DE1119357B - Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial

Info

Publication number
DE1119357B
DE1119357B DEE12024A DEE0012024A DE1119357B DE 1119357 B DE1119357 B DE 1119357B DE E12024 A DEE12024 A DE E12024A DE E0012024 A DEE0012024 A DE E0012024A DE 1119357 B DE1119357 B DE 1119357B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
metal
cover
filler
layer
carrier material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEE12024A
Other languages
English (en)
Inventor
Jean Leon Van Cakenberghe
Jean-Marie Gilles
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Union Carbide Corp
Original Assignee
Union Carbide Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Priority to DEE12024A priority Critical patent/DE1119357B/de
Publication of DE1119357B publication Critical patent/DE1119357B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors

Description

  • Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden" lichtdurchlässigen Schicht auf einem beliebigen Trägermaterial Ziel der Erfindung ist die Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlässigen Schicht auf einem beliebigen Trägermaterial. Die Schichten sollen elektrische Ströme von beträchtlicher Größe über längere Zeiträume führen und die damit verbundene Erwärmung ertragen können, ohne hierbei ihre vorteilhaften Eigenschaften zu verlieren; sie sollen ferner einen vorzüglichen mechanischen und chemischen Widerstand besitzen und sich auf das Trägerniaterial aufbringen lassen, ohne daß dieses erhitzt werden muß und ohne daß während des Aufbringens irgendwelche wesentlichen Änderungen in der chemischen Zusammensetzung und physikalischen Beschaffenheit der Oberfläche des Trägerinaterials eintreten.
  • Zur Herstellung von durchsichtigen, elektrisch leitenden Schichten auf einem Trägerinaterial sind bereits verschiedene Verfahren bekanntgeworden.
  • Es ist vorgeschlagen worden, einen Trägerkörper mit einem außerordentlich dünnen MetaRüberzug, vorzugsweise mittels Aufdämpfung des Metalls im Vakuum, zu versehen. Obgleich sich überzüge mit verhältnismäßig guter Leitfähigkeit in dieser Weise zubereiten lassen, ist das Verfahren in der Praxis etwas unbefriedigend, weil der MetaRüberzug nicht mit der gewünschten Festigkeit an dem Trägerkörper anhaftet und mit dem Finger abgewischt werden kann.
  • Eine erhöhte Haftfähigkeit des Metalls an dem Trägerkörper konnte man dadurch erreichen, daß zwischen den Träger und den Metallüberzug eine sehr dünne, durchsichtige Schicht eines Metalloxyds oder anderer als Haftschicht wirkender Verbindungen gelegt wurde. Hierbei ließ sich bisher aber ebenfalls eine Erhitzung des Trägermaterials nicht vermeiden. Außerdem wirkt die Haftschicht als zumindest hochohmige Sperrschicht zwischen Metall und Trägeroberfläche, so daß diese Methode bei der Herstellung von durchsichtigen Elektroden, beispielsweise auf fotokonduktiven oder fotogalvanischen Zellen, gar nicht verwendet werden konnte.
  • Es ist auch vorgeschlagen worden, eine aus einer Chrom-Nickel- oder einer Kupfer-Nickel-Legierung gebildete dünne metallische Schicht auf einen dielektrischen Träger aufzudampfen und einen Schutzüberzug aus Quarz oder Magnesiumfluorid auf diese Legierungsschicht aufzubringen. Gegenstand dieses Verfahrens war die Verineidung des Gebrauchs von Edelmetallen zur Bildung der Schicht, da der Widerstand einer solchen Edelmetallschicht unstabil und ihr Anhaften an dem Träger unbefriedigend ist. Aber ein hohes Maß Lichtdurchlässigkeit im Verein mit einer guten Leitfähigkeit macht die Verwendung von Gold- oder Silberschichten äußerst erstrebenswert. Darüber hinaus verbessert ein Quarz- oder Magnesiumfluorid-Schutzüberzug, obwohl er der Legierungsschicht mechanische Festigkeit verleiht, nicht die elektrische Leitfähigkeit derselben.
  • Weiter ' ist es bekannt, zur Herstellung einer elektrisch leitenden, durchsichtigen Schicht auf ein Trägermaterial zunächst eine Haftschicht, beispielsweise aus einem Metalloxyd, anschließend eine Metallschicht und darüber eine Schutz- und Deckschicht, beispielsweise wiederum aus einem Metalloxyd, aufzubringen. Abgesehen davon, daß die bekannten Verfahren eine Wärinebehandlung erfordern, was eine ganze Reihe z. B. sehr wärmeempfindlicher Trägermaterialien von vornherein von der Anwendung ausschloß, bedingt eine dreifache Schichtung, schwierigere und längere Herstellung und höhere Kosten sowie z. B. noch eine stärkere Absorption mit sich als eine zweifache Schichtun-. Darüber hinaus besteht auch hier der Nachteil, daß eine unmittelbare Berührung der elektrisch leitenden Schicht mit dem Trägermaterial nicht besteht, so daß z. B. praktisch brauchbare Elektroden für Fotozellen auf diese Weise nicht herstellbar sind.
  • Alle den genannten verschiedenen Verfahren und den hierbei hergestellten Schichten anhaftenden Nachteile werden bei einem Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlässigen Schicht auf einem beliebigen Trägermaterial durch Aufdampfen eines Metalls und anschließendem Aufdampfen einer Schutzschicht dadurch vermieden, daß gemäß der Erfindung das Metall in an sich bekannter Weise im Vakuum in Form einer netzartigen Schicht aus feinsten Teilchen, vorzugsweise unter 1000 A, aufgedampft und daß danach auf diese Netzgitter sowie durch dessen Zwischenräume bis zum Trägermaterial hindurchgreifend, ein gut haftender, elektrisch leitender Deck- und Füllstoff aufgebracht wird.
  • Die zuerst aufgebrachten feinsten Teilchen bilden eine elektrisch leitende Brücke quer über den und in Kontakt mit dem Träger. Je kleiner die Teilchen sind, um so enger vermascht ist das die Brücke bildende Netz und um so besser die Leitfähigkeit dieser zuerst aufgebrachten Netzschicht. Der anschließend auf das Netzgitter des elektrisch leitenden Stoffes aufgetragene Deck- und Füllstoff greift durch die Zwischenräume des Netzgitters hindurch und klammert sich am Trägermaterial an. Hierdurch wird das Netzgitter in seiner Lage fLxiert. Zugleich erhält es damit eine Schutzschicht gegen mechanische und chemische Einflüsse. Die mechanische Festigkeit einer so hergestellten kombinierten Schichtung kann bei Wahl entsprechender Materialien beispielsweise so groß sein, daß ein Ritzen mit dem Fingernagel keine Spuren hinterläßt. Der Deck- und Füllstoff gemäß der Erfindung verändert das elektrische Verhalten des Netzgitters nicht nachteilig; ist er ebenfalls elektrisch leitend, so verbessert er sogar die Gesamtleitfähigkeit der Schichtung.
  • Das Netzgitter besitzt wegen seiner zwischen den Maschen befindlichen Zwischenräume eine sehr gute Lichtdurchlässigkeit. Sollten gleichwohl einmal größere Diffusionseffekte auftreten, welche die Lichtdurchlässigkeit vermindern, so wird, wie weiter gefunden wurde, diese Beeinträchtigung praktisch völlig vermieden, wenn der Brechungsindex des Deck- und Füllstoffes wenigstens angenähert demjenigen der Teilchen der netzartigen Schicht entspricht.
  • Es ist zwar eine bekannte physikalische Tatsache, daß, wenn von zwei Stoffen mit gleichem Brechungsindex (z. B. Glas und Benzin) der eine in den anderen eingebettet wird, er nicht mehr wahrgenommen wird, weil an der Berührungsoberfläche beider Stoffe keine Strahlen rellektiert werden (Christiansen - Filter-Effekt).
  • Die nach der vorliegenden Erfindung erfolgende Ausnutzung dieses Effektes zur Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit dünner elektrisch leitender Schichten erfordert aber eine bisher noch nicht erkannte. Modifikation, weil sich der Brechungsindex von feinsten Teilchen, deren Abmessungen unterhalb der Wellenlänge des Lichtes liegen, in Abhängigkeit von der Teilchengröße ändert. Aus diesem Grunde soll der Brechungsindex des Deck- und Füllstoffes nicht nach dem Brechungsindex des elektrisch leitenden Stoffes an sich, sondern nach dem Brechungsindex der feinsten Teilchen dieses elektrisch leitenden Stoffes gewählt werden.
  • Zur Unterdrückung der Reflexion an der Ober-' fläche einer Schicht, z. B. aus Metall, wurde bisher schon eine reflexionsmindernde Deckschicht aufgebracht in einer Dicke, die ein ungerades Vielfaches von A14 beträgt, wobei optimale Ergebnisse erzielt werden, wenn die Brechungsindizes des unteren und des Deckschichtmaterials in einer Wurzelbeziehung zueinander stehen.
  • Wie des weiteren gefunden wurde, kann dieser Effekt auch bei der neuen Schicht zusätzlich noch erzielt werden, wenn der Deck- und Füllstoffschicht eine entsprechende Dicke gegeben wird. Allerdings wird es nur in Ausnahmefällen möglich sein, die Brechungsindizes so zu wählen, daß gleichzeitig sowohl das Optimum des Christiansen-Effektes als auch das Reflexionsminimum erzielt werden.
  • Je kleiner die aufgebrachten Teilchen des elektrisch leitenden Stoffes sind, um so besser ist die Leitfähigkeit des Netzgitters. Viele kleine Teilchen können mehr und solche Brücken bilden, welche mit größerer Wahrscheinlichkeit leitfähig sind als wenige größere Teilchen. Deshalb sollte die Teilchengröße möglichst unter 1000 A, vorzugsweise unter 500 Ä, liegen, mithin erheblich unter der Wellenlänge des Lichtes.
  • Um derart kleine Teilchen des elektrisch leitenden Stoffes zu bilden, empfiehlt es sich, diese Teilchen mittels Verdampfung in hohem Vakuum und bei sehr rascher Aufheizung zur Erzielung einer äußerst kurzen Abscheidezeit, vorzugsweise 2/10 Sekunden und kürzer, und /oder mit sehr starker Kühlung des Trägerinaterials auf diesem aufzubringen.
  • Wie festgestellt wurde, ist die Leitfähigkeit von mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten aufgedampften Schichten aus jeweils der gleichen Materiahnenge um so höher, je schneller die Aufdampfung vor sich geht. Dies kann so erklärt werden, daß die ersten auftreffenden Teilchen Keime bilden, welche durch Zufuhr weiteren Materials bis zur endgültigen Teilchengröße anwachsen. Wird nun einerseits durch die fast schlagartige Aufdampfung die Zahl der Keime erhöht und wird andererseits die Wachstumszeit verkürzt, so ergeben sich die gewünschten feinsten Teilchen. Ähnliche Erfolge werden auch durch starke Kühlung des Trägermaterials erzielt. Auch rein chemisch wirkende Verfahren zur Bildung dieser feinen Teilchen lassen sich anwenden.
  • Dadurch, daß der Deck- und Füllstoff mittels Kathodenzerstäubung, vorzugsweise unter vermindertem Druck, aufgebracht wird, wird erreicht, daß der Deck-und Füllstoff an der Trägermaterialoberfläche besonders fest anhaftet und auch das Netzgitter an dieser Oberfläche fest verankert wird. Hierbei werden die einzelnen Teilchen dieses Stoffes mit großer Kraft bzw. großer Geschwindigkeit auf das Trägerinaterial geschleudert, so daß eine innige Verklammerung mit dem Netzgitter und eine gute Verankerung an der Oberfläche stattfinden kann.
  • Für diese Schichtung eignen sich als elektrisch leitende Stoffe vorugsweise Metalle, als Deck- und Füllstoffe vorzugsweise Metallverbindungen, insbesondere Metalloxyde.
  • Als sehr vorteilhaft hat es sich feiner erwiesen, das Netzgitter aus Süberteilchen zu bilden und Indiumoxyd oder Zinkoxyd zum Abdecken und Ausfüllen zu verwenden. Ein solche Schichtung zeichnet sich unter anderem dadurch aus, daß nahezu über den gesamten Bereich des sichtbaren Spektrums eine Durchlässige keit von 85 bis 90%, und darüber erzielt werden kann, wobei gleichzeitig ein Flächenwiderstand von 10 Ohm je Quadratfläche, ja sogar von 5 Ohm je Quadratfläche ermöglicht werden kann. Eine so hohe Liehtdurchlässigkeit zugleich mit einer so hohen elektrischen Leitfähigkeit war bisher nicht erreichbar. Zur Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit konnte man zwar die Schichtdicke, reduzieren, mußte dann aber einen höheren elektrischen Widerstand in Kauf nehmen. Umgekehrt konnte man zwar den elektrischen Widerstand durch Vergrößerung der Schichtdicke vermindern, mußte dann aber eine verminderte Lichtdurchrässigkeit hinnehmen.
  • Die Kombinationen Silber-Indiumoxyd und Silber-Zinkoxyd haben weiter den Vorteil, daß sie zwar für das sichtbare Licht mit Wellenlängen zwischen 4000 und 8000 A sehr gut durchlässig sind, aber Infrarotstrahlen reflektieren, wobei die Sperrgrenze etwa bei 12 000 A liegt. Demgemäß lassen sich z. B. beheizbare Fensterscheiben herstellen, die für das sichtbare Licht hochdurchlässig sind, aber im gegebenen Fall schädliche Infrarotstrahlen abwehren.
  • Auch die Wännebeständigkeit einer solchen z. B. auf Glas aufgebrachten Schicht ist sehr gut, was insbesondere für als Heizleiter verwendete Schichten wesentlich sein kann. Versuche ergaben, daß bei einer Heizleistung von 2 W/CM2 und Temperaturen zwischen 150 und 2001 C das Glas zerbrach, während die Schichtung noch unbeschädigt war.
  • Sehr vorteilhafte Kombinationsschichtungen mit ähnlich guten Eigenschaften ergeben sich ferner bei einem Netzgitter aus Goldteilchen mit einer Deck-und Füllschicht aus Wismutoxyd.
  • Soll als Deck- und Füllstoff ein Metalloxyd mittels Kathodenzerstäubung aufgebracht werden, dann ist es bekannt, die Kathodenzerstäubung in einer Atmosphäre aus Edelgas, z. B. Argon, vorzunehmen. Es wurde gefunden, daß es zweckmäßig ist, dem Edelgas eine geringe, die erstrebte Oxydation auf dem Wege zwischen Kathode und Träger zuverlässig bewirkende Menge von Sauerstoff zuzugeben.
  • Bei der Anwendung von Indiumoxyd und Zinkoxyd hat man z. B. festgestellt, daß ein Sauerstoffgehalt von 1 bis 2% in einer Argonatmosphäre vorzüglich ist. Hierdurch wird unter anderem erreicht, daß die Oxydation des zu zerstäubenden Metalls erst auf dem Wege von der Kathode zum Trägerinaterial und nicht schon auf der Kathode stattfindet; letzteres würde sonst die gewünschte rasche Zerstäubung verzögern. Des weiteren haben die Maßnahmen den Vorteil, daß vollständig oder praktisch vollständig verhindert werden kann, daß das zuerst aufgebrachte Netzgitter aus Metall oxydiert, bevor die Deck- und Füllschicht aufgebracht worden ist. Die Kombinationen Silber-Indiumoxyd und Silber-Zinkoxyd sind hier ebenfalls sehr vorteilhaft, unter anderem weil der geringe Sauerstoffanteil von 1 bis 2% zwar zur Oxydation des Indiums oder des Zinks ausreicht, eine Oxydation des Silbers aber noch nicht bewirkt. Bei anderen Stoffkombinationen lassen sich sogar noch höhere Sauerstoffanteile anwenden.
  • Weitere Merkmale, Vorteile und Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung im Zusammenhang mit den Zeichnungen. Es zeigt Fig. 1 die Anwendung der erfindungsgemäß hergestellten Schicht als durchsichtige Elektrode für eine fotokonduktive Zelle, Fig. 2 die Anwendung der erfindungsgemäß hergestellten Schicht als durchsichtige Elektrode für eine fotogalvanische Zelle, Fig. 3 in schematischer Darstellung und stark vergrößert einen Schnitt durch ein Trägermaterial mit aufgebrachtem Netzgitter aus elektrisch leitendem Stoff, Fig. 4 das gleiche Trägermaterial, nachdem auf das Netzgitter die Deck- und Füllschicht aufgebracht worden ist, Fig. 5 in schematischer Darstellung eine Draufsicht auf das mit einem Netzgitter überzogene Trägermaterial nach Fig. 3.
  • Bei der in Fig. 1 dargestellten fotokonduktiven Zelle ist eine Schicht 1 aus lichtempfindlichem Material, z. B. Cadmiumsulfid, Selen, Germanium od. dgl., vorgesehen, dessen elektrischer Widerstand entsprechend der Intensität der auf sie zutreffenden Strahlun- 2 schwankt. Die Schicht 1 befindet sich zwischen einer undurchsichtigen Elektrode 3 und einer durchsichtigen Elektrode 4. Wird der die Batterie 5 enthaltende Stromkreis geschlossen, läßt sich an dem Strommesser 6 die Intensität des Lichteinfalles ablesen.
  • Derartige fotokonduktive Zellen, bei welchen die Elektroden, deren eine durchsichtig sein muß, auf beide Hauptflächen der Schicht 1 aufgebracht werden, haben beträchtliche Vorzüge gegenüber Zellen, bei denen zwei opake Elektroden an zwei gegenüberliegenden Längskanten der Schicht 1 angebracht werden. Bei den nach dem Verfahren gemäß der Erfindung hergestellten Zellen ist eine gegebene Menge von lichtempfindlichem Werkstoff weitaus wirksamer, außerdem kann mit geringeren Spannungen ini Stromkreis gearbeitet werden. Im übrigen ist es auf einfache Weise möglich, durch entsprechende Bemessung der Dicke der Schicht 1 den Impedanzbereich auf einen optimalen Wert einzustellen, ohne daß sich dies irgendwie nachteilig z. B. auf die Größe der bestrahlten Fläche auswirkt.
  • Besonders bemerkt sei hierzu, daß die leitenden Teile der durchsichtigen Elektrode 4 mit der Schicht 1 in unmittelbarer Berührung stehen müssen, daß es aber manche lichtempfindlichen Werkstoffe gibt, die eine Wärmebehandlung nicht vertragen, so daß es dann erforderlich werden kann, die durchsichtige Elektrode 4 kalt aufzubringen.
  • Noch größere Vorteile als bei der fotokonduktiven. Zelle nach der Fig. 1 ergeben sich durch die Anwendung der erfindungsgemäß hergestellten Schicht bei fotogalvanischen Zellen nach der Fig. 2, bei denen Lichtenergie der Strahlung 7 in elektrische Energie verwandelt werden soll. Diese Energie wird in einer im allgemeinen nur sehr dünnen Sperrschicht 8 erzeugt, welche den Strahlen eine möglichst große Fläche darbieten soll. Die Sperrschicht 8 befindet sich hier auf einer Schicht 9 aus halbleitendem Material und wird von der durchsichtigen Elektrode 10 abgedeckt. Eine undurchsichtige zweite Elektrode 11 befindet sich unterhalb der halbleitenden Schicht 9. Die beiden Elektroden 10 und 11 sind mit den Kleinmen 12 und 13 verbunden, an denen die vom Lichteinfall abhängige elektrische Energie abgenommen werden kann. Als lichtempfindliches Material kommen für die halbleitende Schicht 9 Germanium, Silizium, Selen in Frage.
  • In Fig. 3 ist in stark vergrößertem Maßstab und in schematischer Darstellung eine, Trägerschicht 14, beispielsweise Glas, angedeutet, auf deren Oberfläche sich hochfeine, elektrisch leitende Teilchen 15 befinden, die, wie aus der Fig. 5 zu ersehen ist, in der Fläche ein Gitternetz und auf diese Weise eine elektrisch leitende Brücke quer über die Trägeroberfläche bilden. Der danach aufgetragene Deck- und Füllstoff 17 legt sich, wie in Fig. 4 zu erkennen ist, über die feinsten Teilchen 15, greift durch die Zwischenräume 16 zwischen ihnen hindurch bis auf die Oberfläche des Trägermaterials und klammert sich dort fest, wodurch er die hochfeinen, elektrisch leitenden Teilchen 15 an ihrem Platz festhält.
  • Wenn diese Teilchen 15 des elektrisch leitenden Stoffes den Brechungsindex ni besitzen, soll der Deck-und Füllstoff 17 einen Brechungsindex n, besitzen, der wenigstens angenähert gleich n, ist. In diesem Falle würde der Christiansen-Filter-Effekt optimale Werte annehmen.
  • Auf Grund verschiedener Versuche ist anzunehmen, daß die Schicht in der veranschaulichten -und beschriebenen Art aufgebaut ist. Es besteht aber auch die Möglichkeit, daß an den Berührungsflächen gewisse zwischen dem elektrisch leitenden Stoff des Netzgitters und dem Deck- und Füllstoff chemische Reaktionen eintreten, die bisher noch nicht nachweisbar waren.
  • Falls erwünscht, können auf die so hergestellte Schicht noch weitere Schichten aufgebracht werden, z. B. Lackschichten, bestimmte Farbschichten.
  • Von den vielen Vorteilen der erfindungsgemäß hergestellten Schichten und mit ihnen versehenen Gegenständen sei besonders hervorgehoben, daß die Schichten eine sehr hohe Lichtdurchlässigkeit sowie eine sehr hohe elektrische Leitfähigkeit besitzen, ferner daß sie sich praktisch auf jedes beliebige Trägermaterial aufbringen lassen, weiter daß die Herstellung nicht unter Wärme zu erfolgen braucht und daß auch deshalb chemische Veränderungen sowie Änderungen in der Struktur nicht auftreten. Da sich keine oxydische Schicht zwischen dem leitenden Netzgitter und dem Trägerrnaterial befindet, kann deren Widerstand in keinem Falle Schwierigkeiten bereiten.
  • Die Anwendungsmöglichkeiten für die neue Schicht sind zahlreich. Auf die Herstellung von FotozeHen wurde bereits hingewiesen, ebenso auf die Herstellung von beschichteten Infrarotstrahlen reflektierenden Windschutzscheiben für Kraftfahrzeuge und Flugzeuge; die Scheiben können zum Zwecke der Enteisung elektrisch geheizt werden, ohne daß die Transparenz beeinträchtigt wird. Die neuen Schichten können auch auf Kunststoffe aufgebracht werden, wo sie ein bemerkenswertes Adhäsionsvermögen zeigen. Hier lassen sie sich für Heizzwecke oder auch als antistatischer überzug verwenden. Ferner können die Schichten bei Fernseh- oder Kathodenstrahlröhren nützlich sein, etwa um Raumladungen und Elektronenablenkungen zu verhindern. Weiter lassen sie sich auf Glaskörper aufbringen, z. B. von Massenspektrometern, Röhren oder optischen Elektronensystemen, und hier als Mittel zur Beschleunigung oder Fokussierung von Elektronen oder zum Entfernen von Raumladungen verwenden, wobei die Möglichkeit bestehenbleibt, die Teile im Innern, des Apparates zu betrachten.
  • Die hohe Lichtdurchlässigkeit der Schichten braucht aber nicht nur für den sichtbaren Teil des Spektrums zu bestehen, sondern kann auch, z. B. bei Schichtkombinationen, bestimmte Regionen des Infrarot- oder Utraviolettspektrums umfassen, während z. B. für andere Bereiche, etwa den sichtbaren Teil des Spektrums, Undurchlässigkeit besteht.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, Echtdurchlässigen Schicht auf einem beliebigen Trägermaterial durch Aufdampfen eines Metalls und anschließendem Aufdampfen einer Schutzschicht, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall in an sich bekannter Weise im Vakuum in Form einer netzartigen Schicht aus feinsten Teilchen, vorzugsweise unter 1000 A, aufgedampft und daß danach auf dieses Netzgitter sowie durch dessen Zwischenräume bis zum Trägermaterial hindurchgreifend, ein gut haftender, elektrisch leitender Deck- und Füllstoff aufgebracht wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Deck- und Füllstoff verwendet wird, dessen Brechungsindex wenigstens angenähert demjenigen der Teilchen der netzartigen Schicht entspricht. 3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der Metallteilchen mittels Verdampfung in hohem Vakuum und mit sehr hoher Aufheizgeschwindigkeit dieses Metalls zur Erzielung einer äußerst kurzen Abscheidezeit, vorzugsweise 2/lo Sekunden und kürzer, und/oder mit sehr starker Kühlung des Trägermaterials erfolgt. 4. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Deck- und Füllstoff mittels Kathodenzerstäubung, vorzugsweise unter vermindertem Druck, aufgebracht wird. 5. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Deck- und Füllstoff eine Metallverbindung verwendet wird. 6. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Deck- und Füllstoff ein Metalloxyd verwendet wird. 7. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet daß als Metall Silber und als Deck- und Füllstoff Indiumoxyd verwendet werden. 8. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Metall Silber und als Deck- und Füllstoff Zinkoxyd verwendet werden. 9. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Metall Gold und als Deck- und Füllstoff Wismutoxyd verwendet werden. 10. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodenzerstäubung zur Aufbringung des Deck- und Füllstoffes in einer Atmosphäre aus Edelgas, z. B. Argon, mit Sauerstoffzusatz erfolgt, wobei letzterer so bemessen wird, daß er zuverlässig die Oxydation des für den Deck- und Füllstoff verwendeten Metalls auf dessem Wege zwischen Kathode und Trägennaterial bewirkt, ohne jedoch eine nennenswerte Oxydation des für das Netzgitter verwendeten Metalls zu verursachen. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von Silber für das Netzgitter und von Indium oder Zink für das zu oxydierende Metall des Deck- und Füllstoffes der Sauerstoffzusatz etwa 1 bis 2 Volumprozent beträgt. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 878 585, 912 518; USA.-Patentschrift Nr. 2 610 606; Zeitschrift »Kunststoffe«, 1953, Heft 12, S. 547 und 548; Zeitschrift »Metaüwirtschaft«, 1938, S. 1105/1106 und 1137/1138.
DEE12024A 1956-02-27 1956-02-27 Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial Pending DE1119357B (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEE12024A DE1119357B (de) 1956-02-27 1956-02-27 Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEE12024A DE1119357B (de) 1956-02-27 1956-02-27 Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1119357B true DE1119357B (de) 1961-12-14

Family

ID=7068224

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEE12024A Pending DE1119357B (de) 1956-02-27 1956-02-27 Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1119357B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1590786B1 (de) * 1964-03-11 1971-01-07 Ultra Electronics Ltd Verfahren zur Herstellung von Mikro-Miniatur-Schaltungen bzw.Schaltungsbauelementen
DE2710483A1 (de) * 1976-03-10 1977-09-29 William James Dr King Verfahren zum niederschlagen einer schicht

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2610606A (en) * 1946-09-26 1952-09-16 Polytechnic Inst Brooklyn Apparatus for the formation of metallic films by thermal evaporation
DE878585C (de) * 1951-03-02 1953-06-05 Heraeus Gmbh W C Verfahren zur Herstellung duenner Schichten von Verbindungen durch Kathodenzerstaeubung
DE912518C (de) * 1952-04-22 1954-05-31 Siemens Ag Verfahren zum Aufdampfen von Metallen oder Halbleitern im Vakuum

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2610606A (en) * 1946-09-26 1952-09-16 Polytechnic Inst Brooklyn Apparatus for the formation of metallic films by thermal evaporation
DE878585C (de) * 1951-03-02 1953-06-05 Heraeus Gmbh W C Verfahren zur Herstellung duenner Schichten von Verbindungen durch Kathodenzerstaeubung
DE912518C (de) * 1952-04-22 1954-05-31 Siemens Ag Verfahren zum Aufdampfen von Metallen oder Halbleitern im Vakuum

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1590786B1 (de) * 1964-03-11 1971-01-07 Ultra Electronics Ltd Verfahren zur Herstellung von Mikro-Miniatur-Schaltungen bzw.Schaltungsbauelementen
DE2710483A1 (de) * 1976-03-10 1977-09-29 William James Dr King Verfahren zum niederschlagen einer schicht

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2533364C3 (de) Glasschichtkörper
DE69333252T2 (de) Elektrochrome vorrichtung
DE1639152C3 (de) Sonnenzellenbattene und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3810923A1 (de) Elektrochromes bauelement
EP0142114A2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle
DE2741440A1 (de) Elektrochromatische anzeigevorrichtung
DE19851717A1 (de) Elektrochrome Glasbaugruppe
DE2922473A1 (de) Elektrochrome anzeigevorrichtung
DE2916382B2 (de) Elektrochrome Anzeigevorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE1119357B (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden, lichtdurchlaessigen Schicht auf einem beliebigen Traegermaterial
DE1299311B (de) Speicherelektrode fuer Vidicon-Bildaufnahmeroehren
DE3115894C2 (de) Elektrochromes Schichtsystem
DE2007261A1 (de) Elektrische Widerstandssubstanz, insbesondere Widerstandsschicht und Verfahren zu deren Herstellung
DE3542116C2 (de)
DE2100295A1 (de) Transparenter, Wärme strahlen reflektierender Glasgegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2032639C3 (de) Verfahren zum Niederschlagen einer dünnen Goldschicht auf einem Träger durch Kathodenzerstäubung
DE1614753A1 (de) Fotoelektrische Leiter
DE2743641A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von amorphen halbleitervorrichtungen
DE889814C (de) Optisch-elektrischer Wandler mit lichtdurchlaessiger Metallelektrode und Verfahren zur Herstellung optisch-elektrischer Wandler
DE2751393A1 (de) Integrierte anordnung und verfahren zu ihrer herstellung
DE1018171B (de) Bildschirm mit einander zugeordneten photoempfindlichen und elektrolumineszierenden Elementen
DE1132669B (de) Halbleitervorrichtung, insbesondere photoempfindliche Vorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
DE2624394C3 (de) Photoleitende Ladungsspeicherplatte
DE1058805B (de) Verfahren zum Herstellen durchscheinender und elektrisch leitender Goldueberzuege
DE1489118A1 (de) Bildverstaerker zur Sichtbarmachung einer unsichtbaren Einstrahlung