DE1184017B - Verfahren zum Herstellen von die pn-UEbergaenge in Halbleiteranordnungen schuetzenden UEberzuegen aus Silikonharz - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von die pn-UEbergaenge in Halbleiteranordnungen schuetzenden UEberzuegen aus Silikonharz

Info

Publication number
DE1184017B
DE1184017B DEJ21344A DEJ0021344A DE1184017B DE 1184017 B DE1184017 B DE 1184017B DE J21344 A DEJ21344 A DE J21344A DE J0021344 A DEJ0021344 A DE J0021344A DE 1184017 B DE1184017 B DE 1184017B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
solid
solvent
silicone resin
room temperature
junctions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEJ21344A
Other languages
English (en)
Inventor
Richard D Packard
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Micronas GmbH
Original Assignee
TDK Micronas GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Micronas GmbH filed Critical TDK Micronas GmbH
Publication of DE1184017B publication Critical patent/DE1184017B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3157Partial encapsulation or coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

  • Verfahren zum Herstellen von die pn-übergänge in Halbleiteranordnungen schützenden Überzügen aus S'ilikonharz Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von die pn-übergänge in Halbleiteranordnungen schützenden überzügen aus Silikonharz.
  • Es wurde bereits frühzeitig erkannt, daß es wünschenswert oder gegebenenfalls sogar notwendig ist, die pn-Übergänge bei Halbleiteranordnungen in irgendeiner Form zu schützen. Für diesen Zweckwerden die verschiedensten überzugsmaterialien verwendet; dabei hat sich herausgestellt, daß sich Silikone am besten eignen. Die zur Zeit gebräuchlichsten Silikonprodukte stehen entweder in Form von Silikonlacken oder in Form von festen Silikonharzen zur Verfügung. Beide Silikonprodukte eignen sich zum Schutz von pn-übergängen gleich gut, jedoch hat jedes Produkt auch bestimmte Nachteile.
  • Bei Verwendung von flüssigen Lacken hat man es zum Beispiel mit zähen klebrigen Substanzen zu tun, die schwer zu bearbeiten sind. Zudem hängt das Ergebnis der Arbeiten sehr stark von der Sorgfalt der Arbeitskraft ab, die wiederum angelernt und genügend gut ausgebildet werden muß. Auch hinsichtlich des herzustellenden Halbleiterbauelementes selbst treten Schwierigkeiten bei der Verwendung von Lack auf. Wenn dieser an andere Stellen als die pn-Übergänge, für die er vorgesehen ist, gelangt, können dadurch die folgenden Verfahrensschritte beeinträchtigt und entsprechender Ausschuß bei den Endprodukten verursacht werden. Insbesondere trifft das beim Herstellen eines gasdichten Abschlusses zu. Wie häufig derartige Schwierigkeiten auftreten können, wird durch den Hinweis deutlich, daß zum Einbringen des Lackes in den schmalen Behälter, der gewöhnlich als Gehäuse von glasumhüllten Halbleiteranordnungen verwendet wird, eine Injektionsnadel verwendet werden muß. Dabei gelangt oft an der Nadelöffnung hängendes Harz an den Glasbehälter und beeinträchtigt den nachträglichen Verschluß des Gehäuses.
  • Andererseits stellen auch feste Silikonharze keine Ideallösung dar. Diese sind meist sehr spröde und können bei Zimmertemperatur nicht bearbeitet werden, ohne zu brechen. Diese Schwierigkeiten können umgangen werden, wenn bei erhöhten Temperaturen Pillen hergestellt werden, die anschließend abkühlen. Nach der .Kühlung kann eine solche feste Pille auf jeden Halbleiterkörper aufgebracht werden.
  • Wenn dann jedoch anschließend die Temperatur der Anordnung erhöht wird, fließt die Pille nicht richtig über die Übergangsfläche. Um den gewünschten Abdeckungseffekt zu erreichen, ist es daher notwendig, als erstes die Pille in die Nähe der zu bedeckenden Stelle zu bringen und dann ein Lösungsmittel zuzufügen, um eine Ausbreitung des Sihconüberzuges zu ermöglichen. Dabei kann ebenfalls das Verschließen beeinträchtigt werden, wenn die Lösung bewirkt, daß Siliconharz an die Stellen gelangt, bei denen der Verschluß vorgenommen wird. Zusammenfassend kann gesagt werden, daß die vorbereitenden Arbeiten, die Schwierigkeiten bei der Handhabung von sprödem Material, die Notwendigkeit, Lösungsmittel in einem Raum beschränkter Abmessungen zuzusetzen, sowie die Gefahr, schlechte Abschlüsse zu erhalten, erkennen lassen, daß die Verwendung von festen Siliconharzen zum Herstellen von Schutzschichten keine Ideallösung für dieses Problem darstellt.
  • Nach der Erfindung werden die Nachteile der bekannten Verfahren zum Herstellen von die pnübergänge in Halbleiteranordnungen schützenden überzügen aus Silikonharz dadurch vermieden, daß das Silikonharz mit einem bei Zimmertemperatur festen Lösungsmittel vermischt, auf die Halbleiteranordnung in der Nähe det pn-Übergänge aufgebracht und die Anordnung derart erhitzt wird, daß die Mischung zu fließen beginnt, das feste Lösungsmittel verdampft und das zurückbleibende Silikonharz polymerisiert. Es werden hierbei keine zähen und klebrigen Substanzen verwendet und keine zusätzlichen Maßnahmen bei der Erzeugung des überzugs benötigt. Ferner werden die Schwierigkeiten bei der Handhabung von sprödem Überzugsmaterial und beim Einbringen dieses Materials in schmale Gehäuse verringert. Die benötigten Materialien können nach einer Weiterbildung der Erfindung durch Zufügen geeigneter Lösungsmittel zu festen Siliconharzen und durch Vermischen beider Substanzen hergestellt werden. Ferner kann ein handelsüblicher Lack modifiziert werden, indem die darin enthaltenen Lösungsmittel teilweise oder vollständig durch Lösungsmittel, welche bei Zimmertemperatur fest sind, ersetzt werden.
  • Bei dem zuerst genannten Beispiel, nach dem Lösungsmittel einem festen Siliconharz zugegeben werden, wird ein Material von wachsartiger Konsistenz erhalten. Dieses Material kann dann in Plattenform gebracht werden, aus denen kleine Plättchen geeigneter Größe bei Zimmertemperatur ausgestanzt werden können, ohne daß das Material bricht oder andere Schwierigkeiten auftreten. Die kleinen Scheibchen können dann leicht auf eine Anordnung aufgebracht werden, bei welcher eine Obergangszone geschützt werden soll. Im zweiten Fall, bei Verwendung eines Lackes, werden die Lösungsmittel, welche in diesem Lack vorhanden sind, im wesentlichen entfernt und durch bei Raumtemperatur feste Lösungsmittel ersetzt, wodurch eine relativ dickflüssige Paste entsteht. Diese neigt nicht dazu, arr. Ende der dieses silikonhaltige Material enthaltenden Vorrichtung zum Aufbringen des Materials Tropfen zu bilden.
  • Die Erfindung wird im folgenden an Hand einiger Beispiele und der Zeichnung näher erläutert.
  • F i g. 1 stellt einen Querschnitt durch eine Halbleiterdiode dar, die die Lage, eines Überzugsplättchens im Verhältnis zu der zu schützenden übergangsstelle zeigt; F i g. 2 ist ein ähnlicher Querschnitt und zeigt die Anordnung des schützenden Überzugs nach der Verteilung des Übergangsmaterials; F i g. 3 ist eine perspektivische Ansicht eines überzugsplättchens.
  • Die in F i g. 1 dargestellte Halbleiterdiode befindet sich in dem Herstellungsstadium, bei dem ein Gehäuse, z. B. in Form eines Glasröhrchens 12, mit einem Zuführungsdraht 14 dicht verbunden ist. Der Zuführungsdraht 1.4 kann mit dem Röhrchen 12 auf irgendeine bekannte Art verbunden werden. Der Zuführungsdraht kann zum Beispiel bei 15 aus einem Teil bestehen, der die Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem eigentlichen Draht und dem Glasgehäuse ausgleicht. Ferner kann ein aus zwei Teilen bestehender Draht in ähnlicher Weise verwendet werden.
  • Auf dem Ende des Drahtes 14 wird innerhalb des Glasröhrchens 12 mittels eines Kügelchens aus Lötmaterial 16 das aktive Element 18 befestigt. Das aktive Element 18 ist ein Halbleiterplättchen, welches aus Germanium, Silizium oder anderem Halbleitermaterial besteht. Es kann zum Beispiel in der in der Zeichnung dargestellten Weise aus drei Zonen unterschiedlicher Leitfähigkeit bestehen: einer dünnen n+-Zone, die mit dem Lötmaterial 16 verbunden ist, einer Basiszone aus n-Material in der Mitte und einer p-Zone auf der oberen Oberfläche. Schließlich kann ein Punktkontaktdraht mit der p-leitenden oberen Oberfläche in Berührung gebracht werden. Diese Maßnahme ist jedoch für die Erfindung ohne Bedeutung und sei daher nur der Vollständigkeit halber kurz erwähnt. Ein Plättchen 20 aus dem überzugsmaterial ist oberhalb des Halbleiterelementes 18 zu sehen. Die Abmessungen des Plättchens werden zweckmäßig so gewählt, daß es in das Röhrchen 12 eingeführt werden kann; ohne daß dabei die Gefahr besteht, daß es zwischen das Element 18 und die Röhrchenwände fällt.
  • Das Plättchen 20, welches in F i g. 3 ohne die übrige Anordnung dargestellt ist, besteht aus einem festen Silikonharz. Derartige Harze sind käuflich zu erhalten. Normalerweise sind diese festen Harze spröde und können bei Zimmertemperatur nicht bearbeitet werden, da sie leicht brechen. Man kann jedoch Plättchen herstellen, wenn 2 bis 6 Gewichtsteile von 1, 2, 4, 5-Tetramethylbenzol zu 1 bis 4 Gewichtsteilen des geflannten festen Harzes zugegeben werden. Die Mischung wird bei einer Temperatur, bei welcher das Harz flüssig zu werden beginnt, hergestellt. Dies tritt bei etwa 100° C ein. Die Lösung wird dann auf Zimmertemperatur abgekühlt, und zwar in einer Form, mit der folienförmiges Material wachsartiger Konsistenz erhalten wird. Daraus werden die Plättchen ausgestanzt. Die Plättchen sind weder klebrig noch schmierig und können leicht in das in F i g. 1 dargestellte Glasröhrchen eingeführt werden.
  • Nach Einführung des Plättchens wird die Anordnung für mehrere Stunden auf eine Temperatur von etwa 250° C gebracht. Während dieser Behandlung schmilzt das feste Lösungsmittel und führt das Silikonharz über die Teile mit den Übergängen, wie es in F i g. 2 dargestellt ist. Der Überzug ist dort mit dem Bezugszeichen 21 versehen. Während des Erwärmungsprozesses wird das Lösungsmittel ausgetrieben und das Harz polymerisiert. Es wird dabei ein verhältnismäßig dichter Überzug über den Übergängen erhalten, der eine Stabilisierung der elektrischen Eigenschaften der Anordnung ermöglicht.
  • Wie oben bereits ausgeführt wurde, ist es nach der Erfindung auch möglich, Silikonlacke anzuwenden. Es ist zum Beispiel ein Silikonlack erhältlich, bei dem ein festes Silikonharz in Xylol gelöst ist. Um den Lack in eine Paste überzuführen, welche fest sein muß, wird das Xylol weitestgehend ersetzt. Bei dem zuvor beschriebenen Fall entstand ein Wachs und in letzterem Fall ein Material mit einer Konsistenz, die nahezu der des bereits beschriebenen wachsartigen Materials entspricht. Das Xylol wird durch Erwärmen des Lackes im Vakuum bei etwa 60° C entfernt. Ähnlich, wie bereits oben beschrieben, wird dann das Xylol durch Zugabe von bei Zimmertemperatur festem Lösungsmittel ersetzt. Es kann zum Beispiel das oben beschriebene 1, 2, 4, 5-Tetramethylbenzol verwendet werden. Auch andere Lösungsmittel, z. B. einige Trimethylbenzole, verschiedene chlorierte Benzolderivate, ringförmige Kohlenwasserstoffe mit zwei oder mehr Benzolringen und andere bei Zimmertemperatur feste Lösungsmittel sind geeignet. Unter bei Zimmertemperatur festen Lösungsmitteln sollen allgemein solche verstanden werden, die bei Zimmertemperatur fest sind und keinen freien Sauerstoff enthalten, um Reaktionen zu vermeiden, die zu einer Polymerisation oder Kettenbildung führen. Um möglichst gute Ergebnisse zu erhalten, ist es weiterhin erforderlich, daß das Lösungsmittel einen Dampfdruck von mindestens 20 mm Hg oder mehr bei 200° C besitzt, damit es während eines möglichst frühen Stadiums bei der Temperaturbehandlung, nachdem das Harz über den zu schützenden Übergang geflossen ist, verdampft.

Claims (6)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zum Herstellen von die pn-übergänge in Halbleiteranordnungen schützenden Überzügen aus Silikonharz, d a d u r c h g e -kennzeichnet, daß das Silikonharz mit einem bei Zimmertemperatur festen Lösungsmittel vermischt, auf die Halbleiteranordnung in der Nähe der pn-Übergänge aufgebracht und die Anordnung derart erhitzt wird, daß die Mischung zu fließen beginnt, das feste Lösungsmittel verdampft und das zurückbleibende Silikonharz polymerisiert.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß 1 bis 4 Teile Siükonharz mit 2 bis 6 Teilen 1, 2, 4, 5-Tetramethylbenzol vermischt werden.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß festes Silikonharz mit einem bei Zimmertemperatur festen Lösungsmittel vermischt, auf etwa 100° C erhitzt und in Plattenform gebracht wird, daß nach Abkühlen der Platten aus diesen kleine Plättchen geeigneter Größe ausgestanzt und auf die Halbleiteranordnung aufgebracht werden und anschließend die Anordnung auf eine Temperatur von etwa 250° C erhitzt wird.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel eines flüssigen Silikonlackes durch ein bei Zimmertemperatur festes Lösungsmittel ersetzt, die in Pastenform vorliegende Mischung mittels einer geeigneten Vorrichtung auf die Halbleiteranordnung aufgebracht und durch Erhitzen das bei Zimmertemperatur feste Lösungsmittel verflüssigt und schließlich verdampft wird.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das aus Xylol bestehende Lösungsmittel eines Silikonlackes durch Erhitzen auf etwa 60° C verdampft und durch ein bei dieser Temperatur festes Lösungsmittel ersetzt wird.
  6. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß dem Silikonbarz ein Lösungsmittel beigemischt wird, das bei Zimmertemperatur fest ist, keinen freien Sauerstoff enthält und bei 200° C einen Dampfdruck von mindestens 20 mm Hg aufweist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschriften Nr. 1027 798, 1033 783, 1054 585.
DEJ21344A 1961-03-10 1962-02-23 Verfahren zum Herstellen von die pn-UEbergaenge in Halbleiteranordnungen schuetzenden UEberzuegen aus Silikonharz Pending DE1184017B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US9483561A 1961-03-10 1961-03-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1184017B true DE1184017B (de) 1964-12-23

Family

ID=22247459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEJ21344A Pending DE1184017B (de) 1961-03-10 1962-02-23 Verfahren zum Herstellen von die pn-UEbergaenge in Halbleiteranordnungen schuetzenden UEberzuegen aus Silikonharz

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1184017B (de)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1027798B (de) * 1953-12-15 1958-04-10 Philips Nv Verfahren zur Herstellung von Elektrodensystemen, die einen halbleitenden Koerper enthalten, insbesondere Kristalldioden oder Transistoren
DE1033783B (de) * 1953-12-12 1958-07-10 Philips Nv Elektrodensystem mit mindestens einem halbleitenden Koerper, insbesondere Kristalldiode oder Transistor
DE1054585B (de) * 1958-03-18 1959-04-09 Eberle & Co Appbau Ges Halbleiterbauelement, z. B. Diode oder Transistor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1033783B (de) * 1953-12-12 1958-07-10 Philips Nv Elektrodensystem mit mindestens einem halbleitenden Koerper, insbesondere Kristalldiode oder Transistor
DE1027798B (de) * 1953-12-15 1958-04-10 Philips Nv Verfahren zur Herstellung von Elektrodensystemen, die einen halbleitenden Koerper enthalten, insbesondere Kristalldioden oder Transistoren
DE1054585B (de) * 1958-03-18 1959-04-09 Eberle & Co Appbau Ges Halbleiterbauelement, z. B. Diode oder Transistor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1127000C2 (de) Verfahren zum mechanisch festen verbinden eines verformbaren duennen elektrodendrahtes mit einem kristallinen halbleiterkoerper
DE891113C (de) Verfahren zur Herstellung elektrisch unsymmetrisch leitender Systeme
DE1026874B (de) Selengleichrichter mit Kunststoff-Zwischenschicht zwischen Selen und Gegenelektrode
DE1035787B (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit mehreren UEbergaengen, z. B.Flaechen-Transistoren
DE3000165A1 (de) Verfahren zur herstellung einer gewindeschneidschraube und nach dem verfahren hergestellte gewindeschneidschraube
CH631291A5 (de) Verfahren zur stabilisierenden oberflaechenbehandlung von halbleiterkoerpern.
DE1184017B (de) Verfahren zum Herstellen von die pn-UEbergaenge in Halbleiteranordnungen schuetzenden UEberzuegen aus Silikonharz
DE1696607A1 (de) Verfahren zum Niederschlagen einer im wesentlichen aus Silizium und Stickstoff bestehenden,leicht aetzbaren Schicht
DE1589862A1 (de) Gehaeuse fuer Halbleiterbauelemente
DE1514742A1 (de) Halbleiteranordnung
DE2340423A1 (de) Weichgeloetete kontaktanordnung
DE895473C (de) Verfahren zum Herstellen von elektrisch unsymmetrisch leitenden Systemen
DE1163975C2 (de) Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Eigenschaften von Halbleiteranordnungen
DE1186950C2 (de) Verfahren zum entfernen von unerwuenschten metallen aus einem einen pn-uebergang aufweisenden silicium-halbleiterkoerper
DE1514106C (de) Verfahren zur Herstellung von Halblei teranordnungen
DE2628627B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Isolationselementen aus thermoplastischen Kunststoffen
DE358062C (de) Verfahren zur Herstellung von Legierungen
DE2221530A1 (de) Glas zur verwendung in elektrisch leitenden anordnungen und verfahren zu dessen herstellung
DE2543079A1 (de) Verfahren zum herstellen von festkoerperkondensatoren
DE2529484B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum epitaktischen Abscheiden von Silicium auf einem Substrat
DE2801767A1 (de) Form und verfahren zur herstellung von thermoelement-einheiten
AT218570B (de) Verfahren zur großflächigen Kontaktierung eines einkristallinen Siliziumkörpers
DE1068815B (de)
DE1116826B (de) Verfahren zum Herstellen einer in einem Schutzgehaeuse untergebrachten, mindestens zwei dicht nebeneinander in einer Ebene einlegierte Metallelektroden aufweisenden Halbleiterkristallanordnung
DE1514881A1 (de) Verfahren zum Kontaktieren von Halbleiterbauelementen