DE112010000782T5

DE112010000782T5 - Temperaturabltasteinrichtung und Aufheizeinrichtung

Info

Publication number: DE112010000782T5
Application number: DE112010000782T
Authority: DE
Inventors: Tetsuhiro Oono; Takahiro Mizoguchi; Tsuyoshi Yoshimoto; Katsumi Yamane
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 2009-01-28
Filing date: 2010-01-27
Publication date: 2012-07-26
Anticipated expiration: 2030-01-28
Also published as: KR20110099772A; DE112010000782B4; CN102301196A; WO2010087356A1; KR101344560B1; CN102301196B; TWI518297B; US8521013B2; US20120008925A1; TW201105916A; JP5374521B2; JPWO2010087356A1

Abstract

Vorgesehen ist ein Verfahren, um die Temperatur eines großen aufzuheizendes Substrats zu steuern. Eine Temperaturabtasteinrichtung 20 ist seitlich zu einem Bereich angeordnet, wo eine Strahlungsaufheizeinrichtung 14 einem aufzuheizenden Substrats 12 innerhalb einer Aufheizkammer 6 zugewandt ist. Eine Aufheizeinrichtung 2 hat die Aufheizkammer 6, die Strahlungsaufheizeinrichtung 14, eine Leistungsversorgungseinrichtung 25, eine Substrathalteeinrichtung 11, eine Steuereinrichtung 15 und eine Temperaturabtasteinrichtung 20. Ein Steuerprogramm ist in die Steuereinrichtung 15 eingebaut, gemäß dem die Leistungsversorgungseinrichtung 25 die Leistung, welche an die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 angelegt wird, steuert, um Hitze zu erzeugen, so dass die Temperatur der Temperaturmesssubstrats 22, welche durch ein Thermoelement 21 der Temperaturabtasteinrichtung 20 erfasst wird, zu einer eingestellten Temperatur wird. Außerdem ist ein Zirkulationskanal 23 in engem Kontakt mit der Temperaturabtasteinrichtung 20 angeordnet, und mit einem Kühlmittel, welches durch den Zirkulationskanal 23 fließt, kann die Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 von der eingestellten Temperatur auf eine Ausgangstemperatur abgekühlt werden.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Steuern der Temperatur eines aufzuheizenden Objekts unter Verwendung von Strahlungshitze, welche von einer Strahlungsaufheizeinrichtung erzeugt wird.
Technischer Hintergrund
Ein aufzuheizendes Objekt, beispielsweise ein Glassubstrat, wurde, um Vakuum behandelt zu werden, um darauf einen Film zu bilden, üblicherweise durch eine Mantelheizvorrichtung aufgeheizt, welche in einem aufzuheizenden Objekt-Anordnungstisch angebracht ist, der das Objekt während der Behandlung kontaktiert, oder durch ein einleitendes Aufheizen vor der Behandlung. In diesem Fall wird die Temperatur des aufzuheizenden Objekts gesteuert, wobei die Temperatur des aufzuheizenden Objekt-Anordnungstisches in einer Heizkammer mit der Verwendung eines Programms gemessen wurde, welches die Ausgangsleistung der Aufheizvorrichtung auf Basis der Temperatur des Anordnungstisches, einer Zieltemperatur zum Aufheizen, und einer Zieltemperatur, bis solche Zeit als eine Zielheiztemperatur erreicht ist, steuert.
Wenn jedoch das aufzuheizende Objekt so ist, um Kontakt mit dem Anordnungstisch herzustellen, der mit der Mantelheizvorrichtung als Übertragungsaufheizeinrichtung ausgestattet ist, können Partikel verursacht durch Reibung zwischen der Fläche der Aufheizvorrichtung und dem Glassubstrat erzeugt werden, oder ein Film, der an der Oberfläche der Aufheizvorrichtung anhaftete, kann während der Behandlung abgeschält werden, was wahrscheinliche Verschmutzung zur Folge hat, wodurch Verschlechterung der Produktausbeute verursacht wird.
Zusätzlich bestanden Erfordernisse zum Abkürzen der Aufheizbehandlungszeit gegenüber der Vergangenheit.
In dieser Hinsicht bedeutet eine Strahlungsaufheizeinrichtung, beispielsweise eine Lampenaufheizeinrichtung, welche prinzipiell die Temperatur des aufzuheizenden Objekts in einer kurzen Aufheizzeit anheben kann, ohne das aufzuheizende Objekt zu kontaktieren, mittels Strahlungsheizen (siehe Patentdokument 1).
Um Aufheizverlust während der Heizleitung von dem aufzuheizenden Objekt zu verhindern, während die Absorptionsrate von Infrarotstrahlen auf das aufzuheizende Objekt in Behandlungsvorrichtungen verbessert wird, unter Verwendung dieser Strahlungsaufheizeinrichtung anstelle des Anordnungstisches, der zur Leitheizung mittels der Mantelheizvorrichtung verwendet wurde, trägt eine Vertikalsubstrat-Behandlungsvorrichtung, in welcher das Substrat durch einen Träger gehalten wird, und sowohl der Träger als auch das Substrat so ausgeführt sind, in der Vorrichtung zu stehen, ein Glassubstrat als aufzuheizendes Objekt mittels des Trägers, während eine Horizontalsubstrat-Behandlungsvorrichtung, welche als Substrat mit dessen horizontaler Lage, welches darin gehalten wird, Gebrauch macht von einem Stift, der einen minimierten Kontaktbereich mit dem aufzuheizenden Objekt hat, und sowohl die Horizontalsubstrat-Behandlungsvorrichtung als auch die Vertikalsubstrat-Behandlungsvorrichtung Schwierigkeiten beim Messen mittels herkömmlicher Temperaturmessmechanismen mit einem Glassubstrat selbst als aufzuheizendes Objekt, welches innerhalb der Vorrichtung fixiert ist, haben.
Aus diesem Grund wurde die Temperatur des aufzuheizenden Objekts gesteuert, wobei die Temperatur einer Temperaturmessplatte, welche aus dem gleichen Glasmaterial wie dem des Glassubstrats hergestellt ist, welches das aufzuheizende Objekt ist, gemessen wird, unter Verwendung eines Programm, welches die Ausgangsleistung der Aufheizvorrichtung auf Basis der Temperatur der Temperaturmessplatte, einer Zieltemperatur zum Aufheizen und einer Zielzeit steuert, bis diese Zeit als Zielheiztemperatur erreicht ist.
Mit der Verwendung der herkömmlichen Temperaturmessplatte und des Programms kann jedoch, wenn die Ausgangsleistung der Strahlungsaufheizeinrichtung vergrößert wird, um die Temperaturanstiegsrate des Glassubstrats zu steigern, genaue Überwachung des Temperaturanstiegs des Glassubstrats wegen eines niedrigen Ansprechen der Temperaturmessplatte nicht erlangt werden, wodurch ein Problem des Überhitzens des Glassubstrats verursacht wird.
Dokumente beim Stand der Technik
Patentdokument

Patentdokument 1 .... Japanisches Patent Nr. 4071047

Offenbarung der Erfindung
Durch die Erfindung zu lösende Probleme
Die vorliegende Erfindung wurde erschaffen, um die obigen Nachteile des Standes der Technik zu lösen, und eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum Steuern der Temperatur eines aufzuheizenden Substrats zu steuern, welches eine Größe größer als die beim Stand der Technik hat.
Mittel, um die Probleme zu lösen
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben herausgefunden, dass, wenn Infrarotstrahlen in ein Glassubstrat und ein metallisches Temperaturmesssubstrat emittiert werden, um diese zu erhitzen, die Temperaturanstiegsraten dieser Substrate ungefähr gleich sind.
Unter Verwendung von Glas als Temperaturmesssubstrat ist es außerdem, wenn die Temperatur des Temperaturmesssubstrats abgesenkt wird, indem ein Zirkulationskanal für ein Kühlmittel bereitgestellt wird, um durch das Temperaturmesssubstrat zu fließen, eine lange Zeit erforderlich, um das Temperaturmesssubstrat abzukühlen, so dass die Temperaturen des Glassubstrats, welches eingebracht wird, und die Temperatur des Messsubstrats sich unterscheiden; die Erfinder haben außerdem jedoch herausgefunden, dass, wenn ein Metall für das Temperaturmesssubstrat verwendet wird, und der Zirkulationskanal, durch den das Kühlmittel fließt, im Metall vorgesehen ist, die Temperatur auf eine Anfangstemperatur in einer kurzen Taktzeit aufgrund einer höheren thermischen Leitfähigkeit von Metall als der von Glas abgesenkt werden kann.
Die vorliegende Erfindung wurde auf Basis der obigen Erkenntnisse erschaffen. Die vorliegende Erfindung richtet sich auf eine Temperaturabtasteinrichtung, welche umfasst, in einer Vakuumkammer, innerhalb welcher Vakuumerhitzungsbehandlung zum Erhitzen eines zu erhitzenden Substrats mittels Bestrahlung stattfindet: ein Temperaturmesssubstrat; einen Zirkulationskanal, der in engem Kontakt mit dem Temperaturmesssubstrat so angeordnet ist, um zu veranlassen, dass ein Kühlmittel innerhalb des Zirkulationskanals fließt; und einen Temperatursensor, der am Temperaturmesssubstrat vorgesehen ist, um die Temperatur des Temperaturmesssubstrats zu messen, wobei die Temperaturabtasteinrichtung konfiguriert so ist, dass die Temperatur, wenn sie durch den Temperatursensor ausgegeben wird, erfasst wird, wenn das Temperaturmesssubstrat mit Infrarotstrahlen bestrahlt wird, und wobei das Temperaturmesssubstrat und das zu erhitzende Substrat aus unterschiedlichen Materialien hergestellt sind.
Die vorliegende Erfindung richtet sich außerdem auf eine Temperaturabtasteinrichtung, wobei das Temperaturmesssubstrat aus Metall hergestellt ist.
Außerdem richtet sich die vorliegende Erfindung auf eine Temperaturabtasteinrichtung, wobei der Temperatursensor ein Temperaturmessteil ist, der eine elektro-motorische Kraft für ein Thermoelement erzeugt.
Außerdem richtet sich die vorliegende Erfindung auf eine Temperaturabtasteinrichtung, wobei, wobei der Temperatursensor ein Temperaturmessteil ist, welches eine elektro-motorische Kraft für ein Thermoelement erzeugt.
Die vorliegende Erfindung richtet sich auf eine Heizeinrichtung, welche umfasst: eine Vakuumkammer, innerhalb welcher Vakuumaufheizbehandlung zum Erhitzen eines zu erhitzenden Substrats mittels Strahlung stattfindet; eine Substrathalteeinrichtung zum Halten des Substrats, welches zu erhitzen ist, in der Vakuumkammer; eine Strahlungsaufheizeinrichtung, welche ohne Kontaktierung des aufzuheizenden Substrats in der Vakuumkammer angeordnet ist, um das aufzuheizende Substrat mit Infrarotstrahlen zu bestrahlen, wobei die Temperaturabtasteinrichtung in einer Position außerhalb eines Bereichs angeordnet ist, wo die Strahlungsaufheizeinrichtung und das aufzuheizende Substrat einander gegenüberliegen, und in einer Position, um die Infrarotstrahlen, mit den die Fläche des aufzuheizenden Substrats bestrahlt wird, nicht zu blockieren; eine Kühleinrichtung zum Liefern eines Kühlmittels, welches gekühlt wurde, zum Zirkulationskanal; eine Leistungsversorgungseinrichtung zum Anlegen von Leistung an die Strahlungsaufheizeinrichtung auf die Basis eines zugeführten Signals; und eine Steuereinrichtung, welcher ein Ausgangssignal der Temperaturabtasteinrichtung zugeführt wird, und welche ein Signal ausgibt, welche die Leistung, wenn sie der Strahlungsaufheizeinrichtung zugeführt wird, der Leistungsversorgungseinrichtung zeigt,
wobei die Aufheizeinrichtung so konfiguriert so ist, dass die Menge an Leistung, wenn diese an die Strahlungsaufheizeinrichtung angelegt wird, auf Basis der Temperatur des Temperaturmesssubstrats, welche durch das Ausgangssignal angezeigt wird, gesteuert wird.
Die vorliegende Erfindung richtet sich auf ein Verfahren zum Aufheizen eines Substrats, während dem: ein aufzuheizendes Substrat in eine Vakuumkammer befördert wird; und eine Fläche des aufzuheizenden Substrats mit Infrarotstrahlen mittels einer Strahlungsaufheizeinrichtung bestrahlt wird, welche ohne Kontaktierung des aufzuheizenden Substrats in der Vakuumkammer angeordnet ist, um die Temperatur des aufzuheizenden Substrats anzuheben, wobei die Temperaturabtasteinrichtung in der Vakuumkammer angeordnet wurde, und wobei die Höhe an Emission von Infrarotstrahlen zur Strahlungsaufbeizeinrichtung auf Basis der Temperatur des Temperaturmesssubstrats gesteuert wird, welche durch das Erfassungssignal angezeigt wird, welches durch die Temperaturabtasteinrichtung ausgegeben wird.
Die vorliegende Erfindung richtet sich außerdem auf ein Verfahren zum Aufheizen eines Substrats, wobei das aufzuheizende Substrat in die Vakuumkammer mit einer Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C befördert wird, wobei das Verfahren zum Aufheizen folgende Schritte umfasst: Durchlassen eines Kühlmittels, welches durch den Zirkulationskanal fließt, damit das Temperaturmesssubstrat eine Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C hat; und danach Starten des Aufheizens des aufzuheizenden Substrats und des Temperaturmesssubstrats mittels der Strahlungsaufheizeinrichtung.
Wirkung der Erfindung
Die vorliegende Erfindung kann die Temperatur eines Glassubstrats einer Größe größer als beim Stand der Technik bis zu einer Zieltemperatur steigern, mittels einer Strahlungsaufheizeinrichtung innerhalb einer Zeitperiode kürzer als die Zeitperiode, welche durch eine herkömmliche Mantelheizvorrichtung erforderlich ist. Ein Kühlmechanismus, der für das Temperaturmesssubstrat vorgesehen ist, ermöglicht eine Verminderung der Temperatur des Temperaturmesssubstrats hinunter bis zu einem Pegel eines aufzuheizenden Substrats, welches von Außenseite der Aufheizkammer hineinbefördert wird, bevor es aufgeheizt wird. Es ist außerdem möglich, die Temperatur des Temperaturmesssubstrats bis zu einer Temperatur eines aufzuheizenden Substrats abzusenken, bevor es aufgeheizt wird, jedes Mal, wenn ein aufzuheizendes Substrat hineinbefördert wird, was erlaubt, dass die Temperatur des aufzuheizenden Substrats während der Periode der Heizbehandlung des aufzuheizenden Substrats in der Aufheizkammer indirekt gesteuert wird.
Während des Zeitablaufs vom Start des Aufheizens bis zur Zielzeit wurden die Beziehungen der Temperatur des Temperaturmesssubstrats und der Temperatur des aufzuheizenden Substrats in Bezug auf die Zeit vorher bestimmt; wenn die Temperatur angehoben wird, wird, wenn eine gemessene Temperatur des Temperaturmesssubstrats niedriger ist als eine Temperatur, welche in Bezug auf die Zeit erwartet wird, die Menge an Emission von Infrarotstrahlen um eine Menge gesteigert, welche durch die Beziehung bestimmt wird; und wenn eine gemessene Temperatur des Temperaturmesssubstrats höher ist als die Temperatur, welche in Bezug auf die Zeit erwartet wurde, wird die Menge an Emission von Infrarotstrahlen um eine Menge, welche durch die Beziehung bestimmt wird, vermindert, um die Temperatur des Temperaturmesssubstrats gemeinsam mit der erwarteten Temperaturkurve zu steigern. Da anders ausgedrückt der Grad an Konformität bei Temperaturen zwischen dem Temperaturmesssubstrat und dem aufzuheizenden Substrat höher ist, kann die Temperatur des aufzuheizenden Substrats durch Steuern der Menge an Emission von Infrarotstrahlung gemäß der Temperatur des Temperaturmesssubstrats gesteuert werden, wodurch die Temperatur des aufzuheizenden Substrats bis zu einer Zieltemperatur innerhalb einer Zielzeit angehoben wird.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen
1 ist eine Querschnittsansicht, um die Aufheizeinrichtung zu zeigen, welche bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird;
2 ist eine schematische Ansicht der Temperaturabtasteinrichtung, welche bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird;
3 ist eine graphische Darstellung, welche die Zeitschwankung der Temperatur eines Glassubstrats zeigt, wenn die Temperatur eines rostfreien Stahlsubstrats auf 140°C gesteuert wird;
4 ist eine graphische Darstellung, welche die Zeitschwankung der Temperatur eines Glassubstrats zeigt, wenn die Temperatur einer Messglasplatte auf 40°C gesteuert wird;
5 ist eine graphische Darstellung, welche die Zeitschwankung der Temperatur eines Glassubstrats zeigt, wenn die Temperatur einer Messglasplatte auf 60°C gesteuert wird; und
6 ist ein Beispiel der vertikalen Substratbehandlungsvorrichtung, welche bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
Bezugszeichenliste

1: Vakuumbehandlungsvorrichtung
2: Aufheizeinrichtung
5: Einführkammer
6: Aufheizkammer
7: Behandlungskammer
10₁, 10₂: Absperrventil
11: Substrathalteeinrichtung
12: aufzuheizendes Substrat
13: Evakuierungssystem
14: Strahlungsaufheizeinrichtung
15: Steuereinrichtung
20: Temperaturabtasteinrichtung
21: Thermoelement
22: Temperaturmesssubstrat
23: Zirkulationskanal
24: Temperatursensor
25: Leistungsversorgungseinrichtung
27: Vorlauf-Leitungsrohr
28: Rücklauf-Leitungsrohr
29: Kühleinrichtung
30: Infrarotstrahlen

Beste Methoden zum Ausüben der Erfindung
Vorrichtung, welche bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird
In 1 bezeichnet das Bezugszeichen 2 eine Aufheizeinrichtung; die Aufheizeinrichtung 2 hat eine Aufheizkammer 6, eine Strahlungsaufheizeinrichtung 14, eine Leistungsversorgungseinrichtung 25, eine Substrathalteeinrichtung 11, eine Steuereinrichtung 15 und eine Temperaturabtasteinrichtung 20.
Die Strahlungsaufheizeinrichtung 14, welche bei der vorliegenden Erfindung verwendet wird, kann eine derartige Aufheizeinrichtung beispielsweise eine Mantel-Aufheizvorrichtung sein, welche Infrarotstrahlen emittiert und welche das aufzuheizende Objekt ohne Kontaktierung des aufzuheizenden Substrats aufheizen kann. Unter diesen Arten der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 wird eine Lampenaufheizvorrichtung, welche in der Lage ist, aufzuheizen, ohne das Objekt zu kontaktieren, über Strahlung von Infrarotstrahlen, wie bei dieser Ausführungsform verwendet, wegen ihrer hoher Strahlungswirksamkeit bevorzugt.
Ein Evakuierungssystem 13 ist mit der Aufheizkammer 6 verbunden, welche den Innenraum der Aufheizkammer 6 zu einer Vakuumatmosphäre während ihres Betriebs machen kann.
Die Aufheizeinrichtung 14 ist im Innenraum der Aufheizkammer 6 angeordnet, während die Leistungsversorgungseinrichtung 25 außerhalb der Aufheizkammer 6 angeordnet ist. Die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 und die Leistungsversorgungseinrichtung 25 sind luftdicht über eine Versorgungsleitung verbunden, um somit die Vakuumatmosphäre in der Aufheizkammer 6 beizubehalten, so dass die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 Wärme erzeugt, um Infrarotstrahlen zu emittieren, durch Aktivierung der Leistungsversorgungseinrichtung 25, um Leistung zur Strahlungsaufheizeinrichtung 14 zu liefern. Das Bezugszeichen 30 in 1 bezeichnet die emittierten Infrarotstrahlen.
Die Substrathalteeinrichtung 11 ist ein Tisch, um ein Substrat zu platzieren, welches in der Aufheizkammer 6 angeordnet ist, der nach oben und nach unten bewegbar ist, wobei ein Glassubstrat in einer horizontalen Position gehalten wird, welches auf mehreren Stiften platziert ist, welche in den Zeichnungen nicht gezeigt sind und welche von der Innenseite der Substrathalteeinrichtung 11 ragen, und ausgebildet ist, so dass es in und aus einer Position bewegt werden kann, welche der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 zugewandt ist, wobei das Substrat auf und von dem Substratplatziertisch mittels eines Übertragungsmechanismus, der nicht in den Zeichnungen gezeigt ist, beispielsweise einem Transportroboter, transportiert wird. Alternativ kann die Substrathalteeinrichtung 11 innerhalb der Aufheizkammer 6 in der Rolle eines Tabletts angeordnet sein, welches mit einer Wagen- oder Roll-Fördereinrichtung ausgerüstet sein kann, die sie in und aus der Position, welche der Wärmeabstrahleinrichtung 14 zugewandt ist, bewegen muss.
Die Steuereinrichtung 15 ist außerhalb der Aufheizkammer 6 angeordnet, während die Temperaturabtasteinrichtung 20 innerhalb der Aufheizkammer 6 angeordnet ist; die Steuereinrichtung 15 und die Temperaturabtasteinrichtung 20 sind luftdicht über einen leitenden Draht verbunden, wobei die Vakuumatmosphäre in der Aufheizkammer 6 beibehalten wird.
Die Temperaturabtasteinrichtung 20 hat ein Temperaturmesssubstrat 20 und ein Thermoelement 21.
Das Bezugszeichen 12 bezeichnet ein aufzuheizendes Substrat.
Das aufzuheizende Substrat 12 ist ein plattenförmiges Glassubstrat, ein Feld eines plattenförmigen Glassubstrats mit darauf gebildeten Elektroden oder dgl., und das aufzuheizende Substrat 12 ist so angeordnet, dass es der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 zugewandt ist; das Temperaturmesssubstrat 22 ist an der Seite des Bereichs angeordnet, wo das aufzuheizende Substrat und die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 einander zugewandt sind, um somit die Abstrahlung der Fläche des Substrats, welche mit Infrarotstrahlen aufzuheizen ist, nicht zu blockieren.
Das Thermoelement 21 ist in engem Kontakt mit dem Temperaturmesssubstrat 22 an dessen Verbindungsstelle, als ein Temperatursensor 24, wobei das andere Ende des Thermoelements 21 mit der Steuereinrichtung 15 verbunden ist; eine Spannung entsprechend der Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 wird an die Steuereinrichtung 15 als ein Erfassungssignal ausgegeben, wodurch die Temperatur gemessen wird.
Die Steuereinrichtung 15 speichert eine Zieltemperatur, die zu erreichen ist, indem das Temperaturmesssubstrat 22 über die Verwendung der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 aufgeheizt wird, eine Zielzeit, welche vom Start des Aufheizens bis zu der Zeit, wo es die Zieltemperatur erreicht, und wobei das Steuerprogramm auf Basis der späteren beschriebenen Basisdaten konfiguriert ist, so dass, wenn ein Erfassungssignal von der Temperaturabtasteinrichtung 20 zur Steuereinrichtung 15 geliefert wird, das Steuerprogramm ein Steuersignal überträgt, welches eine Instruktion liefert, die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 mit einer Ausgangsleistung der Leistungsversorgungseinrichtung 15 bereitzustellen, wobei die Ausgangsleistung in der Lage ist, zu ermöglichen, dass das Temperaturmesssubstrat 22 die Zieltemperatur die Zielzeit gemäß dem Erfassungssignal wie auch die Temperatur und die Temperaturanstiegsrate des Temperaturmesssubstrats 22 erreicht, welche durch mehrere Erfassungssignale, welche in einer fortlaufenden Weise zugeführt werden, bestimmt werden.
Wenn die Temperatur des Temperatursensors 24, welche durch das Erfassungssignal gezeigt wird, variiert, bringt sie somit die Ausgangsleistung unter die Steuerung des Steuersignals.
Die Versorgungsleistungseinrichtung 25 legt einen elektrischen Strom einer Leistung, welche dem Eingangssignal entspricht, an die Strahlungsaufheizeinrichtung 15 an, und die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 emittiert Infrarotstrahlen mit einer Intensität entsprechend der Leistung. Die emittierten Infrarotstrahlen treten sowohl in das Temperaturmesssubstrat 22 als auch in das aufzuheizende Substrat 12 ein; und das Temperaturmesssubstrat 22 ist in einer Position angeordnet, um keine Schatten auf dem aufzuheizenden Substrat 12 zu bilden.
Ein Zirkulationskanal 23 ist in engem Kontakt mit dem Temperaturmesssubstrat 22 gebildet. Eine Kühleinrichtung 29 ist außerhalb der Aufheizkammer 6 angeordnet, und der Zirkulationskanal 23 und die Kühleinrichtung 29 sind luftdicht miteinander über eine Vorlauf-Rohrleitung 27 und eine Rücklauf-Rohrleitung 28 verbunden, wobei die Vakuumatmosphäre in der Aufheizkammer 6 beibehalten wird.
Die Kühleinrichtung 29 ist mit einem Kühlmittel gefüllt, welches durch die Kühleinrichtung 29 gekühlt wurde und läuft durch die Vorlauf-Rohrleitung 27, um somit zum Zirkulationskanal 23 geliefert zu werden, fließt dann durch den Zirkulationskanal 23, um das Temperaturmesssubstrat 22 zu kühlen, läuft durch die Rücklauf-Rohrleitung 28, um zur Kühleinrichtung 29 zurückzukehren, wodurch das Kühlmittel abgekühlt wird, und wird zur Vorlauf-Rohrleitung 27 geliefert. (2).
Prozess, der bei der vorliegenden Erfindung verwendet wird
Das Bezugszeichen 1 in 1 ist ein Beispiel der Vakuumbehandlungsvorrichtung, welche eine Zuführkammer 5, die Aufheizkammer 6, und eine Behandlungskammer 7 hat; jede der Kammern 5 bis 7 ist in dieser Reihenfolge über Absperrventile 10 ₁ und 10 ₂ verbunden, die zum Öffnen und zum Verschließen in der Lage sind.
Die Absperrventile 10 ₁ und 10 ₂ werden verschlossen und dann wird das Evakuierungssystem 13, welches mit der Heizkammer 6 verbunden ist, und Evakuierungssysteme 16 und 17, welche entsprechend mit der Zuführkammer 5 und der Behandlungskammer 7 verbunden sind, betrieben, um die Einführkammer 5, die Heizkammer 6 und die Behandlungskammer 7 auf Vakuum zu evakuieren, um deren Innenraum auf Vakuumatmosphäre zu bringen.
Jede vom Innenraum der Einführkammer 5 und der Behandlungskammer 7 hat einen Transportmechanismus, der in den Zeichnungen nicht gezeigt ist; ein aufzuheizendes Substrat mit einer Raumtemperatur, welche zumindest 20°C beträgt und höchstens 30°C beträgt, ist auf dem Transportmechanismus in der Einführkammer 5 platziert, danach wird das Absperrventil 10 ₁ zwischen der Einführkammer 5 und der Aufheizkammer 6 geöffnet, um das aufzuheizende Substrat auf der Substrathalteeinrichtung 11 zu platzieren, welche in der Position in der Nähe des Absperrventils 10 ₁ in der Aufheizkammer 6 angeordnet ist.
Das Bezugszeichen 12 bezeichnet das aufzuheizende Substrat, wenn dieses auf der Substrathalteeinrichtung 11 angeordnet ist.
Die Substrathalteeinrichtung 11 mit dem aufzuheizenden Substrat 12, das darauf platziert ist, wird zu einer Position bewegt, welche der Strahlungsaufheizungseinrichtung 14 zugewandt ist, um somit innerhalb der Aufheizkammer 6 angeordnet zu sein, um somit zu einer Ruhestellung zu kommen.
Das Steuerprogramm wird betrieben, um ein Steuersignal von der Steuereinrichtung 15 zur Leistungsversorgungseinrichtung 25 zu senden, um die Ausgangsleistung der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 zu steuern, um die Infrarotstrahlen zu emittieren, um das aufzuheizende Substrat 12 aufzuheizen. In diesem Zeitpunkt wird das Temperaturmesssubstrat 22 ebenfalls aufgeheizt.
Die Zieltemperatur in diesem Stadium wird auf 120°C oder höher eingestellt, vorzugsweise auf zumindest 140°C und höchstens auf 160°C. Die Temperaturabtasteinrichtung 20 erfasst die Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22, um ein Erfassungssignal an die Steuereinrichtung 15 zu liefern, welches die Leistung der Abstrahlungsaufheizeinrichtung 14 ändert, wodurch das Aufheizen des aufzuheizenden Substrats 12 begannen wird.
Während des Aufheizens des aufzuheizenden Substrats 12 wird kein Kühlmittel in den Zirkulationskanal 23 eingeführt, so dass das Temperaturmesssubstrat 22 nicht abgekühlt wird.
Das Temperaturmesssubstrat 22 beginnt den Temperaturanstieg von einer Temperatur, welche ungefähr die gleiche ist wie die des aufzuheizenden Substrats 12, so dass das Temperaturmesssubstrat 22 und das aufzuheizende Substrat 12 so konfiguriert sind, dass die Differenz bezüglich der Temperaturanstiegsgeschwindigkeit klein wird. Wenn das Temperaturmesssubstrat 22 die Zieltemperatur vom Start des Aufheizens innerhalb der Zielzeit erreicht, erreicht das aufzuheizende Substrat 12 ebenfalls die Zieltemperatur vom Start des Aufheizens innerhalb der Zielzeit.
Nachdem das Temperaturmesssubstrat 22 die Zieltemperatur erreicht hat, wird die Substrathalteeinrichtung 11 in die Nähe des Absperrventils 10 ₂ bewegt, welches zwischen der Aufheizkammer 6 und der Behandlungskammer 7 ist, und das Absperrventil 10 ₂ wird geöffnet, um zu veranlassen, dass der Transportmechanismus innerhalb der Behandlungskammer 7 das Substrat 12, welches aufzuheizen ist, welches darauf angeordnet ist, in die Behandlungskammer 7 transportiert.
Auf dem Teil des Temperaturmesssubstrats 22 lässt man, nachdem die Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 auf die Zieltemperatur angehoben ist, um das Aufheizen des aufzuheizenden Substrats 12 anzuhalten, das Kühlmittel durch den Zirkulationskanal 23 zirkulieren, um das Temperaturmesssubstrat 22 auf Raumtemperatur abzukühlen, welche zumindest 20°C und höchstens 30°C ist, wonach danach die Zirkulation des Kühlmittels stoppt.
Wenn das aufzuheizende Substrat 12, wobei dessen Temperatur angehoben ist, aus der Aufheizkammer 6 befördert wird, wird ein anderes aufzuheizendes Substrat für die nächste Behandlung in die Aufheizkammer 6 befördert. Ein solches aufzuheizendes Substrat wird ebenfalls auf Raumtemperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C eingestellt, so dass das Aufheizen des aufzuheizenden Substrats von einem Stadium begonnen wird, wo die Temperaturen des Substrats mit der Raumtemperatur, wenn die Aufheizkammer 6 befördert, und die Temperatur des Messsubstrats 22 ungefähr die gleichen sind, wobei das aufzuheizende Substrat und das Temperaturmesssubstrat 22 mit der gleichen Temperaturanstiegsrate aufgeheizt werden.
Somit steigen das Temperaturmesssubstrat 22 und das aufzuheizende Substrat 12 bezüglich der Temperatur mit der gleichen Rate mit Beginn von der gleichen Temperatur an, wodurch es ermöglicht wird, die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 durch Messen der Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 und der Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 zu messen; folglich kann jedes Mal, wenn ein neues aufzuheizendes Substrat in die Aufheizkammer 6 befördert wird, die Temperatur des aufzuheizenden Substrats auf die gleiche Zieltemperatur innerhalb der gleichen Zielzeit unter Verwendung des gleichen Steuerprogramms angehoben werden.
Obwohl das Kühlmittel durch den Zirkulationskanal 23 beim Durchführen eines später beschriebenen Experiments fließend gehalten wird, kann bei diesem Verfahren das Kühlmittel fließend gehalten werden, wobei jedoch nicht die Notwendigkeit besteht, dass es während des Aufheizens fließend gehalten wird, da die Temperaturanstiegsraten der metallischen Temperaturmessplatte ungefähr die gleiche ist, wenn durch die Strahlungsaufheizeinrichtung 14, ohne dass das Kühlmittel fließt, aufgeheizt wird.
Wenn außerdem sogar die Differenz zwischen der Temperaturkurve des aufzuheizenden Substrats und die des Temperaturmesssubstrats 22 durch Änderung des Vakuumgrads innerhalb der Aufheizkammer 6 gesteigert wird, variiert die Größe der Differenz nicht durch Ändern von Substraten, wodurch es ermöglicht wird, die Zieltemperatur des Temperaturmesssubstrats 22 vorher festzulegen, indem die Temperatur des aufzuheizenden Substrats auf Basis der Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 bestimmt wird.
Basisdaten
Da der Temperatursensor 24 nicht unmittelbar in dem aufzuheizenden Substrat 12 in Kontakt angebracht werden kann, wird der Temperatursensor 24 am aufzuheizenden Substrat 12 vor Eintreten in das Verfahren angebracht, und die gegenseitige Beziehung zwischen der vorher festgelegten Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 und der Temperatur des Temperaturmesssubstrats 12, um ein Steuerprogramm zu erzeugen, zielte auf die Fähigkeit für das Temperaturmesssubstrat 22 ab, um die Zieltemperatur innerhalb der Zielzeit zu erreichen und um die Zieltemperatur beizubehalten.
Versuch
Ein Glassubstrat, welches 3 Meter lang ist und 3 Meter breit ist, wurde als das aufzuheizende Substrat 12 verwendet; Thermoelemente 21 wurden an sieben Stellen auf der Fläche des Substrats, welches aufzuheizen ist, platziert; eine rostfreie Strahlplatte (SUS304) wurde als Temperaturmesssubstrat 22 verwendet; und das aufzuheizende Substrat und das Temperaturmesssubstrat wurden durch die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 aufgeheizt, um die Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 zu messen, wenn dies aufgeheizt wird.
Bei diesem Versuch betrug der Abstand zwischen dem aufzuheizenden Substrat 12 und der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 50 mm; der Abstand zwischen der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 und dem Temperatursensor 24 als Temperaturmesssteil zum Erzeugen thermischer elektro-motorischer Kraft des Thermoelements 21 betrug 25 mm.
Wenn die Höhe der erzeugten Hitze, welche von der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 emittiert wird, über die Verwendung des Programms gesteuert wird, welche als Zieltemperatur des Temperaturmesssubstrats 22 auf 140°C festgelegt wurde, werden das Temperaturmesssubstrat 22 und das aufzuheizende Substrat 12 erhitzt. Die Temperatursensoren wurden entsprechend an sieben unterschiedlichen Stellen auf dem aufzuheizenden Substrat 12 platziert, um dessen Durchschnittstemperatur zu bestimmen.
3 zeigt die Änderungen bezüglich der Temperatur mit der Zeit entsprechend für die Temperatur L₁ des Temperaturmesssubstrats 22 und für die Durchschnittstemperatur L₂ des aufzuheizenden Substrats in diesem Zeitpunkt. Mit der punktierten Linie A, welche die eingestellte Zeit zeigt, wie die Durchschnittstemperatur des aufzuheizenden Substrats 12, bis zum eingestellten Zeitpunkt, wobei das aufzuheizende Substrat 12 ein Glassubstrat ist, und das Temperaturmesssubstrat 22, welche eine rostfreie Stahlplatte ist, stimmen sie bezüglich des Temperaturbereichs in etwa überein, wodurch es möglich war, zu bestätigen, dass das Steuerprogramm in der Lage ist, das aufzuheizende Substrat 12 auf die gleiche Temperatur wie die Zieltemperatur aufzuheizen.
Sogar nach der eingestellten Zeit wird die Temperaturdifferenz zwischen dem aufzuheizenden Substrat 12 und dem Temperaturmesssubstrat 22 konstant gehalten, und die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 und die des Temperaturmesssubstrats 22 entsprechen fast einander, wodurch es ermöglicht wird, dass die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 korrigiert wird, um auf einen korrekten Wert korrigiert zu werden, indem das Temperaturmesssubstrat 22 so gesteuert wird, dass dies einen erwarteten Wert annimmt, sogar, wenn die gemessene Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 vorn erwarteten Wert variiert wurde.
Gemäß der vorliegenden Erfindung sind das Material des Temperaturmesssubstrats 22 und das Material des aufzuheizenden Substrats 12 von einander verschieden; allgemein ist das aufzuheizende Substrat 12 aus einem Glassubstrat hergestellt, während das Temperaturmesssubstrat 22 der vorliegenden Erfindung nicht auf rostfreien Stahl beschränkt ist und jegliches Metall anwendbar ist, wenn nur das Metall verursacht durch Belichtung sich weder verfärbt, um zu Heizen, noch die Emissionsfähigkeit variiert. Cu und Cu mit Ni-Überzug sind wünschenswert.
Vergleichsexperiment
Bei dem Vergleichsexperiment wurde eine Glasplatte als ein Temperaturmesssubstrat verwendet, und die gleichen Bedingungen wie diejenigen des oben erläuterten Experiments wurden verwendet mit Ausnahme für das Temperaturmesssubstrat und das Steuerprogramm.
Das Temperaturmesssubstrat und das aufzuheizende Substrat wurden als Glassubstrate erhitzt. Da die Temperatur des Temperaturmesssubstrats niedriger wird als die des aufzuheizenden Substrats, wurde gefordert, um die Temperatur des aufzuheizenden Substrats auf die Heiztemperatur (140°C) anzuheben, dass die Zieltemperatur, die das Temperaturmesssubstrat erreicht soll, niedriger eingestellt ist als die Aufheiztemperatur.
4 zeigt die Temperatur M₁ des Temperaturmesssubstrats, welches aus einem Glassubstrat hergestellt ist, und die Durchschnittstemperatur M₂ mehrerer Messpunkte auf dem aufzuheizenden Substrat, welches aus einem Glassubstrat hergestellt ist, unter der Bedingung, dass die Zieltemperatur des oben erläuterten Programms auf 40°C eingestellt wurde, und versucht wurde, dass das aufzuheizende Substrat auf die Aufheiztemperatur (140°C) aufgeheizt wird; die punktierte Linie B zeigt die eingestellte Zeit; und es gibt eine Entzweiung zwischen den Temperaturänderungen des zu behandelnden Glassubstrats und der Metalltemperatur.
5 zeigt die Temperatur N₁ des Temperaturmesssubstrats, welches aus einem Glassubstrat hergestellt ist, und die Durchschnittstemperatur N₂ des aufzuheizenden Substrats, welches aus einem Glassubstrat hergestellt ist, unter der Bedingung der Zieltemperatur des oben erläuterten Programms, welche auf 60°C eingestellt wurde, und versucht wurde, das aufzuheizende Substrat auf die Aufheiztemperatur (140°C) aufzuheizen; die punktierte Linie C zeigt die eingestellte Zeit; die Temperatur des aufzuheizenden Substrats übertrifft die Zieltemperatur.
Wie in 4 und 5 gezeigt entzweit sich, wenn die Temperatur des Temperaturmesssubstrats korrigiert wird, wenn die Temperatur des Temperaturmesssubstrats von der gesteuerten Temperaturkurve, die Temperatur des aufzuheizenden Substrats von der Temperatur, was eine große Änderung der Temperatur des behandelnden Substrats zur Folge hat, was es erschwert, zu steuern.
Da außerdem das Glas niedrigere thermische Leitfähigkeit als die von Metall zeigt, brauchte eine Abnahme bezüglich der Temperatur der erhitzten Glasplatte für die Temperaturmessung durch Wasserkühlung gewisse Zeit.
Das Vergleichsexperiment hat gezeigt, dass Metall für das Temperaturmesssubstrat wünschenswert ist.
Vorrichtung bei der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
Die Vorrichtung bei der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird unter Bezug auf 6 anschließend beschrieben.
In der Aufheizeinrichtung 2' der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung haben die Komponenten und Einrichtungen, welche die gleiche Strukturen und die gleiche Funktionen haben wie die bei der oben erläuterten ersten Ausführungsform, das gleiche Bezugszeichen entsprechend, um weitere Beschreibung wegzulassen.
Die Aufheizeinrichtung 2' hat eine Aufheizkammer 6', wobei die Strahlungsaufheizeinrichtung 14, welche horizontal in 1 angeordnet war, in einer stehenden Weise in der Aufheizkammer 2' angeordnet ist.
Die Heizkammer 6' besitzt eine Schieneneinrichtung 44 in einer langen und dünnen Form, welche an der Bodeninnenseite angeordnet ist, und eine obere Trageeinrichtung 45 in einer langen und dünnen Form ist in der Position unmittelbar über der Schieneneinrichtung 44 angeordnet.
Das aufzuheizende Substrat 12 ist durch einen Träger 41 gehalten und wird von der Einführkammer in die Aufheizkammer 6' befördert. Das Bodenteil des Trägers 41 ist auf der Schieneneinrichtung 44 angeordnet, wobei das obere Teil des Trägers 41 durch die obere Stützeinrichtung 45 gehalten oder gelagert wird, um somit zu verhindern, dass der Träger 41 abrutscht und umfällt. Bei dieser Ausführungsform ist die obere Lagereinrichtung 45 ein Magnet, welche magnetisch das obere Ende des Trägers 41 anzieht, um das obere Teil des Trägers 41 ohne Kontaktierung zu halten.
Zumindest eine Seitenfläche des aufzuheizenden Substrats 12 ist frei, und die frei gelegte Fläche ist in einer vertikalen Lage oder neigt sich mit einem Winkel innerhalb von 45° von der Vertikalen.
Die Schieneneinrichtung 44 ist mit einer Spannungsquelle versehen, so dass der Träger 41 und das aufzuheizende Substrat 12, welche durch den Träger 41 gehalten wird, sich auf der Schieneneinrichtung 44 bewegen, in einem Zustand, wo sie durch die Schieneneinrichtung 44 und die obere Lagereinrichtung 45 gehalten werden.
Innerhalb der Aufheizkammer 6' ist die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 so angeordnet, dass sie der Bewegungsroute des Trägers 41 zugewandt ist. Der Träger 41 kommt zu einem Stillstand in einer Position, wo das aufzuheizende Substrat 12, welches durch den Träger 41 gehalten wird, der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 zugewandt ist. Die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 wird mit Spannung von der Leistungsversorgungseinrichtung 25 versorgt, wobei die zugeführte Leistung durch die Steuereinrichtung 15 gesteuert wird, und erzeugt Hitze, um die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 durch Strahlungshitze anzuheben.
Das Temperaturmesssubstrat 22, welches über einem Bereich angeordnet ist, wo das aufzuheizende Substrat 12 und die Strahlungsaufheizeinrichtung 14 einander zugewandt ist, wird nach unten auf eine Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C durch die Kühleinrichtung 29 abgekühlt, wenn das Aufheizen des aufzuheizenden Substrats 12 begonnen wird; das aufzuheizende Substrat 12 wird in die Heizkammer 6' bei einer Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C befördert.
In der gleichen Weise wie beim oben erläuterten Experiment wird die Höhe der Hitzeerzeugung der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 durch die Steuereinrichtung 15 gesteuert; durch Messen der Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 hat die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 indirekte Messung zur Folge, so dass die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 durch Steuern der Höhe der Hitzeerzeugung der Strahlungsaufheizeinrichtung 14 auf Basis der Temperatur des Temperaturmesssubstrats 22 genau gesteuert werden kann.
Wenn die Temperatur des aufzuheizenden Substrats 12 auf die vorher bestimmte Temperatur angehoben ist, wird das aufzuheizende Substrat 12 innerhalb der Aufheizkammer 6' in die Behandlungskammer bewegt, das Kühlen des Temperaturmesssubstrats 22 wird durch die Kühleinrichtung 29 herunter auf eine Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C begonnen.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

JP 4071047 [0009]

Claims

Temperaturabtasteinrichtung, welche umfasst, in einer Vakuumkammer, innerhalb welcher Vakuumerhitzungsbehandlung zum Erhitzen eines zu erhitzenden Substrats mittels Bestrahlung stattfindet: ein Temperaturmesssubstrat; einen Zirkulationskanal, der in engem Kontakt mit dem Temperaturmesssubstrat so angeordnet ist, um zu veranlassen, dass ein Kühlmittel innerhalb des Zirkulationskanals fließt; und einen Temperatursensor, der am Temperaturmesssubstrat vorgesehen ist, um die Temperatur des Temperaturmesssubstrats zu messen, wobei die Temperaturabtasteinrichtung so ist, dass die Temperatur, wenn sie durch den Temperatursensor ausgegeben wird, erfasst wird, wenn das Temperaturmesssubstrat mit Infrarotstrahlen bestrahlt wird, und wobei das Temperaturmesssubstrat und das zu erhitzende Substrat aus unterschiedlichen Materialien hergestellt sind.
Temperaturabtasteinrichtung nach Anspruch 1, wobei das Temperaturmesssubstrat aus Metall hergestellt ist.
Temperaturabtasteinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Temperatursensor ein Temperaturmessteil ist, welches eine elektro-motorische Kraft für ein Thermoelement erzeugt.
Aufheizeinrichtung, welche umfasst: eine Vakuumkammer, innerhalb welcher Vakuumaufheizbehandlung zum Erhitzen eines zu erhitzenden Substrats mittels Strahlung stattfindet; eine Substrathalteeinrichtung zum Halten des Substrats, welches zu erhitzen ist, in der Vakuumkammer; eine Strahlungsaufheizeinrichtung, welche ahne Kontaktierung des aufzuheizenden Substrats in der Vakuumkammer angeordnet ist, um das aufzuheizende Substrat mit Infrarotstrahlen zu bestrahlen, wobei die Temperaturabtasteinrichtung nach Anspruch 1 in einer Position außerhalb eines Bereichs angeordnet ist, wo die Strahlungsaufheizeinrichtung und das aufzuheizende Substrat einander gegenüberliegen, und in einer Position, um die Infrarotstrahlen, mit den die Fläche des aufzuheizenden Substrats bestrahlt wird, nicht zu blockieren; eine Kühleinrichtung zum Liefern eines Kühlmittels, welches gekühlt wurde, zum Zirkulationskanal; eine Leistungsversorgungseinrichtung zum Anlegen von Leistung an die Strahlungsaufheizeinrichtung auf die Basis eines zugeführten Signals; und eine Steuereinrichtung, welcher ein Ausgangssignal der Temperaturabtasteinrichtung zugeführt wird, und welche ein Signal ausgibt, welche die Leistung, wenn sie der Strahlungsaufheizeinrichtung zugeführt wird, der Leistungsversorgungseinrichtung zeigt, wobei die Aufheizeinrichtung so konfiguriert ist, dass die Menge an Leistung, wenn diese an die Strahlungsaufheizeinrichtung angelegt wird, auf Basis der Temperatur des Temperaturmesssubstrats, welche durch das Ausgangssignal angezeigt wird, gesteuert wird.
Verfahren zum Aufheizen eines Substrats, während dem: ein aufzuheizendes Substrat in eine Vakuumkammer befördert wird; und eine Fläche des aufzuheizenden Substrats mit Infrarotstrahlen mittels einer Strahlungsaufheizeinrichtung bestrahlt wird, welche ohne Kontaktierung des aufzuheizenden Substrats in der Vakuumkammer angeordnet ist, um die Temperatur des aufzuheizenden Substrats anzuheben, wobei die Temperaturabtasteinrichtung nach Anspruch 1 in der Vakuumkammer angeordnet wurde, und wobei die Höhe an Emission von Infrarotstrahlen zur Strahlungsaufheizeinrichtung auf Basis der Temperatur des Temperaturmesssubstrats gesteuert wird, welche durch das Erfassungssignal angezeigt wird, welches durch die Temperaturabtasteinrichtung ausgegeben wird.
Verfahren zum Aufheizen eines Substrats nach Anspruch 4, wobei das aufzuheizende Substrat in die Vakuumkammer mit einer Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C befördert wird, wobei das Verfahren zum Aufheizen folgende Schritte umfasst: Durchlassen eines Kühlmittels, welches durch den Zirkulationskanal fließt, damit das Temperaturmesssubstrat eine Temperatur von zumindest 20°C und höchstens 30°C hat; und danach Starten des Aufheizens des aufzuheizenden Substrats und des Temperaturmesssubstrats mittels der Strahlungsaufheizeinrichtung.