DE1211730B - Doppelphotowiderstand, insbesondere fuer Belichtungsmesser - Google Patents

Description

• Doppelphotowiderstand, insbesondere für Belichtungsmesser Die Erfindung betrifft die Anordnung von Elektroden in einem Doppelphotowiderstand insbesondere für photoelektrische Belichtungsmesser.
• In letzter Zeit sind für photoelektrische Einbereichs-Belichtungsmesser Schaltungen entwickelt worden, bei denen zur Ausdehnung des Mcßbcreiches bzw. zur Verbesserung, d. h. zur Linearisierung seiner Skalenteilung. zwei Photowiderstände gleichen Widerstandswertes verwendet werden. Beide Photowiderstände sind üblicherweise auf einer gemeinsamen Trägerplatte zu einem Doppelphotowiderstand vereinigt und müssen zur Erzielung einer einwandfreien Messung etwa mit der gleichen Beleuchtungsstärke beaufschlagt werden. Es ist daher schon eine Anordnung vorgeschlagen worden, die dieses Ziel unter Verwendung zusätzlicher optischer Mittel erreicht.
• Ferner ist es bekannt. diese zusätzlichen optischen Mittel dadurch entbehrlich zu machen, daß zwischen den beiden herkömmlichen Elektroden eine dritte Elektrode angeordnet ist. Schaltungstechnisch stellt der so gewonnene Doppelphotowiderstand zwei in Reihe geschaltete Einzelwiderstände dar, zwischen denen ein elektrischer Abgriff angeordnet ist.
• Jedoch hat diese Anordnung einen wesentlichen Nachteil, der darin besteht, daß damit immer dann Fehlmessungen erzielt werden, wenn nicht der gesamte Photowiderstand mit Licht beaufschlagt wird, sondern das Licht einseitig nur auf den einen oder nur auf den anderen Widerstand fällt. Während der eine Teilwiderstand dann mehr oder weniger leitend wird. bleibt der andere Teilwiderstand hochohmig so daß eine unerwünschte Verschiebung des Stromflusses in den beiden Teilwiderständen auftritt.
• Gemäß der Erfindung ist dieser Nachteil dadurch beseitigt, daß die zwei Elektroden als ineinandergreifende Kammelektroden ausgebildet sind, zwischen denen die dritte Elektrode mäandcrförmig verläuft. Bei dem erfindungsgemäß ausgebildeten Photowiderstand ist es daher gleichgültig ob der ganze oder nur ein Teil des Doppelwiderstandes beleuchtet wird, es erhalten in jedem Falle proportionale Anteile des ersten und des zweiten Tcilwidcrstandcs Licht.
• In der Zeichnung ist die Erfindung in einem Ausführungsbeispiel dargestellt. Es zeigt Fig. 1. die Anordnung der Mittelelektrode zwischen den beiden herkömmlichen Elektroden, wie es dem Stand der Technik entspricht, F i g. 2 die Lage der Mittelelektrode zwischen den kammförmig angeordneten Elektroden gemäß der Erfindung, F i g. 3 das Schaltbild eines Belichtungsmessers mit zwei Photowiderständen gleichen Widerstandswertes.
• In Fi g. 1 ist mit 1 die eine Elektrode und mit 2 die andere Elektrode bezeichnet. 3 ist die photoelektrische Widerstandsschicht, in die eine dritte Elektrode 4 eingebettet ist. la, 2 a und 4 a sind die entsprechenden elektrischen Zuleitungen.
• F i g. 2 zeigt die als Kammelektroden ausgebildeten Außenelektroden 21 und 22, zwischen denen sich in der photoelektrischen Schicht 23 die Zwischenelektrode 24 mäanderförmig windet. 21 a, 22 a und 24 a sind in dieser Darstellung analog zu F i g. 1 die elektrischen Zuleitungen.
• Das Schaltbild in Fig.3 zeigt schematisch den Doppelphotowiderstand 31, 32 in Reihe mit einem Meßwerk 33 und einer Spannungsquelle 34. 35, 36, 37 stellen Abgleichwiderstände zur Erlangung der gewünschten Skalenteilung bzw. Meßwerkcharakteristik dar. Aus diesem Schaltbild läßt sich ersehen, daß der Doppelphotowiderstand 31, 32 als Spannungsteiler wirkt.

Claims (1)

1. Patentanspruch: Aus zwei in Reihe geschalteten Einzelwiderständen gebildeter Doppelphotowiderstand, bei dem zwischen zwei Elektroden eine dritte Elektrode eingeschoben ist, insbesondere für Belichtungsmesser, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei Elektroden (21, 22) als ineinandergreifende Kammelektroden ausgebildet sind, zwischen denen die dritte Elektrode (24) mäanderförmig verläuft.

   In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1 705 916.