DE2429683A1 - Verfahren zur entwicklung eines belichteten trockenfilms und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents
Verfahren zur entwicklung eines belichteten trockenfilms und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrensInfo
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Description
Vorfahren zur Entwicklung eines belichteten Trockenfilms
und .Vorrichtung, zur Durchführung des Verfahrens.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung eines belichteten Trockenfilms mit einer durch Wärme
entwickelbaren Emulsion, die sich auf einem Trägermaterial
befindet.
Weiterhin betrifft die Erfindung eine Entwicklungsvorrichtung
zur Verarbeitung von belichtetem Trockenfilm mit einer durch Wärme entwickelbaren Emulsion,
die sich auf einem Trägermaterial befindet.
Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren und
eine Vorrichtung zur Verarbeitung eines wärmeempfindlichen
Films.
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In den letzten Jahren ist ein neuer Typ eines durch Wärme verarbeitbaren Films entwickelt worden, bei
dem die auf dem Film aufgezeichneten Bilder entwickelt und fixiert werden können, indem der Film auf oder über
seine Schwellentemperatur erwärmt und dann auf Umgebungstemperatur abgekühlt wird. Dieser Film wird im
allgemeinen als » Trockenfilm " ( " dry film " )
bezeichnet; ein solcher Film wird beispielsweise von der Minnesota,Mining and Manufacturing Company von
St. Paul, Minnesota hergestellt und besteht aus einer trockenen Silberhalogenid - Emulsion, die sich auf
einer Polymer-Trägeroberfläche befindet. Weitere Informationen
über· diesen Trockenfilm können der US-PS 3 ^57 o75 entnommen werden.
Die Verwendung dieses Trockenfilms , insbesondere in automatischen Verarbeitungsgeräten , erfolgte bisher
jedoch nur im beschränkten Umfang, und zwar im wesentlichen wegen der Probleme, die sich auf den Wärmeentwicklungsprozeß
beziehen. Das zuverlässigste herkömmliche System zur Entwicklung dieses Films besteht
darin, den Film mit den aufgezeichneten Bildern durch ein erwärmtes Bad einer nichtbenetzenden Flüssigkeit
zu ziehen, wobei die Entwicklung erfolgt. Dieses eine Flüssigkeit verwendende System hat jedoch alle die
Nachteile, die auch bei einem Verarbeitungssystem für naße Filme * also für Filme, die mit flüssigen
Chemikalien entwickelt werden, auftreten; dies gilt insbesondere dann, wenn die Entwicklung in einem
automatischen Gerät durchgeführt werden soll; deshalb müssen viele der Vorteile wieder aufgegeben werden,
die mit dem Einsatz eines Trockenverfahrens an sich verbunden sind. Weiterhin sind andere, keine Flüssig-
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keit verwendende Erwärraungssysteme , einschließlich
heißen Walzen bzw. Abdeckungen, Strahlungsöfen und
ähnlichen Vorrichtungen, mit unterschiedlichem Erfolg bei der Verarbeitung von Trockenfilm eingesetzt worden;
diese Systeme waren jedoch alle mit Nachteilen verbunden, die insbesondere davon herrühren, daß eine '
gleichmässige Entwicklung sehr oft nur mit Schwierigkeiten bzw· garnicht zu erreichen bzw. beizubehalten
war.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, die Verarbeitung von Trockenfilm zu verbessern.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß bei einem Verfahren der angegebenen Gattung dadurch gelöst, daß die Trägerseite
des Films in Kontakt mit einer ersten Oberfläche angeordnet wird, daß eine zweite Oberfläche in die
Nähe der belichteten Schichtseite des Films gebracht
wird, diese jedoch nicht berührt, und daß die beiden
Oberflächen auf die gleiche Temperatur erwärmt werden, die gleich der Entwicklungsschwellentemperatür des Films
ist oder über ihr liegt.
Weiterhin wird diese Aufgabe erfindungsgemäO bei
einer Entwicklungsvorrichtung der angegebenen Gattung gelöst durch einen im wesentlichen geschlossenen,
den zu entwickelnden, belichteten Film umgebenden Hohlraum, der von zwei Platten gebildet wird, die sich in
einem Abstand voneinander befinden, der größer als die Dicke des Films ist, durch eine Einrichtung,die
die nichtbeschichtete Seite des Films im Kontakt mit einer der Platten hält, wobei die Schichtseite
des Films üie andere Platte nicht berührt, und durch
eine Anordnung, um die beiden Platten gleichmässig auf
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die gleiche Temperatur zu erwärmen, wobei diese Temperatur gleich der Entwicklungsschwellentemperatur
des Films ist oder über ihr liegt·
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile liegen insbesondere darin, daß eine adiabatische Erwärmung
erfolgt, wobei einander ergänzende Oberflächen auf zwei Blöcken oder Platten nahe beieinander angeordnet
werden, so daß ein relativ geschlossener Hohlraum entsteht, in dem der Trockenfilm verarbeitet
wird. Die nichtbeschichtete Seite des Films, auf der sich keine Emulsion befindet, wird in direkten
Kontakt mit einer der Oberflächen der Platten gebracht, die den Hohlraum bilden, während die belichtete,
das Bild tragende , mit der Emulsion beschichtete Seite des Films nahe bei der anderen
Oberfläche, die für den Aufbau des Hohlraums dient, gehalten wird, diese jedoch nicht berührt. Die beiden
Platten werden dann auf die gleiche, gleichmässige Temperatur erwärmt, die nach einer bevorzugten Ausführungsform
etwas über der Entwicklungsschwellentemperatur des Films liegt; der Film wird in dem
Hohlraum während einer Zeitspanne gehalten, die ausreicht, um die darauf aufgezeichneten Bilder zu entwickeln.
Der Film wird anschliessend dem Hohlraum entnommen und zur Durchführung der Fixierung auf
Umgebungstemperatur abgekühlt.
Damit ergeben sich also ein Verfahren der angegebenen »Gattung sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens, die zur automatischen Verarbeitung von Trockenfilm geeignet sind. Weiterhin wird die Gleichmässigkeit
der Entwicklung bei der trockenen Verarbeitung eines zur Bildaufzeichnung dienenden Mediums
erhöht.
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Die Erfindung wird im folgenden anhand eines bevorzugten
Ausführungsbeispiels im Detail unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung näher erläutert,
wobei die Zeichnung eine perspektivische Ansicht eines adiabatischen Erwärmungshohlraums darstellt, der die
wesentlichen Merkmale der vorliegenden Erfindung verkörpert. :.".'.'
wie sich beispielsweise durch die US-PS 3 608 466
ergibt, wird bei den meisten thermischen Systemen zur Verarbeitung von Trockenfilra,die zur Zeit in
Gebrauch sind, ein Übertragungsmechanismus bei der Wärmeleitung verwendet, bei dem der belichtete Film
in engem Kontakt mit der Oberfläche einer erwärmten Abdeckung gehalten wird. Wie in der oben erwähnten
Patentschrift erläutert wird, befindet sich eine Seite des Films im engen körperlichen Eontakt
mit der.erwärmten Oberfläche der Abdeckung, so daß die Wärmeenergie durch den Film geführt und zu einer
Wärmesenke abgegeben wird, die auf der gegenüberliegenden Seite des Films angeordnet ist. Die Wärmesenke
kann jede beliebige Form haben, so daß also z.B. ein isolierendes Rückenteil, aber auch die Umgebungsatmosphäre
hierzu verwendet werden können. Dabei kann jedoch der zwischen den isothermalen
Grenzflächen des Systems aufgebaxite Wärmefluß
durch viele verschiedene, nicht steuerbare Parameter bzw. Variablen beeinflusst werden, die bei der Entwicklung
zu unerwünschten Ergebnissen führen. Wird 'z.B. ein kleines Teilchen als Fremdkörper , wie z.B.
zufällig vorhandener Schmutz oder Staub, auf der
Oberfläche der Abdeckung abgelagert, so hat diese Verunreinigung die Wirkung, daß der Verlauf des
Wärmeflusses in einem bestimmten, fixierten Bereich umgeformt oder auf andere Weise beeinflusst ist,so
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daß sich innerhalb der verschmutzten Bereiche wiederum eine ungleichmässige Entwicklung ergibt. Diese Art von
Mangel bei der Entwicklung zeigt sich im allgemeinen als " Hof " oder " Halo ", der auf dem zu verarbeitenden
Film aufgezeichnet ist. In ähnlicher Weise werden irgendwelche Änderungen in den Wärmeübertragungseigenschaften
der Wärmesenke oder des Rückenteils, die z.B. durch Konvektion oder ähnliche Einflüsse verursacht
werden, eine Auswirkung auf die Geometrie der Wärmeübertragung des Systems haben und zu einer ungleichmassigen
Entwicklung führen.
Bisher wurden die meisten Entwicklungen, die sich mit einer Verbesserung des Entwicklungssystems der angegebenen
Art befassten, nur darauf gerichtet, bei der Verarbeitung einen besseren Kontakt zwischen der erwärmten
Oberfläche der Abdeckung und dem belichteten Film herzustellen.
Die vorliegende Erfindung geht ebenfalls von dem Grundprinzip der Erwärmung eines bestimmten Teils
zur Durchführung der Entwicklung aus, stellt jedoch eine grundsätzliche. Abkehr von den herkömmlichen
Verfahren dar, die bisher zur Erreichung einer gleichförmigen Entwicklung verwendet werden. Die vorliegende
Erfindung baut auf einem Leitungsmechanismus im Übergangsstadium, d.h., wenn ein Film auf die
Verarbeitungstemperatur erwärmt wird, und einen adiabatischen Zustand ( Netto-Warnefluß durch den
Film = 0 ) im Gleichgewicht auf. Durch die Verwendung des adiabatischen Systems im Zusammenwirken mit den
erwärmten Teilen ergibt sich eine äusserst rasche,
wirksame und gleichmässige Erwärmung des belichteten Films. Durch die Kombination dieser beiden Merkmale
kann ein Entwicklungssystem konstruiert werden, das
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sehr viel-mehr Möglichkeiten und Anwendungsfälle
bietet als die bisher bekannten und verwendeten Verfahren. Weiterhin ist bei dem vorliegenden System
nicht erforderlich, daß ein vollständiger, enger Kontakt zwischen dem Film und der Abdeckung beibehalten
wird, so .daß auch ein normales Maß an Verunreinigungen
innerhalb des Entwicklungsbereichs toleriert werden kann, ohne daß dadurch die Gleichmässigkeit
der Entwicklung nachteilig beeinflusst wird; es ergeben sich also auch in diesem Falle
immer gleichmässig entwickelte Bilder.'
Die Erfindung schafft ein ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Verarbeitung von Trockenfilm. Die
nicht mit der Emulsion beschichtete Seite des Films wird in Kontakt mit einer Plattenoberfläche gebracht,
die sich auf oder über den Entwicklungsschwellenpotential
des Films befindet. Eine zweite, erwärmte Plattenoberfläche, die die gleiche Temperatur wie
die erste Plattenoberfläche hat, wird nahe bei der belichteten, mit der Emulsion beschichteten Seite
des Films angeordnet, wobei sie diese jedoch nicht berührt; dadurch wird der Film während der Verar-
-beitung unter, adiabatischen Bedingungen erwärmt. Anschliessend wird der Film aus dem Entwicklungsbereich entfernt und kann sich an Luft abkühlen.
Gemäß der beiliegenden Zeichnung ist eine Entwicklungsstation
10 gemäß der vorliegenden Erfindung aus zwei vertikal im Abstand zueinander angeordneten
Blöcken oder Platten 12 und 13 aufgebaut, die nach einer bevorzugten Ausführungsform aus
einem Material mit hohem V7ärme leit f ähigkeit s- Koeffizienten bestehen. In der Praxis können die
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Platten aus Aluminium, Kupfer oder irgendeinem anderen geeigneten Material hergestellt werden, das die oben
erwähnten Eigenschaften hat. Die obere Platte 12 ist mit einer im allgemeinen konvex-geformten Arbeitsoberfläche l4 versehen, die mit der Rückseite oder
der Seite des Films in Berührung kommt, auf der sich keine Emulsion befindet. Die untere Platte 13 ist auf
ähnliche Weise mit einer konkaven Arbeitsoberfläche versehen, die der Arbeitsoberfläche auf der oberen
Platte entspricht und sie ergänzt. Beim Zusammenbau werden die Platten so angebracht, daß sich die beiden
wirksamen oder Arbeitsoberflächen in der Nähe voneinander, aber nicht in Berührung miteinander befinden, so daß
sich zwischen ihnen ein horizontal verlaufender Hohl raum 17 ergibt, der eine Art Entwicklungskammer des
Systems bildet.
Auf der äusseren Oberfläche jeder Platte, d.h. auf der Oberfläche , die der wirksamen oder Arbeitsoberflache
gegenüberliegt, ist eine aus einer Folie oder einem Blatt bestehende Heizdecke 20 angeordnet, die
die Wärmeenergie für das System liefert. Beide Decken sind aus einem bandartigen Widerstandsheizelement 21
gebildet, das nach einer bevorzugten Ausführungsform
zwischen zwei relativ dünne Blätter oder Platten aus einem elektrisch isolierenden Kunststoff ■- Material
22 eingeschoben und so schichtweise über einander angeordnet ist. Heizdecken mit einem
ähnlichen Aufbau, wie er hier beschrieben wird, können von einer Anzahl von Lieferanten, wie z.B. der
Rodger 1S Corp. in Willimantic,Conn. bezogen werden.
Als Alternative hierzu kann das bandartige Heizelement direkt mit der äusseren Oberfläche der beiden
Platten unmittelbar über dem Entwicklungshohlraum
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'verbunden* z.B. verklebt werden, wobei ein isolierendes
Material direkt über dem Heizelement angeordnet wird.
Die als Anschluß dienenden Enden einer jeden Decke werden über Leitungen 27 und 28 zu zwei einstellbaren
Energiequellen geführt, und zwar einer Energiequelle 29 für die obere Heizdecke und einer Energiequelle 30
für die untere Heizdecke; diese Energiequellen liefern
die Eingangsenergie für die Heizeinrichtungen. Aufgrund der hohen Wärmeleitfähigkeit der Platten
wird die den Heizeinrichtungen zugeführte Energie schnell und mit hohem Wirkungsgrad durch die Platten
weitergegeben, so daß die wirksamen oder Arbeitsoberflächen
ik und 15 der Platten auf eine vorher bestimmte
Betriebstemperatur gebracht werden, d.h. also, auf die Temperatur, die bei oder über der Schwellentemperatur
für die Entwicklung des zu verarbeitenden Films liegt.
Um eine wirklich gleichförmige Entwicklung von Bildern mit hoher Dichte zu erhalten, ist es äusserst wichtig,
daß die wirksamen Oberflächen der beiden Platten, die den Entwicklungshohlraum bilden, auf der gleichen Temperatur
gehalten werden. Ein Paar von Temperaturfühlern 32und 33 sind in die beiden Platten eingebettet, wobei
die Fühlelemente so angeordnet sind, daß sie die Temperatur der Platten nahe bei ihren Arbeitsoberflächen
feststellen können. Die beiden Fühler sind elektrisch über Leitungen 36 und 37 niit einer Vergleicherschaltung
35 verbunden, die jede Abweichung zwischen der gemes- ■
senen Temperatur und der gewünschten Entwicklungsteinpearatur
ermitteln !sann· Stellt die Vergleicherschaltung fest, daß die Temperatur einer Platte unter
die gewünschte Betriebstemperatur gefallen oder über
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sie angestiegen ist, so erzeugt die Vergleicherschaltung
ein Korrektursignal, das über Leitungen kO oder kl auf die entsprechende Energiequelle gegeben
wird. In Abhängigkeit von dem Korrektursignal wird die Ausgangsleistung der entsprechenden Energiequelle
so eingeregelt, daß das System in seinem optimalen Betriebszustand zurückgebracht wird.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung soll eine Reihe von Aufnahmen, die auf einer Bahn k$ gespeichert sind, verarbeitet werden.
Selbstverständlich ist jedoch die vorliegende Erfindung nicht auf diese Ausführungsform beschränkt, so daß mit
dem hier beschriebenen Entwicklungssystem auch geschnittene Filmstreifen verarbeitet werden können«
Die zu verarbeitende Bahn besteht aus einer Reihe von belichteten Einzelbildern 50, die die Eingangsinformationen
in Form von Aufnahmen von Gegenständen oder Außenszenen enthalten, die auf der Emulsions-oder
Schichtseite des Films aufgezeichnet sind; die Einzelbilder sind durch einen Streifen 51 vait unbelichteten!
Film voneinander getrennt. Die Bahn wird auf einer Abwickelspule 52 getragen , mit der Schichtseite nach
unten durch den Entwicklungshohlraum geführt und an einer Aufwickelspule 53 angebracht. Obwohl es in der
Zeichnung nicht dargestellt ist, ist mit der Aufwickel-' spule eine Antriebseinrichtung betrxebsmässig verbunden,
die sich jeweils schrittweise weiterschalten läßt. Dadurch kann auf Wunsch die Bahn jeweils immer von einem
Einzelbild zum nächsten vorwärtsbewegt werden. Die Entwicklungsstation 10 ist in Bezug auf die Aufwickelspule
so angeordnet, daß das auf der Bahn aufgezeichnete Einzelbild jedes Mal dann in dem Entwicklungshohlraum
zentriert ist, wenn die Bahn so um einen Schritt vorwärts beiregt wird. Eine die Bahn spannende oder straf-
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-Ii-
fende Einrichtung, -wie z.B. eine Spannrolle 561
ist vorgesehen, um eine Spannung in vorher bestimmter
Höhe auf die Bahn auszuüben, -wenn sie in dem Entwicklung sb er eich verarbeitet wird.
Um die räumliche Anordnung der belichteten Einzelbilder
in- dem Entwicklungshohlraum zu erleichtern, sind die beiden adiabatischen Heizplatten so angeordnet
, daß sie sich vertikal zwischen einer Betriebs- oder Entwicklungs stellung und einer zweiten, offenen
Stellung hin- und her bewegen !können, wobei' in der offenen Stellung ein größerer Abstand zwischen den
beiden Platten besteht· Vor der schrittweisen Weiterbewegung eines jeden Einzelbildes in den EntwicklungshohlraUm
werden die Platten in die offene Stellung gebracht. Sobald die Bahn schrittweise vorwärtsbewegt
worden ist, wird der Hohlraum geschlossen, wodurch die obere Arbeitsoberfläche der Platte 12 in Druckkontakt
mit der nichtbeschichteten Seite oder der Trageroberfläche des Films gebracht wird. Der Abstand
zwischen den beiden wirksamen Oberflächen der Platten, wenn die Platten geschlossen oder in Betriebsstellung
sind, ist so ausgelegt, daß sich die Arbeitsoberfläche der unteren Platte relativ nahe
bei der belichteten Schichtseite des Films befindet,
jedoch nicht mit ihr in Berührung steht. Da es sich
bei der hier verwendeten Wärmeerzeugung um einen adiabatischen Vorgang handelt, stellt der Abstand
zwischen den beiden wirksamen Oberflächen der Platten keine kritische Größe dar; nach einer bevorzugten
Ausführungsform sollte jedoch dieser Abstand, quer
bzw. über dem Hohlraum gemessen, ungefähr zwischen
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2 1/2 und 5 nial so groß sein wie die Dicke des
zu verarbeitenden Films. Die Größe des -Hohlraums sollte jedoch im Betriebs- oder Entwicklungszustand
klein genug sein, um während der Verarbeitung des Films die Einführung von unerwünschten konvektiven
Luftströmungen durch den Entwicklungsbereich zu verhindern.
Ein hydraulisch betätigter He"bemechanismus ist vorgesehen,
um die Bewegung der Platten in vertikaler Richtung zu erleichtern. An den äussercn Enden jeder
Platte sind Endblöcke 60 angebracht, die aus einem Phenol-Material oder irgendeinem anderen geeigneten
Material bestehen,das gute Wärnieisolation-Eigenschaften
hat$ an diesen Endblöcken ist ein Paar von hydraulischen
.Hebezylindern 6l; 67 befestigt. Die phenolischen Endblöcke dienen als Trägeroberflache, gegen
die die hydraulischen Zylinder wirken; weiterhin schaffen sie eine wärtneisolierende Schranke, so daß
die Wärmeenergie innerhalb der Grenzen des Entwicklungssystems gehalten wird. Obwohl sie nicht dargestellt
sind, können ähnliche Warmes ehr anlcen ebenfalls
längs der Seitenwände der Platte angeordnet wei-den, um die unerwünschten Wärmevex-luste des Systems noch
weiter zu verringern. Die gegenüberliegenden Enden der Hydraulik-Zylinder sind an einer Befestigungsplatte
63 angebracht, die, z.B. durch Schweißen, mit einem Tragrahmen ( nicht dargestellt ) verbunden
ist. Ein in jedem Zylinder angeordneter Kolben kann 'hydraulisch zwischen zwei Extrem-Positionen hin und
herbewegt werden, so daß sich wiederum die Platten in der Richtung hin- und herbewegen können,
die"zwischen einer vollständig offenen und einer vollständig geschlossenen Position angezeigt ist.
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Das hydraulische Steuersystem kann durch irgendeine
geeignete, herkömmliche Einrichtung betriebsmässig mit dem Mechanismus für die schx-ittweise Weiterschaltung
der Bahn verbunden werden, um automatisch das Öffnen und Schliessen des Entwicklungshohlraums
mit der Bewegung der belichteten Einzelbilder in den Entwicklungsbereich und aus ihm heraus zu koordinieren.
Ein Silberhalogenid-Trockenfilm, der dem in der oben erwähnten US-PS 3 457 o75 beschriebenen ähnelt, wurde
unter Verwendung der hier erläuterten Vorrichtung verarbeitet, wobei sich immer gleichtnässig entwickelte
Bilder ergaben· Die verarbeiteten Filme hatten im wesentlichen Querschnitts-Abmessungen von ungefähr
0,10l6 mm ( 0,00 k Zoll ) und eine Schwellentecrperatur
für die Sehne11entwicklung von ungefähr 107,2 C
( 225 **-■)· Der Film wurde in einem Hohlraum verarbeitet,
der zwischen den Arbeitsoberflächen von zwei erwärmten Platten ausgebildet war, die in einem
Abstand von zwischen 0,25*t mm ( 0,01 Zoll ) und 0,508 mm
( 0,020 Zoll ) voneinander gehalten wurden. Die nichtbeschichtete Seite des Films, auf der sich keine Emulsion
befand, wurde gegen die konvexe wirksame Oberfläche einer der Platten mit einer Spannung gehalten,
die zwischen 0,9 kg ( 2 pounds ) und 1,8 kg ( k pounds )
lag. Die Platten wurden auf die oben beschriebene Weise
erwärmt, wodurch die wirksamen Oberflächen der Platten gleichförmig auf eine Temperatur gebracht wurden, die
ungefähr 33,3° C ( 60° F ) über der Entwicklungsschwellentemperatur des Films lag. Der belichtete
Film wurde 6 bis 10 Sekunden lang in dem Hohlraum gehalten und dann an Luft gekühlt. Gleichförmig entwickelte
Bilder mit einem Dichte- oder Densxtäts-Bereich von 1,6 und 1,8 wurden wiederholt verarbeitet.
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Obwohl die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf den hier beschriebenen Aufbau erläutert wurde,
ist sie nicht auf die zusammengestellten spezifischen Einzelheiten beschränkt, so daß die vorliegende Anmeldung
alle Modifikationen oder Veränderungen umfassen soll, die im Bereich der nun folgenden Ansprüche
liegen.
-· Patentansprüche —
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Claims (11)
- Pat entansprüche(!.,/Verfahren zur Entwicklung eines belichteten Trockenfilms mit einer durch Wärme entwickelbaren Emulsion, die.sich auf einem Trägermaterial befindet, d a d u r ch gekennzeichne t, daß die Trägerseite des Films im Kontakt mit einer ersten Oberfläche ( l4, 15 ) angeordnet wird, daß eine zweite Oberfläche ( Ik1 15 ) in die Nähe der belichteten Schichtseite des Films gebracht wird, diese jedoch nicht berührt, und daß die beiden Oberflächen ( l4, 15 ) auf die gleiche Temperatur erwärmt werden, die gleich der Entwicklungsschwellentetaperatür des Filras ist oder über ihr liegt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß zur Optimierung der Entwicklung der Film während einer bestimmten Zeitspanne zwischen den erwärmten Oberflächen ( 14, 15 ) gehalten wird.
- 3· Verfahren nach einem der Ansprüche' 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Film nach der Entwicklung an Luft gekühlt wird.
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3 t dadurch gekennzeichnet , daß die Oberflächen ( l4, 15 ) auf eine Temperatur erwärmt werden, die ungefähr 33,3° C ( 60° F ) über der Entwicklungsschwellentemperatur des Films lieKt. .409885/0876
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die nichtbeschichtete Seite des Films gegen die erste Oberfläche ( l4, 15 ) gespannt wird.
- 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Oberflächen ( l4, 15 ) in einem Abstand zueinander angeordnet sind, der ungefähr 2 1/2 bis 5 mal so groß wie die Dicke des Films ist.
- 7- Entwicklungsvorrichtung zur Verarbeitung von belichtetem Trockenfilm mit einer durch Wärme entwickelbaren Emulsion, die sich auf einem Trägermaterial befindet, gekennzei chnet durch einen im wesentlichen geschlossenen, den zu entwickelnden, belichteten Film umgebenden Hohlraum ( 17 ), der von zwei Platten( 12, 13 ) gebildet wird, die sich in einem Abstand voneinander befinden, der größer als die Dicke des Films ist, durch eine Einrichtung, die die nichtbeschichtete Seite des Films im Kontakt mit einer der Platten ( 12, 13 ) hält, wobei die Schichtseite des Films die andere Platte ( 12, 13 ) nicht berührt, und durch eine Anordnung, um die beiden Platten ( 12, 13 ) gleichtnässig auf die gleiche Temperatur zu erwärmen, wobei diese Temperatur gleich der Entwicklungsschwelleiitemperatur des Films ist oder über ihr liegt.
- 8. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet , daß jede Platte ( 12, 13 ) ein Material mit einem relativ hohen Wärmeleitfähigkeits-Koeffizient und mit einer zugehörigen Heizeinrichtung zur Erwärmung der Platte ( 12, 13 ) auf eine gleichmüssigo Temperatur aufweist.409885/0876
- 9· Entwicklungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 7 oder 8, d a d u r c h g e k e η η ζ e i c h η e t , daß die den Hohlraum ( 17 ) bildenden Oberflächen ( l4, 15 ) der Platten ( 12, 13 ) im wesentlichen Bogenform-haben und einander entsprechen bzw. ergänzen.
- 10. Entwicklungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9,dadurch gekennzeichn e t , daß eine weitere Einrichtung vorgesehen ist, die die Platten ( 12, 13 ) aus einer Entwicklungsstellung in eine zweite, offene Stellung bevregt, in der sie einen größeren Abstand voneinander haben.
- 11. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 10, d a du r ch g e k e η η ζ e i c h η e t , daß eine weitere Einrichtung vorgesehen ist, die den Film automatisch in den Hohlraum ( 17 ) bringt, wenn die Platten ( 12, 13 ) in die offene Stellung bewegt werden, und die die nichtbeschichtete Seite des Films im Kontakt damit an einer der.Platten ( 12, 13 ) haltert, wenn sich die Platten ( 12, 13 ) in der geschlossenen Position befinden.409885/08 7 6J«Leerseite
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