DE2025250A1 - Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser - Google Patents

Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser

Info

Publication number
DE2025250A1
DE2025250A1 DE19702025250 DE2025250A DE2025250A1 DE 2025250 A1 DE2025250 A1 DE 2025250A1 DE 19702025250 DE19702025250 DE 19702025250 DE 2025250 A DE2025250 A DE 2025250A DE 2025250 A1 DE2025250 A1 DE 2025250A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
teeth
electrode
double
resistance
photo resistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19702025250
Other languages
English (en)
Inventor
Dietrich Brueckner
Werner Holle
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Original Assignee
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DEL44599A external-priority patent/DE1211730B/de
Application filed by Ernst Leitz Wetzlar GmbH filed Critical Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Priority to DE19702025250 priority Critical patent/DE2025250A1/de
Publication of DE2025250A1 publication Critical patent/DE2025250A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Description

  • Doppelfotowiderstand in Mäanderform, insbesondere für Belichtungsmesser Die Erfindung betrifft einen Doppelfotowiderstand, der dadurch charakterisiert ist, daß zwischen zwei kammartig ineinandergreifenden Elektroden eine dritte Elektrode maanderförmig eingebettet ist. Derartige Fotowiderstände sind z.B. aus dem DBP 1 211 730 in der Form bekannt, daß die beiden so entstandenen Fotowiderstände gleiche Widerstandswerte bilden.
  • Andererseits ist bereits eine Belichtungsmesserschaltung bekannt, bei der ein hochohmiger und ein niederohmiger Fotowiderstand zusammen mit einem ohmschen Widerstand zu einem lichtempfindlichen Zweipol zusammengeschaltet sind, dessen Widerstandsverhajten bei großer Beleuchtungsstärke im wesentlichen von dem höherohmigen Widerstand und bei geringerer Beleuchtungsstärke von dem niederohmigen Widerstand bestimmt wird.
  • Diese Schaltung ist sowohl geeignet, den Meßbereich des Belichtungsmessers allgemein etwas zu erweitern, als vor allem auch eine weitegehende Linearität in der Anzeige der Belichtungswerte herbeizuführen.
  • Dabei ist es in der bekannten Schaltung jedoch nachteilig, daß die beiden zu einer Baueinheit vereinigten Fotowiderstände nicht gleichmäßig liter die Lichtempfangsfläche dieser Baueinheit vertoilt angeordnet sind. Während der niederohmige Widerstand die gesamte Lichtampfallgsfläche ausfüllt, ist der hochohmige Fotowiderstand nur an einer Seite dieser Lichtempfangsfläche angoordnet. Für die praktische Verwendung ergibt sich dabei der Nachteil, daß einseitig gemessen werden kann. Das heißt, es besteht die Gefahr, daß das ganze von bildwichtigen Objektdetails herkommende Licht gar nicht auf beide Fotowiderstände fällt, sondern vornehmlich auf den niederohmigen, der ja den Elauptteil der Lichtempfangsfläche einnimmt.
  • Dieser Nachteil ist bei einem bereits vorgeschlagenen Doppelfotowiderstand (Anmeldung P 17 64 828.1) beseitigt, bei dem sowohl der niederohmige als auch der hochohmige Widerstand über die gesamte Lichtempfangsfläche verteilt sind, so daß die Gefahr des einseitigen Messens zwingend vermieden wird.
  • Dies wird dadurch erreicht, daß die sich nach DBP 1 211 730 mäanderförmig zwischen den beiden Kammelektroden windende dritte Elektrode von den beiden Kammelektroden ungleich weit entfernt angeordnet wird. Dadurch ergeben sich zwei Teilwiderstände mit unterschiedlichen Widerstandswerten, so wie dies zllm Aufbau der oben angeführten bekannten Schaltung erforderlich ist.
  • Das Verhältnis der zwei Widerstandsteile kann nicht beliebig groß gemacht werden. Die engen Abstände können aus fertigungstechnischen Gründen ein bestimmtes Maß nicht unterschreiten, so daß es zur Änderung des Verhältnisses der Widerstandswerte nur übrigbleibt, die weiten Abstände entsprechend weit zu dimensionieren. Die weiten Abstände bedingen aber einen relativ hohen Flächenanteil der gesamten Fotowiderstandsfläche, wodurch sich der Verschachtelungsgrad verschlechtert und u.U.
  • der Widerstandswert zu hoch wirde Es bestand daher die Aufgabe, einen Doppelfotowiderstand zu schaffen, bei dem trotz der oben angegebenen fertigungsu technischen Behinderungen ein großes Verhältnis der der standswerte zueinander erreichbar ist, bei möglichst kleinen Abmessungen des Gesamtwiderstandes.
  • Gemäß der Erfindung ist diese Aufgabe dadurch gelöst, daß der mäanderförmig sich windenden dritten Elektrode auf entgogengesetzten Seiten zwei Elektroden gegenüberstehen, die unterschiedliche Zähnezahl besitzen, wobei die mäanderförmige Elektrode selbst mit zusätzlichen Zähnen versehen ist, die der Elektrode mit der größeren Zähnezahl gegenüberstehen.
  • Dabei können die Abstände der Zähne beider Elektroden zur mäanderförmigen Elektrode bzw. zu deren Zähnen gleich sein. Jedoch wird eine besonders große Variationsmöglichkeit für das Verhältnis der Widerstände zueinander dann erreicht, wenn auch bei dieser Anordnung diese Abstände noch unterschiedlich groß gemacht werden, wobei die Abstände zwischen der mäanderförmigen Elektrode bzw. deren Zähnen und den Zähnen der Elektrode mit der größeren Zähnezahl (das ist der niederohmigere Teilwiderstand) kleiner zu machen sind als zwischen der mäanderförmigen Elektrode und der Elektrode mit der kleineren Zähne zahl (das ist der höherohmige Widerstand). Es läßt sich dadurch übrigens auch eine gleichmäßigere prozentuale Aufteilung der Gesamtfläohe auf die beiden Teilwiderstände erzielen.
  • Der von dem erfindungsgemäßen Doppelfotowiderstand erreichte Verschachtelungsgrad entspricht nicht ganz demjenigen des im DBP 1 211 730 vorbekannten Widerstandes. Diesem etwas schlechteren Verschachtelungsgrad kann durch die Vorschaltung an sich bekannter optischer Lichtleiter begegnet werden, wobei an diese Lichtleiter naturgemäß nur geringere Anforderungen gestellt zu werden brauchen, als wenn die Teilwiderstände nebeneinander angeordnet wären.
  • In der Zeichnung ist die Erfindung in zwei Ausführungsbeispielen dargestellt. Es zeigen: Fig. 1 einen Doppelfotowiderstand der erfundenen Art mit gleichen Abständen zwischen der mäanderförmigen Elektrode und den beiden anderen Elektroden, Fig. 2 einen Doppelfotowiderstand der etfundenen Art mit unterschiedlichen Abständen zwischen der mäanderförmigen Elektrode und den beiden anderen Elektroden.
  • Fig. 1 zeigt eine sich mäanderförmig windende Elektrode 1, die zusätzliche Zähne la, Ib, 1c besitzt. Ihr steht auf einer Seite eine zweite elektrode 2 gegenüber, die mit sechs Zähnen versehen ist. Auf der anderen Seite ist eine dritte Elektrode 3 angeordnet, die nur zwei Zähne hat. Dabei steht die Elektrode 3 der Elektrode 2 etwa mittig gegenüber. Bs ist nun aus der Darstellung klar erkennbar, daß der Abstand a zwischen den Zähnen der Elektrode 1 und 2 genauso so groß ist wie der Abstand b zwischen den Zähnen der Elektrode 1 und 3. Auf diese eise wird zwischen den Elektroden 1 und 2 ein niederohmiger Widerstand gebildet, während zwischen den Elektroden 1 und 3 ein hochohmiger Widerstand entsteht.
  • In Fig. 2 ist dagegen ein Ausführungsbeispiel dargestellt, bei dem der Abstand von der mäanderförmigen Elektrode 4 bzw. von deren Zähnen zu der höherzähnigen Elektrode 5 und zu der niederzähnigen Elektrode 6 unterschiedlich groß ist. Daraus resultiert ein besonders hohes Widerstandsverhältnis, wobei aber die Flächenanteile der beiden Teilwiderstände etwa gleich groß sind, so daß eine gleichmäßige Lichtbeaufschlagung beider Teilwiderstände gewährleistet ist.

Claims (4)

  1. Ansprüche
    X Doppelfotowiderstand in Mäanderform nach Patent 1 211 730, dadurch gekennzeichnet, daß der mäanderförmig sich windenden Elektrode (1) auf entgegengesetzten Seiten zwei Elektroden (2, 3) gegenüberstehen, die unterschiedliche Zähnezahl besitzen, wobei die mäanderförmige Elektrode (1) selbst mit zusätzlichen Zähnen (la, 1b, 1c) versehen ist, die der Elektrode mit der größeren Zähnezahl (2) gegenüberstehen.
  2. 2. Doppelfotowiderstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abstände (a, b) zwischen der mäanderförmigen Elektrode (1) bzw. deren Zähnen und den Zähnen der beiden anderen Elektroden (2, 3) gleich sind.
  3. 3. Doppelfotowiderstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen der mäanderförmigen Elektrode (4) bzw. deren Zähnen und den Zähnen der höherzähnigen Elektrode (5) geringer ist als der Abstand zwischen der mäanderförmigen Elektrode (4) und den Zähnen der niederzähnigen Elektrode (6).
  4. 4. Doppelfotowiderstand nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß dem Doppelfotowiderstand ein an sich bekannter Lichtleiter vorgesetzt ist.
    Leerseite
DE19702025250 1963-04-10 1970-05-23 Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser Pending DE2025250A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19702025250 DE2025250A1 (de) 1963-04-10 1970-05-23 Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEL44599A DE1211730B (de) 1963-04-10 1963-04-10 Doppelphotowiderstand, insbesondere fuer Belichtungsmesser
DE19702025250 DE2025250A1 (de) 1963-04-10 1970-05-23 Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2025250A1 true DE2025250A1 (de) 1971-12-02

Family

ID=5771907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702025250 Pending DE2025250A1 (de) 1963-04-10 1970-05-23 Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2025250A1 (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3332463C2 (de)
DE112009002052B4 (de) Modifizierte Stromquelle mit übergangsloser Bereichsumschaltung
DE112010004751T5 (de) Crimpanschluss
DE2025250A1 (de) Doppelfotowiderstand in Maeanderform, insbesondere fuer Belichtungsmesser
DE1648873A1 (de) Feuchtigkeitsmessvorrichtung
DE1464506A1 (de) Vorrichtung zur Messung der Einschnuerungen bei Halbleitern
DE2115364B2 (de) Mengenstrommeßgerät nach dem Differenzdruckprinzip
DE1764828A1 (de) Doppelfotowiderstand in Maeanderform,insbesondere fuer Belichtungsmesser
DE614602C (de) Elektrischer Widerstand
DE2426840B2 (de) Messtreifen
DE102006021423B4 (de) Dehnungsmessstreifen für Messgrößenaufnehmer
DE3344872C2 (de)
DE1936544A1 (de) Schaltungsanordnung fuer Belichtungsmesser
CH668643A5 (de) Kraftmesszelle mit kapazitiver wegmessung.
DE1193268B (de) Elektrischer Belichtungsmesser
CH273116A (de) Flaches Messgerät.
DE1803455B2 (de) Ablesezaehler
DE2332933A1 (de) Waermestrahlungsmessgeraet
AT294241B (de) Schaltung zur Messung der Effektivwerte von insbesondere kleinen Spannungen und Strömen
DE215545C (de) Künstliche Leitung besonders für Duplex-Telegraphensysteme
DE1572760C (de) Veränderlicher Widerstand fur foto elektrische Belichtungsmesser von Kameras
DE2432574C3 (de) Durchflußmesser
DE1448903C (de) Fotoelektrische Abtastvorrichtung
DE743348C (de) Auswahlreihe von Widerstandselementen verschiedener Ohmzahl aus metallischen Widerstandsbaustoffen
DE2337071C3 (de) Schaltungsanordnung in einer Kodiereinrichtung zur Überprüfung des gleichzeitigen Vorhandenseins von "n" Bedingungen