85° größer als die Basiswinkel des unteren Kegelstumpfes sind und die Hauptbasis des unteren
Kegelstumpfes größer als die des oberen ist. Diese Platten sind gegenüber einer merklichen Änderung des
Konzentrationsabfalls der Zusatzstoffe beim Altern stabil.
Die neuen erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Platten bestehen aus einem geeigneten Träger, beispielsweise
einem biegsamen Film, einer Folie oder einem Metallblatt oder einer festen Platte und aus
mindestens zwei Schichten photopolymerisierbarer Mischungen, die übereinander angeordnet sind; jede
dieser Schichten ist 0,025 bis 2,5 mm und vorzugsweise 0,075 bis 0,5 mm dick und besitzt eine gute Löslichkeit
in verdünnten, wäßrigen, basischen Lösungen, Wasser, Wasser—Äthanol oder in wasserlöslichen oder mit
Lichtempfindliche Platten
zur Herstellung von Reliefdruckformen
zur Herstellung von Reliefdruckformen
Anmelder:
E. I. du Pont de Nemours and Company,
Wilmington, Del. (V. St. A.)
Wilmington, Del. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr. rer. nat. J. D. Frhr. v. Uexküll, Patentanwalt,
Hamburg-Hochkamp, Königgrätzstr. 8
Hamburg-Hochkamp, Königgrätzstr. 8
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 23. Januar 1959 (Nr. 788 501)
V. St. v. Amerika vom 23. Januar 1959 (Nr. 788 501)
Norman Thomas Notley, London,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln, wie beispielsweise Alkohol, Aceton; diese photopolymerisierbare
Mischung enthält die folgenden Komponenten :
1. ein polymeres Bindemittel;
2. eine additionspolymerisierbare Verbindung mit einem Normalsiedepunkt über 1000C, einem
Molekulargewicht von weniger als 1500 und mindestens zwei Äthylengruppen, welche fähig
ist, mittels einer von Photoinitiatoren ausgelösten Additionspolymerisation ein Hochpolymeres zu
bilden;
3. einen Katalysator für die Additionspolymerisation,
welcher durch aktinisches Licht aktivierbar ist und vorzugsweise unterhalb von 85° C thermisch
inaktiv ist, und
4. gegebenenfalls einen thermischen Inhibitor für die
Additionspolymerisation, wobei
die Menge und Art der Komponenten 2, 3 und 4 in den Schichten im wesentlichen gleich sind, während jedoch
die Art der polymeren Komponente 1 unterschiedlich und derart gewählt ist, daß die effektive Photopolymerisationsgeschwindigkeit
der unteren Schicht mindestens l,4mal größer als die der oberen Schicht ist.
Somit kann das Ansprechen auf eine Einheit aktinischer Strahlung in der unteren Schicht von 1,4- bis
109 760/264
3 4
250- und vorzugsweise zwischen 2,5- und lOmal größer 3. Polyvinylacetal-Zusammensetzungen mit extra"
sein als in der oberen Schicht. Im allgemeinen soll die linearen Vinylidengruppen (britische Patentschrift
photopolymerisierbare Mischung in Wasser oder in der 786 119);
Entwicklerlösung in einer Menge von 1 bis 40 Ge- 4. Polyester, Polyacetal oder gemischte Polyesterwichtsprozent
dieser Lösung löslich sein. Es wird ange- 5 Acetal-Gemische (britische Patentschrift 815 277);
nommen, daß das polymere Bindemittel 1 die effek- 5. Gemische aus ausgewählten organischen, in
tive Geschwindigkeit der Photopolymerisation regelt, Lösungsmitteln und Basen löslichen Zelluloseindem
es teilweise als Polymerisationsinhibitor wirkt, abkömmlingen mit additionspolymerisierbaren
aber hauptsächlich ein Medium liefert, in welchem Komponenten und Photoinitiatoren (britische
die Wanderung des Monomers eingeschränkt ist, so io Patentschrift 807 948);
daß dadurch die Geschwindigkeit und das Ausmaß der 6. Abkömmlinge des Polyvinylalkohole (britische
Polymerisation verringert werden. Patentschrift 825 795);
Da die Vorteile der vorliegenden Erfindung durch 7. Polyvinyläther und -esterzusammensetzungen (bri-
Verwendung von nur zwei Schichten erzielt werden tische Patentschrift 834 337);
können, wird dieser Ausbildung der Vorzug gegeben, 15 8. wasserlösliche Zelluloseäther und -ester (USA.-
und die Erfindung soll insbesondere im Hinblick hier- Patentschrift 2 927 023).
auf beschrieben werden.
auf beschrieben werden.
Das unterschiedliche Ansprechen auf eine aktinische Eine einfache Methode zur Bestimmung, ob die
Lichtstrahlung zwischen den beiden Schichten auf photopolymerisierbarenMischungeneineentsprechende
Grund der Komponente 1 kann auf mehreren Wegen 20 Empfindlichkeit gegenüber aktinischer Strahlung beerzielt
werden, indem beispielsweise die Platten mit sitzen, ist die folgende:
zwei photopolymerisierbaren Schichten versehen sind, Es werden zwei getrennte photopolymerisierbare
in welchen Schichten in einer Größe von 15 · 5 cm und mit einer
a)die obere Schicht mindestens zwei polymere Dicke von 0,5 mm hergestellt. Die photopolymerisier-
Komponenten als polymeres Bindemittel und die a5 bare, Mischung, welche die untere Bodenschicht bildet,
untere Schicht eine geringere Menge dieser gleichen wird u m sechs 2^t? ^T* ^ ^kto f lschfn
polymeren Komponenten enthält; Strahlung von 0,27 Watt je Quadratzentimeter fur die
b) die oberen und unteren Schichten zwei oder mehr Dauer ^n 4 Sekunden oder von einem Mehrfachen
identische polymere Komponenten enthalten, dieser 4-Sekunden-Periode hinter einem 0,05-mmderen
relative Konzentrationen verschieden sind, 3° Punktraster-Negativ belichtet. Beispielsweise wird der
obwohl die Gesamtkonzentration des polymeren eJ ste, Abschnitt 24 Sekunden und der letzte nur 4 Se-Bindemittels
in jeder Schicht im wesentlichen die k™d?n. belichtet, wahrend die dazwischenliegenden
deiche ist* Abschnitte entsprechende Zwischenbehchtungen er-
c) die oberen und unteren Schichten jede eine oder halten.
mehrere polymere Komponenten enthalten und 35 u Die photopolymerisierbare Mischung, welche die
alle polymeren Komponenten verschieden sind. obere, Seicht bilden soll, wird in sechs Abschnitten
von 2 bis 4 cm auf gleiche Weise, jedoch hinter einem
Lichtempfindliche Platten des obigen Typus können Strichnegativ belichtet, d. h. also durch ein Negativ,
hergestellt werden, indem zwei verschiedene fließfähige welches eine Platte mit umgekehrten Tonwerten er-Uberzugsmischungen
bereitet werden, welche die not- 40 zeugt. Es wird die optimale Zeit in Sekunden gemessen,
wendigen Bestandteile 1, 2 und 3 und vorzugsweise welche zur Erzielung eines gut geformten, erhabenen
auch den Bestandteil 4 enthalten, worauf diese im Bildes mit gering geneigten Seiten bei einer für die
genauen Verhältnis zueinander auf einen Träger zur untere Schicht ausgewählten Mischung benötigt wird.
Bildung eines mehrschichtigen Films aufgezogen Ebenso wird die optimale Zeit in Sekunden gemessen,
werden. Wahlweise können die Überzugsmischungen 45 welche bei einer für die obere Schicht ausgewählten
auch untereinander gemischt, gemahlen und zu Bögen Mischung benötigt wird, um ein Umkehrbild vollgewalzt werden, welche in der richtigen Reihenfolge ständig auszufüllen, d. h. also, daß die Belichtung
aufgebracht und unter Anwendung von Wärme (bei- durch das erwähnte Strichnegativ in einem solchen
spielsweise bei 15O0C und 14 kg/cm2) unter Bildung Ausmaß erfolgt, daß sich beim Waschen nach der
eines mehrschichtigen Films zusammengepreßt werden. 50 Belichtung kein Relief bild gebildet hat. Die Belichtung
Diese Verfahren zur Bildung von lichtempfindlichen beträgt in beiden Fällen 0,27 Watt je Quadratzenti-Platten
und geeigneten Trägern sind in den unten auf- meter aktinischer Strahlung. Für eine annehmbare
geführten und obenerwähnten Patentschriften be- Kombination soll das Verhältnis von benötigter Beschrieben.
FaUs es gewünscht wird, kann zwischen den lichtung der oberen zu der der unteren Schicht zwischen
zwei photopolymerisierbaren Schichten eine Kleb- 55 1,4 und etwa 250, jedoch vorzugsweise zwischen 2,5
schicht angebracht werden. und 10 und insbesondere nahe bei 2,5 liegen.
Geeignete polymere Verbindungen oder Gemische Wie die weiter unten angeführten Beispiele zeigen,
(Komponente 1) sind in der deutschen Patentschrift sind zahlreiche Abwandlungen der erfindungsgemäßen
1 031 130 beschrieben und auch bereits in der älteren lichtempfindlichen Platten möglich. Beispielsweise kann
Patentanmeldung P 10709 IV a/57 d (deutsche Aus- 60 die obere Schicht aus mindestens zwei polymeren Verlegeschrift
1 093 209) vorgeschlagen. Andere bekannte bindungen bestehen, von denen sich nur eine in der
Verbindungen sind unteren Schicht wiederfindet (s. Beispiel I); die oberen
und unteren photopolymerisierbaren Schichten können
1. N-Methoxymethyl-polyhexamethylen-adipamid- mindestens zwei identische polymere Verbindungen
Gemische (britische Patentschrift 826 272); 65 enthalten, welche in den beiden Schichten in verschie-
2. lineare Polyamidzusammensetzungen, welche denen Anteilen vorhanden sind (s. Beispiel II); die
extralineare N - Acrylyloxymethylgruppen ent- obere Schicht und die untere Schicht können jede zwei
halten (britische Patentschrift 854 980); verschiedene polymere Verbindungen enthalten, wobei
alle polymeren Verbindungen verschieden sind (s. Beispiel III). Dieses sind nicht die einzigen möglichen
Kombinationen mit polymeren Komponenten. Beispielsweise können die untere und obere Schicht jede
eine polymere Komponente enthalten, weiche in den beiden Schichten verschieden ist. Solange das System
die unten angegebenen Bedingungen erfüllt, können auch andere polymere Komponentenkombinationen
verwendet werden. Die additionspolymerisierbare.
sation und vorzugsweise der Inhibitor für die thermische Polymerisation sollen jedoch in jeder photopolymerisierbaren
Schicht des Systems im wesentlichen in gleichen Konzentrationen vorhanden sein.
Die in den verschiedenen Schichten vorhandenen photopolymerisierbaren Verbindungen (Komponente 2)
können aus jeder photopolymerisierbaren Substanz der vorher beschriebenen Art bestehen, vorausgesetzt,
daß diese die folgenden Bedingungen erfüllt:
a) Die untere Schicht muß 1,4- bis etwa 250mal empfindlicher für dieselbe Strahlung sein, vorzugsweise
2,5- bis lOmal und insbesondere etwa 2,5mal
empfindlicher als die obere Schicht, und
b) die photopolymerisierbaren Schichten müssen in der Lage sein, mit oder ohne Unterstützung
einer Klebstoffmischung bei jeder Aufbringungsgeschwindigkeit unter gemäßigten Wärme- und
und von
verwendbaren polymeren Stoffen sind in den obenerwähnten zahlreichen Patentschriften näher aufgeführt.
Wendung derartiger Lichthofschutzstoffe sollen diese
so viel aktinisches Licht absorbieren können, daß nicht mehr als 35% des einfallenden aktinischen
Lichtes vom Träger oder vom kombinierten Träger reflektiert werden kann. Hierfür geeignete Stoffe zur
Verhinderung von Lichthofausbildungen sind in den obenerwähnten Patentschriften offenbart.
Bei der Herstellung von Reliefdruckformen unter Verwendung der neuartigen erfindungsgemäßen Iicht-
Äthylengruppen enthaltende monomere Verbindung io empfindlichen Platten werden diese hinter einer
sowie der Photoinitiator für die Additionspolymeri- Schablone oder durch ein Negativ analog dem Vorschlag
in der deutschen Patentanmeldung P 10709 IVa/57d (deutsche Auslegeschrift 1 093 209) belichtet
und entwickelt. Es wird ein Druckrelief mit ausge-15 zeichneter Bildqualität ohne ein Verschmieren oder
Auffüllen innerhalb oder zwischen den Buchstaben oder zwischen den Rasterpunkten der Reliefs erhalten.
Um gute Ergebnisse zu erzielen, sollen die Strichnegative eine Mindeststrichbreite von 0,025 mm haben,
20 während bei gerasterten Bildern die Rasterweiten 20 bis 120 Linien je Zentimeter und vorzugsweise
25 bis 50 Linien je Zentimeter betragen sollen.
Die lichtempfindlichen Platten können mit aktinischem Licht jeder Herkunft und jeder Art belichtet
werden. Das Licht kann aus einer punktförmigen Lichtquelle oder in parallelen Strahlen oder in divergierenden
Lichtbündeln auftreffen. Vorzugsweise wird eine breite Lichtquelle in geringer Entfernung von der
_ ,, .. „ , Kopiervorlage verwendet. Dadurch fallen die Licht-
Druckbedingungen, beispielsweise bei 150 C und 30 strah,en durch die durchsichtigen Bereiche der Kopier-14
kg/cm2, aneinanderzuheften. Beispiele von vor|age in Fom yon divergierenden Bündeln und
bilden so in den photopolymerisierbaren Schichten unterhalb der durchsichtigen Teile der Kopiervorlage
kontinuierlich divergierende Bereiche. Dadurch erhält Obwohl die lichtempfindlichen Platten der vor- 35 man ein polymeres Relief, dessen größte Breite sich
liegenden Erfindung vorzugsweise aus zwei photopoly- am Boden der photopolymerisierbaren Schicht bemerisierbaren
Schichten bestehen, können sie auch findet, nämlich einen Kegelstumpf, während die Obermehr
als zwei Schichten besitzen. In einem derartigen fläche des Reliefs Abmessungen der durchsichtigen
Fall muß jede Schicht stärker auf dieselbe Strahlung Bereiche besitzt. Früher konnte bei Verwendung von
ansprechen als die unmittelbar darüber befindliche 4° verhältnismäßig dicken Schichten aus photopoly-Schicht,
und die der Trägerfolie am nächsten befind- merisierbaren Materialien und bei kleinen Buchstaben
sogar mit einer breiten Lichtquelle in den meisten Fällen nicht die größere Breite am Boden der Buchstaben
wegen der unvollständigen Polymerisation auf Druck, wie oben beschrieben, aneinanderzuhaften. 45 der Basis erzeugt werden. Bei Verwendung der er-Zw
Verbindung der photopolymerisierbaren Schichten findungsgemäßen polymeren Komponenten unterschiedlicher
Art und insbesondere mit einer breiten Lichtquelle werden jedoch Reliefs erhalten, deren
Elemente aus zwei Kegeln bestehen, von denen der Die Träger für die lichtempfindlichen Schichten sind 50 eine über dem anderen liegt, und wobei die Basisvorzugsweise
flexibel und bestehen aus Metall, wie winkel des oberen größer als die des unteren und die
beispielsweise Aluminium oder Stahl, jedoch können Hauptbasis des unteren Kegels größer als die des
sie auch starr sein. Sie können darüber hinaus auch oberen ist. Genauso bestehen die Querschnitte der
aus den verschiedensten filmbildenden Harzen oder Reliefelemente somit aus zwei übereinander angeord-Polymeren
hergestellt sein. Derartige geeignete Träger 55 neten Trapezoiden mit dem gleichen Verhältnis
sind in der älteren deutschen Patentanmeldung P 10709 zwischen Grundwinkeln und Basis.
IVa/57d (deutsche Auslegeschrift 1 093 209) vorge- Da die Additionspolymerisationskatalysatoren,
IVa/57d (deutsche Auslegeschrift 1 093 209) vorge- Da die Additionspolymerisationskatalysatoren,
schlagen. welche freie Radikale erzeugen und durch aktinisches
Die in den erwähnten Patentschriften aufgeführten Licht aktivierbar sind, im allgemeinen eine maximale
verschiedenen Verankerungsschichten können zur Er- 60 Empfindlichkeit im Ultraviolettbereich zeigen, soll die
zielung einer starken Haftfähigkeit zwischen der Unter- Lichtquelle vorzugsweise eine wirksame Menge dieser
lage und der photopolymerisierbaren Schicht verwendet Strahlung liefern. Solche Lichtquellen sind beispielswerden.
Klebstoffgemische gemäß der britischen weise Kohlebogenlampen, Quecksilberdampflampen,
Patentschrift 864 041 sind ebenfalls sehr geeignet. Fluoreszenzlampen mit speziell ultraviolettes Licht
In dem Träger oder in einer Schicht oder Unter- 65 aussendenden Leuchtmassen, Argonglühlampen und
schicht auf der Trägeroberfläche sowie in der Ver- photographische Flutlichtlampen. Unter diesen sind
ankerungsschicht kann ein Material vorhanden sein, die Quecksilberdampflampen und besonders Jupiterweiches die Lichthofbildung verhindert. Bei Ver- lampen und Fluoreszenzlampen mit Spezialleucht-
liche Schicht muß am lichtempfindlichsten sein. Die Schichten sollen ebenfalls fähig sein, schon bei Anwendung
äußerst gemäßigter Wärme und geringem
miteinander kann eine dünne Klebstoffschicht verwendet werden, jedoch muß dieser Klebstoff in der
Waschlösung löslich sein.
massen,wie ζ. Β. Fluoreszenz-Jupiterlampen, besonders
geeignet. Die Quecksilberdampflampen werden im allgemeinen in einem Abstand von etwa 4 bis 25 cm
von den photopolymerisierbaren Schichten verwendet.
Die erfindungsgemäß hergestellten Reliefdruckformen können bei allen Druckverfahren verwendet
werden, bei denen ein beachtlicher Höhenunterschied zwischen den druckenden und nichtdruckenden Bereichen
erforderlich ist. Hierzu gehören die Verfahren, bei welchen die Druckfarbe von den erhabenen Bereichen
des Reliefs aufgenommen wird, wie z. B. beim Trockenoffsetdruck und im gewöhnlichen Buchdruck.
Bei dem letzteren sind bekanntlich größere Höhenunterschiede zwischen den druckenden und den nichtdruckenden
Bereichen erforderlich. Die Druckplatten sind natürlich auch für Mehrfarbendruck geeignet.
Die vorliegende Erfindung hat gegenüber dem bekannten Stand der Technik Vorteile, da die lichtempfindlichen
Platten lange Zeit der Luft ausgesetzt bleiben können, ohne dadurch ihre Lichtempfindlichkeit
zu verlieren. Zusätzlich haben die gebildeten Typen in dem der oberen Schicht des photopolymerisierten
Materials entsprechenden Bereich Seitenflächen mit einer Neigung von mindestens etwa 60°
sowie eine breitere Basis mit geneigten Seiten (Kegel) in den Bereichen, welche der unteren Schicht des
photopolymerisierten Materials entsprechen. Die breitere Typenbasis ermöglicht, daß die Typen und insbesondere
die kleineren Buchstaben eine bessere Haftung an dem Basisträger besitzen und sich weniger
leicht ablösen oder während des Drückens verbiegen. Der große Winkel, die schräge Neigung der Seiten des
oberen Bereiches der Druckbuchstaben ermöglichen eine längere Lebensdauer des Druckelementes in der
Druckpresse, da bei Abnutzung der Buchstaben nur eine sehr geringe Bildverbreiterung und demzufolge
kein gegenteiliger Effekt für die Qualität des erzielten Druckes erhalten wird. Die Drucktypen nehmen
darüber hinaus nur sehr wenig Druckfarbe, Papier, Staub oder andere Reste zwischen den Reliefbuchstaben
während des Drückens auf.
Im folgenden soll die Erfindung an Hand der Beispiele näher beschrieben werden, welche jedoch keine
Beschränkung darstellen.
Ein etwa 0,27 mm dicker Träger aus verzinntem Blech, welcher mit einer dünnen Lackschicht aus
einem Gemisch von einem Vinylacetat-Vinylchlorid-Mischpolymerisat und einem Phenolformaldehydharz
überzogen war, wurde mit einer Klebstofflösung bestrichen, welche gemäß Beispiel I der britischen Patentschrift
864 041 hergestellt wurde. Zu dieser Lösung waren noch 0,16 g 2,2'-Dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenon
als Lichthof verhinderndes Mittel zugesetzt. Die an der Luft getrocknete Haftschicht hatte
eine Dicke von 0,075 mm. Der mit dem Klebstoff überzogene Träger wurde dann mit einer 0,50 mm
dicken Schicht einer photopolymerisierbaren Mischung bestrichen, welche aus einem Gemisch von 66,6 g
Zelluloseacetat-hydrogensuccinat, 33,3 g Triäthylenglycoldiacrylat, 0,03 g Anthrachinon als Photoinitiator
und 0,07 g p-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor hergestellt wurde. Dieses Gemisch wurde
30 Minuten bei 150° C auf einem Gummiwalzwerk verarbeitet. Eine zweite photopolymerisierbare
Mischung wurde auf die gleiche Weise bereitet, die jedoch aus 60,35 g Zelluloseacetat-hydrogensuccinat,
6,25 g Polyvinylpyridin und 33,3 g Triäthylenglycoldiacrylat, 0,03 g Anthrachinon und 0,07 g p-Methoxyphenol
bestand. Diese Schicht wurde in einer Stärke von 0,50 mm auf die untere photopolymerisierbare
Schicht aufgebracht. Die so erhaltene Platte wurde in einer hydraulischen Presse mit auf 150° C vorgeheizten
Platten 3 Minuten lang unter einem Druck von 14 kg/cm2 gepreßt, 3 Tage an Luft gelagert und in
einen Vakuumrahmen gelegt, in dem die photopolymerisierbare Oberfläche mit einem Strichrasternegativ
in Berührung gebracht wurde, deren Mindeststrichbreite 0,025 mm betrug. Der Vakuumrahmen mit der
Platte und dem Negativ wurde unter einer 1800-Watt-Hochdruck-Quecksilberbogenlampe
28,6 Sekunden lang mit einer aktinischen Strahlung von 0,27 Watt je Quadratzentimeter belichtet. Nach der Belichtung wurde
das Negativ von der Platte abgezogen, und das unbelichtete Polymere wurde durch eine 10 Minuten dauernde
Sprühwäsche mit einer 0,08 n-Natriumhydroxydlösung
ao entfernt. Es wurde ein scharfes Reliefbild erhalten, welches fest an dem Träger anhaftete. Die derart hergestellte
Druckform zeigte eine ausgezeichnete Bildqualität und beim Drucken in einer Flachformpresse
eine lange Lebensdauer, wobei die Bilder weder verschmiert noch unterhöhlt waren und ihre ursprünglichen
Abmessungen im Laufe vieler Druckvorgänge beibehielten.
Ein mit einer Klebstoffschicht bestrichener und gemäß Beispiel I hergestellter Träger wurde mit einer
0,5 mm dicken Schicht einer photopolymerisierbaren Mischung überzogen, welche aus einem Gemisch von
65,2 g Zelluloseacetat-hydrogensuccinat, 1,4 g PoIyvinylpyridin,
33,3 g Triäthylenglycoldiacrylat, 0,03 g Anthrachinon und 0,03 g p-Methoxyphenol hergestellt
und analog Beispiel I vermählen wurde. Eine gleichermaßen hergestellte zweite photopolymerisierbare Zusammensetzung
aus 58,6 g Zelluloseacetat-hydrogensuccinat, 8 g Polyvinylpyridin, 33,3 g Triäthylenglycoldiacrylat,
0,03 g Anthrachinon und 0,03 g p-Methoxyphenol wurde in einer Stärke von 0,5 mm auf die untere
photopolymerisierbare Schicht aufgetragen. Der so erhaltene Schichtenkörper wurde analog Beispiel I in
einer hydraulischen Presse gepreßt, 3 Tage lang an Luft aufbewahrt und analog Beispiel I mit einer gleich
intensiven aktinischen Strahlung hinter einem Strichrasternegativ belichtet. Das belichtete Element wurde
einer 10-Minuten-Sprühwäsche mit 0,08 n-Natronlauge ausgesetzt und die unpolymerisierten Teile ausgewaschen.
Das Druckelement hatte die gleiche Qualität wie das des Beispiels I und zeigte beim Drucken in
Flachpressen eine lange Lebensdauer.
Ein analog Beispiel I mit einer Klebstoffschicht überzogener Metallträger wurde mit einer 0,5 mm
dicken Schicht einer photopolymerisierbaren Mischung überzogen, welche aus einem Gemisch von 44,0 g
Zelluloseacetat, 6,0 g Polyvinylpyrrolidon, 33,3 g Triäthylenglycoldiacrylat, 0,03 g Anthrachinon und 0,03 g
p-Methoxyphenol hergestellt wurde. Eine zweite photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde aus
einem Gemisch von 58,6 g Zelluloseacetat-hydrogensuccinat, 8,0 g Polyvinylpyridin, 33,3 g Triäthylenglycoldiacrylat,
0,03 g Anthrachinon und 0,03 g p-Methoxyphenol in einer Dicke von 0,5 mm auf die
untere photopolymerisierbare Schicht aufgebracht. Die
so erhaltene Platte wurde analog Beispiel I in einer hydraulischen Presse gepreßt und danach 2 Tage an
Luft getrocknet. Die Platte wurde mit einer aktinischen Strahlung von 0,27 Watt je Quadratzentimeter 40 Sekunden
hinter einem Linienrasternegativ mit einer Mindeststrichbreite von 0,075 mm belichtet. Die belichtete
Platte wurde 20 Minuten in einem Sprühwäscher mit Aceton gewaschen und die unpolymerisierten
Teile ausgewaschen. Es wurde eine Druckform erhalten, deren Qualität mit denen der vorhergehenden
Beispiele vergleichbar war.
Es wurde analog Beispiel III gearbeitet, wobei jedoch
die lichtempfindliche Platte aus einem Metallträger gemäß Beispiel I bestand. Die untere 0,5 mm dicke
photopolymerisierbare Schicht wurde aus 53 g Zelluloseacetat-hydrogensuccinat,
10 g Zelluloseacetat, 37 g Triäthylenglycoldiacrylat, 0,037 g Anthrachinon und 0,037 g p-Methoxyphenol hergestellt, während die
obere photopolymerisierbare Schicht in einer Dicke von 0,5 mm aus 48 g Zelluloseacetat-hydrogensuccinat,
9 g Zelluloseacetat, 6 g Polyvinylpyridin, 37 g Triäthylenglycoldiacrylat, 0,037 g Anthrachinon und
0,037 g p-Methoxyphenol bereitet wurde. Die erhaltene Platte wurde nach 3tägiger Lagerung an Luft unter
einem Linienrasternegativ gemäß Beispiel III17 Sekunden mit einer aktinischen Strahlung von 0,27 Watt je
Quadratzentimeter belichtet. Die belichtete Platte wurde 10 Minuten mit 0,08 n-Natriumhydroxydlösung
besprüht und die unpolymerisierten Teile ausgewaschen, um das Druckrelief hervorzubringen. Diese
Druckform entsprach hinsichtlich ihrer Qualität den vorher beschriebenen.
35
Es wurde Beispiel I wiederholt, wobei jetzt die lichtempfindliche Platte durch ein Negativ belichtet wurde,
welches sowohl ein Strichraster wie ein »Halbton«- Raster enthielt. Die feinsten Striche des Strichrasters
waren 0,025 mm breit, und die Rasterbereiche des Negativs waren mit einem Rastergitter von 48 Linien
je Zentimeter hergestellt. Die erhaltene Druckform entsprach in ihrer Qualität denen der anderen Beispiele.
45
Claims (8)
1. Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von Reliefdruckformen, deren Reliefelemente an der
Basis breiter als an der Oberfläche sind und die aus einem Träger bestehen, der vorzugsweise über einer
Lichthofschutzschicht mindestens zwei photopolymerisierbare Schichten aufweist, deren Lichtempfindlichkeit
verschieden ist, wobei die Schichten 0,025 bis 2,5 mm dick sind und sich aus den folgenden
Komponenten zusammensetzen:
1. aus einem polymeren Bindemittel,
2. einer polymerisierbaren Verbindung mit einem Normalsiedepunkt über 1000C und einem
Molekulargewicht unterhalb 1500, welche fähig ist, mittels einer von Katalysatoren ausgelösten
Additionspolymerisation ein Hochpolymeres zu bilden, und
3. aus einem durch Licht aktivierbaren Polymerisationskatalysator,
welcher bei Temperaturen unterhalb von 85 0C thermisch inaktiv ist,
wobei jede dieser Schichten vorzugsweise in Wasser, verdünnten wäßrigen basischen Lösungen, Gemischen
aus Wasser und Äthanol oder in einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel
löslich ist, dadurch gekennzeichnet, daß die polymerisierbare
Verbindung (Komponente 2) mindestens zwei Äthylengruppen im Molekül enthält und daß die Mengen der Komponenten 2 und 3 in
jeder der Schichten die gleichen sind, wobei jedoch die Art des polymeren Bindemittels (Komponente 1)
verschieden ist, so daß die untere oder unterste Schicht eine effektive Polymerisationsgeschwindigkeit
besitzt, die mindestens 1,4- und vorzugsweise 2,5- bis lOmal größer ist als die der oberen oder
obersten Schicht.
2. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten noch
einen Polymerisationsinhibitor enthalten, der in jeder Schicht im wesentlichen in der gleichen
Konzentration vorhanden ist.
3. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte aus
zwei photopolymerisierbaren Schichten besteht.
4. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten 0,075
bis 0,5 mm dick sind.
5. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß das polymere
Bindemittel der oberen Schicht mindestens zwei polymere Verbindungen enthält, daß aber das polymere
Bindemittel der unteren Schicht eine polymere Verbindung weniger enthält als das Bindemittel der
oberen Schicht, wobei die untere Schicht nur solche polymeren Verbindungen enthält, die auch in der
oberen Schicht vorhanden sind.
6. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die unteren
und oberen Schichten jede mindestens zwei polymere Verbindungen in verschiedenen relativen
Konzentrationen enthalten und daß der Gesamtanteil des polymeren Bindemittels in jeder Schicht
im wesentlichen der gleiche ist.
7. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß das polymere
Bindemittel in der oberen Schicht eine polymere Verbindung oder Verbindungen enthält, die sich
gegenüber der oder denen der unteren Schicht unterscheiden.
8. Lichtempfindliche Platte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Schicht als
polymeres Bindemittel Polyvinylpyridin und ein Zelluloseacetat-hydrogensuccinamat enthält, welches
in verdünntem wäßrigem Natriumhydroxyd löslich ist, und daß die untere Schicht das gleiche
Zelluloseacetat-hydrogensuccinamat als einzige polymere Verbindung enthält.
O 109 760/264 1.62
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US788501A US3157505A (en) | 1959-01-23 | 1959-01-23 | Photopolymerizable elements |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1122373B true DE1122373B (de) | 1962-01-18 |
Family
ID=25144686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP23908A Pending DE1122373B (de) | 1959-01-23 | 1959-11-19 | Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von Reliefdruckformen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3157505A (de) |
CH (1) | CH391466A (de) |
DE (1) | DE1122373B (de) |
FR (1) | FR1253861A (de) |
GB (1) | GB867959A (de) |
NL (1) | NL245513A (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3271180A (en) * | 1962-06-19 | 1966-09-06 | Ibm | Photolytic processes for fabricating thin film patterns |
US3615435A (en) * | 1968-02-14 | 1971-10-26 | Du Pont | Photohardenable image reproduction element with integral pigmented layer and process for use |
US3663222A (en) * | 1968-06-06 | 1972-05-16 | Asahi Chemical Ind | Process for preparing steric block with liquid photopolymerizable composition |
US3883351A (en) * | 1972-02-09 | 1975-05-13 | Horizons Inc | Method of making a photoresist |
US4002478A (en) * | 1973-03-15 | 1977-01-11 | Kansai Paint Company, Ltd. | Method for forming relief pattern |
JPS6032173B2 (ja) * | 1974-12-28 | 1985-07-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成法 |
US4055424A (en) * | 1976-05-07 | 1977-10-25 | Xerox Corporation | Novel microfilm and process for preparation |
US4115119A (en) * | 1976-06-14 | 1978-09-19 | Napp Systems (Usa), Inc. | Shallow relief photopolymer printing plate and methods |
DE2658422C2 (de) * | 1976-12-23 | 1986-05-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms |
US4123272A (en) * | 1977-05-17 | 1978-10-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Double-negative positive-working photohardenable elements |
JPS6032175B2 (ja) * | 1977-05-18 | 1985-07-26 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | 版木及びレリ−フ版木を製造するために改良された光重合可能な物質 |
CA1123649A (en) * | 1978-06-22 | 1982-05-18 | Norman E. Hughes | Printing plates produced using a base layer with polymerization rate greater than that of the printing layer |
US4266007A (en) * | 1978-06-22 | 1981-05-05 | Hercules Incorporated | Multilayer printing plates and process for making same |
US4224361A (en) * | 1978-09-05 | 1980-09-23 | International Business Machines Corporation | High temperature lift-off technique |
US4332873A (en) * | 1979-08-22 | 1982-06-01 | Hercules Incorporated | Multilayer printing plates and process for making same |
US5213949A (en) * | 1986-11-12 | 1993-05-25 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for selectively curing a liquid photosensitive resin by masking exposure |
JP3362797B2 (ja) | 1993-04-30 | 2003-01-07 | 東洋紡績株式会社 | 印刷原版用感光性樹脂積層体 |
JP3423077B2 (ja) * | 1993-08-25 | 2003-07-07 | ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット | 版面の製造方法 |
JP2004020643A (ja) * | 2002-06-12 | 2004-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ドライフィルムレジスト及びプリント基板の製造方法 |
JP5264589B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 同時2光子吸収3次元光記録媒体および同時2光子3次元光記録方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2101061A (en) * | 1935-11-22 | 1937-12-07 | Du Pont | Casting |
US2892712A (en) * | 1954-04-23 | 1959-06-30 | Du Pont | Process for preparing relief images |
US2964401A (en) * | 1957-02-18 | 1960-12-13 | Du Pont | Photopolymerizable elements and processes |
GB841454A (en) * | 1957-09-16 | 1960-07-13 | Du Pont | Improvements in or relating to photopolymerisable elements |
-
0
- NL NL245513D patent/NL245513A/xx unknown
-
1959
- 1959-01-23 US US788501A patent/US3157505A/en not_active Expired - Lifetime
- 1959-10-26 GB GB36250/59A patent/GB867959A/en not_active Expired
- 1959-11-19 DE DEP23908A patent/DE1122373B/de active Pending
- 1959-11-20 CH CH8086759A patent/CH391466A/de unknown
- 1959-12-30 FR FR814554A patent/FR1253861A/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL245513A (de) | |
FR1253861A (fr) | 1961-02-17 |
CH391466A (de) | 1965-04-30 |
GB867959A (en) | 1961-05-10 |
US3157505A (en) | 1964-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1122373B (de) | Lichtempfindliche Platten zur Herstellung von Reliefdruckformen | |
DE1906668C3 (de) | Fotografisches Aufzeichnungsmaterial für Bildreproduktionen und Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Reproduktionsverfahren | |
DE1140080B (de) | Platte zur Erzeugung von Reliefdruckformen durch Photopolymerisation | |
DE2300371C3 (de) | Photopolymerisierbare Druckplatte für den Flexodruck | |
DE1225048B (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Herstellen von Bildern | |
DE1031130B (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen | |
DE2053683A1 (de) | Photopolymerisierbare Kopiermasse | |
DE2706633A1 (de) | Lichtempfindliche harzmasse und anwendung derselben als material zur ausbildung eines metallbildes | |
EP0447930B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE3710210A1 (de) | Bilderzeugendes material | |
DE2149056C3 (de) | Verfahren zur Reproduktion von Bildern | |
DE1291620B (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE2362005A1 (de) | Verfahren zum wasserfestmachen von photopolymeren druckplatten | |
DE2725730A1 (de) | Photomaterial | |
DE2449172B2 (de) | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte | |
EP0002805B1 (de) | Photopolymerisierbare Überzugs- und Aufzeichnungsmaterialien, wie Photolackübertragungsfolien und Photoresistmaterialien, enthaltend einen Photoinitiator und eine organische Halogenverbindung | |
DE2551216C2 (de) | Lichtempfindliches Übertragunsblatt und Zeichenübertragungsblatt zur Trockenübertragung bei normaler Raumtemperatur | |
EP0220589B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE3836403A1 (de) | Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen | |
DE2710417C3 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Erzeugung von positiven oder negativen Bildern | |
DE2402179C2 (de) | Photopolymerisierbare Massen enthaltend dimere Nitrosoverbindungen | |
DE60034196T2 (de) | Gewickelte Lagerrolle eines lichtempfindlichen Verbundelements | |
DE2511486C2 (de) | Verfahren zur Bilderzeugung und photopolymerisierbares Gemisch | |
DE3015340A1 (de) | Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignete mehrschichtelemente | |
DE1795223A1 (de) | Photopolymerisationsverfahren |