DE1120273B - Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen - Google Patents

Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen

Info

Publication number
DE1120273B
DE1120273B DEK36749A DEK0036749A DE1120273B DE 1120273 B DE1120273 B DE 1120273B DE K36749 A DEK36749 A DE K36749A DE K0036749 A DEK0036749 A DE K0036749A DE 1120273 B DE1120273 B DE 1120273B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
parts
solution
weight
layer
printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEK36749A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dr Gerhard Fritz
Dr Fritz Uhlig
Dr Wilhelm Neugebauer
Dr Oskar Sues
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kalle GmbH and Co KG
Original Assignee
Kalle GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL247406D priority Critical patent/NL247406A/xx
Priority to NL129162D priority patent/NL129162C/xx
Application filed by Kalle GmbH and Co KG filed Critical Kalle GmbH and Co KG
Priority to DEK36749A priority patent/DE1120273B/de
Priority to GB904/60A priority patent/GB935452A/en
Priority to US2109A priority patent/US3130048A/en
Priority to SE299/60A priority patent/SE303093B/xx
Priority to CH34860A priority patent/CH383775A/de
Priority to BE586561A priority patent/BE586561A/fr
Priority to FR815852A priority patent/FR1252857A/fr
Publication of DE1120273B publication Critical patent/DE1120273B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
DEK36749A 1959-01-17 1959-01-17 Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen Pending DE1120273B (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL247406D NL247406A (US08088918-20120103-C00476.png) 1959-01-17
NL129162D NL129162C (US08088918-20120103-C00476.png) 1959-01-17
DEK36749A DE1120273B (de) 1959-01-17 1959-01-17 Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
GB904/60A GB935452A (en) 1959-01-17 1960-01-11 Light-sensitive reproduction coatings for printing plates
US2109A US3130048A (en) 1959-01-17 1960-01-13 Presensitized printing plates comprising naphthoquinone-1, 2-diazide reproduction layrs
SE299/60A SE303093B (US08088918-20120103-C00476.png) 1959-01-17 1960-01-13
CH34860A CH383775A (de) 1959-01-17 1960-01-14 Kopiermaterial, insbesondere für die Herstellung von Druckformen
BE586561A BE586561A (fr) 1959-01-17 1960-01-14 Couches de reproduction pour formes d'impression.
FR815852A FR1252857A (fr) 1959-01-17 1960-01-16 Couches de reproduction pour formes d'impression

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK36749A DE1120273B (de) 1959-01-17 1959-01-17 Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1120273B true DE1120273B (de) 1961-12-21

Family

ID=7220787

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK36749A Pending DE1120273B (de) 1959-01-17 1959-01-17 Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen

Country Status (8)

Country Link
US (1) US3130048A (US08088918-20120103-C00476.png)
BE (1) BE586561A (US08088918-20120103-C00476.png)
CH (1) CH383775A (US08088918-20120103-C00476.png)
DE (1) DE1120273B (US08088918-20120103-C00476.png)
FR (1) FR1252857A (US08088918-20120103-C00476.png)
GB (1) GB935452A (US08088918-20120103-C00476.png)
NL (2) NL129162C (US08088918-20120103-C00476.png)
SE (1) SE303093B (US08088918-20120103-C00476.png)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522478B1 (de) * 1965-12-17 1971-07-29 Polychrome Corp Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckplatte
EP0001254A1 (de) * 1977-09-22 1979-04-04 Hoechst Aktiengesellschaft Positiv arbeitende lichtempfindliche Kopiermasse enthaltend ein halogeniertes Naphthochinondiazid
EP0268790A2 (de) 1986-10-17 1988-06-01 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur abtragenden Modifizierung von mehrstufig aufgerauhten Trägermaterialien aus Aluminium oder dessen Legierungen und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten
US5755949A (en) * 1993-12-22 1998-05-26 Agfa-Gevaert Ag Electrochemical graining method

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL130926C (US08088918-20120103-C00476.png) * 1959-09-04
GB1053866A (US08088918-20120103-C00476.png) * 1964-08-05
US3479182A (en) * 1965-05-12 1969-11-18 Simon L Chu Lithographic plates
US3647443A (en) * 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
US3920455A (en) * 1971-05-28 1975-11-18 Polychrome Corp Light-sensitive compositions and materials with O-naphthoquinone diazide sulfonyl esters
US4005437A (en) * 1975-04-18 1977-01-25 Rca Corporation Method of recording information in which the electron beam sensitive material contains 4,4'-bis(3-diazo-3-4-oxo-1-naphthalene sulfonyloxy)benzil
US4174222A (en) * 1975-05-24 1979-11-13 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Positive-type O-quinone diazide containing photoresist compositions
DE3039926A1 (de) * 1980-10-23 1982-05-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
DE3107109A1 (de) * 1981-02-26 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial
US4587196A (en) * 1981-06-22 1986-05-06 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist with cresol-formaldehyde novolak resin and photosensitive naphthoquinone diazide
US4529682A (en) * 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
US4377631A (en) * 1981-06-22 1983-03-22 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive novolak photoresist compositions
US4622283A (en) * 1983-10-07 1986-11-11 J. T. Baker Chemical Company Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using
IT1169682B (it) * 1983-11-08 1987-06-03 I M G Ind Materiali Grafici Sp Composizione per fotoriproduzioni
US4624908A (en) * 1985-04-15 1986-11-25 J. T. Baker Chemical Company Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using
DE3629122A1 (de) * 1986-08-27 1988-03-10 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung eines o-naphthochinondiazidsulfonsaeureesters und diesen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
JP2560266B2 (ja) * 1987-03-25 1996-12-04 日本合成ゴム株式会社 感放射線性樹脂組成物
DE3718416A1 (de) * 1987-06-02 1988-12-15 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung
DE3729035A1 (de) * 1987-08-31 1989-03-09 Hoechst Ag Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches aufzeichnungsmaterial
DE4134526A1 (de) * 1990-10-18 1992-05-14 Toyo Gosei Kogyo Kk Positive photoresist-zusammensetzung und mustererzeugungsverfahren unter verwendung dieser zusammensetzung
US5362599A (en) * 1991-11-14 1994-11-08 International Business Machines Corporations Fast diazoquinone positive resists comprising mixed esters of 4-sulfonate and 5-sulfonate compounds
JP3278306B2 (ja) 1994-10-31 2002-04-30 富士写真フイルム株式会社 ポジ型フォトレジスト組成物
JP2007246417A (ja) 2006-03-14 2007-09-27 Canon Inc 感光性シランカップリング剤、表面修飾方法、パターン形成方法およびデバイスの製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB537696A (en) * 1940-01-03 1941-07-02 Kodak Ltd Improvements in and relating to colour-forming development and colour photographic elements
BE497135A (US08088918-20120103-C00476.png) * 1949-07-23
BE508016A (US08088918-20120103-C00476.png) * 1950-12-23
BE526866A (US08088918-20120103-C00476.png) * 1953-03-11

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522478B1 (de) * 1965-12-17 1971-07-29 Polychrome Corp Vorsensibilisierte, positiv arbeitende Flachdruckplatte
EP0001254A1 (de) * 1977-09-22 1979-04-04 Hoechst Aktiengesellschaft Positiv arbeitende lichtempfindliche Kopiermasse enthaltend ein halogeniertes Naphthochinondiazid
EP0268790A2 (de) 1986-10-17 1988-06-01 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur abtragenden Modifizierung von mehrstufig aufgerauhten Trägermaterialien aus Aluminium oder dessen Legierungen und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten
US5755949A (en) * 1993-12-22 1998-05-26 Agfa-Gevaert Ag Electrochemical graining method

Also Published As

Publication number Publication date
NL129162C (US08088918-20120103-C00476.png)
BE586561A (fr) 1960-07-14
SE303093B (US08088918-20120103-C00476.png) 1968-08-12
FR1252857A (fr) 1961-02-03
CH383775A (de) 1964-10-31
GB935452A (en) 1963-08-28
NL247406A (US08088918-20120103-C00476.png)
US3130048A (en) 1964-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1120273B (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
AT216539B (de) Kopiermaterial, insbesondere für Druckformen
DE1422474C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE865109C (de) Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen
DE1118606B (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE865860C (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Reproduktion
DE2147947C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE903529C (de) Lichtempfindliche Schichten
DE2944237C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE1124817B (de) Kopierschichten fuer Druckformen aus Naphthochinon-(1, 2)-diazidsulfonsaeureestern
DE2331377A1 (de) Lichtempfindliche kopierschicht
DE1195166B (de) Auf Metallunterlagen haftende, aetzfaehige Kopierschichten
DE3009873A1 (de) Photoempfindliche masse
DE1114705C2 (de) Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
DE3123752C2 (US08088918-20120103-C00476.png)
DE2620961A1 (de) Metallbild-erzeugendes material
DE1597614A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
DE2124047A1 (de) Photosensitive Polymere, Verfahren zur Herstellung derselben und diese Polymeren enthaltende Zusammensetzungen
EP0056092B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE1224147B (de) Verfahren zur Umkehrentwicklung von Diazo-verbindungen enthaltenden Kopierschichten
DE1522459A1 (de) Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
EP0178594B1 (de) Verfahren zum Herstellen negativer Kopien mittels eines Materials auf Basis von 1,2-Chinondiaziden
DE1772101A1 (de) Photographisches Material
DE1053930B (de) Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege
EP0050806A2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial