DE1123298B - Verfahren zur Herstellung von Siliciumhalogeniden - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Siliciumhalogeniden

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DE1123298B
DE1123298B DEB54817A DEB0054817A DE1123298B DE 1123298 B DE1123298 B DE 1123298B DE B54817 A DEB54817 A DE B54817A DE B0054817 A DEB0054817 A DE B0054817A DE 1123298 B DE1123298 B DE 1123298B
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halogen
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Arthur Wallace Evans
Kenneth Arkless
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British Titan Ltd
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen

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  • Silicon Compounds (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Siliciumhalogeniden Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Siliciumhalogenids durch Umsetzung von Siliciumdioxyd mit einem Halogen in Gegenwart eines Reduktionsmittels und eines Alkali-oder Erdalkalihalogenids bei Temperaturen unter 11001,', ', c.
  • Die hier benutzten Ausdrücke »Siliciumhalogenid« und »Halogen« schließen Siliciumfluorid bzw. Fluor nicht ein.
  • Der hier benutzte Ausdruck »Siliciumdioxyd« umfaßt Kieselsäure selbst (wie in den Beispielen) sowie kieselsäurehaltige Materialien, beispielsweise Zirkon (ZrSi0,) und Bauxitrückstände der Tonerdegewinnung.
  • Der Ausdruck »Reduktionsmittel« umfaßt insbesondere Kohlenstoff und/oder Kohlenstoffmonoxyd. Der Ausdruck »Erdalkali« soll Magnesium einschließen.
  • Bei der Herstellung von hochwertigem feinverteiltem Siliciumdioxyd, besonders wenn dieses zu Zwecken wie der Einverleibung in Kautschuk verwendet werden soll, ist es notwendig, die native Kieselsäure, in welcher Form sie auch immer vorkommt, zu verarbeiten. Die einzige zur Zeit bekannte Möglichkeit hierzu ist, die Kieselsäure in eine chemische Verbindung überzuführen, die sich reinigen läßt; gewöhnlich bedeutet dies die Umwandlung des Kieselsäureminerals in irgendeine flüssige Zustandsform. Von den verschiedenen Arten, derartige Umwandlungen durchzuführen, bietet sich die Chlorierung besonders an, das sie, wenn sich geeignete Verfahren auffinden lassen, sich als wirtschaftlicher und praktischer erweisen könnte.
  • Es wurden verschiedene Versuche gemacht, Siliciumdioxyd zu chlorieren. Dazu gehören viele Verfahren, Koks oder Kohlenstoff zuzumischen, und zwar als Briketts oder im Fließbett oder nach anderen bekannten Methoden. Man hat auch versucht, das gegebenenfalls zerkleinerte Mineral der Einwirkung von Chlor- und Kohlenmonoxydgasen auszusetzen. Alle diese Verfahren der Chlorierung von Siliciumdioxyd in Gegenwart eines Reduktionsmittels waren bei Temperaturen unter 1100° C durchweg erfolglos. Die Chlorierung von Siliciumdioxyd wurde deshalb auf indirektem Wege durchgeführt, gewöhnlich über die Herstellung einer Silicium-Zwischenverbindung, wie z. B. Siliciumcarbid oder Ferrosilicium.
  • In neuerer Zeit wurde ein Verfahren beschrieben, nach dem Siliciumdioxyd direkt durch Elektrolyse eines Halogenid-Schmelzbades chloriert wurde, indem das an der Anode erzeugte Chlor mit einer Mischung von Siliciumdioxyd und Kohlenstoff, die an der Anode angebracht oder in unmittelbarer Nähe angeordnet war, in engen Kontakt gebracht wurde. Dieses Verfahren hat zwar viele Vorteile und ermöglicht insbesondere die Durchführung der Chlorierung bei relativ niedrigen Temperaturen, jedoch wirft es gewisse Probleme auf, die mit der Herstellung der Anode, der Überwindung bestimmter unerwünschter Zerfallerscheinungen an der Anode und der periodischen Erneuerung des Bades zusammenhängen und sämtlich von Wichtigkeit sind, um die Wirksamkeit des Verfahrens zu erhalten.
  • Es ist bekannt, daß der Zusatz von Alkali- oder Erdalkalichloriden einer Reaktionsmischung von Siliciumdioxyd die Chlorierungstemperatur des Siliciumdioxyds herabsetzt. Man hat versucht, diesen Effekt in einem Verfahren nutzbar zu machen, gemäß dem feste Preßkörper aus Silicat, Kohlenstoff und Metallchlorid in ein erhitztes Reaktionsrohr eingebracht und dort mit Chlor behandelt werden. Dieses Verfahren ist jedoch technisch und wirtschaftlich unbefriedigend.
  • Hier schafft die Erfindung Abhilfe. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Siliciumhalogenids durch Umsetzung von Siliciumdioxyd mit einem Halogengas in Gegenwart eines Reduktionsmittels und eines Alkali- oder Erdalkalihalogenids bei Temperaturen unter 1100° C ist dadurch gekennzeichnet, daß man aus dem Alkali-oder Erdalkalihalogenid ein geschmolzenes Bad erzeugt, in das man das Siliciumdioxyd, das Reduktionsmittel und das Halogengas einführt und zwecks Umsetzung in diesem gut verteilt und von dem man oberhalb seiner Oberfläche das Siliciumhalogenid und andere dampfförmige Produkte abzieht, wobei man die Menge des Alkali- oder Erdalkalihalogenids in dem Bad im wesentlichen im überschuß über das in dem Bad vorhandene Siliciumdioxyd hält.
  • Wenn als Reduktionsmittel ein fester Stoff, z. B. Kohlenstoff, verwendet wird, kann es bei der Einführung des Halogens bereits in dem geschmolzenen Halogenid suspendiert sein, oder es kann zu gleicher Zeit wie das Halogen eingeführt werden. Ist das Reduktionsmittel ein Gas, wie Kohlenmonoxyd, kann es gleichzeitig mit dem Halogen eingeführt werden, beispielsweise indem es diesem zugemischt wird.
  • Das Verfahren läßt sich autotherm durchführen, wenn man als Reduktionsmittel Kohlenmonoxyd benutzt, weil die Reaktion dann exotherm verläuft.
  • Bei der Verwendung von Kohlenstoff als Reduktionsmittel ist die Reaktion bei Temperaturen über 750° C endotherm; obwohl bei 700° C eine gewisse Umsetzung stattfinden kann, erfordert diese Reaktion normalerweise zur Aufrechterhaltung der Temperatur die Zufuhr von Wärme. Diese Wärmezufuhr kann durch äußere Heizung oder durch Vorwärmen der Reaktionsteilnehmer oder durch Wärmeerzeugung innerhalb des Bades, beispielsweise mit Hilfe von elektrischem Strom, insbesondere von Wechselstrom, oder durch Einblasen von Sauerstoff zwecks Umsetzung mit dem Kohlenstoff bewirkt werden. Wenn man Sauerstoff einbläst, kann man den Kohlenstoff dadurch zuführen, indem man ihn in den Sauerstoffstrom einspeist und von diesem mitreißen läßt.
  • Nach einer Ausführungsform nach der Erfindung wird ein Gefäß benutzt, das aus keramischem, gegen Korrosion durch die schmelzflüssige Halogenidfüllung widerstandsfähigem Material hergestellt ist. Die Außenwand des Gefäßes ist, mit einer elektrischen Heizwicklung versehen, um das Ganze in geeigneter Weise isoliert, um übermäßige Wärmeverluste zu verhüten. Das Gefäß besitzt vorzugsweise eine zylindrische Form und ist mit Öffnungen versehen: a) für die Einführung von Chlor oder chlorhaltigem Gas; b) für die Einführung von Siliciumdioxyd und von Kohlenstoff, falls dieser nicht in das Chlor oder chlorhaltige Gas eingespeist wird; c) für den Auslaß der bei der Reaktion entstehenden gasförmigen Produkte; d) für einen Rührer, dessen Verwendung wünschenswert ist, mit geeigneter Abdichtung.
  • Das Salz oder die Salzmischung, beispielsweise Calciumchlorid und/oder Natriumchlorid, wird in das Gefäß eingebracht, und dieses wird auf die im Bereich von 600 bis 1000° C liegende Reaktionstemperatur aufgeheizt, worauf die gemahlene Mischung von Siliciumdioxyd und Kohlenstoff zugegeben und mit Hilfe des Rührers zur Erzielung einer gleichmäßigen Verteilung in die Salzschmelze eingeführt wird. Durch diese auf der Reaktionstemperatur gehaltene Masse wird dann Chlor hindurchgeleitet, und die bei der Reaktion des Chlors mit der in dem Bad enthaltenen Mischung von Siliciumdioxyd und Kohlenstoff entstehenden Gase, die das gewünschte Siliciumtetrachlorid enthalten, werden aus der Kammer entfernt und dann zur Abtrennung des Siliciumtetrachlorids in geeigneter Weise kondensiert.
  • Es versteht sich, daß auch andere Salze, beispielsweise Salze von Kalium, Magnesium, Barium und Strontium, verwendet werden können. Die verschiedenen Salze unterscheiden sich in ihren Schmelzpunkten beträchtlich, so daß es möglich ist, ein geeignetes Salz oder eine geeignete Kombination von Salzen auszuwählen, um den Temperaturbereich der Reaktion zu treffen. Das ausgewählte Salz oder Salzgemisch kann auch von dem Halogenierungsmittel abhängen, da vorzugsweise Chloride benutzt werden, wenn das Halogenierungsmittel Chlor ist, bzw. Bromide, wenn das Halogenierungsmittel Brom ist.
  • Das zur Halogenierung und insbesondere Chlorierung benutzte Siliciumdioxyd einschließlich der Oxydrückstände der Tonerdegewinnung wird wenigstens 25, vorzugsweise wenigstens 80 und möglichst 99 % Si 02, enthalten und kann in Form von Sand, d. h. mit einer Teilchengröße von 76 bis 1000 w, eingesetzt werden. Die Verwendung eines viel feineren Materials ist jedoch sowohl im Hinblick auf die Erzielung einer guten Verteilung in dem Halogenid-Schmelzbad als auch zur Erzielung einer größeren Reaktionsoberfläche wünschenswert. Dementsprechend wird der Sand normalerweise mit Hilfe irgendeiner bekannten Mahleinrichtung, beispielsweise einer Kugelmühle, so weit zerkleinert, daß er im wesentlichen ein Sieb mit 76 Et Maschenweite passiert. Teilchen noch geringerer Größe, beispielsweise 44 1, sind sogar noch vorteilhafter, jedoch hat hier der Fachmann zu entscheiden. Das kohlenstoffhaltige Material wird in ähnlicher Weise gemahlen, obwohl es nicht auf die gleiche Teilchengröße wie das Siliciumdioxyd zerkleinert zu werden braucht und die mittlere Teilchengröße gewöhnlich beispielsweise wenigstens ungefähr das Doppelte der mittleren Teilchengröße des zu chlorierenden Siliciumdioxyds beträgt.
  • Bei der Halogenierung von Zirkon wird das Material normalerweise in Form von Sand mit einem Gehalt von 25 bis 33/o Si 02 und 60 bis 7% Zr02 vorliegen. Vorzugsweise wird dieser Sand gemahlen.
  • Der benutzte Kohlenstoff kann Koks, Graphit, Anthrazit oder ähnliches Material mit hohem Kohlenstoffgehalt sein und in der Teilchengröße von 50 w bis 5 cm variieren. Vorzugsweise wird er in feinverteilter Form mit beispielsweise weniger als 500 Teilchengröße eingesetzt.
  • Die Menge an zugesetztem, in dem Bad vorhandenem Siliciumoxyd und Koks kann, wie sich versteht, je nach der Größe der zugegebenen festen Teilchen, der Viskosität des Bades und der erforderten Intensität des Rührens variiert werden. Lediglich zur Veranschaulichung sei angegeben, daß das Bad 1 bis 20 Gewichtsprozent Siliciumdioxyd und 0,5 bis 10 Gewichtsprozent Kohlenstoff enthalten kann und das Verhältnis des Siliciumdioxyds zum Kohlenstoff (Koks) normalerweise zwischen 3 : 1 und 2: 1 liegen wird.
  • Das zum Chlorieren verwendete Chlor kann, wenn nötig, vorgewärmt werden, und die Art und Weise, wie es zerteilt wird, d. h., wie man es einspeist und durch die geschmolzene Chloridmasse aufsteigen läßt, kann die normalerweise zu erzielende Wirksamkeit beträchtlich beeinflussen.
  • Nach einer anderen Ausführungsform der Erfindung wird die Chlorierung des Siliciumdioxyds in dem geschmolzenen Halogenidbad bewirkt, indem man durch das Bad Chlor und Kohlenmonoxyd hindurchleitet. Die Gase können getrennt eingespeist oder vorher vermischt werden. Unter diesen Bedingungen ist die Reaktion im Temperaturbereich bis zu 1100° C exotherm. Es liegt auf der Hand, daß sie in dieser Hinsicht deutliche Vorteile besitzen, besonders gegenüber dem Verfahren, nach dem der Kohlenstoff in fester Suspension in dem geschmolzenen Halogenidbad als Reduktionsmittel verwendet wird. Mit einer Anlage entsprechender Größe und geeigneter Isolation ist es möglich, durch Einleitung einer Mischung von Chlor und Kohlenmonoxyd in die Suspension das Bad, ohne Wärme in irgendeiner Form zuzuführen, innerhalb des Temperaturbereiches zu halten. Eine derartige Anlage kann entsprechend dem Volumen der pro Flächeneinheit der horizontalen Schnittebene durch das geschmolzene Salzbad aufsteigenden Gase in erheblichem Umfang variieren. Mit anderen Worten muß zur Erzielung autothermischer Bedingungen die Querschnittsfläche des geschmolzenen Salzbades größer sein, wenn in den Boden des Bades pro Flächeneinheit ein relativ kleines Gasvolumen eingespeist wird, und umgekehrt. So ist es mit einem geeignet isolierten Reaktor möglich, autothermische Bedingungen einzuhalten, wenn der Durchmesser des Reaktors die Größenordnung von 60 cm und mehr hat. Aus dem vorher Gesagten versteht sich, daß sich diese Größe nach dem Volumen der pro Querschnittsflächeneinheit aufsteigenden Gase richtet und daß ein größerer Durchmesser erforderlich ist, wenn der Gasstrom geringer ist.
  • Chlor und Kohlenmonoxyd können in Form von Phosgen eingeleitet werden, jedoch ist dieses, besonders vom autothermischen Standpunkt, ohne Vorteil.
  • Die Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung richtet sich mehr oder weniger nach der Teilchengröße der in das geschmolzene Bad eingespeisten kieselsäure- und kohlenstoffhaltigen Produkte, in geringerem Maß spielt auch die Viskosität des Bades eine Rolle. Es versteht sich jedoch, daß die Mengenverhältnisse der zu dem Bad zugegebenen festen Reaktionsteilnehmer entsprechend ihrem physikalischen Zustand bei der Zuführung über einen recht großen Bereich variieren können. Es ergibt sich ferner, daß die Verteilungsbedingungen sich weitgehend je nach dem Grad ändern können, bis zu dem die festen Stoffe in der geschmolzenen Masse das Bestreben haben, sich abzutrennen. Dieses wiederum hängt von der Teilchengröße und der Dichte der zugegebenen Teilchen ab.
  • Der Verteilungszustand hängt ferner von der Art der Einführung des Halogengases ab. Wenn dieses in einem feinen Gasstrom eingeleitet wird, kann es eine Bewegung hervorrufen, die ausreicht, um die Teilchen in Suspension und guter Verteilung zu halten. Wenn dagegen die Teilchen die Tendenz zeigen, sich abzutrennen, ist mechanische Bewegung erwünscht, so daß unter diesen Umständen eine Rühreinrichtung nützlich ist.
  • Die Temperatur, bei der die Chlorierung nach der Erfindung durchgeführt werden kann, ist hinsichtlich ihres unteren Bereiches durch die Reaktionsgeschwindigkeit begrenzt. Diese Grenze liegt für praktische Zwecke bei 800° C. Der obere Temperaturbereich wird durch wirtschaftliche überlegungen bestimmt, es ist jedoch, wie bereits gesagt, nicht notwendig, über 1100° C zu arbeiten. Hauptziel ist es, bei der niedrigstmöglichen Temperatur leistungsfähig zu arbeiten, und diese Temperatur liegt im Bereich von 800 bis 1100° C.
  • Es hat sich gezeigt, daß die Halogenierung, wenn man sie nach der Erfindung durchführt, in überraschender Weise beschleunigt werden kann, wenn in dem Bad gewisse Katalysatoren anwesend sind, nämlich Bor und Borverbindungen, besonders Borhalogenide mit Ausnahme von Fluorid. Borchlorid B C13 ist besonders wirksam. Verschiedene brauchbare Borverbindungen können bei den Chlorierungstemperaturen unter Bildung von Borhalogeniden mit den Halogengasen reagieren. Wenn diese Borverbindungen fest sind, lassen sie sich mit den festen Reaktionsteilnehmern zuführen. Beispiele solcher Borverbindungen sind Boride, z. B. Borcarbide oder Ferrobor, wasserfreies Boroxyd oder wasserfreie Borate von verschiedenen Metallen, besonders Alkali- oder Erdalkalimetallen, beispielsweise wasserfreier Borax.
  • Vorzugsweise werden jedoch solche Borverbindungen verwendet, die, wie Borchlorid, bei relativ niedrigen Temperaturen flüchtig sind und sich leichter und wirksamer einführen lassen, indem sie in Dampfform dem für die Halogenierung (Chlorierung) verwendeten Halogen (Chlor) oder den Halogen (Chlor) enthaltenden Gasen zugemischt werden. Wenn diese Borverbindungen benutzt werden, sollte in dem geschmolzenen Bad Kohlenstoff anwesend sein.
  • Ebenso wie die Halogenide oder die Halogenidmischung der das Bad zusammensetzenden Salze gewöhnlich dem besonderen zu verwendenden Halogenierungsmittel entsprechen, ist auch das Borhalogenid vorzugsweise eine Verbindung des Bors mit dem benetzten Halogenierungsmittel.
  • Das zur Beschleunigung der Reaktion eingesetzte Borhalogenid läßt sich wiedergewinnen und kann im Kreislauf benutzt werden. So kann beispielsweise bei der Chlorierung von Siliciumdioxyd Borchlorid als Beschleuniger dienen; es wird normalerweise mit dem Chlor eingespeist und findet sich anschließend in den aus dem geschmolzenen Salzbad entweichenden Gasen und kann aus diesen abgetrennt werden, um dann in das Verfahren zurückzugehen.
  • Die folgenden Beispiele dienen der Erläuterung der Erfindung.
  • Beispiel 1 In einem zylindrischen Behälter von 50 mm Durchmesser und 305 mm Höhe wurde ein Bad von geschmolzenem Calciumchlorid mit 76 mm Tiefe auf eine Temperatur von 1000° C gebracht. Zu diesem Bad wurden 10 g Siliciumdioxyd, das so weit zerkleinert war, um ein Sieb von 44 #t zu passieren, sowie 5 g von ähnlich zerkleinertem Koks hinzugegeben. Durch diese Mischung wurden 0,11 Chlor pro Minute hindurchgeleitet. Nach 1stündigem Betrieb war der Wirkungsgrad der Chlorierung 33,8 %.
  • Wenn man in der gleichen Weise verfuhr, jedoch für mechanische Bewegung sorgte (langsames Rühren), um eine bessere Verteilung des Siliciumdioxyds und des Kohlenstoffes innerhalb der geschmolzenen Masse zu bewirken, betrug der Wirkungsgrad der Chlorierung, wiederum nach 1stündigem Betrieb, 52,60/0. Ferner wurde ein senkrechtes Gefäß von 50 mm Durchmesser und 915 mm Höhe verwendet, das mit einer gelochten Bodenplatte versehen war. Diese Platte trug eine 254 mm tiefe Schicht einer Mischung aus Siliciumdioxyd und Koks. Die Schicht wurde auf 1000° C erhitzt, und durch die Bodenplatte wurde ein Strom von Chlor nach oben geleitet, um die Mischung in den Wirbelzustand zu versetzen. In diesem Fall betrug der Chlorierungsgrad nach 1stündigem Betrieb weniger als 6%, selbst wenn Katalysatoren, beispielsweise Bortrichlorid, zu dem Chlorstrom zugesetzt wurden.
  • Beispiel 2 In einem Gefäß ähnlich dem im Beispiel 1 beschriebenen befand sich ein Natriumchloridbad. Das gemahlene Sihciumdioxyd und der gemahlene Koks wurden in den gleichen Verhältnissen wie vor zugesetzt. Der Chlorstrom wurde ebenfalls mit der gleichen Geschwindigkeit zugeführt, er enthielt 18,5% Borchloriddampf, als Volumen auf den Chlorgehalt berechnet. Unter diesen Umständen betrug der Chlorierungsgrad 27,6%. Es ergibt sich eine Verbesserung durch die Verwendung von Borchlorid als Katalysator, da bei einem Betrieb in der gleichen Art, jedoch ohne Verwendung von Borchlorid, der Wirkungsgrad der Chlorierung 19,4% betrug.
  • Beispiel 3 In einem Gefäß ähnlich dem im Beispiel 1 beschriebenen befand sich ein gleiches Volumen einer Strontiumchloridschmelze, und gemahlener Kieselsäuresand und gemahlener Koks wurden in den gleichen Verhältnissen zugegeben. Das Chlor wurde wie im Beispiel 1 mit einer Geschwindigkeit von 0,1 1 pro Minute eingeführt, und der Chlorierungsgrad betrug 3311/o.
  • Beispiel 4 Unter den im Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen, jedoch ohne Zusatz von gemahlenem Koks zu dem geschmolzenen Salzbad, wurde Kohlenmonoxyd zusätzlich mit dem Chlorgas in einer Geschwindigkeit von 0,261 pro Minute eingeleitet. Unter diesen Bedingungen betrug der Chlorierungsgrad nach 1stündigem Betrieb 31,5%.
  • Beispiel 5 In ein Gefäß, das dem im Beispiel 1 benutzten ähnlich war und die gleiche Menge geschmolzenes Calciumchlorid enthielt, wurden 70g Siliciumdioxyd mit einer Teilchengröße von 76 bis 250 #t eingebracht und Chlor und Kohlenmonoxyd mit der Geschwindigkeit von 0,1 bzw. 0,21 pro Minute eingeleitet. Nach 1stündigem Betrieb betrug der Chlorierungsgrad 20,207o.
  • Beispiel 6 Bei einem Versuch ähnlich Beispiel 1, jedoch bei einer Arbeitstemperatur von 800° C, betrug der Chlorierungsgrad nach 1stündigem Betrieb 15%.
  • Beispiel 7 Es wurde ein Gefäß benutzt, das einen inneren Durchmesser von 1,22 m und eine innere Höhe von 2,44 m besaß, innen mit chlorfesten Alumosilicatsteinen ausgemauert und außen von Isoliersteinen umgeben war, wobei das Ganze von einem Stahlmantel umgeben war. In dieses Gefäß wurde Calciumchlorid mit einer Temperatur von 1000° C bis zu einer Tiefe von 1,5 m eingebracht. Zu dieser Schmelze wurden 590 kg ungemahlener Kieselsäuresand mit einem Teilchengrößebereich von 76 bis 250 R eingebracht. Die Gase wurden durch eine Mehrzahl von Düsen am Boden des Gefäßes, die an einem gemeinsamen Verteiler angeschlossen waren, eingeführt. In diesen Verteiler wurde eine Mischung von Chlor und Kohlenmonoxyd im Verhältnis von 56,3: 24,5 kg pro Stunde unter einem Druck von 2,1 kg pro Quadratzentimeter eingelassen. Dadurch wurden die Gase über die Schmelze verteilt; der Kontakt mit der geschmolzenen Masse wurde durch einen langsam laufenden Rührer, der aus Alumosilikatmaterial bestand, verstärkt.
  • Die aus der Oberfläche der Schmelze entweichenden Gase wurden aus dem Gefäß abgezogen und auf eine Temperatur von -30° C abgekühlt, um den größeren Teil des in ihnen enthaltenen Siliciumtetrachlorids im wesentlichen in flüssiger Form zu entfernen. Die Restgase wurden dann gewaschen, um noch vorhandenes Chlor zu entfernen, und dann an die Atmosphäre abgegeben. Dabei zeigte sich, daß die Gase nach der Kondensation des Siliciumtetrachlorids einen Chlorgehalt aufwiesen, der 4% des in das geschmolzene Salzbad eingeleiteten Chlors entsprach. Es ergab sich mit anderen Worten eine Chlorausnutzung von 96%. Der Betrieb wurde insgesamt 5 Stunden fortgesetzt, dabei wurde der Siliciumdioxydgehalt von Zeit zu Zeit mit einer Geschwindigkeit von 23 kg pro Stunde ergänzt. Während der ganzen Zeit wurde die Temperatur der Schmelze auf 960 bis 1030° C gehalten, ohne daß zusätzliche Wärme zugeführt werden mußte.
  • Beispiel 8 In diesem Beispiel wurde ein SiHciumdioxydgefäß von 152 mm Durchmesser und 355 mm Höhe benutzt, daß außen mit einer elektrischen Heizwicklung versehen war. Im Inneren des Gefäßes befand sich ein korrosionsbeständiger Tiegel in Form zweier abgestumpfter Kegel, die gegeneinander gekehrt zusammengekittet waren. Der untere Teil war am Boden verschlossen, während in dem oberen Teil ein Stopfen aus keramischem Material eingesetzt war. Durch diesen Stopfen führte ein Einleitungsrohr nach unten bis zum Boden des Tiegels für die Einführung von Chlor sowie ein Ableitungsrohr für die gasförmigen Reaktionsprodukte. Ferner führte durch den Stopfen eine Pyrometerhülse und ein Rührer. Das Gefäß enthielt 800 cm3 geschmolzenes Natriumchlorid, dem 100g gemahlener Kieselsäuresand und 75g gemahlener Koks einer Teilchengröße ähnlich der im Beispiel 1 beschriebenen beigegeben war. Das Gefäß wurde auf eine Temperatur von 860°C aufgeheizt, und durch die geschmolzene Masse wurde 60 Minuten lang Chlor mit einer Geschwindigkeit von 0,51 pro Minute hindurchgeleitet. Unter diesen Umständen betrug die Ausnutzung des Chlors 22%.
  • Beispiel 9 Bei einem Versuch unter ähnlichen Bedingungen, wie sie im Beispie18 beschrieben sind, wurde die Temperatur auf 1000°C gehalten, und die mittlere Chlorausnutzung betrug 58%.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRVCHi_: 1. Verfahren zur Herstellung von Siliciumhalogeniden durch Umsetzung von Siliciumdioxyd mit einem Halogengas in Gegenwart eines Reduktionsmittels und eines Alkali- oder Erdalkalihalogenids bei Temperaturen unter 1100g C, dadurch gekennzeichnet, daß man aus dem Alkali- oder Erdalkalihalogenid ein geschmolzenes Bad erzeugt, in das man das Siliciumdioxyd, das Reduktionsmittel und das Halogengas einführt und zwecks Umsetzung in diesem gut verteilt und von dem man oberhalb seiner Oberfläche das Siliciumhalogenid und andere dampfförmige Produkte abzieht, wobei man die Menge des Alkali- oder Erdalkalihalogenids in dem Bad im wesentlichen im überschuß über das in dem Bad vorhandene Siliciumdioxyd hält.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Reduktionsmittel Kohlenstoff verwendet wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Reduktionsmittel Kohlenmonoxvd verwendet wird. 4. :'erfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Kohlenstoff bereits in dem geschmolzenen Halogenid suspendiert anwesend ist, wenn das Halogen eingeführt wird. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Kohlenstoff zu der gleichen Zeit wie das Halogen in das geschmolzene Halogenid eingeführt wird. 6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet. daß das Kohlenmonoxyd zu der gleichen Zeit wie das Halogen in das geschmolzene Halogenid eingeführt wird. 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Halogen des geschmolzenen Halogenids und das Halogen, welches zur Umsetzung mit dem Siliciumdioxyd eingeführt wird, übereinstimmen. B. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als geschmolzenes Halogenid Calciumchlorid, Natriumchlorid oder eine Mischung von Calciumchlorid und Natriumchlorid verwendet werden. 9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das verwendete Siliciumdioxyd wenigstens 25114 Si O._> enthält. 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das verwendete Siliciumdioxyd wenigstens 8011io SiU_, enthält. 11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Siliciumdioxyd in Form von Zirkon (ZrSi04) verwendet wird. 12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das verwendete Siliciumdioxyd eine Teilchengröße von 76 bis 1000 #t besitzt. 13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die mittlere Teilchengröße des verwendeten Siliciumdioxyds weniger als 76 « beträgt. 14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von Kohlenstoff als Reduktionsmittel der Kohlenstoff gemahlen verwendet wird, so daß seine mittlere Teilchengröße wenigstens das Doppelte der mittleren Teilchengröße des Siliciumdioxyds beträgt. 15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von Kohlenstoff als Reduktionsmittel das Halogenidschmelzbad 1 bis 20 Gewichtsprozent Siliciumdioxyd und 0,5 bis 10 Gewichtsprozent Kohlenstoff enthält. 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von Siliciumdioxyd zu Kohlenstoff 3:1 bis 2:1 beträgt. 17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beschleunigung der Reaktion Bor oder eine Borverbindung zugesetzt wird. 18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Bor oder die Borverbindung zusammen mit den festen Reagenzien dem geschmolzenen Halogenid zugegeben wird. 19. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß eine Borverbindung verwendet wird, die bei relativ niedriger Temperatur flüchtig ist, und daß sie in Dampfform in das Kohlenstoff enthaltende geschmolzene Halogenid eingeführt wird. 20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß als Borverbindung Borchlorid verwendet wird. 21. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad mechanisch oder durch Einleiten von Halogengas in Bewegung gehalten wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 375 713.
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